JPH0251461B2 - - Google Patents
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- JPH0251461B2 JPH0251461B2 JP58123166A JP12316683A JPH0251461B2 JP H0251461 B2 JPH0251461 B2 JP H0251461B2 JP 58123166 A JP58123166 A JP 58123166A JP 12316683 A JP12316683 A JP 12316683A JP H0251461 B2 JPH0251461 B2 JP H0251461B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- parts
- weight
- general formula
- alkyl group
- Prior art date
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、耐熱性および耐候性に優れた性能を
有するポリエーテルエステルアミド樹脂組成物に
関する。 ポリマー主鎖中にポリアミド繰返し単位、ポリ
エーテル繰返し単位およびエステル結合を有する
ポリエーテルエステルアミドは公知であり、ポリ
エーテルエステルあるいはポリエステルアミド同
様、すぐれた耐衝撃性やゴム弾性を有するためエ
ラストマー分野における新しい素材として近年注
目されている。 とりわけ、ポリエーテルエステルアミドは軽量
性、透明性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時
にバリ、ヒケ等が生じにくいため各種成型用途に
有望である。しかしポリエーテルエステルアミド
はきわめて酸化劣化を受けやすく、重合度の低下
に伴つて機械的性質の低下、表面の亀裂発生、着
色などの好ましくない現象を起こす。特にこの酸
化劣化は熱や光などによつて促進され、屋外曝露
や高温雰囲気下ではその使用は制限を受けてい
る。従つてこれらの劣化現象を防止する目的でポ
リエーテルエステルアミドに種々の安定剤を添加
することが検討されている。しかるにポリエーテ
ルエステルアミドの安定化に関しては知見も少な
く、効果的に満足できるものではなかつた。本発
明者らはこれらの点に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、ポリエーテルエステルアミドに対し安定剤と
して特定の化合物群を添加することによつて、従
来得ることのできなかつた耐熱性および耐候性と
もに極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹
脂組成物が得られることを見出し本発明に到達し
た。 すなわち本発明は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対し、下記一般式(B)、(C)、(D)あ
るいは(E)で示される芳香族アミン系化合物を0.05
〜５重量部および下記一般式(F)あるいは(G)で示さ
れる紫外線吸収剤を0.05〜５重量部の各割合添加
してなるポリエーテルエステルアミド組成物に関
するものである。 （ただしR1、R1′は水素原子、炭素数１〜18の炭
化水素基あるいは−Ｏ−結合を有する炭素数１〜
18の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同一
であつても異なつていてもよい。R2は炭素数１
〜12のアルキル基を示す。） （ただしR3は炭素数１〜18のアルキル基を示し、
R4は水素原子あるいはR3と同様のアルキル基で
あり、R3と同一であつてもよい。Ｘはハロゲン
原子であり、ｌは０あるいは１である。） 前記ポリエーテルエステルアミド組成物にさら
に下記一般式(H)で示されるヒンダードアミン系光
安定剤を前記同様の割合をもつて添加したものは
なお一層卓抜した耐熱性よび耐候性を有するポリ
エーテルエステルアミド組成物となる。 （ただしR5は水素原子あるいは炭素数１〜12の
アルキル基、R6は炭素数１〜６の直鎖あるいは
枝分れ鎖アルキル基であり、R6′はR6と同様のア
ルキル基であつてそれぞれ同一であつても異なつ
ていてもよい。Ｙは−Ｏ−あるいは Ｈ −Ｎ− であり、R7は水酸基で置換されていても よい炭素数１〜23の炭化水素基あるいは−Ｓ−、
有するポリエーテルエステルアミド樹脂組成物に
関する。 ポリマー主鎖中にポリアミド繰返し単位、ポリ
エーテル繰返し単位およびエステル結合を有する
ポリエーテルエステルアミドは公知であり、ポリ
エーテルエステルあるいはポリエステルアミド同
様、すぐれた耐衝撃性やゴム弾性を有するためエ
ラストマー分野における新しい素材として近年注
目されている。 とりわけ、ポリエーテルエステルアミドは軽量
性、透明性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時
