JPH02289541A - 光学活性化合物、その中間体、これらの製造法、液晶組成物及び液晶表示素子 - Google Patents
光学活性化合物、その中間体、これらの製造法、液晶組成物及び液晶表示素子Info
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- JPH02289541A JPH02289541A JP2026147A JP2614790A JPH02289541A JP H02289541 A JPH02289541 A JP H02289541A JP 2026147 A JP2026147 A JP 2026147A JP 2614790 A JP2614790 A JP 2614790A JP H02289541 A JPH02289541 A JP H02289541A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な光学活性化合物、その中間物、これら
の製法、液晶組成物及び液晶表示素子に係わり、特に応
答性、メモリー性に優れた強誘電性液晶表示用材料及び
その原料に関するものである。
の製法、液晶組成物及び液晶表示素子に係わり、特に応
答性、メモリー性に優れた強誘電性液晶表示用材料及び
その原料に関するものである。
液晶表示素子は、そのすぐれた特徴(低電圧作動、低消
費電力、薄型表示が可能、明るい場所でも使用でき目が
疲れない。)によっ°ζ、現在広く用いられている。し
かしながら、最も一般的であるTN型表示方式では、C
RTなどの発光型表示方式と比較すると応答が極めて遅
く、かつ印加電場を切った場合の表示の記憶(メモリー
効果)が得られないため、高速応答の必要な光シヤツタ
ープリンターヘッド、時分割駆動の必要なテレビ等の動
画面等への応用には多くの制約があり、適したものとは
言えなかった。
費電力、薄型表示が可能、明るい場所でも使用でき目が
疲れない。)によっ°ζ、現在広く用いられている。し
かしながら、最も一般的であるTN型表示方式では、C
RTなどの発光型表示方式と比較すると応答が極めて遅
く、かつ印加電場を切った場合の表示の記憶(メモリー
効果)が得られないため、高速応答の必要な光シヤツタ
ープリンターヘッド、時分割駆動の必要なテレビ等の動
画面等への応用には多くの制約があり、適したものとは
言えなかった。
最近、メイヤーらにより強誘電性液晶を用いる表示方式
が報告され、これによるとTN型の100〜1000倍
という高速応答とメモリー効果が得られるため、次世代
の液晶表示素子として期待され、現在、盛んに研究、開
発が進められている。
が報告され、これによるとTN型の100〜1000倍
という高速応答とメモリー効果が得られるため、次世代
の液晶表示素子として期待され、現在、盛んに研究、開
発が進められている。
強誘電性液晶の液晶相は、チルト系のキラルスメクチッ
ク相に属するものであるが、実用的には、その中で最も
低粘性であるキラルスメクチックC(以下ScIと省略
する)相が最も望ましい。
ク相に属するものであるが、実用的には、その中で最も
低粘性であるキラルスメクチックC(以下ScIと省略
する)相が最も望ましい。
Sc”相を示す液晶化合物は、既に数多く合成され、検
討されているが、強誘電性表示素子として用いるための
以下の条件としては、(イ)室温を含む広い温度範囲で
Sc”相を示すこと、(ロ)良好な配向を得るために、
Sc”相の高温側に適当な相系列を有し、かつその螺旋
ピッチが大きいこと、(ハ)適当なチルト角を有するこ
と、(ニ)粘性が小さいこと、(ホ)自発分極がある程
度大きいこと、が好ましいが、これらを単独で満足する
ものは知られていない。
討されているが、強誘電性表示素子として用いるための
以下の条件としては、(イ)室温を含む広い温度範囲で
Sc”相を示すこと、(ロ)良好な配向を得るために、
Sc”相の高温側に適当な相系列を有し、かつその螺旋
ピッチが大きいこと、(ハ)適当なチルト角を有するこ
と、(ニ)粘性が小さいこと、(ホ)自発分極がある程
度大きいこと、が好ましいが、これらを単独で満足する
ものは知られていない。
このため、Sc”相を示す液晶組成物(以下、Sc“液
晶組成物という。)として用いられている。Sc”液晶
組成物の調製方法としては、主としてSc’相を示す液
晶化合物(以下、Sc”液晶化合物という、)を混合す
る方法と、光学的に活性でないSc相を示す液晶組成物
(以下、Sc液晶組成物という。)に光学的に活性な化
合物又は組成物をキラルドーパントとして加える方法が
あるが、Sc液晶組成物はSc”液晶組成物より低粘度
であるので、後者の方法が高速応答に適しており、一般
的に用いられている。
晶組成物という。)として用いられている。Sc”液晶
組成物の調製方法としては、主としてSc’相を示す液
晶化合物(以下、Sc”液晶化合物という、)を混合す
る方法と、光学的に活性でないSc相を示す液晶組成物
(以下、Sc液晶組成物という。)に光学的に活性な化
合物又は組成物をキラルドーパントとして加える方法が
あるが、Sc液晶組成物はSc”液晶組成物より低粘度
であるので、後者の方法が高速応答に適しており、一般
的に用いられている。
キラルドーパントとしては必ずしもSc”相あるいは液
晶性を示す必要はないが、Sc液晶組成物に添加した場
合にその転移点をあまり降下させないものが好ましく、
できるかぎり少量の添加で大きい自発分極を誘起できる
ものが、SC*液晶組成物としての粘度を低下させ、応
答の高速化をはかる上で好都合である。このようなキラ
ルトーパントを構成するためには、これまで知られてい
る光学活性化合物だけでは十分でなく、より強い自発分
極を示すことができる化合物が望まれていた。
晶性を示す必要はないが、Sc液晶組成物に添加した場
合にその転移点をあまり降下させないものが好ましく、
できるかぎり少量の添加で大きい自発分極を誘起できる
ものが、SC*液晶組成物としての粘度を低下させ、応
答の高速化をはかる上で好都合である。このようなキラ
ルトーパントを構成するためには、これまで知られてい
る光学活性化合物だけでは十分でなく、より強い自発分
極を示すことができる化合物が望まれていた。
強い自発分極を示すためには、化合物中における不斉中
心と双極子とができるかぎり近接しており、かつそれら
は液晶中心骨格(コア)にできるかぎり近接しており、
また、双極子はできるかぎり強いもの程好ましいことが
知られている。強い双極子モーメントを示す基としては
、シアン基を挙げることができるが、これを不斉中心に
直結させ、かつコアに近接させることは合成的にかなり
困難があり、これまでにはわずかにアミノ酸を出発原料
にした、コアに次の基 OCN C−0−C”H−R を結合したものが知られている(第2回国際液晶学会予
稿集1988年、特開昭61〜243055号公報)に
過ぎず、その不斉中心をさらにコアに近付けた化合物は
知られていない。
心と双極子とができるかぎり近接しており、かつそれら
は液晶中心骨格(コア)にできるかぎり近接しており、
また、双極子はできるかぎり強いもの程好ましいことが
知られている。強い双極子モーメントを示す基としては
、シアン基を挙げることができるが、これを不斉中心に
直結させ、かつコアに近接させることは合成的にかなり
困難があり、これまでにはわずかにアミノ酸を出発原料
にした、コアに次の基 OCN C−0−C”H−R を結合したものが知られている(第2回国際液晶学会予
稿集1988年、特開昭61〜243055号公報)に
過ぎず、その不斉中心をさらにコアに近付けた化合物は
知られていない。
ツ上のように、従来のSc”相を示す液晶化合物は、そ
の粘性及び自発分極性において不十分であり、高速応答
性の液晶材料を提供するには問題があり、その改善が望
まれていた。
の粘性及び自発分極性において不十分であり、高速応答
性の液晶材料を提供するには問題があり、その改善が望
まれていた。
本発明が解決しようとする課題は、液晶材料に用いて自
発分極が大きく、かつ低粘性を示す光学活性化合物を提
供し、高速応答の可能な強誘電性液晶表示用材料の提供
を可能にすることにある。
発分極が大きく、かつ低粘性を示す光学活性化合物を提
供し、高速応答の可能な強誘電性液晶表示用材料の提供
を可能にすることにある。
〔課題を解決するための手段]
本発明は、上記課題を解決するために、下記−最大(1
)で示される光学活性なシアノ基を有する光学活性化合
物を提供するものである。
)で示される光学活性なシアノ基を有する光学活性化合
物を提供するものである。
(式中、■は置換又は未置換の飽和又は不飽和の5り環
又は6員環を表し、Qは少なくとも1個の5員環又は6
員環を含む有機基であってQと■との結合は単結合によ
る直結又は最短原子数が偶数個である原子からなる連結
基による結合又はQと■により縮合環を形成し、X 、
R’はそれぞれが結合している炭素間の二重結合を表
すか又はXは水素原子、R1は炭素数1〜10のアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子又は水素原子を表し、じ
C0はそれぞれ独立して(S)又は(R)配置の不斉炭
素を表す。) 好ましくは、次の一般式(II)で表わされる光学活性
化合物を挙げることができる。
又は6員環を表し、Qは少なくとも1個の5員環又は6
員環を含む有機基であってQと■との結合は単結合によ
る直結又は最短原子数が偶数個である原子からなる連結
基による結合又はQと■により縮合環を形成し、X 、
R’はそれぞれが結合している炭素間の二重結合を表
すか又はXは水素原子、R1は炭素数1〜10のアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子又は水素原子を表し、じ
C0はそれぞれ独立して(S)又は(R)配置の不斉炭
素を表す。) 好ましくは、次の一般式(II)で表わされる光学活性
化合物を挙げることができる。
(II)
(式中、R1,Xl じ C0は一般式(1)のも
のと同じものを表し、R2は炭素数1〜18のキラル又
はアキラルなアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボ
ニル、アルカノイルオキシ、アルコキシカルボニルオキ
シ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アル
コキシアル力ノイルオキシ又はアルカノイルオキジアル
コキシ基であって未置換又は任意の水素をフッ素、塩素
又はシアノ基に置換した置換基を有する基、−(E>−
1〜(ElΣ、べ3D←はそれぞれ独立的に未置換又は
フッ素、塩素又はシアノ基の置換基を有するー(〒す←
環中の任意の水素がフッ素、塩素又はシアノ基に環はC
Hが未置換又は任意の1〜3個のCIlがNとの置換体
でありかつC)1mが未置換又は任意の1〜2個のCH
!がそれぞれ独立にC・0 、NH,O又はSとの置換
体でありかつ−CIl□−GHz−が未置換又は任意の
1個の=C)It−CTo−が=CH=CH−との置換
体であり、Z及びYはそれぞれ独立的にCoo 、OC
O、CH,02OCHz、CHzCHt、−C=C−又
は単結合を表わし、mはO又は1を表わす、) 上記−最大(II)に属する化合物のうち好ましの1〜
2個の水素がフッ素、塩素又はシアノ基に置換された1
、4−フェニレン基である。
のと同じものを表し、R2は炭素数1〜18のキラル又
はアキラルなアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボ
ニル、アルカノイルオキシ、アルコキシカルボニルオキ
シ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アル
コキシアル力ノイルオキシ又はアルカノイルオキジアル
コキシ基であって未置換又は任意の水素をフッ素、塩素
又はシアノ基に置換した置換基を有する基、−(E>−
1〜(ElΣ、べ3D←はそれぞれ独立的に未置換又は
フッ素、塩素又はシアノ基の置換基を有するー(〒す←
環中の任意の水素がフッ素、塩素又はシアノ基に環はC
Hが未置換又は任意の1〜3個のCIlがNとの置換体
でありかつC)1mが未置換又は任意の1〜2個のCH
!がそれぞれ独立にC・0 、NH,O又はSとの置換
体でありかつ−CIl□−GHz−が未置換又は任意の
1個の=C)It−CTo−が=CH=CH−との置換
体であり、Z及びYはそれぞれ独立的にCoo 、OC
O、CH,02OCHz、CHzCHt、−C=C−又
は単結合を表わし、mはO又は1を表わす、) 上記−最大(II)に属する化合物のうち好ましの1〜
2個の水素がフッ素、塩素又はシアノ基に置換された1
、4−フェニレン基である。
また、これらのうち、光学活性基
又は
又は
が好ましく、YがC00、OCOのものが好ましい。
本発明の一般式(n)に属する具体的化合物については
後に詳細に説明する。
後に詳細に説明する。
本発明は、上記新規物質のほかに一般式(1)、特に−
最大(II)に属する化合物の製造方法、その中間物と
その製造方法、これらの新規化合物を含めた次の一般式
(III) (式中、X、R’は請求項1記載の一般式(1)のもの
と同じものを表す。) を少なくとも1種含有する液晶組成物及びこれを用いた
液晶表示素子を提供するものである。
最大(II)に属する化合物の製造方法、その中間物と
その製造方法、これらの新規化合物を含めた次の一般式
(III) (式中、X、R’は請求項1記載の一般式(1)のもの
と同じものを表す。) を少なくとも1種含有する液晶組成物及びこれを用いた
液晶表示素子を提供するものである。
以下順次詳細に説明する。
上記−最大(りの化合物、例えば−最大(II)の化合
物を製造するには、次の一般式(IV)R1バ←Z+べ
←Y(例cuo (IV)(式中、R・、−〇〇−
1■、=(D−1Z、Yは上記−最大(I)(■)と同
じものを表す。)を光学活性な2.4−ペンタジオール
又はその誘導体と反応させることにより一般式(V)で
示されるアセタール体とする。
物を製造するには、次の一般式(IV)R1バ←Z+べ
←Y(例cuo (IV)(式中、R・、−〇〇−
1■、=(D−1Z、Yは上記−最大(I)(■)と同
じものを表す。)を光学活性な2.4−ペンタジオール
又はその誘導体と反応させることにより一般式(V)で
示されるアセタール体とする。
〔式中、R”、−()◇−1〜60−1〜(◇−1Yは
上記−最大(1)(n)と同じものを表す。)これをル
イス酸存在下にシアノメチルシランで開環させることに
より次の一般式(VI)で示される光学活性なシアンヒ
ドリン誘導体とする。
上記−最大(1)(n)と同じものを表す。)これをル
イス酸存在下にシアノメチルシランで開環させることに
より次の一般式(VI)で示される光学活性なシアンヒ
ドリン誘導体とする。
(VI)
く用いられる。C“0は(R)又は(S)配置の炭素原
子である。
子である。
また、シアンヒドリン誘導体m)を脱水することにより
、次の一般式(II)bで示される光学活性化合物を得
ることができる。
、次の一般式(II)bで示される光学活性化合物を得
ることができる。
Y、m、C”C−は上記−最大(1)(II)と同じも
のを表す。) このシアンヒドリン誘導体(VI)にハロゲン剤を作用
させることにより次の一般式(II)aで示される光学
活性化合物を得ることができる。
のを表す。) このシアンヒドリン誘導体(VI)にハロゲン剤を作用
させることにより次の一般式(II)aで示される光学
活性化合物を得ることができる。
(式中、R2、−〇◇−舎 、−〇〇−1Z、Y 、、
、Cm C**は上記−最大(1)(II)と同じ
ものを表す。) 次に(If)bをロジウム系触媒存在下水素添加するこ
とにより、次の一般式(II)cで示される光学活性化
合物を得ることができる。
、Cm C**は上記−最大(1)(II)と同じ
ものを表す。) 次に(If)bをロジウム系触媒存在下水素添加するこ
とにより、次の一般式(II)cで示される光学活性化
合物を得ることができる。
(II)a
ここで、×1はフッ素又は塩素原子を表わし、XIがフ
ッ素を表わす場合のハロゲン化剤としては三フッ化ジエ
チルアミノイオウ (DAST)等が好ましY、m、
じ C**は上記−最大(1)(If)と同じもの
を表す。) また、シアンヒドリン誘導体(VI)を温和な条件でア
ルキル化することにより、次の一般式(II)dで示さ
れる光学活性化合物を得ることができる。
ッ素を表わす場合のハロゲン化剤としては三フッ化ジエ
チルアミノイオウ (DAST)等が好ましY、m、
じ C**は上記−最大(1)(If)と同じもの
を表す。) また、シアンヒドリン誘導体(VI)を温和な条件でア
ルキル化することにより、次の一般式(II)dで示さ
れる光学活性化合物を得ることができる。
Y、m、C” C”は上記−最大(T)(II)と
同じものを表わし、R3は炭素数1〜10のアルキル基
を表わす。) また例えば−最大(II)の化合物において、Z(この
化合物は4−アセトキシベンズアルデヒドを光学活性ジ
オール存在下、トリメチルシリルシアニドと反応させて
得ることができる)(式中、C0は一般式(1)におけ
ると同じ意味を表わす。) をトリフルオロメタンスルホン酸存在下、l−メチル−
(E)−2−ブテニル−2,2,2−1〜リクロロアセ
トイミデートと反応させることにより、−最大(■)で
表わされる光学活性なシアンヒドリン誘導体が得られる
。
同じものを表わし、R3は炭素数1〜10のアルキル基
を表わす。) また例えば−最大(II)の化合物において、Z(この
化合物は4−アセトキシベンズアルデヒドを光学活性ジ
オール存在下、トリメチルシリルシアニドと反応させて
得ることができる)(式中、C0は一般式(1)におけ
ると同じ意味を表わす。) をトリフルオロメタンスルホン酸存在下、l−メチル−
(E)−2−ブテニル−2,2,2−1〜リクロロアセ
トイミデートと反応させることにより、−最大(■)で
表わされる光学活性なシアンヒドリン誘導体が得られる
。
2重結合あるいはそれぞれが水素を表す場合には、以下
のようにして得ることもできる。
のようにして得ることもできる。
−最大(X II )で表わされる光学活性なシアンヒ
ドリン (式中、じ C−は−最大(1)におけると同じ意味
を表わす。) これはC0のみの異ったジアステレオマー混合物である
が、通常の分離手段により分離可能であり、各ジアステ
レオマー異性体を単離することができる。この−最大(
■)の光学活性シアンヒドリン誘導体をロジウム−炭素
触媒存在下に、水素添加することにより一般式(■)で
示される光学活性なシアンヒドリン誘導体を得ることが
できる。
ドリン (式中、じ C−は−最大(1)におけると同じ意味
を表わす。) これはC0のみの異ったジアステレオマー混合物である
が、通常の分離手段により分離可能であり、各ジアステ
レオマー異性体を単離することができる。この−最大(
■)の光学活性シアンヒドリン誘導体をロジウム−炭素
触媒存在下に、水素添加することにより一般式(■)で
示される光学活性なシアンヒドリン誘導体を得ることが
できる。
(式中、シc*1は一般式(1)におけると同じ意味を
表わす。) この−最大(■)及び−最大(■)で示される化合物を
加水分解することにより、−最大(IX)及び−最大(
X)で示される光学活性なフェノール誘導体を各々得る
ことができる。
表わす。) この−最大(■)及び−最大(■)で示される化合物を
加水分解することにより、−最大(IX)及び−最大(
X)で示される光学活性なフェノール誘導体を各々得る
ことができる。
(式中、c” c”は−最大(1)におけると同じ
意味を表わす、) この−最大(IX)及び(X)で示される光学活性なフ
ェノール誘導体と、次の一般式(XI)で示される酸塩
化物とを R”−+◇)ZnΣC0Cf ・(XI)(式中、
R2、−◇◇−、z、II+、−〇◇→は一般式(II
)におけると同じ意味を表わす。)ピリジン等の塩基性
物質存在下反応させることにより、−最大(II)にお
いて、ZがCOO1→6◇−が舎を表わす場合の一般式
(II)c、−最大(u)dの各化合物を得ることがで
きる。
意味を表わす、) この−最大(IX)及び(X)で示される光学活性なフ
ェノール誘導体と、次の一般式(XI)で示される酸塩
化物とを R”−+◇)ZnΣC0Cf ・(XI)(式中、
R2、−◇◇−、z、II+、−〇◇→は一般式(II
)におけると同じ意味を表わす。)ピリジン等の塩基性
物質存在下反応させることにより、−最大(II)にお
いて、ZがCOO1→6◇−が舎を表わす場合の一般式
(II)c、−最大(u)dの各化合物を得ることがで
きる。
0 にt1g L;th・・・ (I[
)c ・・・ (U)d 上記のようにして本発明の一般式(1)の光学活性化合
物、例えば−最大(II)の光学活性化合物が得られる
が、これらに属する個々の具体的な化合物及び上記−最
大(V) (VI) (■)(■)(IX)(X)
等に属する個々の具体的中間物は、融点等の相転移温度
、元素分析、赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペク
トル、マススペクトル等の手段により確認することがで
きる。
)c ・・・ (U)d 上記のようにして本発明の一般式(1)の光学活性化合
物、例えば−最大(II)の光学活性化合物が得られる
が、これらに属する個々の具体的な化合物及び上記−最
大(V) (VI) (■)(■)(IX)(X)
等に属する個々の具体的中間物は、融点等の相転移温度
、元素分析、赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペク
トル、マススペクトル等の手段により確認することがで
きる。
かくして得られた一般(It)で示される化合物の例を
表1に挙げる。
表1に挙げる。
表中、Crは結晶相、■は等方性液体相、SAはスメク
チック相、()内はその相がモノトロピックであること
を表わす。
チック相、()内はその相がモノトロピックであること
を表わす。
なお、−最大(n)で示される化合物の光学純度はC0
の光学純度を100%として(C−は光学活性の2.4
−ペンタジオールに由来するものであり、不斉中心にお
ける反応を経由しないため、その光学純度は保たれてい
ると考えられる)のde(ジアステレオマー・イクセス
)で表わした。−は未測定であることを示す。
の光学純度を100%として(C−は光学活性の2.4
−ペンタジオールに由来するものであり、不斉中心にお
ける反応を経由しないため、その光学純度は保たれてい
ると考えられる)のde(ジアステレオマー・イクセス
)で表わした。−は未測定であることを示す。
本発明における一般式(1)で表される光学活性化合物
、特に−最大(n)で表される光学活性化合物の優れた
特徴の1つとしては、キラルドーパントとしてSc相を
示す組成物中に少量添加するだけで、十分に大きい自発
分極を誘起し、その結果高速応答が可能となることが挙
げられる。
、特に−最大(n)で表される光学活性化合物の優れた
特徴の1つとしては、キラルドーパントとしてSc相を
示す組成物中に少量添加するだけで、十分に大きい自発
分極を誘起し、その結果高速応答が可能となることが挙
げられる。
本発明においては一般式(■)で示される光学活性基を
有する光学活性化合物を少なくとも1種含有する液晶組
成物も提供するが、この光学活性化合物として上記−最
大(■)、特に−最大(n)で示される化合物が挙げら
れ、これらは例えば表1におけるNa 1の化合物をピ
リミジン系のSc母体液晶組成物に5%添加して得られ
るSc’″組成物は室温付近(Sc”相の上限温度(T
c)の37°C低温側)において約3.6nC/cm”
という値を示した。
有する光学活性化合物を少なくとも1種含有する液晶組
成物も提供するが、この光学活性化合物として上記−最
大(■)、特に−最大(n)で示される化合物が挙げら
れ、これらは例えば表1におけるNa 1の化合物をピ
リミジン系のSc母体液晶組成物に5%添加して得られ
るSc’″組成物は室温付近(Sc”相の上限温度(T
c)の37°C低温側)において約3.6nC/cm”
という値を示した。
これは初期の強誘電性液晶として知られる(S)−2−
メチルブチル(p−デシルオキシベンジリデン)アミノ
ベンゾエート(DIIBAMBC)が単独でも同程度で
あるのと比較すると非常に大きい値であることがわかる
。
メチルブチル(p−デシルオキシベンジリデン)アミノ
ベンゾエート(DIIBAMBC)が単独でも同程度で
あるのと比較すると非常に大きい値であることがわかる
。
これは、−最大(II)で示される化合物においては、
不斉炭素原子が液晶の中心骨格(コア)及び強い双極子
モーメントを有するシアノ基に直接結合していることに
よると考えられる。
不斉炭素原子が液晶の中心骨格(コア)及び強い双極子
モーメントを有するシアノ基に直接結合していることに
よると考えられる。
本発明の一般式(r)、特に−最大(It)で示される
光学活性化合物は、単独でもSc“相を含め、液晶相を
示すものも存在するけれども、2環型では液晶性が悪く
、3環型では融点が高いため単独での使用はあまり適さ
ない。組成物として、特に強誘電性液晶表示素子として
用いる場合には、粘性の小さいSc液晶組成物中にキラ
ルドーパントの一部又は全部として加えることによりS
c”液晶組成物として用いるのが効果的である。
光学活性化合物は、単独でもSc“相を含め、液晶相を
示すものも存在するけれども、2環型では液晶性が悪く
、3環型では融点が高いため単独での使用はあまり適さ
ない。組成物として、特に強誘電性液晶表示素子として
用いる場合には、粘性の小さいSc液晶組成物中にキラ
ルドーパントの一部又は全部として加えることによりS
c”液晶組成物として用いるのが効果的である。
本発明で使用する一般式(I[[)の光学活性基を有す
る化合物、例えば−最大(II)で示される化合物をド
ーピングするためのSc組成物に用いるべきSc化合物
としては、例えば、下記−最大(八)で表わされるよう
なフェニルベンゾエート系化合物や一般式(B)で表わ
されるピリミジン系化合物をあげることができる。
る化合物、例えば−最大(II)で示される化合物をド
ーピングするためのSc組成物に用いるべきSc化合物
としては、例えば、下記−最大(八)で表わされるよう
なフェニルベンゾエート系化合物や一般式(B)で表わ
されるピリミジン系化合物をあげることができる。
(式中、R1及びRhは直鎖または分枝のアルキル基、
アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、アルカノイ
ルオキシ基、またはアルコキシカルボニルオキシ基を表
わし、同一であっても異なっていても良い。) (式中、R” R”と前記−最大Aと同じ)また、
−最大(A) 、(B)を含め、−最大(C)で表わさ
れる化合物も同様の目的に使用することができる。
アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、アルカノイ
ルオキシ基、またはアルコキシカルボニルオキシ基を表
わし、同一であっても異なっていても良い。) (式中、R” R”と前記−最大Aと同じ)また、
−最大(A) 、(B)を含め、−最大(C)で表わさ
れる化合物も同様の目的に使用することができる。
のハロゲン置換体を表わし、同一であっても異なってい
てもよい。Zl1は−COO−−0CO−−C1120
−1OCHz−5−CH2CH2−1〜CEC−1また
は単結合を表す、)また、Sc相の温度範囲を高温域に
拡大する目的には、−最大(D)で表わされる3環型化
合物を用いることができる。
てもよい。Zl1は−COO−−0CO−−C1120
−1OCHz−5−CH2CH2−1〜CEC−1また
は単結合を表す、)また、Sc相の温度範囲を高温域に
拡大する目的には、−最大(D)で表わされる3環型化
合物を用いることができる。
(式中、R” R’は一般式Aと同じであり、(式
中、R亀 R−は−最大Aと同じであり、 ても異なっていてもよく、Z” Zbは前記−最大
(C)のZlと同様であって、同一であっても異なって
いてもよい、) これらの化合物は混合してSc液晶組成物として用いる
のが効果的であるが組成物としてSc相を示せばよいの
であって、個々の化合物については、必ずしもSc相を
示す必要はない。
中、R亀 R−は−最大Aと同じであり、 ても異なっていてもよく、Z” Zbは前記−最大
(C)のZlと同様であって、同一であっても異なって
いてもよい、) これらの化合物は混合してSc液晶組成物として用いる
のが効果的であるが組成物としてSc相を示せばよいの
であって、個々の化合物については、必ずしもSc相を
示す必要はない。
こうして得られたSc液晶組成物に本発明の一般式(1
)で示される化合物、及び必要とあれば、他の光学活性
化合物をキラルドーパントとして加えることにより、容
易に室温を含む広い温度範囲でSc”相を示すような液
晶組成物を得ることができる。
)で示される化合物、及び必要とあれば、他の光学活性
化合物をキラルドーパントとして加えることにより、容
易に室温を含む広い温度範囲でSc”相を示すような液
晶組成物を得ることができる。
本発明の一般式(1)の光学活性基を有する化合物から
なる液晶化合物、あるいはこれを他の上記Sr、化合物
あるいはSc液晶組成物にドーピングして得られた液晶
組成物は2枚の透明ガラス電極間に1〜20μm程度の
薄膜として封入することにより、表示用セルとして使用
できる。良好なコントラストを得るためには、均一に配
向したモノドメインとする必要がある。このために多く
の方法が試みられているが、液晶材料としては、等方性
