JPH0248078A - スピンコート方法 - Google Patents

スピンコート方法

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JPH0248078A
JPH0248078A JP63196133A JP19613388A JPH0248078A JP H0248078 A JPH0248078 A JP H0248078A JP 63196133 A JP63196133 A JP 63196133A JP 19613388 A JP19613388 A JP 19613388A JP H0248078 A JPH0248078 A JP H0248078A
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JP
Japan
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wafer
speed
substrate
resin
rotated
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JP63196133A
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Katsumi Yamamoto
山本 克巳
Satoru Kamiyama
上山 悟
Yoshitaka Fuse
布施 義高
Katsuaki Shimizu
克昭 清水
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はスピンコート方法に関する。
[従来の技術] 一般に、カラー固体撮像装置を製造する場合には、複数
の固体撮像素子を設けた半導体ウェハの表面に絶縁層お
よびカラーフィルタを形成するとともに、これら絶縁層
およびカラーフィルタにおける各固体撮像素子の間に対
応する部分に格子形の区切り溝を形成し、その後カッテ
ィングマシンによりウェハ全体を区切り溝に沿ってダイ
シングして各固体撮像装置に分割するようにしている。
そして、このようにしてカラー固体撮像装置を製造する
場合において、カラーフィルタを形成するためには、ス
ピンコート方法により感光性樹脂をウェハの全面に塗布
し、塗布した感光性樹脂層にパターニングを施して各固
体撮像素子に対向して赤、緑および青の各フィルタ層を
形成する方法が広く採用されている。このスピンコート
方法は、第3図および第4図で示すようにウェハ1(基
板)を回転盤5に載せて回転させながらウェハ1に形成
した絶縁層2の表面の中心に感光性樹脂3(塗布剤)を
投下し、回転に伴う遠心力により投下した感光性樹脂3
をウェハ1の全面に拡散して塗布する方法であり、感光
性樹脂3をウェハ1の全面にわたり容易に塗布すること
できる利点があり、カラーフィルタなどを形成する方法
として適している。
[発明が解決しようとする課題] しかして、上記のスピンコート方法は、ウェハを回転さ
せて塗布剤を塗布する方法であるから、ウェハの回転状
態が感光性樹脂の塗布精度に影響する。このため、スピ
ンコート方法を実施する場合には、ウェハの回転を適切
に制御して感光性樹脂をを精度良く塗布して、精度の高
いカラーフィルタを形成することが要求される。
しかしながら、従来のスピンコート方法では上記の要求
に応えることができない次のような問題が発生している
すなわち、ウニへの回転が低速であると、ウニ/11上
に投下した感光性樹脂3がその流動性の働きで区切り溝
4に溜り、絶縁層2にのる液量が少なくレベリング効果
によりウエノX1の放射方向に均一になる。しかし、ウ
ェハ1の周方向に均一に拡散せず、塗布した感光性樹脂
3にウェハ1の中心から外周部に向けて第3図で示すよ
うに拡がる放射状のすしが発生して塗布厚さが不均一に
なる。
また、ウェハが高速で回転する場合には、感光性樹脂3
が絶縁層2の区切り溝4の感光性樹脂3がウェハ1の表
面まで載り、この結果各区切り溝4で区切られた絶縁層
2の周縁部における感光性樹脂3の塗布厚さが厚くもし
くは薄くなっていわゆるコーナむらが生じ、やはり塗布
厚さが不均一になるという問題がある。
本発明は前記事情に基づいてなされたもので、基板の回
転を適切に制御して塗布剤を基板上に均一に塗布できる
スピンコート方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段と作用] 本発明の発明者はスピンコート方法における基板の回転
について種々研究を重ねてきた。そこで、発明者は異な
った回転速度を組合わせて回転させることに着目し、始
