JPH0240130A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、垂直磁気記録媒体に関し、特に、磁気記録層
の表面の微細突起の高さ分布を限定して耐久性と優れた
電磁変換特性とを兼備した垂直磁気記録媒体に関するも
のである。

［従来の技術］ 強磁性金属薄膜９強磁性酸化物薄膜あるいは強磁性窒化
物薄膜を磁気記録層として形成した磁気記録媒体は、高
密度記録用として優れた特性を有するものである。その
例をあげると、ＣＯ膜。

Ｇｏ−Ｎｉ膜、　Ｇｏ−Ｏｒ膜、Ｇｏｏ化物膜、Ｂａ７
ｚライト膜等が挙げられる。これらの薄膜は、生産性。

特性の制御性等の優れている真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法で代表される薄膜堆積法
により形成される。

これら薄膜堆積法を用いた磁気記録媒体は、電磁特性に
優れてはいるが、塗布媒体に比べ著しく走行耐久性が劣
り、未だ実用の域に達していないといえる。特に、Ｇｏ
−Ｏｒ合金薄膜媒体の実用耐久性に関しては、研究の余
地が大きい。

これらＧｏ系金金属磁性薄膜媒体走行耐久性を改善する
為に、例えば次のような方法が研究されている。

第１には、磁気記録層表面の改質を行なう研究で、大き
く分けて保護機能を刊与する場合と、潤滑機能を付与す
る場合とがあり、各々で材料・プロセスに特色が見られ
る。

第２には、磁気記録層表面を微細に粗面化する研究であ
る。極めて小さい突起やシワを磁気記録層表面に付与す
ることにより、単なる平滑面に比較し、著しく耐久性が
向上する。これらの技術はいずれにしてもスペーシング
ロスの増大をもたらすので、金属磁性薄膜の優れた電磁
変換特性を維持しつつ、耐久性を向上させるには高度な
技術が必要である。

［発明が解決しようとする課題］ 発明者らは上記第２の手法においてｃｏ−Ｃ：ｒ合金垂
直磁化膜を用いたフレキシブルな媒体（テープ、フロッ
ピーディスク等）の実用化検討を行なう過程で以下の様
な問題点を見出した。すなわち、従来知られている様に
、Ｃｏ−Ｃｒ合金では磁気特性を高めるために磁気記録
層成膜時に基板加熱を行なう。そのため、基体にはポリ
イミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドアミ
ドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリスルホ
ンフィルム等耐熱性のプラスチックフィルムを用いる。

これら耐熱性フィルムの表面を粗面化し、Ｇｏ−Ｃｒ合
金薄膜をたとえばスパッタリング等で形成すると、従来
の塗布型磁気記録媒体と比べて、磁気記録層の厚さが非
常に薄いため、磁性薄膜の表面は基体フィルム表面の凹
凸が反映した粗面となる。これら粗面化フィルムが媒体
の走行安定性に大きく寄与している。

本発明者らは、前記のプラスチックフィルムに、主とし
て無機微粒子から成る突起形成粒子を種々混合し、フィ
ルムを試作したのち、Ｇｏ−Ｃｒ合金磁性層をスパッタ
リング形成して、媒体機能の評価を行なった。用いた微
粒子は５ｉ０２．　ＴｉＯ２゜ＺｒＯ２等であり、その
粒径は１００〜１０００Ａテあり、粒子が単独又は複数
個凝集して存在しているものである。その結果、媒体表
面の凹凸高さ分布が十分に制御されていないと、以下の
ような問題点が生じることが判明した。

（１）種々の高さの突起が存在すると、ヘッドとの接触
状態を規定するという意味で、実際に機能する突起はそ
の中でも最も高い一部分であり、はとんどの突起は有効
に機能しない。

（２）上記（１）の結果として、実効的に機能している
突起の高さをコントロールできず、媒体−ヘッド間のス
ペーシングが場所により変動する。従って、電磁変換特
性が変動する。

