JPH0249237A - 光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は書き換えが可能な光磁気ディスクに関し、特に
特性劣化の防止に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、書き換え可能な光ディスクとして、磁気光学効果
を利用した光磁気ディスクが精力的に研究開発され、一
部では実用化されるに至っている。

この光磁気ディスクは大容量高密度記録、非接触記録再
生、アクセスの容易さ等の利点に加え、重ね書き（オー
バーライド）が可能という点で文書情報ファイル、ビデ
オ・静止画ファイル、コンピュータ用メモリ等への利用
が期待されている。

一般に、光磁気ディスクの記録膜には希土類遷移金属膜
が使用されているため、耐候性に劣っている。そこで、
従来は、光磁気記録膜を誘電体膜からなる保護層で挾ん
だ構造とすることにより信頼性の向上を図っていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、前記従来技術では、時間が経過するにつ
れて誘電体膜自身よりあるいは誘電体の設けられていな
いデイ、スフ基板側面より水分が浸透して記録膜が膨張
あるいは酸化劣化し、諸特性に悪影響が及ぶという問題
があった。すなわち、誘電体膜のみでは、光磁気記録膜
の保護機能が十分ではなく、長期信頼性に難があり、信
号レベルの低下や磁気カー効果の減少を招くおそれがあ
った。

この問題に対し、特開昭６３−６９０４６号公報には、
貼合せ構造の光磁気ディスクの外界と接している部位全
面を蒸着法により形成された膜厚５０００八程度のＳｉ
ｎ、膜で被覆する技術が開示されている。

ところが、この技術ではＳｉＯ被覆の形成に蒸着法を用
いているため、実際には、光磁気ディスクの側面を他の
面と同様均一に被覆することは困難であり、不均一な被
覆が形成されるとその部位から水分が侵入して特性劣化
を引起こす原因となる。

本発明は以上述べた従来技術の問題点を解決し、特性劣
化がなく、長期信頼性に優れた光磁気ディスクを提供す
ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明によれば、ディスク状
Ｑ透光性樹脂基板上に、第１の保護膜、光磁気記録膜及
び第２の保護膜を順に積層してなる光磁気ディスクにお
いて、当該光磁気ディスクの全面に、浸漬法又はスプレ
ー法により形成された珪酸塩被膜が設けられていること
を特徴とする光磁気ディスクが提供される。

〔作　　用〕

本発明によれば、浸漬法又はスプレー法により珪酸塩被
膜が形成されているので、該被膜は厚みが均一なものと
なり、光磁気ディスク全面に設けられたこの均一な厚み
の被覆は外部からの水分の侵入を完全に防止するように
働き、長期信頼性を向上させる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例により詳細に説明する。

第１図は本実施例の光磁気ディスクの構成を示す断面図
である。図中１は光磁気ディスクを示し、該光磁気ディ
スク１はランド記録方式を採用した片面タイプの光磁気
ディスク本体２の全面に珪酸塩（以下水ガラスという）
被覆３を設けて構成される。

光磁気ディスク本体２の層構成は、第２図に示すように
、基板１１上に、下側保護８１２、光磁気記録層１３及
び上側保護層１４を順に積層した構造となっている。基
板１１はポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
等の透光性樹脂からなり、所定ピッチでらせん状の案内
溝１５が形成されている。下側保護Ｎ１２は保護膜と同
時にカー効果エンハンスメント膜を兼ねるもので、Ｓ、
ＬＮ、　ＡρＮ等の誘電体膜からなる。光磁気記録層１
３はＴｂＦｅＣｇ等の非晶質磁性合金膜からなる。上側
保護層１４は下側保護層重２と同様にＳｉＮ、　ＡＱＮ
等の誘電体膜からなり、その材質は下側保護層１２と同
じでもよく、異っていてもよい。

本実施例の水ガラス被覆３は浸漬法により好適に得られ
る。そしてその厚みはカリウム酸化物（Ｋ２Ｏ）、シリ
カ（Ｓｉｎ２）及び水（ｌ（２０）の各組成の比率を変
えることにより調整が可能である。第３図に表−１に示
す組成の溶液により作成された水ガラス被覆の厚みと組
成との関係を例示する。水ガラス表−１ 被覆の厚みは、１．０〜１．２戸であるのが好ましい。