液体相(1)===>キラルネマチーツク相(N1)→
スメクチックA相(SA) −+キシルスメクチックC
相(Sc” )という相系列を示し、かっN0相、およ
びSc”相、特にN*相における螺旋ピッチを太きくし
たものが、良好な配向性を示すことが知られている。螺
旋ピッチを大きくするには、互いに捩れの向きが逆のキ
ラル化合物を適量混合すればよいわけであるが、その際
、自発分極が、打ち消し合わないよう注意する必要があ
る。
なる液晶化合物、あるいはこれを他の上記Sr、化合物
あるいはSc液晶組成物にドーピングして得られた液晶
組成物は2枚の透明ガラス電極間に1〜20μm程度の
薄膜として封入することにより、表示用セルとして使用
できる。良好なコントラストを得るためには、均一に配
向したモノドメインとする必要がある。このために多く
の方法が試みられているが、液晶材料としては、等方性
液体相(1)===>キラルネマチーツク相(N1)→
スメクチックA相(SA) −+キシルスメクチックC
相(Sc” )という相系列を示し、かっN0相、およ
びSc”相、特にN*相における螺旋ピッチを太きくし
たものが、良好な配向性を示すことが知られている。螺
旋ピッチを大きくするには、互いに捩れの向きが逆のキ
ラル化合物を適量混合すればよいわけであるが、その際
、自発分極が、打ち消し合わないよう注意する必要があ
る。
本発明の一般式(1)で示される化合物は少なくとも2
つの不斉炭素原子が存在するが、これらのうち誘起する
自発分極の極性(前述のDOBANBCの極性を−と定
義する)は、−最大(I)における不斉炭素CIに最も
影響を受ける。No、 1〜No、 14の化合物にお
ける測定の結果、じが(R)の場合には+、(S)の場
合には−である。
つの不斉炭素原子が存在するが、これらのうち誘起する
自発分極の極性(前述のDOBANBCの極性を−と定
義する)は、−最大(I)における不斉炭素CIに最も
影響を受ける。No、 1〜No、 14の化合物にお
ける測定の結果、じが(R)の場合には+、(S)の場
合には−である。
一方、N0相に誘起するらせんピッチの向きはじだけで
なく、他の不斉炭素原子C0にも大きく依存する。例え
ばNα5の化合物とNo、 7の化合物とを比較すると
、じの絶対配置が逆であるにもかかわらず、そのらせん
向きはともに右であり、C11よりもむしろC11*へ
の依存性がより強いとも考えられる。No、 5の化合
物ではC*とC#*によるらせんの向きが同一であるた
め、そのピッチはかなり小さくなるが、Nα7の化合物
ではC0とC妙によるらせんの向きが逆になり、そのピ
ッチは大きく、母体液晶に10%添加した程度ではもは
やピッチの調整はほとんど必要としない。
なく、他の不斉炭素原子C0にも大きく依存する。例え
ばNα5の化合物とNo、 7の化合物とを比較すると
、じの絶対配置が逆であるにもかかわらず、そのらせん
向きはともに右であり、C11よりもむしろC11*へ
の依存性がより強いとも考えられる。No、 5の化合
物ではC*とC#*によるらせんの向きが同一であるた
め、そのピッチはかなり小さくなるが、Nα7の化合物
ではC0とC妙によるらせんの向きが逆になり、そのピ
ッチは大きく、母体液晶に10%添加した程度ではもは
やピッチの調整はほとんど必要としない。
表2にc” c”における絶対配置とらせんピッチ
の向き、自発分極の極性との関係を示す。
の向き、自発分極の極性との関係を示す。
表2
なお、C′″″の絶対配置と自発分極の極性との関連は
未だ明らかではないが、Nα5と漱7の自発分極の大き
な差のないことから、その影響は大きなものではない。
未だ明らかではないが、Nα5と漱7の自発分極の大き
な差のないことから、その影響は大きなものではない。
例えばNα1の化合物では、らせん向きが右で自発分極
が十であるから、例えば、 Hs を有する化合物の如く、左巻きで自発分極が十の化合物
と混合することにより、自発分極を小さくすることなく
、螺旋のピッチを大きくすることができる。−最大(1
)ないしくII)の光学活性基を有する化合物がN*相
に誘起するらせんピッチの温度による変化は小さいので
、その調整も容易である。
が十であるから、例えば、 Hs を有する化合物の如く、左巻きで自発分極が十の化合物
と混合することにより、自発分極を小さくすることなく
、螺旋のピッチを大きくすることができる。−最大(1
)ないしくII)の光学活性基を有する化合物がN*相
に誘起するらせんピッチの温度による変化は小さいので
、その調整も容易である。
また、本発明の一般式(I)で示される化合物は強誘電
性液晶組成物としてのみではなく、従来のTN液晶にお
いて、いわゆるリバースドメインの防止に用いたり、S
TN液晶において強いねじり力の誘起のために用いるこ
ともできる。この目的にはらせんピッチの小さい組み合
わせの化合物がより適している。
性液晶組成物としてのみではなく、従来のTN液晶にお
いて、いわゆるリバースドメインの防止に用いたり、S
TN液晶において強いねじり力の誘起のために用いるこ
ともできる。この目的にはらせんピッチの小さい組み合
わせの化合物がより適している。
あるいは例えばC1の絶対配置が(R)の場合に、−最
大(n)におけるR1として、(S)配置のCl13
CLCoo−CH−CJ
+3あるいは(R)配置の一〇−C)I−C6fl +
zを導入することにより自発分極をさらに強めながら
らせんピッチを大きくするか、あるいはその向きが逆転
した化合物を得ることも可能である。R1として他の光
学活性な基を導入することによっても自発分極を強め、
らせんの向き、ピッチの大きさの異なった化合物を得る
こともできる。これらを用いて一般式(1)ないしくI
I)の化合物だけでもピッチ調整を行うことさえ可能で
ある。
大(n)におけるR1として、(S)配置のCl13
CLCoo−CH−CJ
+3あるいは(R)配置の一〇−C)I−C6fl +
zを導入することにより自発分極をさらに強めながら
らせんピッチを大きくするか、あるいはその向きが逆転
した化合物を得ることも可能である。R1として他の光
学活性な基を導入することによっても自発分極を強め、
らせんの向き、ピッチの大きさの異なった化合物を得る
こともできる。これらを用いて一般式(1)ないしくI
I)の化合物だけでもピッチ調整を行うことさえ可能で
ある。
〔実施例)
以下に実施例をあげて、本発明を具体的に説明するが、
勿論、本発明の主旨、及び適用範囲はこれらの実施例に
より制限されるものではない。
勿論、本発明の主旨、及び適用範囲はこれらの実施例に
より制限されるものではない。
なお、化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル(N?lR
) 、及び赤外吸収スペクトル(IR) 、マススペク
トル(MS)により確認した。相転移温度の測定は温度
調節ステージを備えた偏光顕微鏡、及び示差走査熱量計
(DSC)を併用して行なった。IRにおける(KBr
)は錠剤成形により(neat)は液膜による測定を表
す。NMRにおける(CDCf j)や(CCj24)
は溶媒を、Sは1重線、dは2重線、Lは3重線、qu
intetは4重線、sex te tは6ffi線、
mは多重線を、broadは幅広い吸収を表し、Jはカ
ップリング定数を表す。MSにおける門゛は親ピークを
表し、()内の数値はそのピーク相対強度を表す。また
、温度は°Cを表す。組成物中における%はすべで重量
%を表す。
) 、及び赤外吸収スペクトル(IR) 、マススペク
トル(MS)により確認した。相転移温度の測定は温度
調節ステージを備えた偏光顕微鏡、及び示差走査熱量計
(DSC)を併用して行なった。IRにおける(KBr
)は錠剤成形により(neat)は液膜による測定を表
す。NMRにおける(CDCf j)や(CCj24)
は溶媒を、Sは1重線、dは2重線、Lは3重線、qu
intetは4重線、sex te tは6ffi線、
mは多重線を、broadは幅広い吸収を表し、Jはカ
ップリング定数を表す。MSにおける門゛は親ピークを
表し、()内の数値はそのピーク相対強度を表す。また
、温度は°Cを表す。組成物中における%はすべで重量
%を表す。
実施例1
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4〔(R
)−シアノ−((IR,3s)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル]フェニル(表I No、 1の
化合物)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息
香酸4[(R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E
)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル(表I N
o、 2の化合物)の合成。
)−シアノ−((IR,3s)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル]フェニル(表I No、 1の
化合物)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息
香酸4[(R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E
)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル(表I N
o、 2の化合物)の合成。
−a
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4(3R
、5R) −3、5−ジメチル−2,6−ジオキサシク
ロヘキシル フェニルの合成。
、5R) −3、5−ジメチル−2,6−ジオキサシク
ロヘキシル フェニルの合成。
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−ホル
ミルフェニル645 mgのジクロロメタン30 ml
fJン&に、−30°Cでトリフルオロメタンスルホ
ンリメチルシリル29μl 、 (R,R)−3.5−
ビス( トリメチルシリルオキシ)ペンタン744 m
gを加え、27時間撹拌した。室温でピリジン0.1
ml 、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mlを加え
、ジクロロメタン(30 mlX3)で抽出、濃縮した
。再結晶(エチルエーテル15 ml)により、(R,
R)−4.6−シメチルー2− (4− (4−(4−
オクチルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)フェニル
)−1.3−ジオキサン230 mg (収率30χ)
を得た。また母液をfiIii後、再結晶(エチルエー
テル/ヘキサン−L/l, 20 ml)により、4−
(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4− ( (
3R,5R)−3.5−ジメチル−2.6−”ジオキサ
シクロヘキシル)フェニル470mg (収率60%)
を得た。
ミルフェニル645 mgのジクロロメタン30 ml
fJン&に、−30°Cでトリフルオロメタンスルホ
ンリメチルシリル29μl 、 (R,R)−3.5−
ビス( トリメチルシリルオキシ)ペンタン744 m
gを加え、27時間撹拌した。室温でピリジン0.1
ml 、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mlを加え
、ジクロロメタン(30 mlX3)で抽出、濃縮した
。再結晶(エチルエーテル15 ml)により、(R,
R)−4.6−シメチルー2− (4− (4−(4−
オクチルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)フェニル
)−1.3−ジオキサン230 mg (収率30χ)
を得た。また母液をfiIii後、再結晶(エチルエー
テル/ヘキサン−L/l, 20 ml)により、4−
(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4− ( (
3R,5R)−3.5−ジメチル−2.6−”ジオキサ
シクロヘキシル)フェニル470mg (収率60%)
を得た。
白色結晶 融点84〜86°C
〔α〕。 +4.33°(C・0.83, CII
C13)IR(KBr):2940,2870,174
0(C=O)、1600 1510 147013
77、1279,1260,1182.1158,11
30.1062,1010 998880、830,8
01.764 cm−’’H NMR(CDCh)
: δ 0.9(brt,J=6.5 Hz 3
H) 1.3(d,J=6.5 Hz,3 H)
、1.50(d,J=6.5 tlz,3 H)、
]、1 〜2、2(m,14 H)、4.03(t,
J=6.5 Hz.2 !l) 4.2Rm I
If)4、50 (m,I H) 、5.87
(s,L H )、7.01 (d,J=9
Hz2 H) 、7.22(d,J=9 Hz,2
H)、7.58(d J=9 Hz 4 If
)7、68(d,J=9 Hz,2 H )、8.23
(d,J=9 Hz,2 )1)MS mlz
: 516(M” 、5)、309(100)元素
分析: (、+3H4。0,として計算値:C+76、
71 i 11.7.80%実測値:C.76、7
8 、 H,7.96%−b 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕フェニルの合成。
C13)IR(KBr):2940,2870,174
0(C=O)、1600 1510 147013
77、1279,1260,1182.1158,11
30.1062,1010 998880、830,8
01.764 cm−’’H NMR(CDCh)
: δ 0.9(brt,J=6.5 Hz 3
H) 1.3(d,J=6.5 Hz,3 H)
、1.50(d,J=6.5 tlz,3 H)、
]、1 〜2、2(m,14 H)、4.03(t,
J=6.5 Hz.2 !l) 4.2Rm I
If)4、50 (m,I H) 、5.87
(s,L H )、7.01 (d,J=9
Hz2 H) 、7.22(d,J=9 Hz,2
H)、7.58(d J=9 Hz 4 If
)7、68(d,J=9 Hz,2 H )、8.23
(d,J=9 Hz,2 )1)MS mlz
: 516(M” 、5)、309(100)元素
分析: (、+3H4。0,として計算値:C+76、
71 i 11.7.80%実測値:C.76、7
8 、 H,7.96%−b 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕フェニルの合成。
Me3SiCN
N
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香14−((
3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシ
クロヘキシル)フェニル 627 mg、モレキュラー
シーブス3A(600mesh) 2.56 gのジク
ロロメタン30 ml懸濁液に、−78°Cで四塩化チ
タンのジクロロメタ21M溶液1.46 mlを加え3
0分撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメ
タ21M溶液2.44m1を5分間かけて滴下した後、
1時間撹拌した。
3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシ
クロヘキシル)フェニル 627 mg、モレキュラー
シーブス3A(600mesh) 2.56 gのジク
ロロメタン30 ml懸濁液に、−78°Cで四塩化チ
タンのジクロロメタ21M溶液1.46 mlを加え3
0分撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメ
タ21M溶液2.44m1を5分間かけて滴下した後、
1時間撹拌した。
メタノール/ジクロロメタン・1/1溶液11を加え、
室温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液70 m
l、を加え、セライト濾過した。ジクロロメタン抽出(
50m1X3)、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(
Kieselgel 60ヘキサン/酢酸エチルエ3/
1)により、4−(4−オクチルオキシフェニル)安息
香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロ
キシ1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル382 m
g(収率57%、95%de)を得た。
室温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液70 m
l、を加え、セライト濾過した。ジクロロメタン抽出(
50m1X3)、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(
Kieselgel 60ヘキサン/酢酸エチルエ3/
1)により、4−(4−オクチルオキシフェニル)安息
香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロ
キシ1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル382 m
g(収率57%、95%de)を得た。
白色結晶 融点84°C
(α) o 5.21’ (C・0.69.CI
C13)IR(KBr) :3550.2940.28
60.1730 (C=0) 、 1602.1500
゜1297、1260.1250.1180.1065
.1010.828 cm−’’HNMR(CDCIs
): δ 0.9(brt、J=6.5 Hz、3
H)、1.2(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.
40(d、J=6.5 f!z、3 N)、1.2〜1
.4(m、 811)、1.48(quintet、J
=6.51(z、2 H)、1.56〜1.72(s+
、3 H)、 1.83(quintet、J=6.
5 Hz、2 H)。
C13)IR(KBr) :3550.2940.28
60.1730 (C=0) 、 1602.1500
゜1297、1260.1250.1180.1065
.1010.828 cm−’’HNMR(CDCIs
): δ 0.9(brt、J=6.5 Hz、3
H)、1.2(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.
40(d、J=6.5 f!z、3 N)、1.2〜1
.4(m、 811)、1.48(quintet、J
=6.51(z、2 H)、1.56〜1.72(s+
、3 H)、 1.83(quintet、J=6.
5 Hz、2 H)。
4.02(t、J=6.582,214)、 3.9
6〜4.04(m、I H) 。
6〜4.04(m、I H) 。
4.08〜4.16(m、I H) 、5.37(s
、111 )、7.0O(d、J・8.8Hz、2 H
)、7.32(d、J=8.8 Hz、2 H)、7.
60(d、J=8.8 Hz。
、111 )、7.0O(d、J・8.8Hz、2 H
)、7.32(d、J=8.8 Hz、2 H)、7.
60(d、J=8.8 Hz。
4 H)、7.71(d、J=8.8 Hz、2 B)
、 8.23(d、J=8.8 Hz。
、 8.23(d、J=8.8 Hz。
2 H)
MS s/z : 543(M” 、3)、
309(100)元素分析: C5aHalNOsと
して計算値: C,75,11、H,7,60; N、
2.58%実測値: C,7′5.06 ; H,7,
83、N、2.35%−c 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜
メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表lNa1の化合
物)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸
4〔(R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−
2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル(表INo、2
の化合物)の合成。
309(100)元素分析: C5aHalNOsと
して計算値: C,75,11、H,7,60; N、
2.58%実測値: C,7′5.06 ; H,7,
83、N、2.35%−c 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜
メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表lNa1の化合
物)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸
4〔(R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−
2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル(表INo、2
の化合物)の合成。
N
十 〇tzNSh
N
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4〔(R
)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチ
ルブトキシ)メチル〕フェニル 370 mgのジクロ
ロメタン10 n+1溶液に、−78°Cで三フッ化ジ
エチルアミノ硫黄(EhNSF3. DAST)−ジク
ロロメタ71M溶液1 mlを加えた後、1時間かけ室
温まで昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(15m
1X3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(15ml)
で洗滌後、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(Kie
se1ge160ヘキサン/酢酸エチル=10/1)に
より、4−(4−オクチルオキシフェニルり安息香酸4
−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表INo、
1の化合物) 229 mg(収率61%、93%de
)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4
−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル(E)−2
−ブテニルオキシ)メチル)フェニル(表I No、2
の化合物) 47 wag(収率13%)を得た。
)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチ
ルブトキシ)メチル〕フェニル 370 mgのジクロ
ロメタン10 n+1溶液に、−78°Cで三フッ化ジ
エチルアミノ硫黄(EhNSF3. DAST)−ジク
ロロメタ71M溶液1 mlを加えた後、1時間かけ室
温まで昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(15m
1X3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(15ml)
で洗滌後、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(Kie
se1ge160ヘキサン/酢酸エチル=10/1)に
より、4−(4−オクチルオキシフェニルり安息香酸4
−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表INo、
1の化合物) 229 mg(収率61%、93%de
)及び4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4
−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル(E)−2
−ブテニルオキシ)メチル)フェニル(表I No、2
の化合物) 47 wag(収率13%)を得た。
測定値は以下の通りである。
4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4【(R
)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕フェニル(表INo、1の化合
物)白色結晶 融点94.3°C Sc” 5A84.3°c ’ 5A−1103,
3°C〔α)D +13.0°(C・1.03.C
f1Ch)IR(KBr):2920,2850.1?
28(C=0)、1600,1498,1380゜12
90.1258,1240,1178,1100.10
61.1008.820 cm−’’HNMR(CD
CI:l): δ 0.9(brt、J=6.511
z、3 II)。
)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕フェニル(表INo、1の化合
物)白色結晶 融点94.3°C Sc” 5A84.3°c ’ 5A−1103,
3°C〔α)D +13.0°(C・1.03.C
f1Ch)IR(KBr):2920,2850.1?
28(C=0)、1600,1498,1380゜12
90.1258,1240,1178,1100.10
61.1008.820 cm−’’HNMR(CD
CI:l): δ 0.9(brt、J=6.511
z、3 II)。
1.2〜1.4(m、8H)、 1.34(dd、J
=6.5.24 Hz、3 II。
=6.5.24 Hz、3 II。
1.40(d、J=6.5 Hz、3 H)、 1.
49(br quintet、J=6.5)1z、21
f)、1.69(dddd、J=3.6,7.0,15
.6.33 H2,IH)。
49(br quintet、J=6.5)1z、21
f)、1.69(dddd、J=3.6,7.0,15
.6.33 H2,IH)。
1.82((quintet、J=6.5 Hz、2
H)、 2.10(ddd、J=5.2゜8.8,1
4.2.LH)、’3.9〜4.0(m、I H)、
4.03(t、J=6.5 Hz。
H)、 2.10(ddd、J=5.2゜8.8,1
4.2.LH)、’3.9〜4.0(m、I H)、
4.03(t、J=6.5 Hz。
2 H)、 4.78(dqdd、J=3.6,6.
1,9.0.49 Hz、I H) 。
1,9.0.49 Hz、I H) 。
5.30 (s、I H)、?、01 (d、J
=8.5 )1z、2 H) 、7.31(d。
=8.5 )1z、2 H) 、7.31(d。
J=8.5 Hz、2 H)、 7.57(d、J=
8.5 )1z、2 H)、 7.6Hd。
8.5 )1z、2 H)、 7.6Hd。
J=8.5 Hz、2 B )、 7.70(d、J
=8.5 Hz、2 H)、 8.24(d、J=8
.5 Hz、2 H) MS m/z : 545(M” 、4)、 3
09(100)、 197(29)元素分析: Cs
4Ha1NO4Fとして計算値: C,?4.84 ;
!1,7.39 ; N、2.57%実測値: C,
?4.89 ; H,7,60; N、2.40%4−
(4−オクチルオキシフヱニル)安息香酸4〔(R)−
シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル)フェニル(表INo、2の化合物)白
色結晶 融点73.4 ”C 3A−1128,2°C 〔α〕。 +12.55°(C=1.lO,CHCl
3)IR(KBr) :2950.2875.1736
(C=0) 、 1605.1510.1269゜1
199.1170.1075.829,765 cm
−’’HNMR(CDCh) : δ 0.9(br
t、J=6.5 Hz、3 H)。
=8.5 Hz、2 H)、 8.24(d、J=8
.5 Hz、2 H) MS m/z : 545(M” 、4)、 3
09(100)、 197(29)元素分析: Cs
4Ha1NO4Fとして計算値: C,?4.84 ;
!1,7.39 ; N、2.57%実測値: C,
?4.89 ; H,7,60; N、2.40%4−
(4−オクチルオキシフヱニル)安息香酸4〔(R)−
シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル)フェニル(表INo、2の化合物)白
色結晶 融点73.4 ”C 3A−1128,2°C 〔α〕。 +12.55°(C=1.lO,CHCl
3)IR(KBr) :2950.2875.1736
(C=0) 、 1605.1510.1269゜1
199.1170.1075.829,765 cm
−’’HNMR(CDCh) : δ 0.9(br
t、J=6.5 Hz、3 H)。
1.36(d、J=6.5 Hz、 3 H)、1.