（３）実効的に機能する突起が最も高く形成された一部
分の突起である結果、そこに荷重が集中し、削れてしま
う。

これらの問題はＧｏ−Ｏｒ合金薄膜媒体を耐熱フィルム
の支持体により実現する上で重大な欠陥である。

本発明は、プラスチックフィルム表面の微細凹凸の高さ
及びその分布を限定することにより、上述従来例の問題
点を除去した。すなわち、本発明は、電磁変換特性、走
行耐久性ともに優れた垂直磁気記録媒体を提供すること
を目的とするものである。

［課題を解決するための手段］及び［作用］本発明は、
支持体上に薄膜堆積法により磁気記録層を形成した垂直
磁気記録媒体であって、前記垂直磁気記録媒体の磁気記
録層側表面に微細突起が１　ｍｍ２あたり平均１０５〜
１０７個存在し、かつ該微細突起の高さの統計分布にお
いて、高い方から０．０１％、０．１％、１％に相当す
る突起高さをそれぞれＨｏ、ｏ＋、　Ｈｏ、＋＋　Ｈｌ
　　とじたとき、Ｈｏ、０＋　≦６０ＯＡかつＨＯ，ｌ
≧２０ＯＡかつ旧≧１５０ＡかつＨＯ、’　ｌ　−Ｈｌ
　≦１５ＯＡであることを特徴とするものである。

以下、本発明の垂直磁気記録媒体について詳しく説明す
る。

本発明の垂直磁気記録媒体は、プラスチックの支持体上
に垂直磁気記録層を形成したものである。支持体として
はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミドあるいは
ポリスルホン等が好ましく使用でき、特に耐熱性の点か
らポリイミドが好ましい。本発明で使用する支持体は、
ガラス転移点が２００°Ｃ以上の耐熱性のものが好まし
い。

ポリイミドフィルムは、ジアミンと酸二無水物を重合、
イミド化し、フィルム状に成型したものであるが、本発
明で好ましく使用できるポリイミドとして、ジアミン成
分が３０モル％以上、更には４０〜９５モル％のパラフ
ェニレンジアミン（以下ＰＰＤと略す）および０〜７０
モル％、更には５〜８０モル％のジアミノジフェニルエ
ーテル（以下ＤＡＤＥと略す）からなり、酸二無水物成
分が、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（以下ＢＰ
ＤＡと略す）とピロメリット酸二無水物（以下ＰＭＤＡ
と略す）からなるものであることが好ましい。ＢＰＤＡ
及びＰＭＤＡは、全酸二無水物に対してそれぞれ１５〜
８５モル％、８５〜１５モル％が好ましい。

ＰＰＤ、　ＤＡＤＥ、　ＢＰＤＡおよびＰＭＤＡの３成
分（ＤＡＤＥが０％の場合）あるいは４成分からなるポ
リイミドフィルムは、熱膨張係数が１．０〜３．０×１
０−５ｃｍ／ｃｍ／’Ｃであり、このフィルム上に形成
される磁気記録層の熱膨張係数に近いものである。その
ため磁気記録層形成時の熱応力、あるいは環境温度の変
化にともなう媒体の反りを緩和するように適切な熱膨張
係数のポリイミドフィルムを、前記３成分あるいは４成
分の配合比を変化することにより選択することが可能で
、カールのない磁気記録媒体を製造できる。

本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層側表面に微細突起
が多数形成されている。これら微細突起は支持体表面を
凹凸とすることにより形成する。

支持体表面の突起は、流延ベルト上に微細な凹凸を形成
し、この凹凸をフィルム面に転写して形成することも可
能であるが、支持体の原料溶液中に微細粒子を分散させ
る方が微小な凹凸の制御が可能である。ポリイミド、ポ
リアミド等の耐熱性フィルムは、流延法で成膜されるの
で、フィルム化する前の溶液状態の原材料に突起形成粒
子を混合する方法（内填法）、あるいはフィルム化した
後原反上に突起形成粒子を含む希薄溶液を塗布し、乾燥
時に粒子が突出するようにする方法等がある。

本発明で使用する微細粒子としては、元素周期律表第１
Ｉ　、　ｍ　、　ＩＶ族とその他の遷移金属元素の酸化
物、窒化物、炭化物、塩類や、単体元素から成る無機粒
子が好ましい。具体的には、ＭｇＯ，ＺｎＯ。

