JPH0242054A - トリフルオルメタンスルホン酸の製造方法 - Google Patents

トリフルオルメタンスルホン酸の製造方法

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JPH0242054A
JPH0242054A JP1189018A JP18901889A JPH0242054A JP H0242054 A JPH0242054 A JP H0242054A JP 1189018 A JP1189018 A JP 1189018A JP 18901889 A JP18901889 A JP 18901889A JP H0242054 A JPH0242054 A JP H0242054A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、トリフルオルメチル化された酸の製造方法に
関する。さらに詳しくは、トリフルオルメタンスルホン
酸の製造に関する。
トリフルオルメタンスルホン酸の最初の合成法は195
4年にHaszeldine氏により報告された(J、
 Chem、 Soc、  4228 (1954)を
参照)、この方法は、ジ(トリフルオルメチルチオ)水
銀(cp3s)Jgを光照射下で過酸化水素水溶液で酸
化することからなる。
この方法は、水銀塩が市場で入手できず且つその製造が
非常に毒性のために危険性が高いので、完全に工業的に
実施することができない。また、ビストリフルオルメチ
ルジスルフィドCF3S−3CF3のような中間体を使
用する他の方法が報告された(J、 Chem、 So
c、  2901  (1955)を参照)。これらの
方法は、ビストリフルオルメチルジスルフィドCFsS
−SCF3の毒性が非常に強いために工業的に実施する
ことができない。
トリフルオルメタンスルホン酸の唯一の工業的製造法は
、メタンスルホン酸クロリドの電気化学的ふっ素化方法
である(J、 Chem、 Sac、  173(19
56)を参照)、電気化学的方法は、製造技術の困難性
のために価格が非常に高い酸を製造させることになる。
さらに、米国特許第4,221,734号によれば、溶
媒中で亜鉛の存在下にハロゲン化ベルフルオルアルキル
とCO2又はS02とを反応させることによってアルキ
ル基が少なくとも2個の炭素原子を含有するベルフルオ
ル化カルボン酸及びベルフルオル化スルホン酸を製造す
る方法が知られている。
この特許に記載の実施例は、もっばらよう化ベルフルオ
ルアルキルとCO2か又はSO2との縮合に係るだけで
ある。
米国特許第4,221,734号の実施例2に従って、
ハロゲン化アルキルとして臭化トリフルオルメチルを用
いて試験を行った。しかし、この例では亜鉛に関して5
%程度の非常に低い粗トリフルオルメチルスルフィン酸
亜鉛収率が得られるにすぎない。
また、この特許は、1個の炭素原子を有するハロゲン化
アルキルの使用を可能にする工業的方法を記載していな
い。したがって、本発明は、これらの従来技術の欠点を
なくすものである。
ここに、第一工程で極性の非プロトン溶媒中に二酸化硫
黄の存在下で亜鉛、アルミニウム、マンガン、カドミウ
ム、マグネシウム、すす、鉄、ニッケル及びコバルトか
ら選ばれる金属を入れ、第二工程で、1バ一ル以上の圧
力下でハロゲン化トリフルオルメチルを要すれば二酸化
硫黄との混合物状で添加してトリフルオルメタンスルフ
ィン酸金属塩を得、次いでこれを酸化することを特徴と
するトリフルオルメタンスルホン酸の製造方法が見出さ
れた。
金属のうちでは、好ましくは、わずかな酸化しか示さな
いもの、特に酸化還元電位が−0,8〜−2ボルトであ
るものが選ばれる。したがって、特に好ましいのは亜鉛
、アルミニウム、マンガン及びカドミウムである。
後者の中でも、経済的な観点から亜鉛及びアルミニウム
を選択するのが有益である。
金属は、本発明の方法で用いられる二酸化硫黄ガスとよ
り良く接触させるように分散形態で有利に用いられる。
選ばれる溶媒は、可能なかぎり、二酸化硫黄、ハロゲン
化トリフルオルメチル並びに生成する酸の塩を可溶化さ
せねばならない。この条件に呼応するものが極性の非プ
ロトン溶媒であり、これらのうちでは特に アセトニトリル ジメチルホルムアミド(DMF) ジメチルスルホキシド(DMSO) ジメチルアセトアミド(DMA) ヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)N−メチルピ
ロリドン(NMP) である。
ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシドが特に
好んで用いられる。
用いられるハロゲン化トリフルオルメチルは、臭化トリ
