JPH0245130A - 基材へのワニス含浸方法 - Google Patents
基材へのワニス含浸方法Info
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- JPH0245130A JPH0245130A JP63196682A JP19668288A JPH0245130A JP H0245130 A JPH0245130 A JP H0245130A JP 63196682 A JP63196682 A JP 63196682A JP 19668288 A JP19668288 A JP 19668288A JP H0245130 A JPH0245130 A JP H0245130A
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- resin
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- Pending
Links
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Landscapes
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電気機器、電子機器、通信機器、計算機器等に
用いられる積層板、プリント配線板用基材へのワニス含
浸方法に関するものである。
用いられる積層板、プリント配線板用基材へのワニス含
浸方法に関するものである。
従来、積層板やプリント配線板用基材へのワニス含浸は
、特公昭52−45359、特公昭54−122471
に記載されているように含浸工程を1次、2次に分割し
、低粘度樹脂ワニスで1次含浸することにより基材中に
内蔵している空気を基材外に排出し易くし空気内蔵のな
り樹脂含浸基材を得、これを用いることにより成形性、
ドリル加工性のよイ積層板、プリント配線板を得ようと
していたが、基材繊維間に充分樹脂が浸透しな込欠点が
あった。
、特公昭52−45359、特公昭54−122471
に記載されているように含浸工程を1次、2次に分割し
、低粘度樹脂ワニスで1次含浸することにより基材中に
内蔵している空気を基材外に排出し易くし空気内蔵のな
り樹脂含浸基材を得、これを用いることにより成形性、
ドリル加工性のよイ積層板、プリント配線板を得ようと
していたが、基材繊維間に充分樹脂が浸透しな込欠点が
あった。
従来の技術で述べたように含浸方法を1次、2次と分割
しても基材に充分樹脂を含浸することができなかった。
しても基材に充分樹脂を含浸することができなかった。
本発明は従来の技術における上述の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、基材内に残存空
気のない樹脂含浸基材を得ることにある。
れたもので、その目的とするところは、基材内に残存空
気のない樹脂含浸基材を得ることにある。
本発明は長尺帯状基材に減圧脱泡処理した樹脂ワニスを
ジェットスプレー含浸させることを特徴とする基材への
ワニス含浸方法のため、基材の繊織を開繊させることが
でき、減圧脱泡処理した樹脂ワニスを繊維間に充分含浸
させることができるので基材内に残存突気のない樹脂含
浸基材を得ることができるもので、以下本発明の詳細な
説明する。
ジェットスプレー含浸させることを特徴とする基材への
ワニス含浸方法のため、基材の繊織を開繊させることが
でき、減圧脱泡処理した樹脂ワニスを繊維間に充分含浸
させることができるので基材内に残存突気のない樹脂含
浸基材を得ることができるもので、以下本発明の詳細な
説明する。
本発明に用いる長尺帯状基材は厚み0.05〜1.。
n、巾約1 m乃至約2n′1のガラス、アスベスト等
の無機繊維やポリエステル、ポリアミド、ポリアラミド
ポリビニルアルコール、ポリアクリル等の有機合成繊維
や木綿等の天然繊維からなる織布、不織布、マット或は
紙又はこれらの組合せ基材等である。樹脂ワニスとして
はフェノール樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド、ポ
リブタジェン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリス
ルフォン、ボ1)7二二レンサル7アイト、ホ’l 7
xニレンオキサイド、ポリブチレンテレフタレートポ
リニーデルエーテルケトン、弗化樹脂等の単独、変性物
、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に水、メチ
ルアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、スチレン
モノマー等の溶媒ヲ添加したもので、更に樹脂ワニスを
耐圧容器内に収納し減圧脱泡したり、減圧容器内に樹脂
を注入、滴下或は噴霧して減圧脱泡したりするもので、
減圧条件は樹脂ワニス中の揮発取分の蒸気圧で左右され
るが2〜1)005a、Hg程度が好ましい。樹脂ワニ
スの粘度としては1〜300 cpsがジェットスプレ
ーをする上で好ましい。ジェットスプレーとしては上記
樹脂ワニスを10〜50℃の温度雰囲気におδで2〜3
00気圧でスプレー噴射して基材に含浸させるもので、
ノズル径は好ましくは0.3〜7Mでノズル配置は千鳥
状が好ましく、更にジェットスプレー処理は片面丈でも
よりが、片面処理後他の片面を処理することでもできる
し、上下同時処理であってもよ−、又ガラス布基材にあ
ってはジェットスプレー処理のスプレー圧、ノズル径に
よってはガラス布の目ズレが発生し易くなるので、ノズ
ル配置を上下同位置に配設することが好まし込。かくし
て樹脂ワニスをジェットスプレー含浸させた後、更に必
要に応じて通常用すられている一本ロールコーター シ
ボl 式二本a −ル:I−1−リバース式二本ロール
コータ−1三本ロールキスコーター、二本ロールコータ
−1三本ロールスクイズコーター ボトムフィードコー
ター パンフィードコーター等で樹脂ワニスを含浸させ