ＡＩ！２Ｃｈ、　５ｉ０２．　ＴｉＯ２，ＴｉＮ、　Ｚ
ｒＮ、　ＶＮ、　ＳｉＣ，Ｔｉｅ。

ＮｂＣ，ＭＯ２Ｃ，Ｗｅ、　ＨｇＣＯ３，ＣａＣ０：＋
、　ＣａＳＯ４，ＢａＳＯ４やＧｕ、　Ａｇ、　Ａｕ、
　Ｚｎ、　Ａｊ）、　Ｆｅ、　Ｃｏ、旧、Ｗやカーボン
ブラックなどがある。さらにこれらの化合物、合金など
があり、これら無機粒子の表面が有機基で表面処理され
たものでも良い。また、複数種が混合したものでもよい
。

これらの微細粒子の大きさは、粒径１００〜１０００Ａ
の粒子が単独又は複数個凝集して存在したものが良い。

支持体フィルムの表面に形成した微細突起の高さは、突
起高さが低すぎると、滑り性が低下し、記録媒体の製造
時や、テープ状あるいはシート状に加工する工程ですり
傷が大量に発生する。また、磁気記録媒体の使用時に走
行性が悪くなり、ヘッドで磁性層が削られ、ドロップア
ウトの原因になり、耐久性が著しく悪くなる。一方、突
起高さが高すぎると、媒体−ヘッド間のスペーシングロ
スとなり出力が低下し、ドロップアウトが増大する。

さらに、微細突起が１　ｍｍ２あたり平均１０５〜１０
７個存在することが必要である。１０５個／ｍｍ２未満
ではフィルムの滑り性が低下し、記録媒体の製造時ある
いは記録媒体形成後の走行性、＃久性が悪化する。一方
、１０７個／ｍｍ２を越えると、粒子混合量が過大とな
り、粒子が凝集し、粗大な突起の発生を招く。

さらに、耐久性向上の為には突起高さがそろっている必
要がある。すなわち、突起高さの統計分布をとり、高い
方から０．１％、１％に相当する突起高さをそれぞれＨ
Ｏ，ｌ、Ｈｌとすると、ＨＯと旧の値が近いのが理想的
である。実際には、ＩＯ，１−Ｈ１≦１５ＯＡのとき、
耐久性が向上する。なお、ＨＯ，ｌ−Ｈ１≧１５ＯＡで
はヘッドの目づまりがときどき発生する。これは、高い
突起が削られたときの摩耗粉が原因と考えられる。

微細突起の高さ分布は、フィルム形成時の乾燥条件、微
粒子の種類や大きさ、微粒子の表面処理の有無等によっ
てコントロールできる。

本発明の磁気記録媒体を、輝度信号出力、メチル耐久寿
命およびくり返し耐久性の観点から評価すると以下のよ
うになる。

（１）輝度信号出力は、ＨＯ，Ｏｌ　ないしは更に粗大
な突起で発生するスペーシングロスに支配される。

したがってＨＯ，Ｏｌが大のときは、スペーシングロス
が大きすぎて、垂直磁化膜の本来の性能は生かされない
。すなわち、Ｈｏ、０１　≦６００Ａ、さらに好ましく
はＨＯ，Ｏ１≦３５ＯＡである必要がある。

（２）スチル耐久寿命は、突起の数が多く、かつ頭がそ
ろっていると改善される。これは、ヘッドの荷重が分散
され、媒体の摩耗損傷が軽減される為と推定される。ま
た、突起が低すぎてもいけない。これは、摩耗が進むと
突起が低い為に突起がなくなり摩耗が増大する、あるい
は摩耗粉の堆積する余裕がないことなどが理由として考
えられる。

突起数は１０５個／ｍｍ２以上必要である。突起の頭が
揃っているというのは、すなわちＨｏ、０＋、　ＨＯ，
ｌ。

Ｈｌの値が近いということである。実際には、ＨＯ，１
−Ｈｌ　≦１５ＯＡ、さらに好ましくはＨＯ，１−Ｈ１
≦１０ＯＡのとき、良好なスチル耐久が得られる。また
、突起高さは、Ｈ１≧１５０　Ａ、更にはＨ１≧１８０
　Ａが好ましい。スチル再生の場合、存在確率の少ない
粗大な突起はすぐ削られてしまうので、Ｈ１付近の高さ
の突起が実効的に機能している。