フルオルメチル及びよう化トリフルオルメチルのうちか
ら選ばれる。これらのハロゲン化物のうちでは、それほ
ど高価でない臭化トリフルオルメチルが特に好ましい。
なぜならば、それは消化剤に用いられる工業製品である
からである。
事実、この化合物は化学的不活性とみなされており、し
たがって、二酸化硫黄の存在下でこれが反応してトリフ
ルオルメタンスルフィン酸の亜鉛塩を形成させることは
特に驚くべきことである。これらの塩のいずれも、それ
自体知られた方法で、好ましくばか性ソーダ、か性カリ
又は石灰から選ばれる強アルカリ性塩基で置換される。
得られたトリフルオルメタンスルフィン酸のアルカリ塩
はまずトリフルオルメタンスルホン酸のアルカリ塩に酸
化されてから硫酸で置換され、トリフルオルメタンスル
ホン酸とされる。また、トリフルオルメタンスルホン酸
はバリウムのような金属塩の形で回収することもできる
本発明の好ましい実施態様によれば、第一工程で亜鉛、
非金属酸無水物及び強アルカリ性塩基(好ましくは固体
状)が−緒にされ、次いでハロゲン化トリフルオルメチ
ルが一緒にされる。
本発明のさらに好ましい実施態様によれば、酸素の不存
在下で実施される。このために第一工程は真空下で又は
不活性雰囲気下で行われる。
本発明の方法によれば、好ましくは、少なくとも2のハ
ロゲン化トリフルオルメチル対金属のモル比及び好まし
くは1〜3の二酸化硫黄対金属のモル比が用いられる。
過剰のハロゲン化トリフルオルメチルは循環させること
ができる。
溶媒の使用量は、好ましくは、溶媒IJ2につき0.2
5〜1グラム原子の金属が存在するような量である。こ
のような量は必須のものではなく、プロセスの経済性に
適合せしめられる。
反応は発熱的であるので、好ましくは、そして必要な場
合にのみ、温度は10〜60℃に保持される。
反応圧は最低1バールである。好ましくは1〜50バー
ルの圧力が用いられる。当業者であれば圧力を使用装置
に適合することができよう。
酸化剤は好ましくは過酸化水素である。
また、反応器の構成材料が本発明の方法に用いられる金
属のいずれをも基材としないことは当業者には明らかで
あろう。例えば、ガラス製反応器を用いることができる
本発明の方法で得られるトリフルオルメタンスルホン酸
は、製薬又は農薬工業における合成中間体として、或い
は触媒として用いられる(特開昭58−128343号
)。
本発明を以下の実施例により詳述するが、これらは本発
明を何ら制限するものではない。
の製造 肉厚ガラス製フラスコに300mI2.のジメチルホル
ムアミド及び5g(0,077モル)の亜鉛を入れる。
フラスコをバール(Parr)の装置に入れる。フラス
コ内を真空にし、次いで10g(0,15モル)の二酸
化硫黄、次いで40g(027モル)のブロムトリフル
オルメタンを加える。その時に圧力は2.6バールであ
る。4時間かきまぜると圧力は1.7バールに低下する
。圧力を0.6バールに再び低下させ、次いで20gの
二酸化硫黄を加える。すると圧力は1.4バールに上昇
する。2時間で圧力は1バールに再び低下する。次いで
フラスコを開く。ジメチルホルムアミドを50℃/ 3
000 P aで乾固するまで蒸留する。300mI2
の水を加え、次いでパステル状か性ソーダをpHが弱塩
基性となるまで加える。不溶性Zn塩をン濾過する。水
を真空下に蒸発させ、固形物を酢酸エチルで抽出する。
酢酸エチルを蒸発させた後、8gの粗固形物が得られた
。この固形物は66%のトリフルオルメタンスルフィン
酸ナトリウムを含有する(φr /  87 p p 
m )。
亜鉛のトリフルオルメタンスルフィン酸ナトリウムへの
転化収率はしたがってZnに対して44%である。2度
目の二酸化硫黄を添加しない他の実験では37%の収率
となった。
8gの粗製トリフルオルメタンスルフィン酸ナトリウム
を25mβの35%過酸化水素に溶解する。5時間後に
、”FNMRにより転化が完全であることが確認された
。φ、=−78ppmに唯一のシグナルが残っている。
次いで2粒の軽石を加える。混合物を沸騰させる。過酸
化水素水を分解して2.34の酸素とする。水を蒸発さ
せ、固形物をアセトンで抽出し、蒸発させた後、7.2
gの粗製のトリフルオルメタンスルホン酸ナトリウムを
得た。
Cト1フルオルメタンスルホン への 3gのトリフルオルメチルスルホン酸ナトリウムと3g
の95%硫酸を100Paの減圧下に140℃にもたら
す。2.25gのトリフルオルメタンスルホン酸−水和
物(MP=45℃)を回収した。この2.25gを12
.6mj2のINソーダで中和し、60Paの圧力下に
80℃で乾燥した後、2.3gのトリフルオルメチルス
ルホン酸ナトJウムを得た。MP=45℃、φv = 
−78ppm。
肉厚ガラス製フラスコに100rnJ2のジメチルホル