25〜1.42(m、811)、1.48(quint
et、J=6.5 fiz、2 H)、1.79(dd
、J=1.6,6.5 Hz311)、 1.77
〜1.86(m、2 H)、4.02(t、J=6.5
Hz、2 H)。
25〜1.42(m、811)、1.48(quint
et、J=6.5 fiz、2 H)、1.79(dd
、J=1.6,6.5 Hz311)、 1.77
〜1.86(m、2 H)、4.02(t、J=6.5
Hz、2 H)。
4.30qd、J=6.2,8.8 Hz、18)、
5.29(s、I H)、 5.35(qdd、
J=1.6. 8.8. 15.4 Hz、IH)、
5.90(qd、J=6.5゜15.4 Hz、IH
)、 7.00(d、J=8.5 Hz、2 H)、
7.28(d、J−8,5Hz、2 H)、 7
.55(d、J=8.5 Hz、2 H)、 7.5
9(d、J=8.5 Hz、2 H)、 7.69(
d、J=8.5 )1z、2 H)、 8.22(d
、J=8.5 Hz) MS ts/z : 525(M” 、2)、30
9(100)実施例2 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕フェニル及び4−デシルオキシ安息香酸4−((
R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル]フェニルの合成。
5.29(s、I H)、 5.35(qdd、
J=1.6. 8.8. 15.4 Hz、IH)、
5.90(qd、J=6.5゜15.4 Hz、IH
)、 7.00(d、J=8.5 Hz、2 H)、
7.28(d、J−8,5Hz、2 H)、 7
.55(d、J=8.5 Hz、2 H)、 7.5
9(d、J=8.5 Hz、2 H)、 7.69(
d、J=8.5 )1z、2 H)、 8.22(d
、J=8.5 Hz) MS ts/z : 525(M” 、2)、30
9(100)実施例2 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕フェニル及び4−デシルオキシ安息香酸4−((
R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル]フェニルの合成。
−a
4−デシルオキシ安息香酸4− ((3R,5R)〜3
.5−ジメチルー2.6−シオキサシクロヘキシル)フ
ェニルの合成。
.5−ジメチルー2.6−シオキサシクロヘキシル)フ
ェニルの合成。
4−デシルオキシ安息香酸4−ホルミルフェニル1.5
gのジクロロメタン20 ml溶液に、−30°Cでト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル76μl
、 (R,R,)−3,5−ビス(トリメチルシリル
オキシ)ペンタン1.95 g、を加え、23時間撹拌
した。
gのジクロロメタン20 ml溶液に、−30°Cでト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル76μl
、 (R,R,)−3,5−ビス(トリメチルシリル
オキシ)ペンタン1.95 g、を加え、23時間撹拌
した。
室温でピリジン0.2 ml 、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタン(50ml
x3)で抽出、濃縮した。カラムクロマトグラフィー(
にieselgel 60 ヘキサン/酢酸エチル=1
0/1)により、4−デシルオキシ安息香酸4− ((
3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシ
クロヘキシル)フェニル(収率94%)を得た。
ム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタン(50ml
x3)で抽出、濃縮した。カラムクロマトグラフィー(
にieselgel 60 ヘキサン/酢酸エチル=1
0/1)により、4−デシルオキシ安息香酸4− ((
3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシ
クロヘキシル)フェニル(収率94%)を得た。
白色結晶 融点47〜48°C
〔α〕。 +6.98’ (C=1.06.CHC
h)JR(KBr):2920,2850.1730(
C=0)、1600,1509,1258゜1196、
1160.1130.10?0.1050.1010
cl ’’HNMR(CDCI+): δ 0,8?
(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
h)JR(KBr):2920,2850.1730(
C=0)、1600,1509,1258゜1196、
1160.1130.10?0.1050.1010
cl ’’HNMR(CDCI+): δ 0,8?
(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
1.29(d、J=6.5 Hz、 3 H)、1.
47(d、J=6.5 Hz、 3 H)1.1 〜
2.2(m、18tl)、 4.00(t、J=6.
5 Hz、2 tD、4.1〜4.3(m、1 )1
)、 4.43(quintet、J=6.5 02
,1 fl)、 5.82(s、l H)、6.
92(d、J=8.4 +1z、2 )1)、7.15
(d、J=8.4112゜2 H)、、 7.51(
d、J=8.411z、2 H)、 8.10(d、
J=8.4 Hz。
47(d、J=6.5 Hz、 3 H)1.1 〜
2.2(m、18tl)、 4.00(t、J=6.
5 Hz、2 tD、4.1〜4.3(m、1 )1
)、 4.43(quintet、J=6.5 02
,1 fl)、 5.82(s、l H)、6.
92(d、J=8.4 +1z、2 )1)、7.15
(d、J=8.4112゜2 H)、、 7.51(
d、J=8.411z、2 H)、 8.10(d、
J=8.4 Hz。
2 H)
MS mHz : 46B(M” 、0.8)、
261(100)、 121(51)元素分析: C
29H4゜0.として 計算値: C,?4.33 ; H,8,60%実測値
:C,74,17i H,8,78%−b 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
RlR)−3−ヒドロキシルl−メチルブトキシ)メチ
ル)フェニルの合成 4−デシルオキシ安息香酸4− ((31?、5R)−
3,5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘキシル)
フェニル400mg 、 −1〜L/キュラーシーブス
3A(6005esh)2 gのジクロロメタン15
ml懸濁液に、−78℃で四塩化チタン−ジクロロメタ
71M溶液l■lを加え20分撹拌した。トリメチルシ
リルシアニド−ジクロロメタ71M溶液1.7 mlを
5分間かけて滴下した後、2時間撹拌した。メタノール
/ジクロロメタン・1/1溶液0.7 mlを加え、室
温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50 ml
を加え、セライト濾過した。ジクロロメタン抽出(30
ml X3)、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(K
iese1ge160ヘキサン/酢酸エチル=s /1
)により、4−デシルオキシ安息香#4− ((R)−
シアノ−((R,R)−3〜ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェチル200 mg (収率47%
、94%de)を得た。
261(100)、 121(51)元素分析: C
29H4゜0.として 計算値: C,?4.33 ; H,8,60%実測値
:C,74,17i H,8,78%−b 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
RlR)−3−ヒドロキシルl−メチルブトキシ)メチ
ル)フェニルの合成 4−デシルオキシ安息香酸4− ((31?、5R)−
3,5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘキシル)
フェニル400mg 、 −1〜L/キュラーシーブス
3A(6005esh)2 gのジクロロメタン15
ml懸濁液に、−78℃で四塩化チタン−ジクロロメタ
71M溶液l■lを加え20分撹拌した。トリメチルシ
リルシアニド−ジクロロメタ71M溶液1.7 mlを
5分間かけて滴下した後、2時間撹拌した。メタノール
/ジクロロメタン・1/1溶液0.7 mlを加え、室
温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50 ml
を加え、セライト濾過した。ジクロロメタン抽出(30
ml X3)、濃縮後、カラムクロマトグラフィー(K
iese1ge160ヘキサン/酢酸エチル=s /1
)により、4−デシルオキシ安息香#4− ((R)−
シアノ−((R,R)−3〜ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェチル200 mg (収率47%
、94%de)を得た。
油状物質
〔α) o 5.41’ (Cヨ1.44.C
HCl3)IR(KBr):3500(OH)、29B
0,2940.1730(C=O)、1608゜151
2.1260.1206,1165.1063 C1
1l−’’HN?IR(CDCIs): δ 0.8
9(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
HCl3)IR(KBr):3500(OH)、29B
0,2940.1730(C=O)、1608゜151
2.1260.1206,1165.1063 C1
1l−’’HN?IR(CDCIs): δ 0.8
9(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
1.20(cf、J=6.3 Hz、 3 H)、1
.38(d、J=6.3 Hz、 3 )1)。
.38(d、J=6.3 Hz、 3 )1)。
1.2〜1.4軸、12H)、1.48(quinte
t+J=7.1 Hz、2 H)+1.6(br、I
H)、1.60(ddd、J=3.9.9.5.14.
6 Hz、I B)。
t+J=7.1 Hz、2 H)+1.6(br、I
H)、1.60(ddd、J=3.9.9.5.14.
6 Hz、I B)。
1.67(ddd、J=3.0.7.9.14.61(
z、l H)、1.82(quintet。
z、l H)、1.82(quintet。
J=6.5 Hz、2 H)、3.99(dqd、J=
3.0.6.3.9.5 Hz、I H)。
3.0.6.3.9.5 Hz、I H)。
4.04(t、J=6.5 Hz、2 H)、4.10
(dqd、J=3.9,6.3.7.9Hz、 l H
)、5.35(s、IH)、6.97(d、J=8.4
Hz、 2 H)。
(dqd、J=3.9,6.3.7.9Hz、 l H
)、5.35(s、IH)、6.97(d、J=8.4
Hz、 2 H)。
7.27 (d、J=8.4 Hz、2 II)、 7
.56(d、J=8.4 Hz、2 H)。
.56(d、J=8.4 Hz、2 H)。
8.13(d、J=8.4 Hz、 2 H)MS
mHz : 495(M’ 、1)、 26H100
)、 12H49)元素分析: C5oHa+NOsと
して計算値: C,72,70: H,8,33、N、
2.82%実測値: C,72,42; 11.8.6
3 j N、3.09%−c 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕フェニル(表INα3の化合物)及び4−デシル
オキシ安息香酸4− ((R)−シアノ−(R)−1〜
メチル−(E)−2ブテニルオキシ)メチル〕フェニル
(表lNa4)の合成。
mHz : 495(M’ 、1)、 26H100
)、 12H49)元素分析: C5oHa+NOsと
して計算値: C,72,70: H,8,33、N、
2.82%実測値: C,72,42; 11.8.6
3 j N、3.09%−c 4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕フェニル(表INα3の化合物)及び4−デシル
オキシ安息香酸4− ((R)−シアノ−(R)−1〜
メチル−(E)−2ブテニルオキシ)メチル〕フェニル
(表lNa4)の合成。
N
+ ELzNSh
4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
RlR)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチ
ル)フェニル189 mgのジクロロメタン1.51
ml溶液に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄
(EtzNspz。
RlR)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチ
ル)フェニル189 mgのジクロロメタン1.51
ml溶液に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄
(EtzNspz。
DAST)−ジクロロメタン1.5 M溶液0.5 a
+J を加えた後、3時間かけ室温まで昇温した。水処
理、ジクロロメタン抽出(15a+lX3)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液(15mf)で洗滌後、濃縮し、
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル= 5/1)により、4−デシルオキシ安息香酸
4−〔(R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル139 m
g(収率73%。
+J を加えた後、3時間かけ室温まで昇温した。水処
理、ジクロロメタン抽出(15a+lX3)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液(15mf)で洗滌後、濃縮し、
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル= 5/1)により、4−デシルオキシ安息香酸
4−〔(R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル139 m
g(収率73%。
94%de)及び4−デシルオキシ安息香酸4−((R
)シアノ−(R)へ1〜メチル−(E)−2−ブチ、ニ
ルオキシ)メチル〕フェニル18 mg(収率10%)
を得た。
)シアノ−(R)へ1〜メチル−(E)−2−ブチ、ニ
ルオキシ)メチル〕フェニル18 mg(収率10%)
を得た。
測定値は以下の通りである。
4−デシルオキシ安息香酸4−((R)−シアノ−((
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル]フェニル 白色結晶 融点37°C (α〕。 +14.86 ’ (C=1.09.CH
Cl3)TR(にBr) :2930,2860.17
30(C=O) 、 1603.1509.1253゜
1203.1161.1060,843,760 c
m−’’ It NMR(CDCI 3) : δ0.
89(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メ
チル]フェニル 白色結晶 融点37°C (α〕。 +14.86 ’ (C=1.09.CH
Cl3)TR(にBr) :2930,2860.17
30(C=O) 、 1603.1509.1253゜
1203.1161.1060,843,760 c
m−’’ It NMR(CDCI 3) : δ0.
89(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
1.34(dd、J=6.5.24 Hz、3 B)、
1.39(d、J=6.5 )1z、3 H)。
1.39(d、J=6.5 )1z、3 H)。
1.2〜1.4(m、12H)、1.48(quint
et、J=6.5 Hz、2 H)。
et、J=6.5 Hz、2 H)。
1.67(dddd、J=3.6.6.0,14.5.
33 Hz、1B)、1.82(quintet、J=
6.5 Hz、2 H)、2.09(dat、J=5.
2,8.8゜14.2 H2,1ll) 3.94(
sextet、J=6.511z、1 )1)、 4.
05(t、J=6.5 Hz、2 H)、4.78(d
qdd、J= 3.6,6.5,9.8.49Hz、l
tl) 、5.28 (s、I H)、6.97 (
d、J=8.4 Hz、2 H)。
33 Hz、1B)、1.82(quintet、J=
6.5 Hz、2 H)、2.09(dat、J=5.
2,8.8゜14.2 H2,1ll) 3.94(
sextet、J=6.511z、1 )1)、 4.
05(t、J=6.5 Hz、2 H)、4.78(d
qdd、J= 3.6,6.5,9.8.49Hz、l
tl) 、5.28 (s、I H)、6.97 (
d、J=8.4 Hz、2 H)。
?、28(d、J=8.4 )1z、2 H)、7.5
4(d、J= 8.4 Hz、2 H)。
4(d、J= 8.4 Hz、2 H)。
8.13 (d、J=8.41(z、2 N)MS m
Hz : 261(M−236,100)、 12H
42)元素分析:C1゜H4゜N04Fとして計算値:
C,?2.41 、 )1,8.10 ; N、2.
81%実測値:C,?2.45 ; H,8,18;
N、2.70%4−デシルオキシ安息香酸4−((R)
−シアノ−((R)1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル〕フェニル 白色結晶 融点45°C 〔α〕。 + 25.02@(C=0.903.Cl
IC13)IR(nea t) : 2960.293
0.2860.1730 (C=O) 、 1605.
1510゜1253.1204,1163.1066
cm−’’HNMR(CDCIり : δ 0.9
9 (brt、J=6.511z、311)1.36
(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.78(dd、
J=1.5,6.51(z、3 It)。
Hz : 261(M−236,100)、 12H
42)元素分析:C1゜H4゜N04Fとして計算値:
C,?2.41 、 )1,8.10 ; N、2.
81%実測値:C,?2.45 ; H,8,18;
N、2.70%4−デシルオキシ安息香酸4−((R)
−シアノ−((R)1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル〕フェニル 白色結晶 融点45°C 〔α〕。 + 25.02@(C=0.903.Cl
IC13)IR(nea t) : 2960.293
0.2860.1730 (C=O) 、 1605.
1510゜1253.1204,1163.1066
cm−’’HNMR(CDCIり : δ 0.9
9 (brt、J=6.511z、311)1.36
(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.78(dd、
J=1.5,6.51(z、3 It)。
1.0〜2.0(m、16H)、 4.03(t、J
=6.5 Hz、2 tl)、 4.28(qd、J
=6.5,9.01(z、I H)、 5.26(s
、I H)、 5.33(dd。
=6.5 Hz、2 tl)、 4.28(qd、J
=6.5,9.01(z、I H)、 5.26(s
、I H)、 5.33(dd。
J=9.0.15 Hz、IH)、 5.89(qd
、J=6.5,15 tlz、L H)。
、J=6.5,15 tlz、L H)。
6.96(d、J=8.4 H2,2H)、 7.2
3(d、J=8.4 Hz、2 If)7.53(d、
J=8.4 Hz、2 H)、 8.13(d、J=
8.4 Hz、211)MS mHz : 478(M
+1.0.9)、 261(100)、 149(4
4L12H46) 実施例3 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル(表I No、 5の化合物)及び4
−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−
2−ブテニルオキシ)メチル]安息香酸4−オクチルオ
キシフェニル(表INα6)及び4−((S)−シアノ
−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキ
シ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフェニル(表
INα7)及び4−((S)シアノ ((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安息香酸
4−オクチルオキシフェニル(表INα8)の合成。
3(d、J=8.4 Hz、2 If)7.53(d、
J=8.4 Hz、2 H)、 8.13(d、J=
8.4 Hz、211)MS mHz : 478(M
+1.0.9)、 261(100)、 149(4
4L12H46) 実施例3 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル(表I No、 5の化合物)及び4
−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−
2−ブテニルオキシ)メチル]安息香酸4−オクチルオ
キシフェニル(表INα6)及び4−((S)−シアノ
−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキ
シ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフェニル(表
INα7)及び4−((S)シアノ ((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安息香酸
4−オクチルオキシフェニル(表INα8)の合成。
−a
4− (3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シ
オキサシクロヘキシル 安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニルの合成。
オキサシクロヘキシル 安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニルの合成。
4−ホルミル安息香酸4−オクチルオキシフェニル1.
5gのジクロロメタン30 +111 ?各法に、−3
0°Cでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリ
ル82μl、(R,R)−3,5−ビス(トリメチルシ
リルオキジ)ペンタン2.1gを加え、23時間撹拌し
た。室温でピリジン0.2 ml 、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタン(30
mlX3)で抽出、濃縮した。カラムクロマトグラフィ
ー(Kieselgel 60+ ヘキサン/酢酸エチ
ル=lO/1)により、4− ((3R,5R)−3,
5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘキシル)安息
香酸4−オクチルオキシフェニル1.5 g(収率80
%)を得た。
5gのジクロロメタン30 +111 ?各法に、−3
0°Cでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリ
ル82μl、(R,R)−3,5−ビス(トリメチルシ
リルオキジ)ペンタン2.1gを加え、23時間撹拌し
た。室温でピリジン0.2 ml 、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタン(30
mlX3)で抽出、濃縮した。カラムクロマトグラフィ
ー(Kieselgel 60+ ヘキサン/酢酸エチ
ル=lO/1)により、4− ((3R,5R)−3,
5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘキシル)安息
香酸4−オクチルオキシフェニル1.5 g(収率80
%)を得た。
白色結晶 融点67〜68゛C
〔α〕。 +8.34” (C・0.88?、CH
Cl1)IR(KBr) :2930.2860.17
30 (C=O) 、 1502.1265.1245
゜1190、1130.10?3.1010.760
cm−’’HNMR(CDCI+): δ 0.87
(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
Cl1)IR(KBr) :2930.2860.17
30 (C=O) 、 1502.1265.1245
゜1190、1130.10?3.1010.760
cm−’’HNMR(CDCI+): δ 0.87
(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
1.29(d、J=6.511z、3 H)、 1.
48(d、J=6.5 fiz、3 H)。
48(d、J=6.5 fiz、3 H)。
1.1 〜2.Hm、14 H)、 3.9Ht、J
=6.511z、2 H)、4.0〜4.3(m、1
)1)、 4.44(quintet、J=6.5
Hz、I H)。
=6.511z、2 H)、4.0〜4.3(m、1
)1)、 4.44(quintet、J=6.5
Hz、I H)。
5.85(s、 I H)、 6.85(d、J=
8.4 Hz、2 H)、 7.08(d。
8.4 Hz、2 H)、 7.08(d。
J=8.4 Hz、 2 II)、 7.58(d
、J=8.4 Hz、2 H)、 8.16(d。
、J=8.4 Hz、2 H)、 8.16(d。
J=8.4 Hz、2 H)
MS to/z : 440(M”、11)、219
(100)、105(30)元素分析: CttH3h
Osとして 計算(ti : C,?3.60 、1+、8.23%
。
(100)、105(30)元素分析: CttH3h
Osとして 計算(ti : C,?3.60 、1+、8.23%
。
実測値: C,73,47、H,8,36%−b
4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル及び4−((S)−シアノ−((R,R
)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル)安
息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル及び4−((S)−シアノ−((R,R
)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル)安
息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
0 CN
4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,6−
シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−オクチルオキシ
フェニル800 +11gのジクロロメタン10m1溶
液に、室温でトリメチルシリルシアニド−ジクロロメタ
ン液液364 mlを加えた後、15分間撹拌した。三
フッ化ホウ素ジエチルエーテル(BF2・Et!0)の
ジクロロメタ71M溶液2.19 mlを加え30分撹
拌したのち、メタノール1 +mlを加え、さらに飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液30 mlを加えた.ジクロ
ロメタン(30 mlX3)で抽出、濃縮後、カラムク
ロマトグラフィー(Kieselgel 60.ヘキサ
ン/酢酸エチル=5/1)により、4−((R)−シア
ノ− ((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブト
キシ)メチル〕安息香酸4ーオクチルオキシフェニルと
4−((S)−シアノ−((R。
シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−オクチルオキシ
フェニル800 +11gのジクロロメタン10m1溶
液に、室温でトリメチルシリルシアニド−ジクロロメタ
ン液液364 mlを加えた後、15分間撹拌した。三
フッ化ホウ素ジエチルエーテル(BF2・Et!0)の
ジクロロメタ71M溶液2.19 mlを加え30分撹
拌したのち、メタノール1 +mlを加え、さらに飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液30 mlを加えた.ジクロ
ロメタン(30 mlX3)で抽出、濃縮後、カラムク
ロマトグラフィー(Kieselgel 60.ヘキサ
ン/酢酸エチル=5/1)により、4−((R)−シア
ノ− ((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブト
キシ)メチル〕安息香酸4ーオクチルオキシフェニルと
4−((S)−シアノ−((R。
R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル)
安息香酸4−オクチルオキシフェニルの3:2混合物7
72 mg (収率90%)を得た.さらに分取用中圧
液体クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル・4/1)により、4−[(R)−シアノ−((
R.R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチ
ル]安息香酸4ーオクチルオキシフェニル165 II
g(94%de)と4−((S)−シアノ− ((R.
R)−3−ヒドロキシ−l−メチルブトキシ)メチル〕
安息香酸4ーオクチルオキシフェニル141 mg(
96%de) ヲn タ。
安息香酸4−オクチルオキシフェニルの3:2混合物7
72 mg (収率90%)を得た.さらに分取用中圧
液体クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル・4/1)により、4−[(R)−シアノ−((
R.R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチ
ル]安息香酸4ーオクチルオキシフェニル165 II
g(94%de)と4−((S)−シアノ− ((R.
R)−3−ヒドロキシ−l−メチルブトキシ)メチル〕
安息香酸4ーオクチルオキシフェニル141 mg(
96%de) ヲn タ。
測定値は以下の通りである。
4−((R)−シアノ− ((R,R)−3−ヒドロキ
シ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4ーオクチ
ルオキシフェニル 白色結晶 融点38℃ 〔α) o 6.43° (C=1.15,CH
Clz)夏R(にBr): 3470 (OH)、29
40.2880.1740 (C=0)、1513。
シ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4ーオクチ
ルオキシフェニル 白色結晶 融点38℃ 〔α) o 6.43° (C=1.15,CH
Clz)夏R(にBr): 3470 (OH)、29
40.2880.1740 (C=0)、1513。
1280.1260.1200.1080,1069.
870,830 C11〜’’H NMRCCDC
lz): δ 0.9(brt.J=6.5 Hz,
3 H)。
870,830 C11〜’’H NMRCCDC
lz): δ 0.9(brt.J=6.5 Hz,
3 H)。
1、25(d,J=6.5 Hz.3 II)、 1
.32(d,J=6.5 Hz.3 H)。
.32(d,J=6.5 Hz.3 H)。
1、27〜1.40(n+. 8 N’>+ 1.
46(quintet.J−6.5 H212)1)1
1、65(ddd.J=2.9.9.2.14.6 H
z.I H)、 1.73(ddd.J=3、9.
8.7,14.6 H2.I H)、 1.79(q
uintet,J=6.5 11z。
46(quintet.J−6.5 H212)1)1
1、65(ddd.J=2.9.9.2.14.6 H
z.I H)、 1.73(ddd.J=3、9.
8.7,14.6 H2.I H)、 1.79(q
uintet,J=6.5 11z。
2 H)、 1.9(brs.I H)、 3.9
6(t,J=6.5 Hz,2 H)。
6(t,J=6.5 Hz,2 H)。
4、16(dqd. J=3.0.6.2.9.2
H2.I H)、 4.25(dqd,J=3、0.
6.1.9 Hz,I H)、 5.41(s,IH
)、6.93(d,J=8.4Hz。
H2.I H)、 4.25(dqd,J=3、0.
6.1.9 Hz,I H)、 5.41(s,IH
)、6.93(d,J=8.4Hz。
2H)、7.11(d.J=8.4 Hz.2 H)、
7.63(d,J=8.4 Hz,2H)。
7.63(d,J=8.4 Hz,2H)。
8、25(d.J=8.4 Hz.2 H)MS ta
/z : 467(M”、17)、 246(10
0)、 160(30)元素分析: Cgal13J
Osとして計算値: C.71.92 ; H.7.9
8 、 N.2.99%実測値: C.71.84 ;
H.8.05 、 N,2.94%4−((S)−シ
アノ− ((R.R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕安息香酸4ーオクチルオキシフェニル 白色結晶 融点53℃ 〔α) 、 −57.14 °(C・1.12.