（３）くり返し再生の場合、ＨＯ，Ｉ付近の高さの突起
が実効的に機能している。良好なくり返し耐久は、ＨＯ
，ｌ≧２００　Ａ、さらに好ましくはＨＯ，ｌ≧２５０
　Ａにおいて得られる。

上記支持体上に形成する磁気記録層は、金属薄膜型、特
にＦｅ、　Ｇｏ、旧を主成分とする強磁性合金膜９強磁
性酸化物膜あるいは強磁性窒化物膜の垂直磁気記録層が
好ましい。これらの磁気記録層は、真空然着法、イオン
ブレーティング法、スパッタリング法等の物理蒸着法、
あるいはメツキ法等で形成される。

中でも、真空蒸着あるいはスパッタリング法で形成した
Ｃｒ系、特にＣｒ　１５〜２３ｗｔ％、残部ＣＯからな
るＣｏ−Ｃｒ垂直磁化の磁気記録層は、従来の面内磁化
媒体にくらべ、高密度記録用として非常に優れている。

これら磁気記録層の下部には、支持体との付着力の向上
、結晶配向性、磁気特性の向上を目的として、Ａｊ！、
　Ｇｅ、　Ｃｒ、　Ｔｉ、　５ｉ０２等の薄膜や、垂直
磁化膜の裏打ち層としてＦｅ−Ｘ１膜、　Ｇｏ−Ｚｒ膜
等の高透磁率層が設けられる場合もある。また、カール
の緩和を目的に支持体の裏面に金属薄膜を設けても良い
。

また、磁気記録層上に、耐蝕性、耐摩耗性、潤滑性を向
上させるために、Ａｊ！２０３．５ｉ０２．　Ｓｉ３Ｎ
＋　。

Ｎｏ、　Ｎｉ等の無機物保護層、あるいはフッ素樹脂。

脂肪酸エステル、ステアリン酸等の有機物潤滑層が形成
される場合もある。前記Ｃｏ−０ｒ膜の場合においては
、ＣＯ酸化物層とフッ素樹脂の潤滑層が、耐久性の向上
、摩擦の低減に有効である。

また、支持体の裏面には適当なバックコート層を形成し
ても良い。

［実施例］ 以下、実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。

実施例１ ＰＰＤ　８０モル％、　ＤＡＩＩＥ　２０モル％からな
るジアミン成分と、ＢＰＤＡ　７０モル％、　ＰＭＤＡ
　３０モル％からなる酸二無水物成分、および平均粒径
６００ＡのＳｉ０２粒子を原料として、厚み９１のポリ
イミドフィルムを製作した。微粒子を内填する際、適切
な分散剤を混入させ、微粒子の凝集を防ぎ、粗大突起を
少なくした。このポリイミドフィルムの熱膨張係数は１
．９　Ｘ　１０−５ｃｍ／Ｃｍ／’Ｏ、引張弾性定数は
１３３０ｋｇ／ｍｍ２　であった。

このポリイミドフィルム上にＧｏ−Ｃｒ合金磁気記録層
をスパッタリング形成し、磁気記録媒体を製造した。

第１図にスパッタリング装置の概略を示す。第１図にお
いて、１１は幅１００ｍｍにスリットされたポリイミド
フィルム原反、１２は１５０°Ｃに加熱された回転ドラ
ム、１３は磁気記録層形成後巻き取られたフィルム、１
４はＧｏ−Ｇｒ合金ターゲ、ット（Ｏｒ２０％）、１５
は真空チェンバ−１１６はフリーロールである。真空チ
ェンバー１５は隔壁１７で上下に区切られ、区切られた
各々の空間は上側が不図示の油拡散ポンプ、下側が不図
示のクライオポンプで排気されている。スパッタリング
方式はＲＦマグネトロン式で、下室のＡｔ圧０．５０ｐ
ａ、　ＲＦパワー２ＫＷ。

成膜レート約２００ＯＡ　／ｗｉｎで行なった。また、
入射角制限をマスク１８で行なっている。形成膜厚は約
０．３５ｇｍで、磁気特性は４　πＭｓ＝　４５００ガ
ウス。