にバリ、ヒケ等が生じにくいため各種成型用途に
有望である。しかしポリエーテルエステルアミド
はきわめて酸化劣化を受けやすく、重合度の低下
に伴つて機械的性質の低下、表面の亀裂発生、着
色などの好ましくない現象を起こす。特にこの酸
化劣化は熱や光などによつて促進され、屋外曝露
や高温雰囲気下ではその使用は制限を受けてい
る。従つてこれらの劣化現象を防止する目的でポ
リエーテルエステルアミドに種々の安定剤を添加
することが検討されている。しかるにポリエーテ
ルエステルアミドの安定化に関しては知見も少な
く、効果的に満足できるものではなかつた。本発
明者らはこれらの点に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、ポリエーテルエステルアミドに対し安定剤と
して特定の化合物群を添加することによつて、従
来得ることのできなかつた耐熱性および耐候性と
もに極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹
脂組成物が得られることを見出し本発明に到達し
た。 すなわち本発明は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対し、下記一般式(B)、(C)、(D)あ
るいは(E)で示される芳香族アミン系化合物を0.05
〜５重量部および下記一般式(F)あるいは(G)で示さ
れる紫外線吸収剤を0.05〜５重量部の各割合添加
してなるポリエーテルエステルアミド組成物に関
するものである。 （ただしR1、R1′は水素原子、炭素数１〜18の炭
化水素基あるいは−Ｏ−結合を有する炭素数１〜
18の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同一
であつても異なつていてもよい。R2は炭素数１
〜12のアルキル基を示す。） （ただしR3は炭素数１〜18のアルキル基を示し、
R4は水素原子あるいはR3と同様のアルキル基で
あり、R3と同一であつてもよい。Ｘはハロゲン
原子であり、ｌは０あるいは１である。） 前記ポリエーテルエステルアミド組成物にさら
に下記一般式(H)で示されるヒンダードアミン系光
安定剤を前記同様の割合をもつて添加したものは
なお一層卓抜した耐熱性よび耐候性を有するポリ
エーテルエステルアミド組成物となる。 （ただしR5は水素原子あるいは炭素数１〜12の
アルキル基、R6は炭素数１〜６の直鎖あるいは
枝分れ鎖アルキル基であり、R6′はR6と同様のア
ルキル基であつてそれぞれ同一であつても異なつ
ていてもよい。Ｙは−Ｏ−あるいは Ｈ −Ｎ− であり、R7は水酸基で置換されていても よい炭素数１〜23の炭化水素基あるいは−Ｓ−、
【式】のいずれかを有する炭素数１
〜18の炭化水素基を示す。ｍは１〜４の整数であ
る。） 以下具体的に本発明の組成物について述べる。 本発明におけるポリエーテルエステルアミド(A)
とは、ポリアミド単位とポリエーテルエステル単
位とから構成され、分子鎖中にアミド結合、エー
テル結合、およびエステル結合を有する重合体で
ある。 ポリアミド単位はアミノカルボン酸、ラクタ
ム、ジカルボン酸とジアミンとの塩、あるいはジ
カルボン酸とジイソシアネートの組合わせなどか
ら誘導される。 ポリエーテルエステル単位は数平均分子量300
〜6000のポリ（アルキレンオキシド）グリコール
および炭素数４〜20のジカルボン酸から導かれ
る。ポリアミド単位とポリエーテルエステル単位
の共重合比率は重量比で大よそ５対90から95対10
である。 ポリエーテルエステルアミド(A)の重合方法は特
に限定されず公知の方法を利用することができ
る。たとえば、アミノカルボン酸、ラクタムまた
はジカルボン酸−ジアミンの塩(a)とジカルボン酸
(c)を約等モル比で反応させて両末端がカルボン酸
基のポリアミドプレポリマーをつくり、これにポ
リ（アルキレンオキシド）グリコール(b)を真空下
に反応させる方法、あるいは上記(a)、(b)、(c)の化
合物を反応槽に仕込み、水の存在下または非存在
下に高温で加圧反応させることによりカルボン酸
末端のポリアミドプレポリマーを生成させ、その
後、常圧または減圧下で重合を進める方法が知ら
れている。また、上記(a)、(b)、(c)の化合物を同時
に反応槽に仕込み溶融混合したのち高真空下で一
挙に重合をすすめる方法もあり、むしろこの方法
がポリマーの着色も少なく好ましい。 またポリ（アルキレンオキシド）グリコールに
約２倍モルのジカルボン酸を反応させて両末端が
カルボン酸基のプレポリマーをつくり、これとジ
カルボン酸およびジイソシアネートを不活性溶媒
中で反応させる溶液重合法によつてもよい。 本発明の組成物を構成する他の一成分である芳
香族アミン系化合物は前記一般式(B)、(C)、(D)ある
いは(E)で示される。 一般式(B)で示される化合物の例としてはフエニ
ル−α−ナフチルアミン、フエニル−β−ナフチ
ルアミンなどが挙げられる。 一般式(C)で示される化合物の例としてはＮ，