ムアミド、3.5g(0,054モル)の粉末状亜鉛及
び4gの粉末状水酸化ナトリウムを入れる。フラスコを
パールの装置に入れる。これを真空にする。15gの二
酸化硫黄を加え、次いで20g(0,13モル)のブロ
ムトリフルオルメタンを加える。その時圧力は2.7バ
ールである。2時間かきまぜると、圧力は0.7バール
に再び低下する。次いでフラスコを開き、固形物を戸別
し、ジメチルホルムアミドを3000Paの圧力下に5
0℃で蒸留する。次いで200rnJ2の水を加え、N
aOHを添加してpHを7に修正する。デカンテーショ
ンした後、水を減圧下に蒸発させる。残留物を酢酸エチ
ルで採取する。固形物を戸別し、酢酸エチルを減圧下に
蒸発させる。
b ト1フルオルメタンスルホン バリウムへの駄進 20mでの35%過酸化水素を加える。17時間かきま
ぜ、次いで混合物を沸石を用いて100℃に、酸素の放
出がもはやなくなるまでもたらす。水を真空下に蒸発さ
せ、10mI2の98%硫酸を注ぎ入れ、次いでトリフ
ルオルメタンスルホン酸を100Paで130℃に加熱
することによって素早く蒸留する。蒸留物を100mf
2の水に溶解する。次いで水酸化バリウムをpH7まで
加える。濾過した後、水を真空下に蒸発させる。残留物
をアセトンで採取する。アセトンを蒸発させた後、6.
4 g (0,015モル)のトリフルオルメタンスル
ホン酸バリウムを得た。収率は亜鉛に対して55%。
匠−1 トリフルオルメタンスルホン の ゛6肉厚ガラス製フ
ラスコに100m℃のジメチルホルムアミド、1.5 
g (0,055モル)の粉末状アルミニウムを入れる
。フラスコをパールの装置に入れる。真空にし、次いで
15gの二酸化硫黄、次いで20g(0,13モル)の
ブロムトリフルオルメタンを添加する。このとき圧力は
2.7バールである。2時間かきまぜると、圧力は1.
4バールに再び低下する。次いでフラスコを開き、固形
物を戸別する。ジメチルホルムアミドを3000Paの
圧力下に50’Cで蒸留する。次いで200mI2の水
を加え、pHをソーダの添加により7に修正する。デカ
ンテーションした後、水を減圧下に蒸発させ、残留物を
酢酸エチルで採取する。固形物を戸別する。酢酸エチル
を減圧下に蒸発させる。20mβの35%過酸化水素を
添加し、17時間かきまぜ、次いで混合物を沸石を用い
て100℃に、酸素の放出がもはやなくなるまでもたら
す。水を真空下に蒸発させ、10mj2の98%硫酸を
注ぎ入れ、次いでトリフルオルメタンスルホン酸を10
0Paの下に130℃で素早く蒸留する。3.9 g 
(0,022モル)のトリフルオルメタンスルホン酸−
水和物が得られた。収率はアルミニウムについて40%
肉厚ガラス製フラスコに100m1のジメチルホルムア
ミド、3g(0,055モル)の粉末状マンガンを入れ
る。このフラスコをパールの装置に入れる。真空にし、
次いで15gの二酸化硫黄、20g(0,13モル)の
ブロムトリフルオルメタンを加える。そのとき圧力は2
.7バールである。
2時間かきまぜると圧力は1.6バールに再び低下する
。次いでフラスコを開き、固形物を炉別し、ジメチルホ
ルムアミドを3000Paの圧力下に50℃で蒸留する
。次いで200m℃の水を加え、pHをソーダの添加に
より7に修正する。デカンテーションした後、水を減圧
下に蒸発させ、残留物を酢酸エチルで採取する。固形物
を?戸別し、酢酸エチルを減圧下に蒸発させる。20m
I2の35%過酸化水素を加える。17時間かきまぜ、
次いで混合物を沸石な用いて100℃に、酸素の放出が
もはやなくなるまでもたらす。水を真空下に蒸発させ、
10mβの98%硫酸を注ぎ入れ、次いでトリフルオル
メタンスルホン酸を100Paの圧力下に130℃で素
早く蒸留する。2.5 g (0,014モル)のトリ
フルオルメタンスルホン酸−水和物が得られた。収率は
マンガンについて25%。
肉厚ガラス製フラスコに100m℃のジメチルホルムア
ミド、3g(0,054モル)の粉末状カドミウムを入
れる。このフラスコをパールの装置に入れる。真空にし
、次いで15gの二酸化硫黄、そして20g(0,13
モル)のブロムトリフルオルメタンを加える。そのとき
圧力は2.7バールである。2時間かきまぜると圧力は
1バールに再び低下する。次いでフラスコを開き、固形
物を?戸別する。ジメチルホルムアミド の圧力下に50℃で蒸留する。次いで200m℃の水を
加え、pHをソーダの添加により7に修正する。デカン
テーションした後に水を減圧下に蒸発させる。残留物を
酢酸エチルで採取する。固形物を炉別し、酢酸エチルを
減圧下に蒸発させる。
次いで20mI2の35%過酸化水素を加える。
7時間かきまぜ、次いで混合物を沸石を用いて100℃
に、酸素の放出がもはやなくなるまでもたらす。水を真