Ｈｃ’　＝　１２００エルステツド、　Ｈｃ“＝７００
エルステッドであった・ Ｇｏ−Ｏｒ磁気記録層上には、更に特開昭６１１９６４
２４号に開示されている方法により、ＣＯ酸化膜を略１
００人厚形成して保護膜とし、ポリエステル系バインダ
ーにカーボン粒子を添加したバックコートを厚み０．５
ｐｍ塗布したのち８ｍｍ幅に裁断した。

製造されたＧｏ−Ｏｒ合金薄膜磁気テープの表面粗さは
、シャドウィング法により測定した。形成されている突
起が数百へと極めて低く、かつその密度が緻密であるた
め、タリステップ等従来用いられている触針式表面粗さ
測定法では、個々の突起をなぞることはできず、正確な
粗さが把めないからである。シャドウィング法とは、第
２図（ａ）に示す様にＡｕ−Ｐｄ等２次電子発生効率の
高い重金属を蒸発源２１とし、被測定粗面となる試料２
２（突起）に斜めから薄く蒸着し、第２図（ｂ）に示す
ように真上から低加速ＦＥ−３ＥＸ等高分解能電子顕微
鏡で影の長さを観察する方法である。蒸着入射角θを８
５°とし、Ａｕ−Ｐｄ膜厚をＩＯＡとすれば、個々の突
起高さを±８％の精度で測定できる。

第３図にその様にして測定した本実施例の磁気テープの
表面の突起高さ分布を示す。なお、高さ分布をとるとき
には、できるだけ大面積で測定する方が好ましいが、特
に高い突起の場合、存在確率が低いので１万４　ｍ２以
上の面積を測定するようにした。用いたＦＥ−３ＥＸは
日立部Ｓ−８００である。同様な手法によりポリイミド
ベースフィルムの表面を測定したところ、突起高さの分
布状況はＧｏ−Ｃｒ磁性層の成膜前後でほとんど変化し
ていないことが判明した。

また突起密度は、先の低加速ＦＥ−８ＥＷを用い、倍率
３０００倍で任意に１０枚写真をとり、合計約１万＃Ｌ
Ｉ１１２相当の面積内に存在する突起数をカウントし、
単位面積（ｍｍ２）あたりに換算して突起密度とした。

実施例？ ポリイミドフィルム製造時の乾燥温度を下げた他は実施
例１と同様とした。本実施例における磁気テープの表面
粗さの高さ分布を第４図に示す。

実施例１よりも内填粒子の凝集が少なかった。

比較例１ 添加する５ｉ０２微粒子の平均粒径を８０ＯＡとした他
は実施例１と同様とした。本比較例の磁気テープの表面
粗さの高さ分布を第５図に示す。

比較例２ 添加する５ｉ０２微粒子の平均粒径を８０ＯＡとした他
は実施例２と同様とした。本比較例における磁気テープ
の表面粗さの高さ分布を第６図に示す。

実施例３ 添加するＳ　ｉ０２微粒子の平均粒径を４５ＯＡとした
他は、実施例１と同様とした。本実施例における磁気テ
ープの表面粗さの高さ分布を第７図に示す。

実施例４ 添加する５ｉ０２微粒子の分量を実施例１の１７１０と
した他は実施例３と同様とした。

実施例５ 添加するＳ　ｉ０２微粒子として実施例３の微粒子にシ
ランカップリング剤で表面処理したものを使用した他は
実施例３と同様とした。本実施例における磁気テープの
表面粗さの高さ分布を第８図に示す。