N′−ジフエニル−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ，
N′−ジ−β−ナフチル−ｐ−フエニレンジアミ
ン、Ｎ，N′−ビス（（１−メチルブチル）−ｐ−
フエニレンジアミン、Ｎ，N′−ビス（１−エチ
ル−３−メチルヘプチル）−ｐ−フエニレンジア
ミン、Ｎ，N′−ビス（１−エチル−３−メチル
ペンチル）−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ，N′−
ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フエニ
レンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−N′−フエ
ニル−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ−オクチル−
N′−フエニル−ｐ−フエニレンジアミン、ｐ−
イソプロポキシジフエニルアミン、Ｎ，N′−ジ
−イソプロピル−ｐ−フエニレンジアミン、ジオ
クチル−ｐ−フエニレンジアミンなどが挙げられ
る。中でも特にＮ，N′−ジ−β−ナフチル−ｐ
−フエニレンジアミンが好ましい。 一般式(D)で示される化合物の例としては４，
4′−ビス（４−α、α−ジメチルベンジルフエニ
ルアミン）、ｐ，p′−ジオクチルジフエニルアミ
ン、ｐ，p′−ジメトキシフエニルアミンなどが挙
げられる。中でも特に４，4′−ビス（４−α、α
−ジメチルベンジルジフエニルアミン）が好まし
い。 一般式(E)で示される化合物の例としてはＮ，
N′−ジフエニルエチレンジアミン、Ｎ，N′−ジ
フエニルヘキサメチレンジアミン、ジ−ｐ−トル
イルエチレンジアミン、ジ−ｐ−トルイルヘキサ
メチレンジアミンなどが挙げられる。中でもＮ，
Ｎ−ジフエニルエチレンジアミンが好ましい。こ
れらの芳香族アミン系化合物の中でも特に４，
4′−ビス（４−α，α−ジメチルベンジルジフエ
ニルアミン）の使用が好適である。 また、本発明の組成物を構成する他の一成分で
ある紫外線吸収剤は前記一般式(F)あるいは(G)で示
される。 一般式(F)で示される化合物の例としては２
（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−第３ブチル−フエ
ニル）ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロキシ
−3′−第３ブチル−5′−メチル−フエニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロ
キシ−3′、5′−ジ−第３ブチル−フエニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−第３ブチル−フエニル）ベン
ゾトリアゾール、２（2′−ヒドロキシ−5′−メチ
ル−フエニル）ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒ
ドロキシ−5′−テトラメチルブチル−フエニル）
ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。中でも２
（2′−ヒドロキシ−3′−第３ブチル−5′−メチル−
フエニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾールが
好ましい。 一般式(G)で示される化合物の例としては２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフエノン、２，
４−ジ−ヒドロキシ−ベンゾフエノン、２−ヒド
ロキシ−４−ベンジルオキシ−ベンゾフエノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−4′−クロロ−ベ
ンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオ
キシ−ベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ
−オクトキシ−ベンゾフエノンなどが挙げられ
る。中でも２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
−ベンゾフエノンが好ましい。 これらの紫外線吸収剤の中でも特に２（2′−ヒ
ドロキシ−3′−第３ブチル−5′−メチル−フエニ
ル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾールの使用が
好適である。 さらに本発明の組成物を構成する他の一成分で
あるヒンダードアミン系光安定剤は前記一般式(H)
で示される。 一般式(H)で示される化合物の例としては、４−
ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）アジペート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）スベレート、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）セバケート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）フタレート、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）イソフタレート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル）テレフタレート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバ
ケート、Ｎ，N′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）アジパミド、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジニルジベンジル）マロネート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニ
ル）ジエチルマロネート、ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジベンジル
マロネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）ベンジルエチルマロネー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ブタンテトラカルボン酸のテトラ（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）エステル
などが挙げられるがなかでも特にビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバ
ケートおよびブタンテトラカルボン酸のテトラ
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）エステルを好ましい化合物として挙げるこ
とができる。 これら各安定剤は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対して、それぞれ0.05〜５重量
部、好ましくは0.1〜２重量部の割合で使用され
る。各安定剤の添加量がこれより少ない場合には
効果が十分発現されず、これより多い場合には組
成物の物性に悪い影響を与え、またブルーミング
などの好ましくない現象も呈するようになる。 なお、本発明のポリエーテルエステルアミド(A)
を熱酸化劣化および光酸化劣化の両方において安
定な組成物とするためには、ポリエーテルエステ
ルアミド(A)に対し前記一般式(B)、(C)、(D)あるいは
(E)で示される芳香族アミン系化合物および前記一
般式(F)あるいは(G)で示される紫外線吸収剤の両者
を添加する必要があり、これらのうちのどちらか
が欠けた場合には、本発明の組成物と比較して耐
熱性または耐候性があるいはそのどちらもが大き
く劣つた組成物しか得ることができない。 またこれらの各安定剤をポリエーテルエステル
アミドに添加する方法は特に制限がなく、ポリエ
ーテルエステルアミドの重合中、または重合後の
任意の時期に加えることができるが、特に好まし
い態様は重合後（成形前）に溶融混合する方法で
ある。 なお本発明の組成物の調整に際しては目的とす
る耐熱および耐候安定性を阻害しない限りにおい
て、他の一般的な添加剤、たとえば耐加水分解改
良剤、着色剤（顔料、染料）、帯電防止剤、導電
剤、結晶核剤、滑剤、充填剤、補強材、接着助
剤、可塑剤、離型剤、難燃剤などの添加剤を任意
に配合することができる。 以下実施例によつて本発明を説明する。 なお実施例中「部」または「％」で表示したも
のは、すべて重量比率で表わしたものである。ま
た本文中および例中に示す相対粘度はオルトクロ
ロフエノール中25℃、0.5％濃度の条件で測定し
た値であり、融点も特に断わらない限りDSC
（Perkin Elmer DSC−1B）で測定される融解ピ
ーク温度である。 参考例 ポリマー（Ａ−１）の重合 アミノドデカン酸65.5部、数平均分子量が680
のポリテトラメチレンオキシドグリコール33.6部
およびテレフタル酸8.2部を“イルガノツクス”
1098（酸化防止剤）0.20部およびテトラブチルチ
タネート触媒0.05部と共にヘリカルリボン撹拌翼
を備えた反応容器に仕込み、N2パージして240℃
で40分間加熱撹拌してほぼ透明な均質溶液とした
後、昇温および減圧プログラムに従つて270℃、
0.5mmHg以下の重合条件にもたらした。この条件
にて３時間50分間重合反応せしめた。 得られたポリエーテルエステルアミド（Ａ−
１）の融点は166℃、相対粘度は1.65であつた。 ポリマー（Ａ−２）の重合 アミノドデカン酸43.6部、数平均分子量が1000
のポリテトラメチレンオキシドグリコール53.1部
およびテレフタル酸8.8部を出発原料として実施