CIlClりIR(KBr) :3600(OH) 、
2930. 2880. 1725(C=0) 、
1502。
/z : 467(M”、17)、 246(10
0)、 160(30)元素分析: Cgal13J
Osとして計算値: C.71.92 ; H.7.9
8 、 N.2.99%実測値: C.71.84 ;
H.8.05 、 N,2.94%4−((S)−シ
アノ− ((R.R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕安息香酸4ーオクチルオキシフェニル 白色結晶 融点53℃ 〔α) 、 −57.14 °(C・1.12.
CIlClりIR(KBr) :3600(OH) 、
2930. 2880. 1725(C=0) 、
1502。
1190、 1065−α−型
’H NMR(CDCIs): δ 0.9(brt
,J=6.5 Hz,3 H)。
,J=6.5 Hz,3 H)。
1、2Hd,J=6.3 8Z,3 H)、 1.4
0(d.J=6.3 Hz.3 H)。
0(d.J=6.3 Hz.3 H)。
1、27〜1.38(a+. 8 H)+1.46(
br.quintet.J=6.5 Hz。
br.quintet.J=6.5 Hz。
2 II)、 1.6(brs、I H)、 1.
62(ddd、J=3.6,9.6,14.6Hz、I
H)、 1.71(ddd、J=3.0,8.3,
14.6 Hz、1 )1)。
62(ddd、J=3.6,9.6,14.6Hz、I
H)、 1.71(ddd、J=3.0,8.3,
14.6 Hz、1 )1)。
1.79(quintet、 J=6.5 Hz、2
H)、3.96(t、J=6.511z。
H)、3.96(t、J=6.511z。
2 H)、 4.0Hdqd、J=3.0,6.2,9
.311z)、 4.15(dqd。
.311z)、 4.15(dqd。
J=3.6,6.2.9.8 Hz、18)、 5.
43(s、1ll)、6.93(d、J=8.4 Hz
、2 H)、 7.lHd、J=8.4 Hz、2
H)、 ?、65(d、J=8.4 Hz、2 H)
、 8.25(d、J=8.4 Hz、2 )1)M
S m/z : 467(M” 、11)、 24
6(63)、 219(93)。
43(s、1ll)、6.93(d、J=8.4 Hz
、2 H)、 7.lHd、J=8.4 Hz、2
H)、 ?、65(d、J=8.4 Hz、2 H)
、 8.25(d、J=8.4 Hz、2 )1)M
S m/z : 467(M” 、11)、 24
6(63)、 219(93)。
15B (35) 、 144 (45) 、 133
(100) 、 105 (43) 。
(100) 、 105 (43) 。
元素分析: CzsHsJOsとして
計算値: C,,71,92i H,7,98、N、2
.98%実測値: C,71,78: H,8,13;
N、2.83%−c 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル及び4−((R)−シアノ−((R)
−1〜メチル(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安
息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
.98%実測値: C,71,78: H,8,13;
N、2.83%−c 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル及び4−((R)−シアノ−((R)
−1〜メチル(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安
息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
N
+ EtzNSFi
4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル153 mgのジクロロメタン3 m
N容?夜に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄
(EtJSh、 DAST)−ジクロロメタンIMt各
法0.5mlを加えた後、10時間かけ室温まで昇温し
た。水処理、ジクロロメタン抽出(10m1x3)、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液(15a+1)で渋滞後、
濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・5/1)により、4−((R)−シ
アノ−(IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブト
キシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフェニル1
23 mg(収率80%、 90%de)及び4−((
R)−シアノ−(R)−1〜メチル−(E)−2−ブテ
ニルオキシ)メチル〕安息香酸4オクチルオキシフェニ
ル15 mg(収率10%)を得た。
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル153 mgのジクロロメタン3 m
N容?夜に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄
(EtJSh、 DAST)−ジクロロメタンIMt各
法0.5mlを加えた後、10時間かけ室温まで昇温し
た。水処理、ジクロロメタン抽出(10m1x3)、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液(15a+1)で渋滞後、
濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・5/1)により、4−((R)−シ
アノ−(IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチルブト
キシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフェニル1
23 mg(収率80%、 90%de)及び4−((
R)−シアノ−(R)−1〜メチル−(E)−2−ブテ
ニルオキシ)メチル〕安息香酸4オクチルオキシフェニ
ル15 mg(収率10%)を得た。
これらの測定値は以下の通りである。
4−((R)−シアノ−(IR,3S)−3−フルオロ
−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−オクチル
オキシフェニル 白色結晶 融点61°C [α] o +16.03 ° (C・1.01.
Cl1C13)IR(にBr):2940,286
0.1735(C=O)、1510. 1280.12
58゜1198.1070.86B、823 c+r’
’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−オクチル
オキシフェニル 白色結晶 融点61°C [α] o +16.03 ° (C・1.01.
Cl1C13)IR(にBr):2940,286
0.1735(C=O)、1510. 1280.12
58゜1198.1070.86B、823 c+r’
’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
1.35(dd、J=6.5.24 Hz、2 H)、
1.42(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.42(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.2〜1.5(+a、10 H)、1.69(ddd
d、J=3.2.6.5.14.5゜33.8 )1z
、I If)、 1.79(quintet、 J
=6.5 Hz、2 H)。
d、J=3.2.6.5.14.5゜33.8 )1z
、I If)、 1.79(quintet、 J
=6.5 Hz、2 H)。
2.10(dat、J=5.2,8.8.14.2Hz
、I H)、3.96(t、J=6.3Hz、 2
H)、4.03(sextet、J=6.3,111)
、 4.78(dqddJ=3.5.6.2,9.5
,49.1 Hz、I H)、5.35 (s、
I II)、6.93(d、J=8.4 H2,2H
)、7、IHd、J=8.4 Hz、2 H)、7.
63(d、J=8.4 Hz、2 H)、8.24(d
、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
469(M” 、9)、24B(100)元素分析:
CzsHzJO4Fとして計算値:C,71,62、
Fl、7.73 : N、2.98%実測値: C,7
1,71; H,7,85; N、2.89%4−((
R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニル 白色結晶 融点41’C 〔α〕。 +16.44 ° (C=1.07.
CHCh)IR(KBr):2960,2870.17
40(C=O)、1520,1282.1270゜12
02.1088.1060.880 cta−’’H
NMR(CDCb): δ 0.8B(brt、J=
6.5 Hz、3 H)。
、I H)、3.96(t、J=6.3Hz、 2
H)、4.03(sextet、J=6.3,111)
、 4.78(dqddJ=3.5.6.2,9.5
,49.1 Hz、I H)、5.35 (s、
I II)、6.93(d、J=8.4 H2,2H
)、7、IHd、J=8.4 Hz、2 H)、7.
63(d、J=8.4 Hz、2 H)、8.24(d
、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
469(M” 、9)、24B(100)元素分析:
CzsHzJO4Fとして計算値:C,71,62、
Fl、7.73 : N、2.98%実測値: C,7
1,71; H,7,85; N、2.89%4−((
R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニル 白色結晶 融点41’C 〔α〕。 +16.44 ° (C=1.07.
CHCh)IR(KBr):2960,2870.17
40(C=O)、1520,1282.1270゜12
02.1088.1060.880 cta−’’H
NMR(CDCb): δ 0.8B(brt、J=
6.5 Hz、3 H)。
1.36(d、J=6.5 Hz、3 H)、 1.
78(dd、J=1.5,6.5 Hz。
78(dd、J=1.5,6.5 Hz。
3 H)、 1.2〜2.0(m、12 H)、3.
97(t、J=6.5 Hz、2 H)。
97(t、J=6.5 Hz、2 H)。
4.35(qd、J−6,5,9,0Hz、1 )1)
、 5.34(s、I H)、 5.36(dd、
J=9.0,13.5 )1z、I H)、5.94(
qd、J=6.5,13.5 Hz。
、 5.34(s、I H)、 5.36(dd、
J=9.0,13.5 )1z、I H)、5.94(
qd、J=6.5,13.5 Hz。
1 )1)、6.9Hd、J=8.4 Hz、21t)
、?、15(d、J=8.4 )1z、2H)。
、?、15(d、J=8.4 )1z、2H)。
?、6Hd、J=8.4 Hz、2 )1)、8.23
(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
449(M” 、10)、228(100)元素分
析:、CtsHxsNOaとして計算値: C,?4.
80 、 H,7,85i N、3.11%実測値:
C,74,68i H,8,05、N、2.83%−d 4−((S)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル及び4−((S)−シアノ ((R)
−1〜メチル〜(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)
安息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
449(M” 、10)、228(100)元素分
析:、CtsHxsNOaとして計算値: C,?4.
80 、 H,7,85i N、3.11%実測値:
C,74,68i H,8,05、N、2.83%−d 4−((S)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル及び4−((S)−シアノ ((R)
−1〜メチル〜(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)
安息香酸4−オクチルオキシフェニルの合成。
EtJ −SF3
4−((S)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル130 mgのジクロロメタン3m1i
液に、−78℃で三フッ化ジエチルアミノ硫黄(F!t
JSh。
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチル
オキシフェニル130 mgのジクロロメタン3m1i
液に、−78℃で三フッ化ジエチルアミノ硫黄(F!t
JSh。
DAST)−ジクロロメタ71M溶液0.4 mlを加
えた後、10時間かけ室温まで昇温した。水処理、ジク
ロロメタン抽出(10a+1X3)、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液(15ml)で洗滌後、濃縮し、薄層クロ
マトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル・
5/l)により、4−((S)−シアノ−((IR,3
S) −3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル)
安息香酸4−オクチルオキシフェニル97 mg (収
率74%。
えた後、10時間かけ室温まで昇温した。水処理、ジク
ロロメタン抽出(10a+1X3)、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液(15ml)で洗滌後、濃縮し、薄層クロ
マトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル・
5/l)により、4−((S)−シアノ−((IR,3
S) −3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル)
安息香酸4−オクチルオキシフェニル97 mg (収
率74%。
90%de)及び4−((S)−シアノ ((R)−1
〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安息
香酸4−オクチルオキシフェニル11 mg(収率9%
、96%de)−を得た。
〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル)安息
香酸4−オクチルオキシフェニル11 mg(収率9%
、96%de)−を得た。
これらの測定値は以下の通りであった。
4−((S)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル 白色結晶 融点47°C 〔α〕。 −32,57’ (C=0.927.CH
ClりIR(KBr):2930,2860.1738
(C=0)、1510. 1270.1200゜107
8 c+i−’ ’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−オクチ
ルオキシフェニル 白色結晶 融点47°C 〔α〕。 −32,57’ (C=0.927.CH
ClりIR(KBr):2930,2860.1738
(C=0)、1510. 1270.1200゜107
8 c+i−’ ’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
1.36(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.42
(dd、J=6.5 Hz、24 H)。
(dd、J=6.5 Hz、24 H)。
1.2〜1.5(m、10 H)、 1.77(dd
dd、J=5.0.6.o、14.4゜27 Hz、L
H)、 1.79(quintet、J=6.5
Hz、2 H)、 2.18(dat、J=6.5.
8.0.14.4 Hz、I H)、3.96(t、
J=6.5 Hz。
dd、J=5.0.6.o、14.4゜27 Hz、L
H)、 1.79(quintet、J=6.5
Hz、2 H)、 2.18(dat、J=6.5.
8.0.14.4 Hz、I H)、3.96(t、
J=6.5 Hz。
2 H)、 4.11(sextet、J=6.5H
z、l H)、 4.87(dqdd、J=5.0.
6.0,8.0,49 N2.I H)、 5.39
(S、I H)、 6.93(d。
z、l H)、 4.87(dqdd、J=5.0.
6.0,8.0,49 N2.I H)、 5.39
(S、I H)、 6.93(d。
J=8.4 Hz、2 H)、 7.lHd、J=8.
4 )1z、2 H)、 7.62(d。
4 )1z、2 H)、 7.62(d。
J=8.4 )1z、2 H)、8.24(d、J=8
.4 N2.2 H)MS m/z : 469(M
” 、10)、 24B(100)元素分析: C
zsHaJOaFとして計算値: C,71,62;
H,?、73 、 N、2.98%実測値: C,71
,6B 、 H,7,85S N、2.80%4−((
S)−シアノ ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニル 白色結晶 融点49℃ 〔α) o +25.49@(CJ、510.(l(
Ch)IR(KBr):2970.2905.1748
(C=0)、1521.1282,1202゜1088
.1060.880 cm−’’HNMR(CDCIz
): δ 0.8B(brt、J=6.5 N2,3
fl)。
.4 N2.2 H)MS m/z : 469(M
” 、10)、 24B(100)元素分析: C
zsHaJOaFとして計算値: C,71,62;
H,?、73 、 N、2.98%実測値: C,71
,6B 、 H,7,85S N、2.80%4−((
S)−シアノ ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕安息香酸4−オクチルオキシフ
ェニル 白色結晶 融点49℃ 〔α) o +25.49@(CJ、510.(l(
Ch)IR(KBr):2970.2905.1748
(C=0)、1521.1282,1202゜1088
.1060.880 cm−’’HNMR(CDCIz
): δ 0.8B(brt、J=6.5 N2,3
fl)。
1.36(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.76
(dd、J=6.5 Hz、 3 tl)。
(dd、J=6.5 Hz、 3 tl)。
1.2〜2.0(ai、12 )1)、3.97(t、
J・6.5 )1z、2 H)、 4.35(qd、
J=6.5.9 N2.I H)、5.27(3,I
H)、5.50(dd、J=9゜13.5 N2.
I H)、 5.76(qt、 J=6.5,13
.5 Hz)、 6.91(d、J=8.4.2 H
)、 ?、13(d、J=8.4 )1z、2 H)
、 7.6Hd。
J・6.5 )1z、2 H)、 4.35(qd、
J=6.5.9 N2.I H)、5.27(3,I
H)、5.50(dd、J=9゜13.5 N2.
I H)、 5.76(qt、 J=6.5,13
.5 Hz)、 6.91(d、J=8.4.2 H
)、 ?、13(d、J=8.4 )1z、2 H)
、 7.6Hd。
J−8,4Hz、2 H)、 8.25(d、J=8
.4 Hz、2 H)MS II/2 : 449(
M” 、23)、228(100)元素分析: Cx
*HssNO4として計算値: C,74,80i H
,?、85 、 N、3.11%実測値: C,74,
84; H,8,0B 、 N、2.91%実施例4 4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチル
ブトキシ)メチル〕フェニル(表I N119)及び4
−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−シ
アノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオ
キシ)メチル〕フェニル(表INα10)の合成。
.4 Hz、2 H)MS II/2 : 449(
M” 、23)、228(100)元素分析: Cx
*HssNO4として計算値: C,74,80i H
,?、85 、 N、3.11%実測値: C,74,
84; H,8,0B 、 N、2.91%実施例4 4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メチル
ブトキシ)メチル〕フェニル(表I N119)及び4
−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−シ
アノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオ
キシ)メチル〕フェニル(表INα10)の合成。
−a
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4− ((3R
,5R)3.5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘ
キシル)フェニルの合成。
,5R)3.5−ジメチル−2,6−シオキサシクロヘ
キシル)フェニルの合成。
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−ホルミルフ
ェニル1.5 gのジクロロメタン30 ml溶液に、
30°Cでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リル70μ+ 、(1?、R)−3,5−ビス(トリメ
チルシリルオキシ)ペンタン1.8gを加え、46時間
撹拌した。室温でピリジン0.2 n+1 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタ
ン(30mlX3)で抽出、濃縮した。カラムクロマト
グラフ4 (Kieselgel 60+ヘキサン/
酢酸エチル。
ェニル1.5 gのジクロロメタン30 ml溶液に、
30°Cでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リル70μ+ 、(1?、R)−3,5−ビス(トリメ
チルシリルオキシ)ペンタン1.8gを加え、46時間
撹拌した。室温でピリジン0.2 n+1 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液50 mlを加え、ジクロロメタ
ン(30mlX3)で抽出、濃縮した。カラムクロマト
グラフ4 (Kieselgel 60+ヘキサン/
酢酸エチル。
20/1)により、4−(4−オクチルフェニル)安息
香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)フェニル1.33 g(
収率73%)ヲ得た。
香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)フェニル1.33 g(
収率73%)ヲ得た。
白色結晶 融点87〜89°C
〔α〕。 −5,50” (C=1.09.COC
lユ)IR(KBr) :29B0.2930.286
0.1731 (C=O) 、 1604.1510゜
1378.1268,1191,1158,1135.
1075.1046,1011.818802.762
cm−’ ’HNMR(CDCI+): δ 0.90(brt
、J=6.5 Hz、3 II)1.3(d、J=6.
5 Hz、3 H)、 1.5(d、J=6.5 H
z、3 H)1.1 〜2.2(m、14 H)、
2.67(t、J=6.5 Hz、2 tl)。
lユ)IR(KBr) :29B0.2930.286
0.1731 (C=O) 、 1604.1510゜
1378.1268,1191,1158,1135.
1075.1046,1011.818802.762
cm−’ ’HNMR(CDCI+): δ 0.90(brt
、J=6.5 Hz、3 II)1.3(d、J=6.
5 Hz、3 H)、 1.5(d、J=6.5 H
z、3 H)1.1 〜2.2(m、14 H)、
2.67(t、J=6.5 Hz、2 tl)。
4.0〜4.3(m、l 14)、 4.47(qu
intet、J=6.5 Hz、1 )I)。
intet、J=6.5 Hz、1 )I)。
5.86(s、I Fl)、 ?、2Hd、J=8
.4 Hz、2 H)、 7.29(d、J=8.4
Hz、2 H)、 7.59(d、J=8.4 H
z、4 H)、 7.71(d、J=8.4 )1z
、2 H)、 8.25(d、J=8.4 Hz、2
)1)MS m/z : 500(M” 、4)
、293(100)元素分析: C33H4゜04とし
て 計算値: C,79,17: )1,8.05%実測
値: C,79,07; H,8,02%−b 4−(オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニルの合成。
.4 Hz、2 H)、 7.29(d、J=8.4
Hz、2 H)、 7.59(d、J=8.4 H
z、4 H)、 7.71(d、J=8.4 )1z
、2 H)、 8.25(d、J=8.4 Hz、2
)1)MS m/z : 500(M” 、4)
、293(100)元素分析: C33H4゜04とし
て 計算値: C,79,17: )1,8.05%実測
値: C,79,07; H,8,02%−b 4−(オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニルの合成。
Me3SiCN
N
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4− ((3R
,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシクロ
ヘキシル)フェニル500mg、モレキュラーシーブス
3 A(600mesh) 3.6 gのジクロロメタ
ン15 ml懸濁液に、−78°Cで四塩化チタンのジ
クロロメタン1M溶液1.5 nilを加え30分撹拌
した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメタン1M
溶液2.5 mlを3分間かけて滴下した後、1時間撹
拌した。ピリジン0.12 mlを加え、室温にもどし
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50 ml、を加え、
セライト濾過した。
,5R)−3,5−ジメチル−2,6−シオキサシクロ
ヘキシル)フェニル500mg、モレキュラーシーブス
3 A(600mesh) 3.6 gのジクロロメタ
ン15 ml懸濁液に、−78°Cで四塩化チタンのジ
クロロメタン1M溶液1.5 nilを加え30分撹拌
した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメタン1M
溶液2.5 mlを3分間かけて滴下した後、1時間撹
拌した。ピリジン0.12 mlを加え、室温にもどし
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50 ml、を加え、
セライト濾過した。
ジクロロメタン抽出(3(lIIllX3)、濃縮後、
カラムクロマトグラフィー(Kieselgel 60
ヘキサン/酢酸エチル=4/1)により、4−(4−オ
クチルフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((
R,l?)−3−ヒドロキシ1〜メチルブトキシ)メチ
ル)フェニル456 mg(収率86%、94%de)
を得た。
カラムクロマトグラフィー(Kieselgel 60
ヘキサン/酢酸エチル=4/1)により、4−(4−オ
クチルフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((
R,l?)−3−ヒドロキシ1〜メチルブトキシ)メチ
ル)フェニル456 mg(収率86%、94%de)
を得た。
白色結晶 融点69°C
〔α〕。 −6,11° (C=1.08. Cl
IC13)IR(KBr):3450(OH)、294
0.2870.1730(C=O)、1605゜138
0.1280,1272.120B、1060.819
.760 cm−’HNMR(CDCh): δ
0.9(brt、J=6.5 )1z、3 H)。
IC13)IR(KBr):3450(OH)、294
0.2870.1730(C=O)、1605゜138
0.1280,1272.120B、1060.819
.760 cm−’HNMR(CDCh): δ
0.9(brt、J=6.5 )1z、3 H)。
1.2(d、J=6.582,3 H)、 1.39
(d、J=6.511z、3 II)。
(d、J=6.511z、3 II)。
1.1 〜1.9(m、15 H)、2.63(t、J
=6.5 Hz、211)、3.9〜4.4(m、2
H)、5.38(s、I H)、7.31(d、J=
8.4 Hz、4 H)7.60(d、J=8.4
Hz、4 H) 、7.73(d、J=8.4 H
z、2 H)。
=6.5 Hz、211)、3.9〜4.4(m、2
H)、5.38(s、I H)、7.31(d、J=
8.4 Hz、4 H)7.60(d、J=8.4
Hz、4 H) 、7.73(d、J=8.4 H
z、2 H)。
8.24(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/
z : 527(M” 、0.5)、293(10
0)元素分析: C34H41NO4として計算値:
C,??、39 ; l(、?、83 ; N、2.6
5%実測値j C,??、24 ; H,?、80 ;
N、2.58%−c 4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((IR,3S)−3〜フルオロ−1〜メチル
ブトキシ)メチル〕フェニル及び4−(4−オクチルフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1
〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェ
ニルの合成。
z : 527(M” 、0.5)、293(10
0)元素分析: C34H41NO4として計算値:
C,??、39 ; l(、?、83 ; N、2.6
5%実測値j C,??、24 ; H,?、80 ;
N、2.58%−c 4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((IR,3S)−3〜フルオロ−1〜メチル
ブトキシ)メチル〕フェニル及び4−(4−オクチルフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1
〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェ
ニルの合成。
N
EtzNSFx
N
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル300 mgのジクロロメタ
ン8ml溶液に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ
硫黄CEttNSP!、DAST)−ジクロロメタン2
.3M溶液0.15 mlを加えた後、3時間かけ室温
まで昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(20m1
X3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で
洗滌後、濃縮し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル
。
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル300 mgのジクロロメタ
ン8ml溶液に、−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ
硫黄CEttNSP!、DAST)−ジクロロメタン2
.3M溶液0.15 mlを加えた後、3時間かけ室温
まで昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(20m1
X3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で
洗滌後、濃縮し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル
。
ヘキサン/酢酸エチル= 5/1)により、4−(4−
オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−(
(lR。
オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−(
(lR。
3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕
フェニル245 mg(収率81%、92%de)及び
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4− [(R)
−シアノ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル]フェニル27 mg (収率9%)を
得た。
フェニル245 mg(収率81%、92%de)及び
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4− [(R)
−シアノ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニル
オキシ)メチル]フェニル27 mg (収率9%)を
得た。
これらの測定値は以下の通りであった。
4−(4−オクチルフェニル)安息香酸4−((R)−
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル 白色結晶 融点86°C 〔α) o +12.03 ’ (C・1.13.
CIC13)IR(KBr):2940,2860.1
730(C=O)、1383. 1272,1206゜
1070.819.798,761 cm−’’HN
MR(CDCh): δ 0.9(brt、J=6.
5 Hz、3 H)。
シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル 白色結晶 融点86°C 〔α) o +12.03 ’ (C・1.13.
CIC13)IR(KBr):2940,2860.1
730(C=O)、1383. 1272,1206゜
1070.819.798,761 cm−’’HN
MR(CDCh): δ 0.9(brt、J=6.
5 Hz、3 H)。
1.35(dd、J=6.5.24 )1z、3 H)
、1.40(d、J=6.5 Hz、3 H)。
、1.40(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.2 〜1.4(a+、10 )1)、1.66(t
、J=6.5 Hz、2 H)、 1.67(ddd
d、J=3.6.6.5,14.3.3382.I H
)、2.09 (dat、J=5.2.8.8.14
.3 Hz、I H)、2.66(t、 J=7.
7 Hz、2 H)。
、J=6.5 Hz、2 H)、 1.67(ddd
d、J=3.6.6.5,14.3.3382.I H
)、2.09 (dat、J=5.2.8.8.14
.3 Hz、I H)、2.66(t、 J=7.
7 Hz、2 H)。
4.01(quintet、J−6,5,I H)、4
.78(dqdd、、J=3.6,6.5゜9.7.4
9 Hz、I H)、 5.29(s、l )l)、
7.30(d、J=8.5 H2゜2 H)、 7.