ることもできるものである。
の無機繊維やポリエステル、ポリアミド、ポリアラミド
ポリビニルアルコール、ポリアクリル等の有機合成繊維
や木綿等の天然繊維からなる織布、不織布、マット或は
紙又はこれらの組合せ基材等である。樹脂ワニスとして
はフェノール樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド、ポ
リブタジェン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリス
ルフォン、ボ1)7二二レンサル7アイト、ホ’l 7
xニレンオキサイド、ポリブチレンテレフタレートポ
リニーデルエーテルケトン、弗化樹脂等の単独、変性物
、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に水、メチ
ルアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、スチレン
モノマー等の溶媒ヲ添加したもので、更に樹脂ワニスを
耐圧容器内に収納し減圧脱泡したり、減圧容器内に樹脂
を注入、滴下或は噴霧して減圧脱泡したりするもので、
減圧条件は樹脂ワニス中の揮発取分の蒸気圧で左右され
るが2〜1)005a、Hg程度が好ましい。樹脂ワニ
スの粘度としては1〜300 cpsがジェットスプレ
ーをする上で好ましい。ジェットスプレーとしては上記
樹脂ワニスを10〜50℃の温度雰囲気におδで2〜3
00気圧でスプレー噴射して基材に含浸させるもので、
ノズル径は好ましくは0.3〜7Mでノズル配置は千鳥
状が好ましく、更にジェットスプレー処理は片面丈でも
よりが、片面処理後他の片面を処理することでもできる
し、上下同時処理であってもよ−、又ガラス布基材にあ
ってはジェットスプレー処理のスプレー圧、ノズル径に
よってはガラス布の目ズレが発生し易くなるので、ノズ
ル配置を上下同位置に配設することが好まし込。かくし
て樹脂ワニスをジェットスプレー含浸させた後、更に必
要に応じて通常用すられている一本ロールコーター シ
ボl 式二本a −ル:I−1−リバース式二本ロール
コータ−1三本ロールキスコーター、二本ロールコータ
−1三本ロールスクイズコーター ボトムフィードコー
ター パンフィードコーター等で樹脂ワニスを含浸させ
ることもできるものである。
以下本発明を実施例にもとづいて説明する。
実施例1乃至4
厚み0.18mg、巾1040 Ml長尺帯状ガラス布
(日東紡績株式会社製、品番WE 1g K 104
)に第1表に示すような条件で耐圧容器内でIQ Il
l H9で減圧脱泡処理したエポキシ樹脂ワニスをジェ
ットスプレー含浸した。
(日東紡績株式会社製、品番WE 1g K 104
)に第1表に示すような条件で耐圧容器内でIQ Il
l H9で減圧脱泡処理したエポキシ樹脂ワニスをジェ
ットスプレー含浸した。
比較例1
実施例1と同じガラス布、減圧脱泡処理した同・粘度の
ワニスを用い、基材のライン速度lam1分で浸漬含浸
させた。
ワニスを用い、基材のライン速度lam1分で浸漬含浸
させた。
比較例2
実施例1と同じガラス布、減圧脱泡処理しなh粘度(2
0℃)が1200 cPs のワニスを周込、基材の
ライン速度10 M/分 で浸漬含浸させた。
0℃)が1200 cPs のワニスを周込、基材の
ライン速度10 M/分 で浸漬含浸させた。
比較例3
減圧脱泡処理しな−粘度(2CfC)が500 cps
の樹脂ワニスを用いた以外は実施例3と同様に処理して
ガラス布に樹脂ワニスをジェットスプレー含浸した。
の樹脂ワニスを用いた以外は実施例3と同様に処理して
ガラス布に樹脂ワニスをジェットスプレー含浸した。
実施例1乃至4と比較例1乃至3の含浸物を乾燥機で乾
燥して得た樹脂含浸基材の残存内蔵気泡数及びU樹脂含
浸基材を用すで積層板を3oKq/dで積層成形した時
の成形性及び得られた積層板のドリル加工性は第2表の
ようである。
燥して得た樹脂含浸基材の残存内蔵気泡数及びU樹脂含
浸基材を用すで積層板を3oKq/dで積層成形した時
の成形性及び得られた積層板のドリル加工性は第2表の
ようである。
本発明は上述した如く構成されている。特許請求の範囲
第1項に記載した構成を有する基材へのワニス含浸方法
においては樹脂含浸基材残存内蔵空気を激減させ、成形
性、ドリル加工性に優れた積層板、プリント配線板を得
ることができる効果を有してbる。
第1項に記載した構成を有する基材へのワニス含浸方法
においては樹脂含浸基材残存内蔵空気を激減させ、成形
性、ドリル加工性に優れた積層板、プリント配線板を得
ることができる効果を有してbる。
Claims (1)
- (1) 長尺帯状基材に減圧脱泡処理した樹脂ワニスを
ジエットスプレー含浸させることを特徴とする基材への
ワニス含浸方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63196682A JPH0245130A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63196682A JPH0245130A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0245130A true JPH0245130A (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=16361843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63196682A Pending JPH0245130A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0245130A (ja) |
-
1988
- 1988-08-05 JP JP63196682A patent/JPH0245130A/ja active Pending
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