例１と同様の方法によつて４時間30分間重合反応
せしめてポリマー（Ａ−２）を得た。得られたポ
リエーテルエステルアミド（Ａ−２）の融点は
142℃、相対粘度は1.79であつた。 安定剤 実施例において使用した安定剤の構造式とその
略号は次のとおりである。
る。） 以下具体的に本発明の組成物について述べる。 本発明におけるポリエーテルエステルアミド(A)
とは、ポリアミド単位とポリエーテルエステル単
位とから構成され、分子鎖中にアミド結合、エー
テル結合、およびエステル結合を有する重合体で
ある。 ポリアミド単位はアミノカルボン酸、ラクタ
ム、ジカルボン酸とジアミンとの塩、あるいはジ
カルボン酸とジイソシアネートの組合わせなどか
ら誘導される。 ポリエーテルエステル単位は数平均分子量300
〜6000のポリ（アルキレンオキシド）グリコール
および炭素数４〜20のジカルボン酸から導かれ
る。ポリアミド単位とポリエーテルエステル単位
の共重合比率は重量比で大よそ５対90から95対10
である。 ポリエーテルエステルアミド(A)の重合方法は特
に限定されず公知の方法を利用することができ
る。たとえば、アミノカルボン酸、ラクタムまた
はジカルボン酸−ジアミンの塩(a)とジカルボン酸
(c)を約等モル比で反応させて両末端がカルボン酸
基のポリアミドプレポリマーをつくり、これにポ
リ（アルキレンオキシド）グリコール(b)を真空下
に反応させる方法、あるいは上記(a)、(b)、(c)の化
合物を反応槽に仕込み、水の存在下または非存在
下に高温で加圧反応させることによりカルボン酸
末端のポリアミドプレポリマーを生成させ、その
後、常圧または減圧下で重合を進める方法が知ら
れている。また、上記(a)、(b)、(c)の化合物を同時
に反応槽に仕込み溶融混合したのち高真空下で一
挙に重合をすすめる方法もあり、むしろこの方法
がポリマーの着色も少なく好ましい。 またポリ（アルキレンオキシド）グリコールに
約２倍モルのジカルボン酸を反応させて両末端が
カルボン酸基のプレポリマーをつくり、これとジ
カルボン酸およびジイソシアネートを不活性溶媒
中で反応させる溶液重合法によつてもよい。 本発明の組成物を構成する他の一成分である芳
香族アミン系化合物は前記一般式(B)、(C)、(D)ある
いは(E)で示される。 一般式(B)で示される化合物の例としてはフエニ
ル−α−ナフチルアミン、フエニル−β−ナフチ
ルアミンなどが挙げられる。 一般式(C)で示される化合物の例としてはＮ，
N′−ジフエニル−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ，
N′−ジ−β−ナフチル−ｐ−フエニレンジアミ
ン、Ｎ，N′−ビス（（１−メチルブチル）−ｐ−
フエニレンジアミン、Ｎ，N′−ビス（１−エチ
ル−３−メチルヘプチル）−ｐ−フエニレンジア
ミン、Ｎ，N′−ビス（１−エチル−３−メチル
ペンチル）−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ，N′−
ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フエニ
レンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−N′−フエ
ニル−ｐ−フエニレンジアミン、Ｎ−オクチル−
N′−フエニル−ｐ−フエニレンジアミン、ｐ−
イソプロポキシジフエニルアミン、Ｎ，N′−ジ
−イソプロピル−ｐ−フエニレンジアミン、ジオ
クチル−ｐ−フエニレンジアミンなどが挙げられ
る。中でも特にＮ，N′−ジ−β−ナフチル−ｐ
−フエニレンジアミンが好ましい。 一般式(D)で示される化合物の例としては４，
4′−ビス（４−α、α−ジメチルベンジルフエニ
ルアミン）、ｐ，p′−ジオクチルジフエニルアミ
ン、ｐ，p′−ジメトキシフエニルアミンなどが挙
げられる。中でも特に４，4′−ビス（４−α、α
−ジメチルベンジルジフエニルアミン）が好まし
い。 一般式(E)で示される化合物の例としてはＮ，
N′−ジフエニルエチレンジアミン、Ｎ，N′−ジ
フエニルヘキサメチレンジアミン、ジ−ｐ−トル
イルエチレンジアミン、ジ−ｐ−トルイルヘキサ
メチレンジアミンなどが挙げられる。中でもＮ，
Ｎ−ジフエニルエチレンジアミンが好ましい。こ
れらの芳香族アミン系化合物の中でも特に４，
4′−ビス（４−α，α−ジメチルベンジルジフエ
ニルアミン）の使用が好適である。 また、本発明の組成物を構成する他の一成分で
ある紫外線吸収剤は前記一般式(F)あるいは(G)で示
される。 一般式(F)で示される化合物の例としては２
（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−第３ブチル−フエ
ニル）ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロキシ
−3′−第３ブチル−5′−メチル−フエニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロ
キシ−3′、5′−ジ−第３ブチル−フエニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−第３ブチル−フエニル）ベン
ゾトリアゾール、２（2′−ヒドロキシ−5′−メチ
ル−フエニル）ベンゾトリアゾール、２（2′−ヒ
ドロキシ−5′−テトラメチルブチル−フエニル）
ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。中でも２
（2′−ヒドロキシ−3′−第３ブチル−5′−メチル−
フエニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾールが
好ましい。 一般式(G)で示される化合物の例としては２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフエノン、２，
４−ジ−ヒドロキシ−ベンゾフエノン、２−ヒド
ロキシ−４−ベンジルオキシ−ベンゾフエノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−4′−クロロ−ベ
ンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオ
キシ−ベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ
−オクトキシ−ベンゾフエノンなどが挙げられ
る。中でも２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
−ベンゾフエノンが好ましい。 これらの紫外線吸収剤の中でも特に２（2′−ヒ
ドロキシ−3′−第３ブチル−5′−メチル−フエニ
ル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾールの使用が
好適である。 さらに本発明の組成物を構成する他の一成分で
あるヒンダードアミン系光安定剤は前記一般式(H)
で示される。 一般式(H)で示される化合物の例としては、４−
ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）アジペート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）スベレート、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）セバケート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）フタレート、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）イソフタレート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル）テレフタレート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバ
ケート、Ｎ，N′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）アジパミド、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジニルジベンジル）マロネート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニ
ル）ジエチルマロネート、ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジベンジル
マロネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）ベンジルエチルマロネー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ブタンテトラカルボン酸のテトラ（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）エステル
などが挙げられるがなかでも特にビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバ
ケートおよびブタンテトラカルボン酸のテトラ
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）エステルを好ましい化合物として挙げるこ
とができる。 これら各安定剤は、ポリエーテルエステルアミ
ド(A)100重量部に対して、それぞれ0.05〜５重量
部、好ましくは0.1〜２重量部の割合で使用され
る。各安定剤の添加量がこれより少ない場合には
効果が十分発現されず、これより多い場合には組
成物の物性に悪い影響を与え、またブルーミング
などの好ましくない現象も呈するようになる。 なお、本発明のポリエーテルエステルアミド(A)
を熱酸化劣化および光酸化劣化の両方において安
定な組成物とするためには、ポリエーテルエステ