3Hd、J=8.5 Hz、2 H)、 7.56(
d、J=8.5 H2゜2 H)、 7.58(d、
J=8.5 Hz、2 H)、 7.72(d、J=
8.5 Hz。
.78(dqdd、、J=3.6,6.5゜9.7.4
9 Hz、I H)、 5.29(s、l )l)、
7.30(d、J=8.5 H2゜2 H)、 7.
3Hd、J=8.5 Hz、2 H)、 7.56(
d、J=8.5 H2゜2 H)、 7.58(d、
J=8.5 Hz、2 H)、 7.72(d、J=
8.5 Hz。
2 II)、 8.24(d、J=8.5 H2,2
H)MS mHz : 529(M” 、0.8)
、 293(100)元素分析: C24H4゜N0
zFとして計算値: C,77、lO; H,?、61
; N、2.64%実測値: C,77,02; H
,?、60 : N、2.56%4−(4−オクチルフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1
〜メチル−(f’)−2−ブテニルオキシ)メチル)フ
ェニル 白色結晶 融点68℃ 〔α) o +13.75 @(CJ、916.
CHClz)IR(KBr) : 2930.2860
.1730 (C=0) 、 1602.126B、
1202 。
H)MS mHz : 529(M” 、0.8)
、 293(100)元素分析: C24H4゜N0
zFとして計算値: C,77、lO; H,?、61
; N、2.64%実測値: C,77,02; H
,?、60 : N、2.56%4−(4−オクチルフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1
〜メチル−(f’)−2−ブテニルオキシ)メチル)フ
ェニル 白色結晶 融点68℃ 〔α) o +13.75 @(CJ、916.
CHClz)IR(KBr) : 2930.2860
.1730 (C=0) 、 1602.126B、
1202 。
1164.10?2.1053,760 crn−’
’HNMR(CDC13): δ 0.9(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
’HNMR(CDC13): δ 0.9(brt、
J=6.5 Hz、3 H)。
1.37(d、J=6.5.3 H)、1.79(dd
、J=1.5.6.5 )1z、3 tl)。
、J=1.5.6.5 )1z、3 tl)。
1.1 〜2.0(+++、12 H)、2.67(t
、J=6.5 Hz、2 H)、 4.30(dq、
J=6.5.9.0 Hz、I H)、 5.28(
s、I H)、 5.35(dd。
、J=6.5 Hz、2 H)、 4.30(dq、
J=6.5.9.0 Hz、I H)、 5.28(
s、I H)、 5.35(dd。
J=9.0.15 H2,I H)、 5.90(d
q、J=6.5.15 Hz、L H)。
q、J=6.5.15 Hz、L H)。
7.29(d、J=8.4 Hz、4 B)、 7.
56(d、J=8.4 Hz、2 H)。
56(d、J=8.4 Hz、2 H)。
7.59(d、J=8.4 Hz、2 H)、 7.
72(d、J=8.4 Hz、2 H)。
72(d、J=8.4 Hz、2 H)。
8.25(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m
Hz : 509(M” 、3)、 293(
100)実施例5 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル(表INα11)及
び4((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(B)
−2−ブテニルオキシ)メチル)安息香酸4−(4−ペ
ンチルオキシフェニル)フェニル(表I Na12)の
合成。
Hz : 509(M” 、3)、 293(
100)実施例5 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル(表INα11)及
び4((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(B)
−2−ブテニルオキシ)メチル)安息香酸4−(4−ペ
ンチルオキシフェニル)フェニル(表I Na12)の
合成。
5−a
4− ((3R,5R) −3,5−ジメチル−2,6
−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペンチ
ルオキシフェニル)フェニルの合成。
−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペンチ
ルオキシフェニル)フェニルの合成。
4−ホルミル安息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニ
ル)フェニル250 mgのジクロロメタン20 ml
溶液に、−30°Cでトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル12μl 、 (R,R)−3,5−ビ
ス(トリメチルシリルオキシ)ペンタン320 mgを
加え、27時間撹拌した。室温でピリジン0.05 m
l、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20 mlを加え、
ジクロロメタン(10m1X3)で抽出、:a縮した。
ル)フェニル250 mgのジクロロメタン20 ml
溶液に、−30°Cでトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル12μl 、 (R,R)−3,5−ビ
ス(トリメチルシリルオキシ)ペンタン320 mgを
加え、27時間撹拌した。室温でピリジン0.05 m
l、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20 mlを加え、
ジクロロメタン(10m1X3)で抽出、:a縮した。
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ベンゼン)によ
り、4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペン
チルオキシフェニル)フェニル280 mg(収率91
%)を得た。
り、4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペン
チルオキシフェニル)フェニル280 mg(収率91
%)を得た。
白色結晶 融点122°C
〔α〕。 +7.00” (C・0.742. CH
Cl3)IR(にBr) :2950.2870.17
30 (C=O) 、 1604.1494.1262
゜1210.1132.10?3.1048.1008
.838.802,758 cn+−’’HNMR(
CDCI+): δ 0.94(brt、J=6.5
Hz、3 H)。
Cl3)IR(にBr) :2950.2870.17
30 (C=O) 、 1604.1494.1262
゜1210.1132.10?3.1048.1008
.838.802,758 cn+−’’HNMR(
CDCI+): δ 0.94(brt、J=6.5
Hz、3 H)。
1.30(d、J=6.5 Hz、3 H)、 1.5
0(d、J=6.51(z、3 It)1.1〜2.2
(m、 8 H)、 3.97(t、J=6.5 Hz
、2 It)、 4.1〜4.4(m、L H)、4.
48(quintet、J=6.5 Hz、l H)、
5.90(s、 I H)、 5.90(s、L H)
、 6.95(d、J=8.4 tlz、2 B)7.
24(d、J=8.4 Hz、4 )1)、 7.49
(d、J=8.4112.211)7.59(d、J=
8.4 Hz、2 H)、 7.64(d、J=8.4
Hz、2 H)。
0(d、J=6.51(z、3 It)1.1〜2.2
(m、 8 H)、 3.97(t、J=6.5 Hz
、2 It)、 4.1〜4.4(m、L H)、4.
48(quintet、J=6.5 Hz、l H)、
5.90(s、 I H)、 5.90(s、L H)
、 6.95(d、J=8.4 tlz、2 B)7.
24(d、J=8.4 Hz、4 )1)、 7.49
(d、J=8.4112.211)7.59(d、J=
8.4 Hz、2 H)、 7.64(d、J=8.4
Hz、2 H)。
8.20(d、J=8.4 )1z、2 H)MS
ta/z : 474(1’l”、26)、 219
(100)、 105(51)。
ta/z : 474(1’l”、26)、 219
(100)、 105(51)。
元素分析:C1゜Hs40sとして
計算値: C,?5.92 ; H,7,22%実測値
: C,75,85、H,7,34%−b 4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロオキ
シ−1=メチルブt4シ)メチル〕安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニルの合成。
: C,75,85、H,7,34%−b 4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロオキ
シ−1=メチルブt4シ)メチル〕安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニルの合成。
4− ((3R,5R) −3,5−ジメチル−2,6
−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペンチ
ルオキシフェニル)フェニル190 mg 、モレキュ
ラーシーブス3A(600mesh) 1.31 gの
ジクロロメタン10 ni1懸濁液に、−78°Cで四
塩化チタンのジクロロメタ71M溶液0.80 mlを
加え30分撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジク
ロロメタンI M 溶液1.0mlを2分間かけて滴下
した後、2時間撹拌した。
−シオキサシクロヘキシル)安息香酸4−(4−ペンチ
ルオキシフェニル)フェニル190 mg 、モレキュ
ラーシーブス3A(600mesh) 1.31 gの
ジクロロメタン10 ni1懸濁液に、−78°Cで四
塩化チタンのジクロロメタ71M溶液0.80 mlを
加え30分撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジク
ロロメタンI M 溶液1.0mlを2分間かけて滴下
した後、2時間撹拌した。
ピリジン0.1 mlを加え、室温にもどし、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液50 mlを加え、セライト濾過
した。ジクロロメタン抽出(30m1X3)、濃縮後、
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル= 2/1)により、4−((R)−シアノ((
R,R)−3−ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フ
ェニル150 mg(収率75%、89%de)を得た
。
水素ナトリウム水溶液50 mlを加え、セライト濾過
した。ジクロロメタン抽出(30m1X3)、濃縮後、
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エチル= 2/1)により、4−((R)−シアノ((
R,R)−3−ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メ
チル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フ
ェニル150 mg(収率75%、89%de)を得た
。
白色結晶 融点125“C
[α] o 9.11’ (C=1.207.
ClIC13)IR(KBr) : 3440 (
OH) 、 2970.2950.2880.1738
(C=0) 。
ClIC13)IR(KBr) : 3440 (
OH) 、 2970.2950.2880.1738
(C=0) 。
1608.1500,1382.1280,1215.
10B0. 828. 804. 752cm−’ 凰HNMR(CDCIs) : δ 0.95(br
t、J=6.5 Hz、3 tl)。
10B0. 828. 804. 752cm−’ 凰HNMR(CDCIs) : δ 0.95(br
t、J=6.5 Hz、3 tl)。
1.22(d、J=6.5 Hz、3 H)、 1.
4Hd、J=6.5 Hz、3 If)。
4Hd、J=6.5 Hz、3 If)。
1.2〜2.0(m、 8 H)、 1.9(br
s、I H)、4.00(t、J=6.5Hz、2 H
)、 3.8〜4.3(m、2 H)、 5.46
(s、I H)、 6.98(d、J=8.4 Hz
、 2H)、 7.26(d、J=8.4 Hz、
21()、 7.50(d、J=8.4 )1z、2
H)、 7.61(d、J=8.4 Hz、2 H)
、 7.66(d、J=8.4 )12,2 H)、
8.28(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m
/z : 50BM” 、80)、 246(1
00)、 160(57)元素分析: C21H3s
NOsとして計算値:C,74,22; H,7,03
; N、2.79%実測値: C,74,02; H,
7,18; N、2.55%−c 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル及び4−((R)−
シアノ−((R)−1〜メチル−(Ii)−2−ブテニ
ルオキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシ
フェニル)フェニルの合成。
s、I H)、4.00(t、J=6.5Hz、2 H
)、 3.8〜4.3(m、2 H)、 5.46
(s、I H)、 6.98(d、J=8.4 Hz
、 2H)、 7.26(d、J=8.4 Hz、
21()、 7.50(d、J=8.4 )1z、2
H)、 7.61(d、J=8.4 Hz、2 H)
、 7.66(d、J=8.4 )12,2 H)、
8.28(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m
/z : 50BM” 、80)、 246(1
00)、 160(57)元素分析: C21H3s
NOsとして計算値:C,74,22; H,7,03
; N、2.79%実測値: C,74,02; H,
7,18; N、2.55%−c 4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル)安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル及び4−((R)−
シアノ−((R)−1〜メチル−(Ii)−2−ブテニ
ルオキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシ
フェニル)フェニルの合成。
hNSF3
4−((R)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロキシ
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペ
ンチルオキシフェニル)フェニル145 mgのジクロ
ロメタン2 ml溶液に、−78℃で三フッ化ジエチ
ルアミノ硫黄(EhNSF3. DAST)−ジクロロ
メタ71M溶液76μlを加えた後、3時間かけ室温ま
で昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(20m1X
3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で洗
滌後、濃縮し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル。
−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペ
ンチルオキシフェニル)フェニル145 mgのジクロ
ロメタン2 ml溶液に、−78℃で三フッ化ジエチ
ルアミノ硫黄(EhNSF3. DAST)−ジクロロ
メタ71M溶液76μlを加えた後、3時間かけ室温ま
で昇温した。水処理、ジクロロメタン抽出(20m1X
3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で洗
滌後、濃縮し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル。
ベンゼン/酢酸エチル・20/1)により、4−((R
)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオ
キシフェニル)フェニル109 mg(収率72%、8
8%de)及び4−((R)−シアノ−((R)−1〜
メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕安息香
酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フェニル12
B (収率9%)を得た。この4−((R)−シアノ−
((IR,3S)−3−フルオロ1〜メチ7pブトキシ
)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル
)フェニルをヘキサン/エーテル(1/7)より再結晶
して96%deの4−((R)、シアノ−((IR,3
S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安
息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フェニル3
6 mg(収率25%)を得た。
)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオロ−1〜メ
チルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオ
キシフェニル)フェニル109 mg(収率72%、8
8%de)及び4−((R)−シアノ−((R)−1〜
メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕安息香
酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フェニル12
B (収率9%)を得た。この4−((R)−シアノ−
((IR,3S)−3−フルオロ1〜メチ7pブトキシ
)メチル〕安息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル
)フェニルをヘキサン/エーテル(1/7)より再結晶
して96%deの4−((R)、シアノ−((IR,3
S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安
息香酸4−(4−ペンチルオキシフェニル)フェニル3
6 mg(収率25%)を得た。
これらの測定値は以下の通りであった。
4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フルオ
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル 白色結晶 融点129°C 〔α〕。 +12.82 @(Cd、1?、 CIC
13)IR(KBr):2930.2860.1?30
.1604.1496.1386.1278゜10?0
. 828. 801 cm−’’HNMR(CDCl
2): δ 0.95(brt、J=7.1 Hz、
3 H)。
ロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕安息香酸4−(4−
ペンチルオキシフェニル)フェニル 白色結晶 融点129°C 〔α〕。 +12.82 @(Cd、1?、 CIC
13)IR(KBr):2930.2860.1?30
.1604.1496.1386.1278゜10?0
. 828. 801 cm−’’HNMR(CDCl
2): δ 0.95(brt、J=7.1 Hz、
3 H)。
1.36(dd、J=6.1.24 Hz、3 H)、
1.40(d、J=6.1 Hz、3 H)。
1.40(d、J=6.1 Hz、3 H)。
1.3〜1.5(m、 4 )1)、 1.70(
dddd、J・3.4,6.5.14.3゜34 Hz
、I H)、 1.82(quintet、J=6.
6 )1z、2 H)、 2.10(dat、J=5
.2.9.1,14.3 Hz、I H)、4.00(
t、J=6.5 Hz。
dddd、J・3.4,6.5.14.3゜34 Hz
、I H)、 1.82(quintet、J=6.
6 )1z、2 H)、 2.10(dat、J=5
.2.9.1,14.3 Hz、I H)、4.00(
t、J=6.5 Hz。
2 H)、 4.04(quintet、J=6.3
.I H)、 4.79(dqdd、J=3.4,6
.2.9.7.49 Hz、I H)、 5.36(
s、I H)、 6.97(d。
.I H)、 4.79(dqdd、J=3.4,6
.2.9.7.49 Hz、I H)、 5.36(
s、I H)、 6.97(d。
J=8.4 )1z、2 H)、7.26(d、J=8
.4 Hz、2 H)、7.51(d、J=8.4 H
z、2 B)、 7.60(d、J=8.4 Hz、
2 H)、 7.65(d、J=8.4 Hz、2
H)、 8.29(d、J=8.4 Hz、2 H)
MS va/z : 503(M” 、50)、
24B(100)元素分析: C!+H+JOnとし
て 計算値: C,73,93、H,6,80、N、2.7
8%実測値: C,73,87; H,6,63; N
、2.87%4−((R)−シアノ−((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕安息香酸
4−(4−ヘンチルオキシフェニル)フェニル 白色結晶 融点98°C 〔α)o +9.37°(C・1.28、 ClI
C13)IR(KBr) :2960.2900.17
43 (C=O) 、 1613.1503.1280
゜1220、 812 cm+−’ ’HNMR(CDC1*): 60.96(brt、
J=6.4 Hz、3 H)。
.4 Hz、2 H)、7.51(d、J=8.4 H
z、2 B)、 7.60(d、J=8.4 Hz、
2 H)、 7.65(d、J=8.4 Hz、2
H)、 8.29(d、J=8.4 Hz、2 H)
MS va/z : 503(M” 、50)、
24B(100)元素分析: C!+H+JOnとし
て 計算値: C,73,93、H,6,80、N、2.7
8%実測値: C,73,87; H,6,63; N
、2.87%4−((R)−シアノ−((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕安息香酸
4−(4−ヘンチルオキシフェニル)フェニル 白色結晶 融点98°C 〔α)o +9.37°(C・1.28、 ClI
C13)IR(KBr) :2960.2900.17
43 (C=O) 、 1613.1503.1280
゜1220、 812 cm+−’ ’HNMR(CDC1*): 60.96(brt、
J=6.4 Hz、3 H)。
1.41(d、J=6.4,3 H)、1.79(dd
、J=1.5.6.4 Hz、3 fD。
、J=1.5.6.4 Hz、3 fD。
1.1〜2.0(m、 6 H)、3.99(t、J=
6.4112.2 H)、 4.32(dq、J=6.
4.9.0 Hz、I H)、 5.34(s、I I
I)、 5.36(dd。
6.4112.2 H)、 4.32(dq、J=6.
4.9.0 Hz、I H)、 5.34(s、I I
I)、 5.36(dd。
J=9.0.15 Hz、I H)、 5.92(dq
、J=6.4.15 Hz、I H)。
、J=6.4.15 Hz、I H)。
6.96(d、J=8.4 Hz、2 H)、 7.2
4(d、J=8.4 Hz、2 H)。
4(d、J=8.4 Hz、2 H)。
7.48(d、J=8.4 Hz、2 H)、 7.5
8(d、J=8.4 Hz、2 H)。
8(d、J=8.4 Hz、2 H)。
7.62(d、J=8.48Z、2 H)、 8.25
(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
483(M” 、42)、228(100)、15
B(41)実施例6 4− C4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4〜〔(R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル
(表INα13)及び4− (4−((S)−2−メチ
ルブトキシ)フェニル)安息香酸4−((R)−シアノ
−((II)−1〜メチル(E)−2−ブテニルオキシ
)メチル〕フェニル(表1Nα]4)の合成。
(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/z :
483(M” 、42)、228(100)、15
B(41)実施例6 4− C4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4〜〔(R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル
(表INα13)及び4− (4−((S)−2−メチ
ルブトキシ)フェニル)安息香酸4−((R)−シアノ
−((II)−1〜メチル(E)−2−ブテニルオキシ
)メチル〕フェニル(表1Nα]4)の合成。
−a
4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル
−2,6−シオキサシクロヘキシル)フェニルの合成。
〕安息香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル
−2,6−シオキサシクロヘキシル)フェニルの合成。
4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−ホルミルフェニル600 mgのジクロ
ロメタン5ml溶液に、−30°Cでトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリル30 μ+ 、(R,I
?)−3゜5−ビス(トリメチルシリルオキシ)ペンタ
ン767mgを加え、24時間撹拌した。室温でピリジ
ン0.1ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30 m
lを加え、ジクロロメタン(15m1X3)で抽出、i
4縮した。薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・5/1及びヘキサン/テトラヒドロ
フラン・4/1)により、4− (4−((S)−2−
メチルブトキシ)フェニル)安息香酸4− ((3R,
5R)−3,5−ジメチル2.6−シオキサシクロヘキ
シル)フェニル718 mg(収率98%)を得た。
〕安息香酸4−ホルミルフェニル600 mgのジクロ
ロメタン5ml溶液に、−30°Cでトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリル30 μ+ 、(R,I
?)−3゜5−ビス(トリメチルシリルオキシ)ペンタ
ン767mgを加え、24時間撹拌した。室温でピリジ
ン0.1ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30 m
lを加え、ジクロロメタン(15m1X3)で抽出、i
4縮した。薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・5/1及びヘキサン/テトラヒドロ
フラン・4/1)により、4− (4−((S)−2−
メチルブトキシ)フェニル)安息香酸4− ((3R,
5R)−3,5−ジメチル2.6−シオキサシクロヘキ
シル)フェニル718 mg(収率98%)を得た。
白色結晶 融点105°C
〔α) D +13.45 ’ (C・1.0?、
CHCh)IR(KBr) :2980.2940.1
733 (C=0) 、 1605.1502.146
0゜1380,1360.1270.1198.113
8、1050,1000,872.828sio、 7
94+ 766 cm−’’HNMR(CDCh):
δ0.96(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
CHCh)IR(KBr) :2980.2940.1
733 (C=0) 、 1605.1502.146
0゜1380,1360.1270.1198.113
8、1050,1000,872.828sio、 7
94+ 766 cm−’’HNMR(CDCh):
δ0.96(brt、J=6.5 Hz、3 H)。
1.04(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.29
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.49(d、J=6.5 Hz、3 )1)、 1
.2〜2.2(s+、5 H)、 3.76(dd、
J=6.5,9.7 Hz、L H)、 3
.86((dd、 J=6.5,9.711z、I
II)、 4.0〜4.3 (m、I H)、
4.46(quintet、J=6.511z、I
It)、 5.85(s、L H)、 6.99
(d、J=8.4 Hz、2 H)。
.2〜2.2(s+、5 H)、 3.76(dd、
J=6.5,9.7 Hz、L H)、 3
.86((dd、 J=6.5,9.711z、I
II)、 4.0〜4.3 (m、I H)、
4.46(quintet、J=6.511z、I
It)、 5.85(s、L H)、 6.99
(d、J=8.4 Hz、2 H)。
7.20(d、J=8.4 Hz、2 tl)、 7
.59(d、J=8.4 Hz、4 H)。
.59(d、J=8.4 Hz、4 H)。
7.67(d、J=8.4 Hz、2 H)、 8
.21(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/
z : 474(M” 、1)、267(100)
元素分析:C3゜H340Sとして 計算値:C,15,92、H,7,22%実測値:C,
75゜95 ; H,7,17%−b 4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−
ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル
の合成。
.21(d、J=8.4 Hz、2 H)MS m/
z : 474(M” 、1)、267(100)
元素分析:C3゜H340Sとして 計算値:C,15,92、H,7,22%実測値:C,
75゜95 ; H,7,17%−b 4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−
ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル
の合成。
Me:+5iCN
4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4− ((3R,5R) −3,5−ジメチ
ル−2,6−シオキサシクロヘキシル)フェニル300
mg 、モレキュラーシーブス3 A(600mes
h) 1.6 gのジクo。
〕安息香酸4− ((3R,5R) −3,5−ジメチ
ル−2,6−シオキサシクロヘキシル)フェニル300
mg 、モレキュラーシーブス3 A(600mes
h) 1.6 gのジクo。
メタン10 ml懸濁液に、−78°Cで四塩化チタン
のジクロロメタ21M溶液0.83 mlを加え20分
撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメタ2
1M溶液1.6 mlを2分間かけて滴下した後、2時
間撹拌した。ピリジン0.6 mlを加え、室温にもど
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30m1を加え、セ
ライト濾過した。ジクロロメタン抽出(20mlX3)
、濃縮後、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・2/1)により、4(4−((S)
−2−メチルブトキシ)フェニル)安息香酸4−((R
)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロオキシ−1メチ
ルブトキシ)メチル〕フェニル250 mg (収率7
9%、96%de)を得た。
のジクロロメタ21M溶液0.83 mlを加え20分
撹拌した。トリメチルシリルシアニド−ジクロロメタ2
1M溶液1.6 mlを2分間かけて滴下した後、2時
間撹拌した。ピリジン0.6 mlを加え、室温にもど
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30m1を加え、セ
ライト濾過した。ジクロロメタン抽出(20mlX3)
、濃縮後、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキ
サン/酢酸エチル・2/1)により、4(4−((S)
−2−メチルブトキシ)フェニル)安息香酸4−((R
)−シアノ−((R,R)−3−ヒドロオキシ−1メチ
ルブトキシ)メチル〕フェニル250 mg (収率7
9%、96%de)を得た。
白色結晶 融点115〜120’C
〔α) D −0,50″(C・1.19. t
jlcl*)IR(にBr) :3570 (O)l)
、 2990.2950.1734 (C=0) 、
1605゜1512.1270.1200.10?0
.826,765 cm−’’HNMR(CDCh):
δ 0.96(brt、J=6.5 Hz、3 H
)。
jlcl*)IR(にBr) :3570 (O)l)
、 2990.2950.1734 (C=0) 、
1605゜1512.1270.1200.10?0
.826,765 cm−’’HNMR(CDCh):
δ 0.96(brt、J=6.5 Hz、3 H
)。
1.03(d、J=6.5 H2,3H)、1.19(
d、J=6.582,3 H)。
d、J=6.582,3 H)。
1.37(d、J=6.5 H2,3H)、1.1〜2
.1(II、 6 H)、 3.75(dd、J=
6.0.9.0 )1z、I H)、 3.89(
dd、J=6.0,9.0 Hz。
.1(II、 6 H)、 3.75(dd、J=
6.0.9.0 )1z、I H)、 3.89(
dd、J=6.0,9.0 Hz。
1 )l)、 4.04(sextet、J=6.5
Hz、2 H)、5.35(s、I H)。
Hz、2 H)、5.35(s、I H)。
6.99(d、J=8.482.28)、 7.29
(d、J=8.4 Hz、2 H)。
(d、J=8.4 Hz、2 H)。
7.59(d、J=8.4 Hz、2 H)、 7.