空下に除去し、10mI2の98%硫酸を注ぎ入れ、次
いでトリフルオルメタンスルホン酸を1. O O P
 aの圧力下に130℃で素早く蒸留する。このように
して4.4g(0.025モル)のトリフルオルメタン
スルホン酸−水和物を得た。収率はカドミウムについて
45%。
肉厚ガラス製フラスコに100m℃のジメチルホルムア
ミド、3.5g(0.054モル)の粉末状亜鉛及び5
.5 g (0.0 5 5モル)の粉末状無水メタ重
亜硫酸ナトリウムを入れる。このフラスコをパールの装
置に入れる。真空にし、15gの二酸化硫黄、次いで2
5g(0.17モル)のブロムトリフルオルメタンを加
える。そのとき圧力は3.2バールである。2時間かき
まぜると圧力は0.7バールに再び低下する。次いでフ
ラスコを開き、固形物を炉別し、ジメチルホルムアミド
を3000Paの圧力下に50℃で蒸留する。次いで2
0+nJ2の水を加え、pHをNoOHの添加により7
に修正する。デカンテーションした後、水を減圧下に蒸
発させ、残留物を酢酸エチルで採取し、これを減圧下に
蒸発させる。
臣トリフルオルメタンスルホン バリウムへの軟北 20+nj2の35%過酸化水素を加える。17時間か
きまぜ、次いでこの混合物を沸石を用いて100℃に、
酸素の放出がもはやなくなるまでもたらす。水を真空下
に蒸発させ、1 0mf2の98%硫酸を注ぎ、次いで
トリフルオルメタンスルホン酸を1 00Paの圧力下
に130’Cに加熱することによって素早く蒸留する。
蒸留物を1o。
m12の水に溶解する。次いで水酸化バリウムをpH7
まで加える。濾過した後、水を真空下に蒸発させる。残
留物をアセトンで採取する。アセトンを蒸発させた後、
7.9 g (0,018モル)のトリフルオルメタン
スルホン酸バリウムを得た。収率は亜鉛について68%

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第一工程で極性の非プロトン溶媒中に二酸化硫黄
    の存在下で亜鉛、アルミニウム、マンガン、カドミウム
    、マグネシウム、すず、鉄、ニッケル及びコバルトから
    選ばれる金属を入れ、第二工程で、1バール以上の圧力
    下でハロゲン化トリフルオルメチルを要すれば二酸化硫
    黄との混合物状で添加してトリフルオルメタンスルフィ
    ン酸の金属塩を得、これを酸化することを特徴とするト
    リフルオルメタンスルホン酸の製造方法。
  2. (2)ハロゲン化トリフルオルメチルが臭化トリフルオ
    ルメチルであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
  3. (3)金属が亜鉛、アルミニウム、マンガン及びカドミ
    ウムから選ばれることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の方法。
  4. (4)金属が亜鉛及びアルミニウムから選ばれることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
  5. (5)極性の非プロトン溶媒がジメチルホルムアミド、
    ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチル
    ホスホルアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチル
    ピロリドンから選ばれることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の方法。
  6. (6)ハロゲン化トリフルオルメチル対金属のモル比が
    少なくとも2であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の方法。
  7. (7)二酸化硫黄対金属のモル比が1〜3であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
  8. (8)溶媒の量が12の溶媒につき0.25〜1グラム
    原子の金属となるような量であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の方法。
  9. (9)反応圧が1〜50バールであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
  10. (10)第一工程中に重亜硫酸アルカリに属する強アル
    カリ塩基を添加することを特徴とする特許請求の範囲第
    1〜9項のいずれかに記載の方法。
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