ルアミド(A)に対し前記一般式(B)、(C)、(D)あるいは
(E)で示される芳香族アミン系化合物および前記一
般式(F)あるいは(G)で示される紫外線吸収剤の両者
を添加する必要があり、これらのうちのどちらか
が欠けた場合には、本発明の組成物と比較して耐
熱性または耐候性があるいはそのどちらもが大き
く劣つた組成物しか得ることができない。 またこれらの各安定剤をポリエーテルエステル
アミドに添加する方法は特に制限がなく、ポリエ
ーテルエステルアミドの重合中、または重合後の
任意の時期に加えることができるが、特に好まし
い態様は重合後（成形前）に溶融混合する方法で
ある。 なお本発明の組成物の調整に際しては目的とす
る耐熱および耐候安定性を阻害しない限りにおい
て、他の一般的な添加剤、たとえば耐加水分解改
良剤、着色剤（顔料、染料）、帯電防止剤、導電
剤、結晶核剤、滑剤、充填剤、補強材、接着助
剤、可塑剤、離型剤、難燃剤などの添加剤を任意
に配合することができる。 以下実施例によつて本発明を説明する。 なお実施例中「部」または「％」で表示したも
のは、すべて重量比率で表わしたものである。ま
た本文中および例中に示す相対粘度はオルトクロ
ロフエノール中25℃、0.5％濃度の条件で測定し
た値であり、融点も特に断わらない限りDSC
（Perkin Elmer DSC−1B）で測定される融解ピ
ーク温度である。 参考例 ポリマー（Ａ−１）の重合 アミノドデカン酸65.5部、数平均分子量が680
のポリテトラメチレンオキシドグリコール33.6部
およびテレフタル酸8.2部を“イルガノツクス”
1098（酸化防止剤）0.20部およびテトラブチルチ
タネート触媒0.05部と共にヘリカルリボン撹拌翼
を備えた反応容器に仕込み、N2パージして240℃
で40分間加熱撹拌してほぼ透明な均質溶液とした
後、昇温および減圧プログラムに従つて270℃、
0.5mmHg以下の重合条件にもたらした。この条件
にて３時間50分間重合反応せしめた。 得られたポリエーテルエステルアミド（Ａ−
１）の融点は166℃、相対粘度は1.65であつた。 ポリマー（Ａ−２）の重合 アミノドデカン酸43.6部、数平均分子量が1000
のポリテトラメチレンオキシドグリコール53.1部
およびテレフタル酸8.8部を出発原料として実施
例１と同様の方法によつて４時間30分間重合反応
せしめてポリマー（Ａ−２）を得た。得られたポ
リエーテルエステルアミド（Ａ−２）の融点は
142℃、相対粘度は1.79であつた。 安定剤 実施例において使用した安定剤の構造式とその
略号は次のとおりである。
【表】
【表】
実施例
ポリエーテルエステルアミド（Ａ−１）および
（Ａ−２）に表１に示す各安定剤を配合したのち、
（Ａ−１）の場合は200℃、（Ａ−２）の場合は180
℃に加熱された30mmφの押出機で溶融混練した後
ペレツト化した。このペレツトを真空乾燥した
後、ポリエーテルエステルアミドが（Ａ−１）の
場合は200℃、ポリエーテルエステルアミドが
（Ａ−２）の場合は180℃で加圧して厚さ0.9〜1.1
mmのプレスシートとし、JIS Ｋ−6301の３号ダン
ベル形試験片に打抜いた。耐熱性は130℃の熱風
オーブン中で試験片をエージングして調べ、破断
伸度保持率が50％となる時間を耐熱寿命とした。
耐候性は試験片をサンシヤインウエザオーメータ
ー中で光照射して調べた。サンシヤインウエザオ
ーメーターのブラツクパネル温度は63℃で、２時
間について18分間、水をスプレーした。伸度保持
率が50％となる時間と、照射表面の亀裂発生時間
の測定により耐候性を評価した。なお破断伸びの
測定はJIS Ｋ−6301に準じて行なつた。これらの
結果を表１に示す。
（Ａ−２）に表１に示す各安定剤を配合したのち、
（Ａ−１）の場合は200℃、（Ａ−２）の場合は180
℃に加熱された30mmφの押出機で溶融混練した後
ペレツト化した。このペレツトを真空乾燥した
後、ポリエーテルエステルアミドが（Ａ−１）の
場合は200℃、ポリエーテルエステルアミドが
（Ａ−２）の場合は180℃で加圧して厚さ0.9〜1.1
mmのプレスシートとし、JIS Ｋ−6301の３号ダン
ベル形試験片に打抜いた。耐熱性は130℃の熱風
オーブン中で試験片をエージングして調べ、破断
伸度保持率が50％となる時間を耐熱寿命とした。
耐候性は試験片をサンシヤインウエザオーメータ
ー中で光照射して調べた。サンシヤインウエザオ
ーメーターのブラツクパネル温度は63℃で、２時
間について18分間、水をスプレーした。伸度保持
率が50％となる時間と、照射表面の亀裂発生時間
の測定により耐候性を評価した。なお破断伸びの
測定はJIS Ｋ−6301に準じて行なつた。これらの
結果を表１に示す。
【表】
【表】
比較例
ポリエーテルエステルアミド（Ａ−１）あるい
は（Ａ−２）に、芳香族アミン化合物あるいは紫
外線吸収剤のどちらかを配合したのち前記実施例
と同様にペレタイズした。これらの組成物、ポリ
マー（Ａ−１）およびポリマー（Ａ−２）を前記
実施例と同様にして打抜き試験片とし、各試験片