69(d、J=8.4 )1!、2 H)。
69(d、J=8.4 )1!、2 H)。
8.22(d、J=8.4112.2 )1)MS m
Hz : 50HM” 、2)、 267(10
0)元素分析: Cx1H3sNOsとして計算値:
C,?4.22 、 H,?、03 、 N、2.79
%実測値: C,74,28、H,7,16、N、2.
77%−c 4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニ
ル及び4−(4−((S)−2−メチルブトキシ〕フェ
ニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1〜
メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニ
ルの合成。
Hz : 50HM” 、2)、 267(10
0)元素分析: Cx1H3sNOsとして計算値:
C,?4.22 、 H,?、03 、 N、2.79
%実測値: C,74,28、H,7,16、N、2.
77%−c 4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニ
ル及び4−(4−((S)−2−メチルブトキシ〕フェ
ニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R)−1〜
メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニ
ルの合成。
N
十
Et!NSF3
N
4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−
ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル1
70 mgのジクロロメタン2 ml溶液に、−78
℃で三フッ化ジエチルアミノ硫黄(BttNSh、口A
ST)−ジクロロメタン1.4 M溶液0.5 mlを
加えた後、3時間かけ室温まで昇温した。水処理、ジク
ロロメタン抽出(10m1X3)、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液(20ml)で洗滌後、濃縮し、薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラヒドロフ
ラン・3/1)により、4− (4−((S)−2−メ
チルブトキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シア
ノ−(((lR,3s)−3−フルオロ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル120 mg(収率70%、
94%de)及び4− [4−((S)−2−メチルブ
トキシ〕フェニル]安患香酸4−〔(R)−シアノ−(
(R)−1〜メチル=(E)−2−ブテニルオキシ)メ
チル〕フェニル16 +wg (収率lO%)を得た。
〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R)−3−
ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル1
70 mgのジクロロメタン2 ml溶液に、−78
℃で三フッ化ジエチルアミノ硫黄(BttNSh、口A
ST)−ジクロロメタン1.4 M溶液0.5 mlを
加えた後、3時間かけ室温まで昇温した。水処理、ジク
ロロメタン抽出(10m1X3)、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液(20ml)で洗滌後、濃縮し、薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラヒドロフ
ラン・3/1)により、4− (4−((S)−2−メ
チルブトキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シア
ノ−(((lR,3s)−3−フルオロ−1〜メチルブ
トキシ)メチル〕フェニル120 mg(収率70%、
94%de)及び4− [4−((S)−2−メチルブ
トキシ〕フェニル]安患香酸4−〔(R)−シアノ−(
(R)−1〜メチル=(E)−2−ブテニルオキシ)メ
チル〕フェニル16 +wg (収率lO%)を得た。
これらの測定値は以下の通りであった。
4− (4−((S)−2−メチルブトキシ)フェニル
〕安息香酸4−((R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル)フェニ
ル白色結晶 融点103°C 〔α) e + 11.55@(C=0.90.
ClCl5)IR(にBr):2990,2960
.1735(C=O)、1608,1513.1300
゜1275.1212,1202,1080.1065
.830.770 cra−’’HNMR(CDCIり
: δ 0.97(brt、J=7.5 Hz、3
H)。
〕安息香酸4−((R)−シアノ−(((IR,3S)
−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル)フェニ
ル白色結晶 融点103°C 〔α) e + 11.55@(C=0.90.
ClCl5)IR(にBr):2990,2960
.1735(C=O)、1608,1513.1300
゜1275.1212,1202,1080.1065
.830.770 cra−’’HNMR(CDCIり
: δ 0.97(brt、J=7.5 Hz、3
H)。
1.05(d、J=6.6 )1z、3 H)、1.3
4(dd、J=6.2,24 )1z、3 H)。
4(dd、J=6.2,24 )1z、3 H)。
1.40(d、J=6.2 )1z、3 H)、1.5
〜1.6(m、 2 tl)、1.68(dddd、
J=3.6,7.0.14.5. 33 Hz、l
)I)、 1.90(octet、J=6.5 Hz
、I H)、 2.10(ddt、J=5.2.8.
9゜14.2 Hz、I H)、 3.80(dd
、 J=6.6.9.0 Hz、l H)。
〜1.6(m、 2 tl)、1.68(dddd、
J=3.6,7.0.14.5. 33 Hz、l
)I)、 1.90(octet、J=6.5 Hz
、I H)、 2.10(ddt、J=5.2.8.
9゜14.2 Hz、I H)、 3.80(dd
、 J=6.6.9.0 Hz、l H)。
3.88(dd、J=6.0.9.0 Hz、I H
)、4.0O(sextet、J=6.3Hz、I H
)、)、4.78(dqdd、J=3.6.6.1,9
.7.49 Hz、l II)。
)、4.0O(sextet、J=6.3Hz、I H
)、)、4.78(dqdd、J=3.6.6.1,9
.7.49 Hz、l II)。
5.29(s、I H)、7.01(d、J=8.4
Hz、2 H)、7.31(d、J=8.6 Hz、2
H)、 7.56(d、J= 8.6 Hz、2
H)、7.60(d、J=8.8 Hz、2 H)、
7.70(d、J=8.5 Hz、2 H)、
8.23(d、J=8.6 Hz、2 H) MS ta/z : 503(M” 、1)、
267(100)元素分析: Cx1HsaFNO
4として計算値: C,73,93; 11.6.80
; N、2.18%実測値: C,73,72; H
,6,92; N、2.67%4− (4−((S)−
2−メチルブトキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)
−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニ
ルオキシ)メチル)フェニル白色結晶 融点115〜1
29°C 〔α〕。+18.99°(C,1,00,CHClj)
IR(KBr) : 2990.2950.2900.
1732 (C=0) 、 1608.1299゜12
70. 1205.10?9. 829. 769 c
+r’’tl NMR(CDCh): δ 0.97
(brt、J=7 Hz、3 H)、1.04(d、J
=6 +1z、3 If)、1.36(d、J=611
z、3 H)、1.77(dd、J=1.5,611z
、311)、1.1〜2.0(m+ 3 H)、3.
76(dd、J=6゜911z、1 )1)、 3.
86(dd、J=6.9 Hz、I H)、 4.1
〜4.5(m 11f)、5.27(s、 L H)
、5.34(dd、J=10.15 Hz、111)。
Hz、2 H)、7.31(d、J=8.6 Hz、2
H)、 7.56(d、J= 8.6 Hz、2
H)、7.60(d、J=8.8 Hz、2 H)、
7.70(d、J=8.5 Hz、2 H)、
8.23(d、J=8.6 Hz、2 H) MS ta/z : 503(M” 、1)、
267(100)元素分析: Cx1HsaFNO
4として計算値: C,73,93; 11.6.80
; N、2.18%実測値: C,73,72; H
,6,92; N、2.67%4− (4−((S)−
2−メチルブトキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)
−シアノ−((R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニ
ルオキシ)メチル)フェニル白色結晶 融点115〜1
29°C 〔α〕。+18.99°(C,1,00,CHClj)
IR(KBr) : 2990.2950.2900.
1732 (C=0) 、 1608.1299゜12
70. 1205.10?9. 829. 769 c
+r’’tl NMR(CDCh): δ 0.97
(brt、J=7 Hz、3 H)、1.04(d、J
=6 +1z、3 If)、1.36(d、J=611
z、3 H)、1.77(dd、J=1.5,611z
、311)、1.1〜2.0(m+ 3 H)、3.
76(dd、J=6゜911z、1 )1)、 3.
86(dd、J=6.9 Hz、I H)、 4.1
〜4.5(m 11f)、5.27(s、 L H)
、5.34(dd、J=10.15 Hz、111)。
5.90(dq、J=6.15 Hz、L H)、 6
.98(d、J=8.511z、2 II)。
.98(d、J=8.511z、2 II)。
7.30(d、J=8.5 t!z、2 H)、7.5
5(d、J=8.511z、2 It)7.59(d、
J=8.5 tlz、2 H)、 7.69(d、J
=8.5 Hz、2 H)。
5(d、J=8.511z、2 It)7.59(d、
J=8.5 tlz、2 H)、 7.69(d、J
=8.5 Hz、2 H)。
8.22(d、J=8.4 )1z、2 II)MS
m/z : 483(M” 、0.6)、 2
67(100)実施例7 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−[(R)−シアノ−(((IR,
3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル]
フェニル(表INα15)及び4− [4−((R)−
2−メチルへブチルオキシ)フェニル]安息香酸4−(
(R)−シアノ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル]フェニル(表I No、16)
の合成。
m/z : 483(M” 、0.6)、 2
67(100)実施例7 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−[(R)−シアノ−(((IR,
3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル]
フェニル(表INα15)及び4− [4−((R)−
2−メチルへブチルオキシ)フェニル]安息香酸4−(
(R)−シアノ((R)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル]フェニル(表I No、16)
の合成。
−a
4− [4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル]安息香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジ
メチル−2,6ジオキサシクロへキシル)フェニルの合
成。
ェニル]安息香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジ
メチル−2,6ジオキサシクロへキシル)フェニルの合
成。
4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−ホルミルブエニル600 mgの
ジクロロメタン5ml溶液に、−30°Cでトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル27 μl 、
(R。
ェニル〕安息香酸4−ホルミルブエニル600 mgの
ジクロロメタン5ml溶液に、−30°Cでトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリル27 μl 、
(R。
R)−3,5−ビス(トリメチルシリルオキシ)ペンタ
ン690 tllgを加え、24時間撹拌した。室温で
ピリジン0.1 all 、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液30 mlを加え、ジクロロメタン(15m1X3
)で抽出、濃縮した。薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル。
ン690 tllgを加え、24時間撹拌した。室温で
ピリジン0.1 all 、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液30 mlを加え、ジクロロメタン(15m1X3
)で抽出、濃縮した。薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル。
ヘキサン/酢酸エチル・5/1)により、4− (4−
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)フェニル714 mg(
収率99%)を得た。
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4− ((3R,5R)−3,5−ジメチル−2,
6−シオキサシクロヘキシル)フェニル714 mg(
収率99%)を得た。
白色結晶 融点58°C
〔α〕。+7.62 ’ (C=0.970. CHC
l3)IR(KBr):2950.2880.1733
(C=0)、1606.1517.137B。
l3)IR(KBr):2950.2880.1733
(C=0)、1606.1517.137B。
1300、1270.1200.1160.1140.
10?9.1042.985,830゜806 766
cm−’ ’HNMR(CDCIi): δ 0.90(brt
、J=6.5 Hz、3 H)。
10?9.1042.985,830゜806 766
cm−’ ’HNMR(CDCIi): δ 0.90(brt
、J=6.5 Hz、3 H)。
1.30(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.33
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.50(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.1〜
2.2(m、12 H)、 4.0〜4.3(m、I
H)、 4.42(sextet、J=6.5 Hz
、2 H)、 5.86(s、I H)、6.97(
d、 J=8.4 Hz、2 fl)、 7.22
(d、J=8.4Hz 2 H)、 7.58(d、
J=8.4 Hz、4 !()、 7.67(d、J
=8.4Hz、2 H)、 8.23(d、J=8.
4 H2,2H)MS m/z : 516(M”
、1)、309(100)元素分析: CyJa。
2.2(m、12 H)、 4.0〜4.3(m、I
H)、 4.42(sextet、J=6.5 Hz
、2 H)、 5.86(s、I H)、6.97(
d、 J=8.4 Hz、2 fl)、 7.22
(d、J=8.4Hz 2 H)、 7.58(d、
J=8.4 Hz、4 !()、 7.67(d、J
=8.4Hz、2 H)、 8.23(d、J=8.
4 H2,2H)MS m/z : 516(M”
、1)、309(100)元素分析: CyJa。
0.として
計算値:C,?6.71 、 H,7,80%実測値
:C,76,53、H,7,53%−b 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル]安息香酸4−[(R)−シアノ−((R,R)
−3−ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メチル]フ
ェニルの合成。
:C,76,53、H,7,53%−b 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル]安息香酸4−[(R)−シアノ−((R,R)
−3−ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ)メチル]フ
ェニルの合成。
MesSiCN
N
4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4− ((3R,5R) −3,5−
ジメチル−2,6ジオキサシクロヘキシル)フェニル3
00 mg 、モレキュラーシーブス3 A(600m
esh) 1.8 gのジクロロメタン10 ml懸濁
液に、−78°Cで四塩化チタンのジクロロメタ71M
溶液0.75 mlを加え20分撹拌した。トリメチル
シリルシアニドージク口口メタン1溶H1,5mlを2
分間かけて滴下した後、2時間撹拌した。ピリジン0.
6 mlを加え、室温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液30 mlを加え、セライト濾過した。ジクロ
ロメタン抽出(20mlx3)、濃縮後、薄層クロマト
グラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=2/
l)により、4− (4−((R)−1〜メチルへブ
チルオキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ
−((R,R)−3ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ
)メチル〕フェニル220 mg (収率69%、94
%de)を得た。
ェニル〕安息香酸4− ((3R,5R) −3,5−
ジメチル−2,6ジオキサシクロヘキシル)フェニル3
00 mg 、モレキュラーシーブス3 A(600m
esh) 1.8 gのジクロロメタン10 ml懸濁
液に、−78°Cで四塩化チタンのジクロロメタ71M
溶液0.75 mlを加え20分撹拌した。トリメチル
シリルシアニドージク口口メタン1溶H1,5mlを2
分間かけて滴下した後、2時間撹拌した。ピリジン0.
6 mlを加え、室温にもどし、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液30 mlを加え、セライト濾過した。ジクロ
ロメタン抽出(20mlx3)、濃縮後、薄層クロマト
グラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=2/
l)により、4− (4−((R)−1〜メチルへブ
チルオキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ
−((R,R)−3ヒドロオキシ−1〜メチルブトキシ
)メチル〕フェニル220 mg (収率69%、94
%de)を得た。
白色結晶 融点65〜69°C
(α)a 3.14° (C=1.08. C
HCl1)IR(KBr) : 3470 (OH)
、 2970.2940.2860.1735 (C=
0) 。
HCl1)IR(KBr) : 3470 (OH)
、 2970.2940.2860.1735 (C=
0) 。
1604、 1509,1378,1270.107Q
、1212.1190.1060,830゜765
cm四 ’HNMR(CDC13): δ 0.89(brt
、J=6.5 Hz、3 H)。
、1212.1190.1060,830゜765
cm四 ’HNMR(CDC13): δ 0.89(brt
、J=6.5 Hz、3 H)。
1.18(d、J=6.5 Hz、3 H)、1.33
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
(d、J=6.5 Hz、3 H)。
1.36(d、J=6.5 Hz、3 H)、 1.
0〜2.l(a+、13 )1)、4.03(sext
et、J=6.5 Hz、2 H)+ 4.40(s
extet、J=6.5 Hz。
0〜2.l(a+、13 )1)、4.03(sext
et、J=6.5 Hz、2 H)+ 4.40(s
extet、J=6.5 Hz。
I H)、 5.35(s、l II)、 6.9
7(d、J=8.4 Hz、2 H)、7.29(d、
J=8.4 Hz、2 Iり、 7.59(d、J
=8.411z、4 H)、 7.69(d、J=
8.4 Hz、2 H)、8.21(d、J= 8.4
+1z、2 N)MS mHz : 543(M”
、3)、309(100)、 197(84)元
素分析: C5aH4+NOsとして計算値: C,?
5.11 ; H,7,60; N、2.58%実測値
; C,74,87; H,7,7B 、 N、2.4
6%−c 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((IR,3
S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フ
ェニル及び4− [4−[(R)−1〜メチルへブチル
オキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−(
(R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メ
チル〕フェニルの合成。
7(d、J=8.4 Hz、2 H)、7.29(d、
J=8.4 Hz、2 Iり、 7.59(d、J
=8.411z、4 H)、 7.69(d、J=
8.4 Hz、2 H)、8.21(d、J= 8.4
+1z、2 N)MS mHz : 543(M”
、3)、309(100)、 197(84)元
素分析: C5aH4+NOsとして計算値: C,?
5.11 ; H,7,60; N、2.58%実測値
; C,74,87; H,7,7B 、 N、2.4
6%−c 4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((IR,3
S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フ
ェニル及び4− [4−[(R)−1〜メチルへブチル
オキシ)フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−(
(R)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオキシ)メ
チル〕フェニルの合成。
N
tJSh
N
4− (4−((1?)−1〜メチルへブチルオキシ)
フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R
)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フ
ェニル170 mgのジクロロメタン2 ml?容液
各法−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄(f!t
JsFi、 DAST)−ジクロロメタン1.2M溶液
0.5 mlを加えた後、3時間かけ室温まで昇温した
。水処理、ジクロロメタン抽出(10m1X3)、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で洗滌後、濃縮
し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/
テトラヒドロフラン・ 3/1)により、4− (4−
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フ
ルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル132
a+g(収率78%、92%de)及び4− (4−
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(
E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル18 m
g (収率11%)を得た。
フェニル〕安息香酸4−((R)−シアノ−((R,R
)−3−ヒドロキシ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フ
ェニル170 mgのジクロロメタン2 ml?容液
各法−78°Cで三フッ化ジエチルアミノ硫黄(f!t
JsFi、 DAST)−ジクロロメタン1.2M溶液
0.5 mlを加えた後、3時間かけ室温まで昇温した
。水処理、ジクロロメタン抽出(10m1X3)、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液(20ml)で洗滌後、濃縮
し、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/
テトラヒドロフラン・ 3/1)により、4− (4−
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4−((R)−シアノ−((IR,3S)−3−フ
ルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル132
a+g(収率78%、92%de)及び4− (4−
((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニル〕安息
香酸4−((R)−シアノ−((R)−1〜メチル−(
E)−2−ブテニルオキシ)メチル〕フェニル18 m
g (収率11%)を得た。
これらの測定値は以下の通りであった。
4− (4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フ
ェニル〕安息香酸4−[(R)−シアノ−(((IR,
3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル]
フェニル白色結晶 融点77゛C 〔α〕。+14.97°(C・1.09. CHCl3
)IR(にBr):2960.289帆1740(C=
0) 、 1609.1510.1382゜1278.
1218,1196.106B、832.770 c
II−’’HNMR(CDC1i): δ 0.89
(brt、J=7.011z、3 If)。
ェニル〕安息香酸4−[(R)−シアノ−(((IR,
3S)−3−フルオロ−1〜メチルブトキシ)メチル]
フェニル白色結晶 融点77゛C 〔α〕。+14.97°(C・1.09. CHCl3
)IR(にBr):2960.289帆1740(C=
0) 、 1609.1510.1382゜1278.
1218,1196.106B、832.770 c
II−’’HNMR(CDC1i): δ 0.89
(brt、J=7.011z、3 If)。
1.34(d、J=6.l Ilz、3 H)、
1.35(dd、J=6.2,2411z。
1.35(dd、J=6.2,2411z。
3 H)、1.40(d、J=6.282,3 H)、
1.2〜1.5(Ill、 8 H)。
1.2〜1.5(Ill、 8 H)。
1.68(dddd、J=3.5.6.5.I4.3.
33 Hz、I H)、 1.7〜1.8
(m、2 H)、 2.09(dat、J=5.
3,8.9.14.3 Hz、l II)。
33 Hz、I H)、 1.7〜1.8
(m、2 H)、 2.09(dat、J=5.
3,8.9.14.3 Hz、l II)。
4.00(sexteL+J=6.5 Hz+I H)
+ 4.42(sextet、J=6.11(z、l
H)、 4.78(dqdd、J=3.5.6.
1.9.8.49 Hz、l H)。
+ 4.42(sextet、J=6.11(z、l
H)、 4.78(dqdd、J=3.5.6.
1.9.8.49 Hz、l H)。
5.29(s、I H)、 6.99(d、J=8
.6 Hz、2 If)、 7.30(d、J=8.
6 Hz、2H)、 7.56(d、J= 8.68
2.28)、 7.59(d、J=8.611z、2
H)、 7.69(d、J=8.6 Hz、2−H
)、 8.23(d、J=8.6 I2,2 H) MS mlz : 545(M” 、l)、 3
09(100)、 197(80)元素分析: C3
4H4゜FNO4として計算値: C,?4.84 :
H,7,39: N、2.57%実測値: C,?4
.61 ; 11,7.64 F N、2.37%4−
(4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニ
ル)安息香酸4−[(R)−シアノ−((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル]フェニル
白色結晶 融点67°C 〔α〕。 + 13.86” (C=1.01.
CHCl、)IR(KBr):2990,2920.
1745(C=0)、1618,1316,1280゜
1220.10B6,1060.843.780cm−
’’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt
、J=7 Hz、3 H)、1.33(d、J=6 )
1z、3 H)、 1.35(d、J=6 Hz、3
H)、 1.76(dd。
.6 Hz、2 If)、 7.30(d、J=8.
6 Hz、2H)、 7.56(d、J= 8.68
2.28)、 7.59(d、J=8.611z、2
H)、 7.69(d、J=8.6 Hz、2−H
)、 8.23(d、J=8.6 I2,2 H) MS mlz : 545(M” 、l)、 3
09(100)、 197(80)元素分析: C3
4H4゜FNO4として計算値: C,?4.84 :
H,7,39: N、2.57%実測値: C,?4
.61 ; 11,7.64 F N、2.37%4−
(4−((R)−1〜メチルへブチルオキシ)フェニ
ル)安息香酸4−[(R)−シアノ−((R)−1〜メ
チル−(E)−2−ブテニルオキシ)メチル]フェニル
白色結晶 融点67°C 〔α〕。 + 13.86” (C=1.01.
CHCl、)IR(KBr):2990,2920.