実施例６ ポリイミドフィルム製造時の乾燥温度を上げた他は実施
例５と同様とした。本実施例における磁気テープの表面
粗さの高さ分布を第９図に示す。

比較例３ 添加する微粒子を平均粒径２０ＯＡのＴ　ｉ０２微粒子
とした他は実施例１と同様とした。本比較例における磁
気テープの表面粗さの高さ分布を第１０図に示す。

比較例４ ポリイミドフィルム製造時の乾燥温度を下げた他は、実
施例５と同様とした。本比較例における磁気テープの表
面粗さの高さ分布を第１１図に示す。

比較例５ 添加する微粒子を平均粒径４５０ＡのＣａＣＯ３微粒子
とし、添加する分量を実施例１の約１／１００とした他
は、実施例１と同様とした。

比較例６ 添加する微粒子を粒径が１００〜６００八と不揃いのＴ
　ｉ０２粒子とし、分量を実施例１の約１／１０００と
した他は、実施例１と同様とした。

ところで、ポリイミドフィルムに微粒子を内填させる場
合、無機微粒子の添加量は、分散性の最も良い状態にし
た場合実施例５及び６で示した〜７　Ｘ　１０６個／ｍ
ｍ２程度が最大限であることがわかった。これ以上添加
すると、内填粒子の凝集が進み、突起密度としては逆に
減少してしまう傾向がある。

次に、以上の各磁気テープを市販の８ミリフオーマツト
ビデオデツキで評価した。評価項目は、輝度信号出力、
スチル耐久寿命、くり返し耐久性の３点である。結果を
表１に示す。

尚、第３図に示すように、磁気テープ表面の突起全数に
対し、高い方から０．０１％に相当する突起高さをＨｏ
、ｏ＋、　０．１％に相当する突起高さをＨＯ，Ｉ。

１％に相当する突起高さをＨｌとすると、突起高さ分布
曲線なｒ（ｈ）として、 ｆ乙、ｆ（ｈ）ｄｈ／　Ｊ’ｃ：ｆ（ｈ）ｄｈ＝　０．
０００１ｆ：’、１ｆ（ｈ）ｄｈ／ｆン（ｈ）ｄｈ＝　
０．００１Ｇ”　ｆ（ｈ）ｄｈ／　ｆと（ｈ）ｄｈ＝　
０．０１と表わされる。

以上８ミリビデオテープの実施例で説明したが、本発明
の磁気記録媒体はビデオフロッピーディスク（例えば、
５インチφ、３．５インチφ。

２インチφ等）としても使用できる。

（以下余白） ［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の磁気記録媒体は、磁気記
録層側表面に微細突起を多数形成し、これら突起密度を
１０５〜１０７個／ｍｍ２とし、突起の高さ分布をとっ
たときの高い方から０．０１％。

０．１％、１％に相当する突起高さをそれぞれＨｏ、ｏ
＋、　）ｌｏ、＋、　Ｈ＋　　とすると、ＨＯ，Ｏｌ　
≦６０ＯＡかつＨＯ，Ｉ≧２０ＯＡかつＨ１≧１５ＯＡ
かつＨＯ，ｌ−１１≦１５ＯＡとすることにより電磁変
換特性、走行耐久性ともに優れた磁気記録媒体を得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はスパッタリング装置の概略図、第２図はシャド
ウィング法の原理図、第３図〜第１１図は実施例及び比
較例における磁気テープ表面の高さ分布図である。 １１・・・支持体、　　　　　１２・・・回転ドラム、
１４・・・ターゲット、　　１５・・・真空チェンバー
１６・・・フリーロール、１７・・・隔壁、２１・・・
蒸発源、　　　　２２・・・試料（突起）。 （α） （ｂ） 第２図 第１図 頻度 （％） 第３図 頻度（Ｚ） 頻度（％） 第６図 頻度（／、） 頻度（Ｘ） 第７図 ＠度（％） 頻度（／、） 第１０図 頻度（Ｚ） ＠度（Ｘ） 第１１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体上に薄膜堆積法により磁気記録層を形成し
   た垂直磁気記録媒体であって、前記垂直磁気記録媒体の
   磁気記録層側表面に微細突起が１ｍｍ＾２あたり平均１
   ０＾５〜１０＾７個存在し、かつ該微細突起の高さの統
   計分布において、高い方から０．０１％、０．１％、１
   ％に相当する突起高さをそれぞれＨ＿０＿．＿０＿１、
   Ｈ＿０＿．＿１、Ｈ＿１としたとき、Ｈ＿０＿．＿０＿
   １≦６００ÅかつＨ＿０＿．＿１≧２００ÅかつＨ＿１
   ≧１５０ÅかつＨ＿０＿．＿１−Ｈ＿１≦１５０Åであ
   ることを特徴とする垂直磁気記録媒体。