め基板をある特定の回転速度以下の回転速度(低速)で
回転させ、その後ある特定の回転速度以上の回転速度(
高速)で回転させると、塗布剤を基板上に均一に塗布で
欽ることを見出した。
すなわち、前記目的を達成するために本発明のスピンコ
ート方法は、回転する基板の中心に塗布剤を投下し、回
転に伴う遠心力を利用して塗布剤を基板の表面に塗布す
る方法において、始めに基板を1000回転/回転玉の
回転速度で回転し、次いで基板を2000回転/回転止
の回転速度で回転させることを特徴とするものである。
このような回転速度の組合せで基板を回転すると、基板
に塗布した塗布剤層に放射状のすしが発生ぜず、またコ
ーナむらが発生せず、塗布剤の塗布厚さを均一にするこ
とができる。
[実施例コ 以下、本発明の実施例を図面について説明する。
本発明を固体撮像装置に設けるカラーフィルタを形成す
る場合に適用した実施例を第1図および第2図を参照し
て説明する。第1図および第2図において第3図および
第4図と同じ部分は同じ符号を付している。
絶縁層2を形成したウェハ1を回転盤5に載せ、図示し
ない回転装置により回転盤5を回転してウェハ1を回転
させる。そして、ウェハ1の絶縁層2の表面中心に感光
性樹脂3を投下し、回転盤5の回転に伴う遠心力により
感光性樹脂3を絶縁層2の表面全体に拡散して塗布させ
る。
先ず、ウェハ1は1000回転/回転玉、好ましくは3
00回転/分ないし700回転/分の範囲の回転速度(
低速)で回転させる。この速度でウェハ1を回転前もし
くは回転中4感光性樹脂3効果によって塗布面は平滑に
なる。特に30秒〜120秒の範囲の回転速度でウエノ
\1を回転した時に顕著な効果を得ることができる。な
お、この工程ではウェハ1に塗布した感光性樹脂3には
、ウェハ1の中心から外周部に向けて拡がる放射状のす
じが発生する。
次いで、ウェハ1は2000回転/回転止、好ましくは
5000回転/分ないし6000回転/分の範囲の回転
速度(高速)で回転させる。また、ウェハをこの速度で
回転している間も、感光性樹脂3は低速回転の時の半分
程度であるが吐出させる。このようにして2000回転
/回転止の回転速度でウェハ1を回転させると、ウェハ
1に塗布した感光性樹脂3に生じた放射状のすしを取除
くことができる。これは回転が高速であるためにコーナ
むらが生じにくいという理由によるものと考えられる。
特に30〆秒〜120秒の範囲の回転速度でウェハ1を
回転した時に顕著な効果を得ることができる。
るコーナむらの発生および放射状のすしの発生を防止し
てウェハ1の絶縁層2の表面全体にわたり均一な厚さで
塗布することができる。
このようにして感光性樹脂3を塗布することにより精度
の高いカラーフィルタを得ることができる。
なお、本発明は固体撮像装置のカラーフィルタの製造に
限定されることなく、スピンコート方法により基板に塗
布剤を塗布する場合に広く適用できる。
[発明の効果コ 以上説明したように本発明のスピンコート方法によれば
、基板の回転を制御することにより、基板に塗布剤を均
一な厚さで塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明のスピンlコート方法の一
実施例を示し、第1図は基板回転状態を示す斜視図、第
2図は基板の一部を拡大して示す断面図、第3図および
第4図はスピンlコート方法の従来例を示す説明図であ
る。 1・・・ウェハ、2・・・絶縁層、3・・・感光性樹脂
、4・・・区切り溝、5・・・回転盤。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 回転する基板の中心に塗布剤を投下し、回転に伴う遠心
    力を利用して塗布剤を基板の表面に塗布する方法におい
    て、始めに基板を1000回転/分以下の回転速度で回
    転し、次いで基板を 2000回転/分以上の回転速度で回転することを特徴
    とするスピンコート方法。
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US5455439A (en) * 1992-01-16 1995-10-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device which moderates electric field concentration caused by a conductive film formed on a surface thereof
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