1745(C=0)、1618,1316,1280゜
1220.10B6,1060.843.780cm−
’’HNMR(CDCh): δ 0.89(brt
、J=7 Hz、3 H)、1.33(d、J=6 )
1z、3 H)、 1.35(d、J=6 Hz、3
H)、 1.76(dd。
J=1.5.6 Hz、3 H)、 1.1〜2.0
(m、10 H)、 4.2〜4.5(m、2 N)
、 5.26(s、 111)、 5.33(d
d、J=9.0.15 Hz。
(m、10 H)、 4.2〜4.5(m、2 N)
、 5.26(s、 111)、 5.33(d
d、J=9.0.15 Hz。
I H)、 5.89(dq、J=6.15 Hz
、L H)、 6.97(d、J=8.6Hz、2
B)、 7.27(d、J=8.6 Hz、2 H)
、 7.54(d、J=8.6Hz、2 H)、
7.57(d、J=8.6 1(z、2 H)、
7.68(d、J=8.6Hz、2 H)、
8.22(d、J=8.6 Hz、2 H)MS ml
z : 525(M” 、?)、 309(10
0)、 197(86)実施例8 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4〔(R
)−シアノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブテ
ニルオキシ)メチル〕フェニル(表INα17の化合物
)の合成 −a (R)−2−(4−アセトキシフェニル)−2−ヒドロ
キシエタンニトリルの合成 アルゴン雰囲気下、(2R,3R)−1,1,4,4−
テトラフェニル−2,3−(2−フェニルエチリデンジ
オキシ)−ブタン−1,4−ジオール(4,0g、 7
.5 mmol)、モレキュラーシーブス4A2.0g
を無水トルエン17m1に懸濁させ、ジクロロジイソプ
ロポキシチタンのトルエン溶液(0,5M) 15.6
ml (6,3mmol)を滴下後、室温で1.5時
間撹拌した。この混合溶液に4−アセトキシベンズアル
デヒド0.44 ml (3,1mmo+)を滴下後、
−78°Cに冷却した。この混合溶液にトリメチルシリ
ルシアニド2.1 ml (15,5mmol)を滴下
し、−65°Cにて48時間反応させた。この混合溶液
に緩衝液(pH7,looml)を加え、室温にもどし
、沈澱を濾過し、有機層を分取した。水層を酢酸エチル
で抽出(50ml X 3) シ、先の有機層とあわせ
て乾燥後、濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー
(ワコーゲルC−200、ヘキサン/酢酸エチル= 3
/1)で分離精製して、(R)−2(4−アセトキシフ
ェニル)−2−ヒドロキシエタンニトリル630 mg
(収率98%、光学純度86%ee)を得た。
、L H)、 6.97(d、J=8.6Hz、2
B)、 7.27(d、J=8.6 Hz、2 H)
、 7.54(d、J=8.6Hz、2 H)、
7.57(d、J=8.6 1(z、2 H)、
7.68(d、J=8.6Hz、2 H)、
8.22(d、J=8.6 Hz、2 H)MS ml
z : 525(M” 、?)、 309(10
0)、 197(86)実施例8 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4〔(R
)−シアノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブテ
ニルオキシ)メチル〕フェニル(表INα17の化合物
)の合成 −a (R)−2−(4−アセトキシフェニル)−2−ヒドロ
キシエタンニトリルの合成 アルゴン雰囲気下、(2R,3R)−1,1,4,4−
テトラフェニル−2,3−(2−フェニルエチリデンジ
オキシ)−ブタン−1,4−ジオール(4,0g、 7
.5 mmol)、モレキュラーシーブス4A2.0g
を無水トルエン17m1に懸濁させ、ジクロロジイソプ
ロポキシチタンのトルエン溶液(0,5M) 15.6
ml (6,3mmol)を滴下後、室温で1.5時
間撹拌した。この混合溶液に4−アセトキシベンズアル
デヒド0.44 ml (3,1mmo+)を滴下後、
−78°Cに冷却した。この混合溶液にトリメチルシリ
ルシアニド2.1 ml (15,5mmol)を滴下
し、−65°Cにて48時間反応させた。この混合溶液
に緩衝液(pH7,looml)を加え、室温にもどし
、沈澱を濾過し、有機層を分取した。水層を酢酸エチル
で抽出(50ml X 3) シ、先の有機層とあわせ
て乾燥後、濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー
(ワコーゲルC−200、ヘキサン/酢酸エチル= 3
/1)で分離精製して、(R)−2(4−アセトキシフ
ェニル)−2−ヒドロキシエタンニトリル630 mg
(収率98%、光学純度86%ee)を得た。
以下に同定データを示す。
’HNMR(CDCl2) 67.50 (d、J=
8.8 Hz、 2 H)。
8.8 Hz、 2 H)。
7.12(d、J=8.8 Hz、2 H)、 5.4
5(L H)、 3.45(brs、LH)。
5(L H)、 3.45(brs、LH)。
2.30(s、3 H)
IR(neat) 3450. 2250. 1?5
5. 1605. 1510゜1370.1200,1
020,915,855 cm−’−b (2R,4R)−(52)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−へブテンニトリ
ルおよび(2R4S)−(5B)−2−(4−アセトキ
シフェニル)−3−オキサ−4=メチル−5−ヘプテン
ニトリルの合成N アルゴン雰囲気下、(R)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−2〜ヒドロキシエタンニトリル(580mg、
3.0mmol)を無水ジクロロメタン10 ml、
無水シクロヘキサン17 mlの混合溶液に溶解させた
後、1〜メチル−(E)−2−ブテニル−2,2,2−
トリクロロアセトイミデート1.6 ml (9,11
mol)を加えた。さらに無水トリフルオロメタンスル
ホ、ン酸26μlを加え、1日反応させた0反応部合物
を濃縮して溶媒を除去し、残渣をカラムクロマトグラフ
ィー(kieselgel C−60+ベンゼン/エチ
ルエーテル=20/1 およびヘキサン/酢酸エチル
=lO/1)で分離精製して1、無色油状の(2R,4
R)−(5B)−2−(4−アセトキシフェニル)−4
−メチル−3−オキサ−5−へブテンニトリル302
mg (収率38%)と(2R,4S)−(5E)−2
−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチ
ル−5−ヘプテンニトリル182 mg (収率23%
)を得た。
5. 1605. 1510゜1370.1200,1
020,915,855 cm−’−b (2R,4R)−(52)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−へブテンニトリ
ルおよび(2R4S)−(5B)−2−(4−アセトキ
シフェニル)−3−オキサ−4=メチル−5−ヘプテン
ニトリルの合成N アルゴン雰囲気下、(R)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−2〜ヒドロキシエタンニトリル(580mg、
3.0mmol)を無水ジクロロメタン10 ml、
無水シクロヘキサン17 mlの混合溶液に溶解させた
後、1〜メチル−(E)−2−ブテニル−2,2,2−
トリクロロアセトイミデート1.6 ml (9,11
mol)を加えた。さらに無水トリフルオロメタンスル
ホ、ン酸26μlを加え、1日反応させた0反応部合物
を濃縮して溶媒を除去し、残渣をカラムクロマトグラフ
ィー(kieselgel C−60+ベンゼン/エチ
ルエーテル=20/1 およびヘキサン/酢酸エチル
=lO/1)で分離精製して1、無色油状の(2R,4
R)−(5B)−2−(4−アセトキシフェニル)−4
−メチル−3−オキサ−5−へブテンニトリル302
mg (収率38%)と(2R,4S)−(5E)−2
−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチ
ル−5−ヘプテンニトリル182 mg (収率23%
)を得た。
以下に同定データを示す。
(2R,4R)−(5E)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−へブテンニトリ
ル沸点180℃10.7 torr 〔α〕。十57.34@(C=1.13. CHCh)
IR(neat)3002.2950,2902.1?
63.1510゜1373.1204,1050.91
2 cm−’’HNMR(CDC13) 61.3
2 (d、J=6.0 Hz、 3 It)。
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−へブテンニトリ
ル沸点180℃10.7 torr 〔α〕。十57.34@(C=1.13. CHCh)
IR(neat)3002.2950,2902.1?
63.1510゜1373.1204,1050.91
2 cm−’’HNMR(CDC13) 61.3
2 (d、J=6.0 Hz、 3 It)。
1.74(d、J=6.OB2,3 II)、 2.
26(s、3 H)、 4.24(dq。
26(s、3 H)、 4.24(dq。
J=9.0. 6.OB2.I II)、 5.22
(s、I B)、 5.30(dd、J=15 an
d 9.OB2.I H)、 5.87(dq、J
= 15 and 6.0 Hz。
(s、I B)、 5.30(dd、J=15 an
d 9.OB2.I H)、 5.87(dq、J
= 15 and 6.0 Hz。
I H)、 7.1(d、J=9.0 Hz、2
H)、 7.47(d、J=9.0 Hz。
H)、 7.47(d、J=9.0 Hz。
2 H)
MS ta/z : 259(11” 、 0.
3)、 217(17)、 132(66)。
3)、 217(17)、 132(66)。
69(78)、43(100)
元素分析: C+s)l+JJとして
計算値: C,69,48; H,6,60; N、5
.40%実測値: C,69,23i H,6,65、
N、5.27%(2R,4S)−(5H)−2−(4−
アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチル−5−
ヘプテンニトリル沸点180℃10.7 torr 〔α〕。 −30,98’ (C・1,22. C
HCl3)IR(neat) 3000. 2950
. 1763. 1508. 1373゜1202、
10?2. 1050. 912 cvi−’’HN
MR(CDCh) δ 1.28 (d、J=6
.0 Hz、 3 H)。
.40%実測値: C,69,23i H,6,65、
N、5.27%(2R,4S)−(5H)−2−(4−
アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチル−5−
ヘプテンニトリル沸点180℃10.7 torr 〔α〕。 −30,98’ (C・1,22. C
HCl3)IR(neat) 3000. 2950
. 1763. 1508. 1373゜1202、
10?2. 1050. 912 cvi−’’HN
MR(CDCh) δ 1.28 (d、J=6
.0 Hz、 3 H)。
1.73(d、J=6.0 Hz、3 H)、 2.
26(s、3 H)、 3.97(quintet、
J=6.O)lz、I H)+ 5.16(s、I
H)、 5.43(dd。
26(s、3 H)、 3.97(quintet、
J=6.O)lz、I H)+ 5.16(s、I
H)、 5.43(dd。
J= 15 and 6.0 Hz、I H)、 5
.72(dq、J= 15 and 6.0fiz、
L H)、 7.13(d、J=9.o B2.
2 B)、 7.47(d、J=9.011z、
2 H) MS ts/z : 259(M” 、 0.3
)、 21?(11)、 132(75)。
.72(dq、J= 15 and 6.0fiz、
L H)、 7.13(d、J=9.o B2.
2 B)、 7.47(d、J=9.011z、
2 H) MS ts/z : 259(M” 、 0.3
)、 21?(11)、 132(75)。
69(63)、43(100)
元素分析: C+5LyOJとして
計算値: C,69,48; H,6,60; N、5
.40%実測値: C,69,26; H,6,12;
N、5.37%−c (2R,4R)−(5B)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3−オキサ−4〜メチル−5−へブテンニトリ
ルの合成N (2R,4R)−(5E)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル
410 mg(1,58−−of)をジクロロメタン1
0 mlに溶解させ、ベンジルアミン1.7 ml (
15,8am+ol)を加え、室温で18時間撹拌した
0反応液を0.2 N HCI (40ml)に注ぎ、
有機層を分離後、ジクロロメタン抽出(10mlX 3
) した、硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣を薄
層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラ
ヒドロフラン= 3/1)で精製することにより、(2
R,4R)−(5B)−2−(4−ヒドロキシフェニル
)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル2
70 mg (収率78%)を得た。
.40%実測値: C,69,26; H,6,12;
N、5.37%−c (2R,4R)−(5B)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3−オキサ−4〜メチル−5−へブテンニトリ
ルの合成N (2R,4R)−(5E)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル
410 mg(1,58−−of)をジクロロメタン1
0 mlに溶解させ、ベンジルアミン1.7 ml (
15,8am+ol)を加え、室温で18時間撹拌した
0反応液を0.2 N HCI (40ml)に注ぎ、
有機層を分離後、ジクロロメタン抽出(10mlX 3
) した、硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣を薄
層クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラ
ヒドロフラン= 3/1)で精製することにより、(2
R,4R)−(5B)−2−(4−ヒドロキシフェニル
)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル2
70 mg (収率78%)を得た。
以下に同定データを得た。
融点90〜91°C
〔α) 、 +83.77°(C・1.22. CH
Ch)IR(neat) 3200’3600.300
0.2950.161B。
Ch)IR(neat) 3200’3600.300
0.2950.161B。
1605、 1522. 145帆 1273. 10
?5. 1050.833 cm−’’HNMR(CD
CI:l) 61.32 (d、J=6.0 H
z、 3 H)。
?5. 1050.833 cm−’’HNMR(CD
CI:l) 61.32 (d、J=6.0 H
z、 3 H)。
1.75(dd、J=6.0 and 1.0 H2,
3H)、 4.23(dq、J=8.0and 6.
Otlz、l H)、 5.17(s、I H)、
4.9 〜5.7(broad S、 1 )
1)+ 5.32(ddq、J=15.0. 8,0
.andl、011z、1 tl)、 5.86(
dq、J=15.0. 6.0 Hz、I H)。
3H)、 4.23(dq、J=8.0and 6.
Otlz、l H)、 5.17(s、I H)、
4.9 〜5.7(broad S、 1 )
1)+ 5.32(ddq、J=15.0. 8,0
.andl、011z、1 tl)、 5.86(
dq、J=15.0. 6.0 Hz、I H)。
6.79(d、J=9.0 Ilz、2 It)、
7.30(d、J−9,0Hz、 2 H)MS m
/z : 217(M” 、2)、132(100
)、121(40)。
7.30(d、J−9,0Hz、 2 H)MS m
/z : 217(M” 、2)、132(100
)、121(40)。
69(72)、4061)
元素分析: C+3tl+tOJとして計算値:C,7
1,86; )1.6.95 ; N、6.44%実測
値: C,?1.79 ; H,7,0B 、 N、6
.34%(2R,4S)−(5E)−2−(4−ヒドロ
キシフェニル)−3=オキサ−4−メチル−5−ヘプテ
ンニトリルの合成N (2R,4R)−(5E)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル
の合成と同様な条件下、(2R,4S)−(5E)−2
−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチ
ル−5−へブテンニトリル330 mg (1,27n
+mol)より、白色固体の(2R14S)−(5E)
−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ4−メ
チル−5−へブテンニトリル230 mg (収率83
%)を得た。
1,86; )1.6.95 ; N、6.44%実測
値: C,?1.79 ; H,7,0B 、 N、6
.34%(2R,4S)−(5E)−2−(4−ヒドロ
キシフェニル)−3=オキサ−4−メチル−5−ヘプテ
ンニトリルの合成N (2R,4R)−(5E)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリル
の合成と同様な条件下、(2R,4S)−(5E)−2
−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−4−メチ
ル−5−へブテンニトリル330 mg (1,27n
+mol)より、白色固体の(2R14S)−(5E)
−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ4−メ
チル−5−へブテンニトリル230 mg (収率83
%)を得た。
以下に同定データを示す。
融点 79〜80°C
(α) D−42,16° (C・1.20. Cl1
Ch)IR(neat) 3200〜3600. 30
00. 2950. 1618゜1605、 1522
. 1450. 1268. 1225. 10?5.
1052゜833 cm−’ ’HNMR(CDCIs) δ 1.26 (d、J
=6.0 )1z+ 38)。
Ch)IR(neat) 3200〜3600. 30
00. 2950. 1618゜1605、 1522
. 1450. 1268. 1225. 10?5.
1052゜833 cm−’ ’HNMR(CDCIs) δ 1.26 (d、J
=6.0 )1z+ 38)。
1.73(dd、J=6.0 and 1.0 Hz、
3 H)、 3.96(quintet。
3 H)、 3.96(quintet。
J=6.0 Hz、I H)、 5.IHs、1 )
1)、 5.0〜6.0(broads、 I H
)、 5.42(dd、J=15.Oand 6.OH
2,I H)。
1)、 5.0〜6.0(broads、 I H
)、 5.42(dd、J=15.Oand 6.OH
2,I H)。
5.72(dq、J−15,0and 6.OH2,I
H)、 6.83(d、J=9.0Hz、2 H)、
7.28(d、J=9.o H2,2H)MS
m/z 二 217(M’ 、 2)、 13
2(’100)、 121(30)。
H)、 6.83(d、J=9.0Hz、2 H)、
7.28(d、J=9.o H2,2H)MS
m/z 二 217(M’ 、 2)、 13
2(’100)、 121(30)。
69(60)、 4H52)
元素分析:ClJ+70Jとして
計算値: C,71,86; H,6,95; N、6
.44%実測値: C,71,62; H,7,04F
N、6.37%−d 4−(4〜オクチルオキシフエニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕フェニルの合成 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
96 mg及び8−Cで得られた(2R,4S)−(5
E)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−
4−メチル−5へブテンニトリル53 mgをジクロロ
メタン12m1に溶解し、これにピリジン1 m+1を
加えた。還流下で8時間撹拌した後放冷し、エーテル及
び稀塩酸を加え、有機層は水、次いで飽和食塩水で洗滌
した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、溶媒を留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン/酢酸エチル−6)で分離精製して、4−(4−
オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シア
ノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオキ
シ)メチル〕フェニルの白色結晶97mgを得た。さら
にエタノールから再結晶して精製した。
.44%実測値: C,71,62; H,7,04F
N、6.37%−d 4−(4〜オクチルオキシフエニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブ
テニルオキシ)メチル〕フェニルの合成 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
96 mg及び8−Cで得られた(2R,4S)−(5
E)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−
4−メチル−5へブテンニトリル53 mgをジクロロ
メタン12m1に溶解し、これにピリジン1 m+1を
加えた。還流下で8時間撹拌した後放冷し、エーテル及
び稀塩酸を加え、有機層は水、次いで飽和食塩水で洗滌
した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、溶媒を留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン/酢酸エチル−6)で分離精製して、4−(4−
オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シア
ノ−((S)−1〜メチル−(E)−2−ブテニルオキ
シ)メチル〕フェニルの白色結晶97mgを得た。さら
にエタノールから再結晶して精製した。
以下に同定データを示す。
融点98.7°CSiヨl 132.5’CNMR
(CDC13) : 0.83〜0.94(m、3
II)。
(CDC13) : 0.83〜0.94(m、3
II)。
1.20〜1.64(m、14 H)、 1.73〜1
.86(m、4 H)。
.86(m、4 H)。
3.98〜4.07(m、311)、 5.28g、1
)1)、 5.49(dd、J=15.0 Hz a
nd 6.0 Hz、IH)、 5.72(dq、J=
15.011z andJ’=6.OH2,IH)、
7.01(d、J=9.OH2,2H)、 7.30(
dJ=9.011z、2 H)、 7.54(d、J
=9.0 Hz、2 H)、 7.60(d。
)1)、 5.49(dd、J=15.0 Hz a
nd 6.0 Hz、IH)、 5.72(dq、J=
15.011z andJ’=6.OH2,IH)、
7.01(d、J=9.OH2,2H)、 7.30(
dJ=9.011z、2 H)、 7.54(d、J
=9.0 Hz、2 H)、 7.60(d。
J=9.0 Hz、2 H)、 7.69(d、J=
9.OH2,2H)、 8.23(d。
9.OH2,2H)、 8.23(d。
J=9.0 Hz、2 II)
IR(NujoJ) : 2940.2860.1?
35.1610.1460゜1380、 1275.
1215. 1080. 830 cm−’実施例9 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R)−1〜メチルブトキシ)メチル
〕フェニル(表I No、18)及び4−(4−オクチ
ルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−(
(S)−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表I
N1119)の合成 −a (2R,4R) −2−(4−アセトキシフェニル)−
3−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−(5E)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリ
ル271 mg(1,05mmol)を酢酸エチル10
nilに溶解させ、5%Rh−C216mg (10
mo1%)を加え、内部を水素で置換し、室温で9時間
撹拌した。沈澱を濾過後、濃縮し、薄層クロマトグラフ
ィー(シリカゲル。
35.1610.1460゜1380、 1275.
1215. 1080. 830 cm−’実施例9 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R)−1〜メチルブトキシ)メチル
〕フェニル(表I No、18)及び4−(4−オクチ
ルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−(
(S)−1〜メチルブトキシ)メチル〕フェニル(表I
N1119)の合成 −a (2R,4R) −2−(4−アセトキシフェニル)−
3−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−(5E)−2−(4−アセトキシフェ
ニル)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテンニトリ
ル271 mg(1,05mmol)を酢酸エチル10
nilに溶解させ、5%Rh−C216mg (10
mo1%)を加え、内部を水素で置換し、室温で9時間
撹拌した。沈澱を濾過後、濃縮し、薄層クロマトグラフ
ィー(シリカゲル。
ヘキサン/酢酸エチル= 4/1)により (2R,4
R)−2−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−
4−メチルへブタンニトリル134 ll1g (収率
49%)を得た。
R)−2−(4−アセトキシフェニル)−3−オキサ−
4−メチルへブタンニトリル134 ll1g (収率
49%)を得た。
以下に同定データを示す。
沸点140℃10.3 torr
〔α〕。 + 25.62’ (C=1.28.
(JICh)IR(neat) 2960.2930
.2870. 1?60. 1505゜1367、 1
195. 908 cm−’’HNMR(CDCIs)
δ 0.90 (t、J=6.0 Hz、
3 If)。
(JICh)IR(neat) 2960.2930
.2870. 1?60. 1505゜1367、 1
195. 908 cm−’’HNMR(CDCIs)
δ 0.90 (t、J=6.0 Hz、
3 If)。
1.30(d、J=6.0 Hz、3 H)、 1.
1 〜1.9(n+、4 H)、 2.30(s、3
B)、 3.76(sextet、J=6.OH,
!、I H)、 5.22(s。
1 〜1.9(n+、4 H)、 2.30(s、3
B)、 3.76(sextet、J=6.OH,
!、I H)、 5.22(s。
I H)、 7.13(d、J=9.082,2 H
)、 7.50(d、J=9.011z。
)、 7.50(d、J=9.011z。
2 H)
MS II/2 : 26HM” 、 l
)、 132(100)、 43(84)元素分析
’ C+sH+qOJとして 計算値: C,6B、94 ; H,?、32 ; N
、5.36%実測値: C,68,83i H,7,4
0i N、5.22%−b (2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−2−(4−アセトキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成と同様な
条件下、(2R,4S)−(5tQ−2−(4−アセト
キシフェニル)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテ
ンニトリル177 tag(0,68ma+ol)によ
り、(2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル)
−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル133 t
ag (収率74%)を得た。
)、 132(100)、 43(84)元素分析
’ C+sH+qOJとして 計算値: C,6B、94 ; H,?、32 ; N
、5.36%実測値: C,68,83i H,7,4
0i N、5.22%−b (2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−2−(4−アセトキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成と同様な
条件下、(2R,4S)−(5tQ−2−(4−アセト
キシフェニル)−3−オキサ−4−メチル−5−ヘプテ
ンニトリル177 tag(0,68ma+ol)によ
り、(2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル)
−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル133 t
ag (収率74%)を得た。
以下に同定データを示す。
沸点150℃10.3 torr
〔α) o +69.73°(C・1.15. CH
Ch)IR(neat) 29B0. 2950.
2890. 1?62. 1510゜1373.120
0.1065.910 cva−’’HNMR(CDC
Iり 60.94 (t、J=6.0 Hz、
3 H)。
Ch)IR(neat) 29B0. 2950.
2890. 1?62. 1510゜1373.120
0.1065.910 cva−’’HNMR(CDC
Iり 60.94 (t、J=6.0 Hz、
3 H)。
1.23(d、J=6.0 Hz、3 H)、 1.1
〜1.9軸、4旧、 2.30(s、3 H)、 3
.89(sextet、J=6.o Ilz、I II
)、 5.26(s。
〜1.9軸、4旧、 2.30(s、3 H)、 3
.89(sextet、J=6.o Ilz、I II
)、 5.26(s。
I B)、 7.13(d、J=9.0 Hz、2
fl)、 7.50(d、J=9.011z。
fl)、 7.50(d、J=9.011z。
2 H)
MS ts/z : 26HM” 、 2)、
132(100)、 43(43)元素分析: C
15H1qOsNとして計算値: C,6B、94 j
H,7,32i N、5.36%実測値: C,68
,93; H,7,45; N、5.27%−c (2R,4R)−2〜(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R) −,2−(4−アセトキシフェニル)
−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル200 m
g (0,77mmo+)をジクロロメタン10 ml
に溶解させ、ベンジルアミン0.84 ml (7,7
mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。反応液を
0.2 N HCI (40ml)に注ぎ、有機層を分
離後、ジクロロメタン抽出(10ml X 3)した。
132(100)、 43(43)元素分析: C
15H1qOsNとして計算値: C,6B、94 j
H,7,32i N、5.36%実測値: C,68
,93; H,7,45; N、5.27%−c (2R,4R)−2〜(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキサ−4−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R) −,2−(4−アセトキシフェニル)
−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル200 m
g (0,77mmo+)をジクロロメタン10 ml
に溶解させ、ベンジルアミン0.84 ml (7,7
mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。反応液を
0.2 N HCI (40ml)に注ぎ、有機層を分
離後、ジクロロメタン抽出(10ml X 3)した。
硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣を薄層クロマト
グラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラヒドロフラ
ン= 3/1)で精製することにより無色油状の(2R
,4R)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキ
サ−4−メチルへブタンニトリル148mg(収率88
%)を得た。
グラフィー(シリカゲル、ヘキサン/テトラヒドロフラ
ン= 3/1)で精製することにより無色油状の(2R
,4R)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキ
サ−4−メチルへブタンニトリル148mg(収率88
%)を得た。
以下に同定データを示す。
[α]。+32.13°(C・1.17. C)lcl
+)IR(neat)3200〜3600,2975,
2950,1615゜1602.1515,1447,
1265,1220.1062.825 cm−’’H
NMR(CDCIi) 60.90 (t、J=
6.0 Hz、 3 H)。
+)IR(neat)3200〜3600,2975,
2950,1615゜1602.1515,1447,
1265,1220.1062.825 cm−’’H
NMR(CDCIi) 60.90 (t、J=
6.0 Hz、 3 H)。
1.28(d、J=6.082,3 H)、 1.3
〜1.5(m、2 H)。
〜1.5(m、2 H)。
1.5〜1.7(m、2 H)、 3.78(sex
tet、J=6.Ofiz、I H)。
tet、J=6.Ofiz、I H)。
5.17(s、 I H)、 5.0 〜5.2(
broad s、I H)、 6.85(d。
broad s、I H)、 6.85(d。
J=9.0 Hz、2 H)、 7.35(d、
J=9.0 Hz、2 II)MS m/z : 2
19(M”)、132(100)高分解能MS (M”
) : C13H0TO□Nとして計算値: 219
.125B 実測値: 219.1284 −d (2R,4S)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキナベ−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキサ4−メチルへブタンニトリルの合成と同様な条
件下、(2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル
)−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル181
rag (0,69mmol)より、(2R,4S)−
2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−4−メ
チルへブタンニトリル151 mg(収率95%)を得
た。
J=9.0 Hz、2 II)MS m/z : 2
19(M”)、132(100)高分解能MS (M”
) : C13H0TO□Nとして計算値: 219
.125B 実測値: 219.1284 −d (2R,4S)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキナベ−メチルへブタンニトリルの合成 N (2R,4R)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−3
−オキサ4−メチルへブタンニトリルの合成と同様な条
件下、(2R,4S)−2−(4−アセトキシフェニル
)−3−オキサ−4−メチルへブタンニトリル181
rag (0,69mmol)より、(2R,4S)−
2−(4−ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−4−メ
チルへブタンニトリル151 mg(収率95%)を得
た。
以下に同定データを示す。
〔α〕。 + 81.22’ (C=1.14.
CHCl3)IR(neat) 3200〜3600
.29B0.2950. 161B。
CHCl3)IR(neat) 3200〜3600
.29B0.2950. 161B。
1602 1518.144B、1270,1220,
1063.829 cm−’HNMR(CHCl3)
60.94 (t、J=6.0 Hz、 3
H)。
1063.829 cm−’HNMR(CHCl3)
60.94 (t、J=6.0 Hz、 3
H)。
1.23(d、J=6.0 Hz、3 H)、 1.