厚みが１．０戸未満の場合には水分の侵入防止が不充分
となり、厚みが１．２−を超えるとフレキシブルさがな
くなりもろくなる。尚、浸漬法以外の方法として、スプ
レー法を用いた場合でも光磁気ディスク本体２の全面に
均一な厚さの水ガラス被覆３が形成可能であることが確
認された。

上記では光磁気ディスク１を片面タイプのものとしたが
、本発明によれば両面タイプのものとすることも可能で
ある。第２図の層構成のものに水ガラス被覆を施した完
成品を一組、光磁気記録膜側かそれぞれ内側となるよう
に対向させて、接着剤層により接合した構成となる。こ
のような構成にすると、接着剤層により、水分の侵入が
一段と防止されるという利、魚がある。

次に、本実施例による光磁気ディスクの作製例について
説明する。

深さ７００人、　＠０．６１ｓ、ピッチ１．６趣のらせ
ん状案内溝が形成されたポリカーボネート基板（厚さ１
　、２ｒｎｒｎ、直径９０ｍｍ上にマグネトロンスパッ
タ装置を用いて下側保護層としてＳｉＮ膜を７００人の
膜厚に形成した０次に、その上に同装置を用いて光磁気
記録層としてＴｂＦｅＣｏ膜を７００人の膜厚に、さら
にその上に同装置を用いて上側保護層としてＳｉＮ膜を
１０００人の膜厚に形成し、光磁気ディスク本体を作製
した。

次に、表−１のＢの組成の溶液を用い、上記で作製した
光磁気ディスク本体を該溶液に浸漬した後、引き上げて
７０℃で３０分間恒温乾燥させ、その後Ｉ　Ｘ　１０−
３−５　Ｘ　１Ｏ−５Ｔｏｒｒの真空中で１０分間真空
乾燥を行い、厚さ１．５μｍの水ガラス被覆を形成して
本実施例による光磁気ディスクを得た。

次に、水ガラス被膜を形成しないこと以外は同様にして
光磁気ディスクを得て比較例とした。

以上のようにして作製された実施例及び比較例の光磁気
ディスクについて加速テストを行い、ジッタ量、カー回
転角の評価を行った。測定環境は温度５０℃、湿度８０
％ＲＨとした。その測定結果をそれぞれ第４図及び第５
図に示す。

第４図及び第５図から明らかなように、比較例（従来技
術）の光磁気ディスクは加速時間１５００時間を過ぎる
とジッタ量が減少するとともにカー回転角が減少するが
、本実施例の光磁気ディスクは加速時間３０００時間を
過ぎてもジッタ量及びカー回転角は劣化しなかった。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば、光磁気デ
ィスクの全面を浸漬法又はスプレー法で形成した水ガラ
ス被覆で覆うようにしたので、水分の侵入が防止され、
特性劣化のない長期信頼性に優れた高品質の光磁気ディ
スクが提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る光磁気ディスクの構成を示す断面
図、第２図は片面タイプの光磁気ディスク本体の層構成
を示す、断面図、第３図は水ガラスの組成と形成さ九た
被覆の厚みとの関係を示すグラフ、第４図は加速テスト
における加速時間とジッタ量の関係を示すグラフ、第５
図は加速テストにおける加速時間とカー回転角の関係を
示すグラフである。 １・・・光磁気ディスク、２・・・光磁気ディスク本体
、３・・・珪酸塩（水ガラス）被覆、１１・・・基板、
１２・・・上側保護層、】３・・・光磁気記録層、１４
・・・上側保護層、１５・・・案内溝 特許出願人　株式会社　リ　　コ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ディスク状の透光性樹脂基板上に、第１の保護膜
   、光磁気記録膜及び第２の保護膜を順に積層してなる光
   磁気ディスクにおいて、当該光磁気ディスクの全面に、
   浸漬法又はスプレー法により形成された珪酸塩被膜が設
   けられていることを特徴とする光磁気ディスク。