について耐熱性と耐候性を評価した結果を表２に
示す。
は（Ａ−２）に、芳香族アミン化合物あるいは紫
外線吸収剤のどちらかを配合したのち前記実施例
と同様にペレタイズした。これらの組成物、ポリ
マー（Ａ−１）およびポリマー（Ａ−２）を前記
実施例と同様にして打抜き試験片とし、各試験片
について耐熱性と耐候性を評価した結果を表２に
示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ポリエーテルエステルアミド(A)100重量部に
対し下記一般式(B)、(C)、(D)あるいは(E)で示される
芳香族アミン系化合物を0.05〜５重量部および下
記一般式(F)あるいは(G)で示される紫外線吸収剤を
0.05〜５重量部の各割合、添加してなるポリエー
テルエステルアミド組成物。 （ただしR1、R1′は水素原子、炭素数１〜18の炭
化水素基あるいは−Ｏ−結合を有する炭素数１〜
18の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同一
であつても異なつていてもよい。R2は炭素数１
〜12のアルキル基を示す。） （ただしR3は炭素数１〜18のアルキル基を示し、
R4は水素原子あるいはR3と同様のアルキル基で
あり、R3と同一であつてもよい。Ｘはハロゲン
原子であり、ｌは０あるいは１である。） ２ ポリエーテルエステルアミド(A)100重量部に
対し下記一般式(B)、(C)、(D)あるいは(E)で示される
芳香族アミン系化合物を0.05〜５重量部、下記一
般式(F)あるいは(G)で示される紫外線吸収剤を0.05
〜５重量部および下記一般式(H)で示されるヒンダ
ードアミン系光安定剤を0.05〜５重量部の各割
合、添加してなるポリエーテルエステルアミド組
成物。 （ただしR1、R1′は水素原子、炭素数１〜18の炭
化水素基あるいは−Ｏ−結合を有する炭素数１〜
18の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同一
であつても異なつていてもよい。R2は炭素数１
〜12のアルキル基を示す。） （ただしR3は炭素数１〜18のアルキル基を示し、
R4は水素原子あるいはR3と同様のアルキル基で
あり、R3と同一であつてもよい。Ｘはハロゲン
原子であり、ｌは０あるいは１である。） （ただしR5は水素原子あるいは炭素数１〜12の
アルキル基、R6は炭素数１〜６の直鎖あるいは
枝分れ鎖アルキル基であり、R6′はR6と同様のア
ルキル基であつて、それぞれ同一であつても異な
つていてもよい。Ｙは−Ｏ−あるいは Ｈ −Ｎ− であり、R7は水酸基で置換されていても よい炭素数１〜23の炭化水素基あるいは−Ｓ−、
【式】のいずれかを有する炭素数１ 〜18の炭化水素基を示す。ｍは１〜４の整数であ
る。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316683A JPS6015455A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316683A JPS6015455A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6015455A JPS6015455A (ja) | 1985-01-26 |
| JPH0251461B2 true JPH0251461B2 (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=14853814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12316683A Granted JPS6015455A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015455A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3848023A (en) * | 1973-02-22 | 1974-11-12 | Monsanto Co | Antistatic composition and fiber made therefrom |
| CH587902A5 (ja) * | 1973-08-10 | 1977-05-13 | Sandoz Ag | |
| JPS5639667B2 (ja) * | 1973-09-27 | 1981-09-14 | ||
| JPS5852348A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP12316683A patent/JPS6015455A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6015455A (ja) | 1985-01-26 |
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