3 〜1.5(n+、2 tl)。
3 〜1.5(n+、2 tl)。
1.5 〜1.7(m 2 H)、 3.86(m、
L H)、 5.2Hs、I H)5.0〜5.
2(broad s、I H)、 6.85(d、
J=9.4 Hz、2 +1)。
L H)、 5.2Hs、I H)5.0〜5.
2(broad s、I H)、 6.85(d、
J=9.4 Hz、2 +1)。
7.35(d、J=9.4 Hz、21)MS ra/
z : 219CM” 、 6)、 132(
100)元素分析’ Cl5HI?O□Nとして計算値
: C,?1.20 ; )1,7.81 ; N、6
.38%実測値: C,70,95; )1,7.70
i N、6.24%−e 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R)−1〜メチルブトキシ)メチル
〕フェニルの合成 CN C1h 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
及び9−Cで得られた (2R,4R) −2−(4−
ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−4−メチルへブタ
ンニトリルから、実施例8−dと同様にして、4−(4
−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シ
アノ((R)−1〜メチルブトキシ)メチル)フェニル
の白色結晶を得た。
z : 219CM” 、 6)、 132(
100)元素分析’ Cl5HI?O□Nとして計算値
: C,?1.20 ; )1,7.81 ; N、6
.38%実測値: C,70,95; )1,7.70
i N、6.24%−e 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−〔(
R)−シアノ−((R)−1〜メチルブトキシ)メチル
〕フェニルの合成 CN C1h 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
及び9−Cで得られた (2R,4R) −2−(4−
ヒドロキシフェニル)−3−オキサ−4−メチルへブタ
ンニトリルから、実施例8−dと同様にして、4−(4
−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((R)−シ
アノ((R)−1〜メチルブトキシ)メチル)フェニル
の白色結晶を得た。
以下に同定データを示す。
融点 100 ”CSA、=:I 110 ’CNM
R(CDCh) : 0.82〜0.98(In、6
H)I1.20〜1.60m、17 H)、 1.
77〜1.88(m、2 H)。
R(CDCh) : 0.82〜0.98(In、6
H)I1.20〜1.60m、17 H)、 1.
77〜1.88(m、2 H)。
3.84(sexteL、J=6.0 Hz、I H
)、 4.02(t、J=7.0 Hz。
)、 4.02(t、J=7.0 Hz。
2 II)、 5.29(s、L H)、 7.0
0(d、J=9.0 Hz、2 H)。
0(d、J=9.0 Hz、2 H)。
7.30(d、J=9.0 Hz、2 H)、 7.
57(d、J=9.0 Hz、2 )1)。
57(d、J=9.0 Hz、2 )1)。
7.59(d、J=9.0 Hz、2 H)、 7.
70(d、J=9.0 Hz、2 H)。
70(d、J=9.0 Hz、2 H)。
8.23(d、J=9.0 Hz、2 H)IR(
Nujol) : 2950. 2875. 1?
40. 1605. 1470゜1380.1280.
11B0,1220.1200.1080.835 c
m−’−f 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((
R)−シアノ−((S)−1〜メチルブトキシ)メチル
)フェニルの合成 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
及び9−dで得られた(2R,4S)−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−オキサ−4−メチルへブタンニ
トリルから、同様にして、4−(4−オクチルオキシフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((S)−1
〜メチルブトキシ)メチル〕フェニルの白色結晶を得た
。
Nujol) : 2950. 2875. 1?
40. 1605. 1470゜1380.1280.
11B0,1220.1200.1080.835 c
m−’−f 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−((
R)−シアノ−((S)−1〜メチルブトキシ)メチル
)フェニルの合成 4−(4−オクチルオキシフェニル)安息香酸クロリド
及び9−dで得られた(2R,4S)−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−オキサ−4−メチルへブタンニ
トリルから、同様にして、4−(4−オクチルオキシフ
ェニル)安息香酸4−((R)−シアノ−((S)−1
〜メチルブトキシ)メチル〕フェニルの白色結晶を得た
。
以下に同定データを示す。
融点 84°C5A41 124℃
NMR(CDC13) : 0.85(t、J・7.0
Hz、3 Fl)。
Hz、3 Fl)。
1.14(t、J=7.0 Hz、3 H)、 1.2
0〜1.70(m、17 If)。
0〜1.70(m、17 If)。
1.77〜1.87(m、2 H)、 3.93(
sextet、J=6.Ollz、I H)。
sextet、J=6.Ollz、I H)。
4.02(t、J=6.5 Hz、 2 H)、 5.
32(s、I H)、 ?、00(d。
32(s、I H)、 ?、00(d。
J=9.0 )12.2 H)、 7.30(d、J=
9.O11z、2 H)、 7.57(d。
9.O11z、2 H)、 7.57(d。
J=9.0 )IZ、2 )1)、 7.59(d、J
=9.0 Hz、2 H)、 7.69(dJ=9.0
Hz、2 H)、 8.23(d、J=9.0 Hz
、2 H)IR(Nujol) : 2940.286
0.1?35.1605.1460゜1380、122
0.1200.1080.830 cm−’実施例10
〜15 (Sc“液晶組成物の調製)(Sc母体液晶組
成物の調製) ■ 母体液晶(A) 次の組成のSc相を示す母体液晶(A)を調製した。
=9.0 Hz、2 H)、 7.69(dJ=9.0
Hz、2 H)、 8.23(d、J=9.0 Hz
、2 H)IR(Nujol) : 2940.286
0.1?35.1605.1460゜1380、122
0.1200.1080.830 cm−’実施例10
〜15 (Sc“液晶組成物の調製)(Sc母体液晶組
成物の調製) ■ 母体液晶(A) 次の組成のSc相を示す母体液晶(A)を調製した。
この母体液晶(A)は76.5°C以下でN相、65°
C以下でSA相、43°C以下でSc相を各々示し、そ
の融点は一3°Cであった。
C以下でSA相、43°C以下でSc相を各々示し、そ
の融点は一3°Cであった。
及び
■ 母体液晶(B)
次の組成のSc相を示す母体液晶(B)を調製した。
この母体液晶(B)は68.5°C以下でSc相、73
.5°C以下でSA相、83.5°C以下でN相を各々
示し、その融点は13.0°Cであった。
.5°C以下でSA相、83.5°C以下でN相を各々
示し、その融点は13.0°Cであった。
及び
F
■ 母体液晶(C)
次の組成のSa相を示す母体液晶(C)を調製した。
この母体液晶(C)は113.5’C以下でN相、90
″C以下でSA相、87.5°C以下でSa相を各々示
た。
″C以下でSA相、87.5°C以下でSa相を各々示
た。
12.5重量%
12.5重量%
12.5重量%
12.5重量%
20.0 u量%
実施例10
前記母体液晶(B)に実施例1の化合物(表INo。
1)を5%添加してSc”液晶組成物を調製した。この
組成物の相転移温度は、62°C以下でSc”相、78
°C以下でS、相、83.5°C以下でN1相、83.
5°Cより高い温度で■相を示す(Sc” 62 Sa
78 N” 83.51と表示、以下同様)。
組成物の相転移温度は、62°C以下でSc”相、78
°C以下でS、相、83.5°C以下でN1相、83.
5°Cより高い温度で■相を示す(Sc” 62 Sa
78 N” 83.51と表示、以下同様)。
このSc”液晶組成物を等方性液体相まで加熱して厚さ
2.1 amのスペーサを介したポリイミドラビング配
向処理を施したセル内に充填し、室温まで徐冷したとこ
ろ、配向したSc”のセルが得られた。このセルに電界
強度to vp−p/μmの矩形波(508Z)を印加
してその光学応答を測定したところ、25℃で145μ
秒、30°Cで124μ秒の高速応答を示した。このと
きのチルト角は、22.5’ (25°C)、22.3
°(30″C)であり、自発分極は3.57 nC/c
4(25°C) 、3.11 nC/cffl (30
°C)であった。
2.1 amのスペーサを介したポリイミドラビング配
向処理を施したセル内に充填し、室温まで徐冷したとこ
ろ、配向したSc”のセルが得られた。このセルに電界
強度to vp−p/μmの矩形波(508Z)を印加
してその光学応答を測定したところ、25℃で145μ
秒、30°Cで124μ秒の高速応答を示した。このと
きのチルト角は、22.5’ (25°C)、22.3
°(30″C)であり、自発分極は3.57 nC/c
4(25°C) 、3.11 nC/cffl (30
°C)であった。
また、上記において実施例1の化合物(表INo。
1)の割合を10%にしたところ、相転移温度はSc”
465A80.5 N” 821 となったが、25°
Cで128μ秒、30゛Cで101 μ秒とさらに高速
の応答を示した。
465A80.5 N” 821 となったが、25°
Cで128μ秒、30゛Cで101 μ秒とさらに高速
の応答を示した。
このSc”液晶組成物の79°CにおけるN”のらせん
ピッチは約5.1 μ絹であり、大きな温度変化は見ら
れなかった。
ピッチは約5.1 μ絹であり、大きな温度変化は見ら
れなかった。
実施例11
前記母体液晶(B)に実施例1の化合物(表INo。
2)を5%及び10%添加してSc”液晶組成物を調製
した。その相転移温度及び25.5°Cにおける応答、
チルト角、自発分極を表3に示す。
した。その相転移温度及び25.5°Cにおける応答、
チルト角、自発分極を表3に示す。
実施例12
前記母体液晶(B)に実施例2の化合物(表INo。
3)を5%及び7%添加してSc本液晶組成物を調製し
たその相転移温度及び25.5°Cにおける応答、チル
ト角、自発分極を表4に示す。
たその相転移温度及び25.5°Cにおける応答、チル
ト角、自発分極を表4に示す。
表4
実施例13
前記母体液晶(A)に実施例3の化合物(表INo。
5及びNo、 7)をそれぞれ5%及び10%添加して
Sc”組成物を調製した。
Sc”組成物を調製した。
その相転移温度、応答、チルト角、自発分極、N′相の
らせんピッチの測定を行った結果を表5に示す。らせん
ピッチの測定はN” −SA転移点の1°C高温側で行
った。
らせんピッチの測定を行った結果を表5に示す。らせん
ピッチの測定はN” −SA転移点の1°C高温側で行
った。
実施例14
前記母体液晶(A)に実施例4の化合物(表I No。
9)を5%及び7%添加してSc”液晶組成物を調製し
た。。
た。。
その相転移温度及び25°Cにおける応答、チルト角、
自発分極を表6に示す。
自発分極を表6に示す。
実施例15
前記母体液晶(A)及び(B)に実施例5の化合物(表
1 kll)を5%及び7%添加してSc”液晶組成物
を調製した。
1 kll)を5%及び7%添加してSc”液晶組成物
を調製した。
その相転移温度及び25°Cにおける応答、チルト角、
自発分極を表7に示す。
自発分極を表7に示す。
実施例16
前記母体液晶(B)に実施例9の化合物(表INα18
及びNo、 19 )を各5%添加してSc”液晶組成
物を調製した。
及びNo、 19 )を各5%添加してSc”液晶組成
物を調製した。
その相転移温度、及び25°Cにおける応答、チルト角
、自発分極を表8に示す。
、自発分極を表8に示す。
本発明によれば、−最大(1)、特に−最大(U)で示
される光学活性及びその中間体、これらの製造方法を提
供し、さらに−最大(I[I)で示される光学活性基を
有する化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた液
晶表示素子を提供するこができるので、従来知られてい
ない新規物質を提供し、またこれを液晶材料及び液晶素
子として利用することを可能にした。
される光学活性及びその中間体、これらの製造方法を提
供し、さらに−最大(I[I)で示される光学活性基を
有する化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた液
晶表示素子を提供するこができるので、従来知られてい
ない新規物質を提供し、またこれを液晶材料及び液晶素
子として利用することを可能にした。
特に−最大(I)、特に−最大(11)の化合物はキラ
ルドーパントの一部又は全部として母体となるSc液晶
化合物又は組成物に混合してSc”液晶組成物とした場
合において、少量の添加で大きい自発分極を誘起するこ
とが可能であり、このような組成物ではその粘性を低く
抑えることができ、応答時間において従来のネマチック
液晶の1/100以下、数10μ秒が可能であり、液晶
デバイスの材料として極めて有用である。また、らせん
ピッチにおいても特にNoにおいて、ピッチ調整が容易
となるらせんピッチの比較的大きい化合物あるいはらせ
んピッチ調整等に用いるらせんピッチの小さい化合物の
両方を得ることができ、これによって本発明のSc”組
成物は配向性が非常に良好であるものが得られる。また
、らせんピッチの小さい化合物は、従来のTN液晶に加
えて、いわゆるリバースドメインの防止に用いたり、さ
らにsTl&品等にも好ましく用いられる。
ルドーパントの一部又は全部として母体となるSc液晶
化合物又は組成物に混合してSc”液晶組成物とした場
合において、少量の添加で大きい自発分極を誘起するこ
とが可能であり、このような組成物ではその粘性を低く
抑えることができ、応答時間において従来のネマチック
液晶の1/100以下、数10μ秒が可能であり、液晶
デバイスの材料として極めて有用である。また、らせん
ピッチにおいても特にNoにおいて、ピッチ調整が容易
となるらせんピッチの比較的大きい化合物あるいはらせ
んピッチ調整等に用いるらせんピッチの小さい化合物の
両方を得ることができ、これによって本発明のSc”組
成物は配向性が非常に良好であるものが得られる。また
、らせんピッチの小さい化合物は、従来のTN液晶に加
えて、いわゆるリバースドメインの防止に用いたり、さ
らにsTl&品等にも好ましく用いられる。
また、本発明の化合物は、本発明の提供する製造法によ
り工業的にも容易に製造できる。また、それ自体無色で
あり、光、水、熱等に対する化学的安定性にも優れ、実
用価値の高いものである。
り工業的にも容易に製造できる。また、それ自体無色で
あり、光、水、熱等に対する化学的安定性にも優れ、実
用価値の高いものである。
平成2年2月7日
特許出願人 大日本インキ化学工業株式会社財団法人
川村理化学研究所
川村理化学研究所
Claims (78)
- (1)下記一般式( I )で示される、光学活性化合物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、■は置換又は未置換の飽和又は不飽和の5員環
又は6員環を表し、Qは少なくとも1個の5員環又は6
員環を含む有機基であってQと■との結合は単結合によ
る直結又は最短原子数が偶数個である原子からなる連結
基による結合又はQと■により縮合環を形成し、X、R
^1はそれぞれが結合している炭素間の二重結合を表す
か又はXは水素原子、R^1は炭素数1〜10のアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子又は水素原子を表し、C
^*、C^*^*はそれぞれ独立的に(S)又は(R)
配置の不斉炭素を表す。) - (2)次の一般式(II)で表わされる請求項2記載の光
学活性化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、X、C^*、C^*^*は一般式(
I )のものと同じものを表し、R^2は炭素数1〜18
のキラル又はアキラルなアルキル、アルコキシ、アルコ
キシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルコキシカル
ボニルオキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコ
キシ、アルコキシアルカノイルオキシ又はアルカノイル
オキシアルコキシ基であって未置換又は任意の水素をフ
ッ素、塩素又はシアノ基に置換した置換基を有する基、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
はそれぞれ独立的に未置換又はフッ素、塩素又はシアノ
基の置換基を有する▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼であってこれらの環はCHが未置換
又は任意の1〜3個のCHがNとの置換体でありかつC
H_2が未置換又は任意の1〜2個のCH_2がそれぞ
れ独立的にC=O、NH、O又はSとの置換体でありか
つ−CH_2−CH_2−が未置換又は任意の1個の−
CH_2−CH_2−が−CH=CH−との置換体であ
り、Z及びYはそれぞれ独立的にCOO、OCO、CH
_2O、OCH_2、CH_2CH_2、−C≡C−又
は単結合を表わし、mは0又は1を表わす。) - (3)上記一般式(II)において、▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼が
それぞれ独立に▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼ (トランス−1,4−シクロヘキシレン基)▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼であってこれらの環は未置換又は任意
の1〜2個の水素がフッ素、塩素、又はシアノ基の置換
基を有し、▲数式、化学式、表等があります▼が未置換
又は環中の1〜2個の水素がフッ素、塩素、又はシアノ
基に置換した1,4フェニレン基を表す。) - (4)R^2が光学活性な基である請求項3記載の光学
活性化合物。 - (5)Xが水素、R^1がフッ素である請求項3又は4
記載の光学活性化合物。 - (6)X、R^1がそれぞれの結合する炭素間の二重結
合を示す請求項3又は4記載の光学活性化合物。 - (7)mが0、▲数式、化学式、表等があります▼及び
▲数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学式、
表等があります▼ である請求項5記載の光学活性化合物。 - (8)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項7記載の化合物又はその鏡像体である光学
活性化合物。 - (9)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項7記載の化合物又はその鏡像体である光学
活性化合物。 - (10)mが0、▲数式、化学式、表等があります▼及
び▲数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学式
、表等があります▼である請求項6記載の光学活性化合
物。 - (11)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項10記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (12)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項10記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (13)YがCOOである請求項8記載の光学活性化合
物。 - (14)YがCOOである請求項9記載の光学活性化合
物。 - (15)YがCOOである請求項11記載の光学活性化
合物。 - (16)YがCOOである請求項12記載の光学活性化
合物。 - (17)YがOCOである請求項8記載の光学活性化合
物。 - (18)YがOCOである請求項9記載の光学活性化合
物。 - (19)YがOCOである請求項11記載の光学活性化
合物。 - (20)YがOCOである請求項12記載の光学活性化
合物。 - (21)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項13記載の光学活性化合物
。 - (22)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項14記載の光学活性化合物
。 - (23)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項15記載の光学活性化合物
。 - (24)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項16記載の光学活性化合物
。 - (25)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項17記載の光学活性化合物
。 - (26)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項18記載の光学活性化合物
。 - (27)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項19記載の光学活性化合物
。 - (28)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項20記載の光学活性化合物
。 - (29)R^2がC_1_0H_2_1Oである請求項
13又は15記載の光学活性化合物。 - (30)R^2がC_8H_1_7Oである請求項17
又は19記載の光学活性化合物。 - (31)R^2がC_8H_1_7Oである請求項18
又は20記載の光学活性化合物。 - (32)m=1、Zが単結合、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼及び▲
数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学式、表
等があります▼である請求項5記載の光学活性化合物。 - (33)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項32記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (34)m=1、Zが単結合、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼及び▲
数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学式、表
等があります▼である請求項6記載の光学活性化合物。 - (35)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項34記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (36)YがCOOである請求項33記載の光学活性化
合物。 - (37)YがCOOである請求項35記載の光学活性化
合物。 - (38)YがOCOである請求項33記載の光学活性化
合物。 - (39)YがOCOである請求項35記載の光学活性化
合物。 - (40)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項36記載の光学活性化合物
。 - (41)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項37記載の光学活性化合物
。 - (42)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項38記載の光学活性化合物
。 - (43)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項39記載の光学活性化合物
。 - (44)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルキル基である請求項36記載の光学活性化合物。 - (45)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルキル基である請求項37記載の光学活性化合物。 - (46)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項34記載の化合物又はその鏡像体でる光学
活性化合物。 - (47)YがCOOである請求項46記載の光学活性化
合物。 - (48)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項47記載の光学活性化合物
。 - (49)R^2がC_8H_1_7Oである請求項40
、41又は48記載の光学活性化合物。 - (50)R^2が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項40又は41記載の光学活性化合物。
- (51)R^2が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項40又は41記載の光学活性化合物。
- (52)R^2がC_5H_1_1Oである請求項42
又は43記載の光学活性化合物。 - (53)R^2がC_8H_1_7である請求項44又
は45記載の光学活性化合物。 - (54)X、R^1が水素である請求項3又は4記載の
光学活性化合物。 - (55)mが1、Zが単結合、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼及び▲
数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学式、表
等があります▼である請求項54記載の光学活性化合物
。 - (56)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項55記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (57)光学活性基 ▲数式、化学式、表等があります▼ が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項55記載の化合物又はその鏡像体である光
学活性化合物。 - (58)YがCOOである請求項56記載の光学活性化
合物。 - (59)YがCOOである請求項57記載の光学活性化
合物。 - (60)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項58記載の光学活性化合物
。 - (61)R^2が炭素数1〜18のキラル又はアキラル
なアルコキシ基である請求項59記載の光学活性化合物
。 - (62)R^2がC_8H_1_7Oである請求項60
又は61記載の光学活性化合物。 - (63)下記一般式(III)の光学活性基を有する光学
活性化合物を少なくとも1種含有する液晶組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、R^1は請求項1記載の一般式( I )の
ものと同じものを表わす。) - (64)一般式(III)の光学活性基を有する光学活性
化合物が請求項1記載の一般式( I )で示される光学
活性化合物である請求項63記載の液晶組成物。 - (65)一般式( I )の光学活性化合物が請求項2記
載の一般式(II)で示される光学活性化合物である請求
項64記載の液晶組成物。 - (66)一般式(II)で示される光学活性化合物が請求
項3ないし62いずれかに記載の光学活性化合物である
請求項65記載の液晶組成物。 - (67)キラルスメチクチックC相を示す請求項63な
いし66いずれかに記載の液晶組成物。 - (68)請求項63ないし67いずれかに記載の液晶組
成物を用いた強誘電性液晶表示用素子。 - (69)次の一般式(IV)で表わされるアルデヒドを次
の一般式(V)で表わされる光学活性なアセタール体と
し、これをルイス酸存在下にシアノトリメチルシランに
より開環させることを特徴とする一般式(VI)で示され
る光学活性のシアンヒドリン誘導体である光学活性化合
物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) - (70)請求項69記載の一般式(VI)で示される光学
活性シアンヒドリン誘導体にハロゲン化剤を作用させる
ことを特徴とする請求項2記載のXが水素、R^1がX
^1である下記一般式(II)aの光学活性化合物の製造
法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)a (式中、X^1はフッ素又は塩素原子を表す。) - (71)請求項69記載の一般式(VI)で示される光学
活性シアンヒドリン誘導体を脱水することを特徴とする
請求項2記載のXとR^1がそれぞれ結合している炭素
の二重結合を示す下記一般式(II)bの光学活性化合物
の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)b - (72)請求項69記載の一般式(VI)で示される光学
活性なシアンヒドリン誘導体である光学活性化合物。 - (73)下記一般式(X I )で表わされる酸塩化物に
塩基性物質存在下、下記一般式(IX)で表わされる光学
活性なシアンヒドリン誘導体を反応させることを特徴と
する請求項2記載のX、R^1がそれぞれ結合している
炭素の二重結合を表わし、YがCOO、▲数式、化学式
、表等があります▼が▲数式、化学式、表等があります
▼を表わす下記一般式(II)cの光学活性化合物の製造
法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中、R^2、▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼、Z、mは請求項1
記載の一般式( I )のものと同じものを表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中、C^*、C^*^*は請求項1記載の一般式(
I )のものと同じものを表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)c - (74)請求項73記載の一般式(X I )で表わされ
る酸塩化物に塩基性物質存在下、下記一般式(X)で表
わされる光学活性なシアンヒドリン誘導体を反応させる
ことを特徴とする請求項2記載のXとR^1がそれぞれ
水素を表わし、YがCOO、▲数式、化学式、表等があ
ります▼が▲数式、化学式、表等があります▼を表わす
下記一般式(II)dの光学活性化合物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) (式中、C^*、C^*^*は請求項1記載の一般式(
I )のものと同じものを表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)d - (75)請求項73記載の一般式(IX)で示される光学
活性なシアンヒドリン誘導体である請求項73記載の一
般式(II)cの光学活性化合物の中間体。 - (76)請求項74記載の一般式(X)で示される光学
活性なシアンヒドリン誘導体である請求項74記載の一
般式(II)dの光学活性化合物の中間体。 - (77)下記一般式(VII)で示される光学活性シアン
ヒドリン誘導体である請求項73記載の一般式(II)c
の光学活性化合物の中間体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、C^*、C^*^*は請求項1記載の一般式(
I )のものと同じものを表わす。) - (78)下記一般式(VII)で示される光学活性なシア
ンヒドリン誘導体である請求項74記載の一般式(II)
dの光学活性化合物の中間体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、C^*、C^*^*は請求項1記載の一般式(
I )のものと同じものを表わす。)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-29918 | 1989-02-10 | ||
| JP2991889 | 1989-02-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02289541A true JPH02289541A (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=12289377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2026147A Pending JPH02289541A (ja) | 1989-02-10 | 1990-02-07 | 光学活性化合物、その中間体、これらの製造法、液晶組成物及び液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02289541A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007097719A1 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Nanyang Technological University | Cyclisation process of forming a multiple ring compound |
| CN104830347A (zh) * | 2015-04-14 | 2015-08-12 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 含4,6-二甲基-1,3-二噁烷环的液晶化合物、制备方法及应用 |
-
1990
- 1990-02-07 JP JP2026147A patent/JPH02289541A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007097719A1 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Nanyang Technological University | Cyclisation process of forming a multiple ring compound |
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