JPH0253216A

JPH0253216A - 磁気ヘッドの磁路形成方法

Info

Publication number: JPH0253216A
Application number: JP63204308A
Authority: JP
Inventors: Tatsutoshi Suenaga; 辰敏末永
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1988-08-17
Filing date: 1988-08-17
Publication date: 1990-02-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、ＶＴＲやディジタルオーディオ等の高密度磁
気記録再生装置に好適な磁気ヘッドの磁路形成方法に関
する。

従来の技術近年、磁気記録の動向はビデオヘッドなど高周波領域で
の特性が要求されるに従い、サブミクロンの記録波長に
も十分対応できる磁気ヘッドおよび記録媒体がπ７され
ている。

このような現状の中で磁気ヘッド材料は、保磁力ＨＣの
高い記録媒体（例えばメタルテープ）に十分な書き込み
を行うためフェライト等の非金属磁性材料と比べ、より
飽和磁束密度ＢＳの高い磁性合金（例えば非晶質材料、
センダスト）を用いた磁気ヘッドの開発が行われている
。

また、ヘッド構成も高密度化で記録トラック輻が狭くな
るにつれ磁性合金を１嗅または薄帯と（７て用いたメタ
ルテープで従来より高効率な磁気ヘッドの実用化が進め
られている。

以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッドの磁路形成
方法について説明する。

第２図は、磁性合金を主題路とする従来の磁気ヘッドの
磁路構成図である。

第２図（ａ）〜（Ｃ）において、ｌｌａ、ｌｌｂはフ工
ラ・イトｍ＋反、１２ａ、１２ｂはＣｏ系−アモルファ
ス合金、１３ａ、１３ｂはＳｉｎ□、１４は接着ガラス
、１５ａ、１５ｂはハーフブロック、１６はコアブロッ
ク、１７はギャップ部、１８は高融点ガラス、１９ａ、
１９ｂはコア半休、２０は巻線溝、２１は低融点ガラス
である。

第２図（ａ）について、フェライト基板１１ａ上に磁気
ヘッドの主磁路となるＣｏ系−アモルファス合金１２ａ
、ｉｆｆ路を絶縁するＳＩｏ、１３ａ、Ｃｏ系−アモル
ファス合金１２ｂ、保護層としてのＳ　ｉ　０２１　：
３　ｂを順次トラック幅に相当する膜厚にスパッタリン
グ法等で着膜しハーフブロック１５ａとする。

また、他方のフェライト基板１１ｂにはハーフブロック
１５ａ、１５ｂを接着するため接着ガラス１４をＤＧ法
（Ｄｉｐ　　Ｐｅｄ　　Ｇｌａｓｓ）等で形成しハーフ
ブロック１５ｂを得る。

第２図し）は、さらに、ハーフブロック１５ａ１５ｂを
保ｌｓ＋０２１３ｂと接着ガラス１４間で密着させ所定
の治具にて加圧しつつ接着ガラス１４の軟化点以上の温
度で加熱圧着しＣｏ系−アモルファス合金１２ａ、１２
ｂを主磁路としたコアプロロック１６を得る。

第２図（Ｃ）は、その後、コアブロック１６は切断、鏡
面研摩等の加工工程を経て第２図（Ｃ）に示す磁気ヘッ
ドとして完成するが磁性基板を母材とすることから、ギ
ャップ部１７近傍にトラック規制用の高融点ガラス１８
を配する構造となっている。また、両コア半休１９ａ、
１９ｂの少なくとも一方のコア半休にコイル巻線溝２０
を設け、その接合部には接着強度を高めるため低融点ガ
ラス２１を溶融させである。尚、図では省略するが両コ
ア半体１９ａ、１９ｂのギャップ部には所定のギャップ
部材（本例では、５ｉ０２を用いた）をスパッタリング
法等で着膜し磁気ヘッドのギャップスペーサ−としてい
る。

発明が解決しようとする課題従来例の主磁路構成で磁性合金を着膜する基板を主基板
接着ガラスを形成する基板を補助基板きすると、ヘッド
効率向上を目的として基板に磁性基板を用いて磁気抵抗
の軽減を図、ったとしても主基板と補助基板の接合面に
は磁性合金の保護層となるＳ　１０２と接着ガラスが絶
縁層として介在するため磁性合金を直接着膜する主基板
のみがヘッド効率に寄与するのみで補助基板の効果は期
待できない。また、両基板を接着する方法は、補助基板
にＤＧ法でガラスを形成し接着層としているが繁雑な工
程を経ることから結果として工数増加の原因となってい
る。

課題を解決するための手段本発明は、上記課題を解決するため主磁路となる磁性合
金を主基板と補助基板に分割して着膜しガラスにて接着
するものであり、その成膜方法はすべてスパッタリング
法などで着膜しようとするものである。

作用作動ギャップ部での磁気抵抗をＲｆそれ以外の部分の磁
気抵抗をＲｈとすると感度Ｓは、５−Ｋ（Ｒｆ／Ｒｆ＋
Ｒｈ）　　Ｋ；比例定数で表される。

ここで、作動ギヤツブ部以外のコア厚を大きくするとＲ
ｂの値は小さくなり、従って、感度Ｓが大きくなり記録
再生効率が向上する。

さらに、主磁路並びに接着ガラスをスパッタリング法な
どで同時に成膜するため、接着ガラスをＤＧ法で形成す
る従来法に対し大幅な工数低減が期待できる。

実施例以下、本発明の一実施例を図面にもとｒいて説明する。

実施例１第１図は本発明の磁路形成方法を示す構成図及びその構
成で得られた磁気ヘッドの斜視図である。

第１図において、１ａ、１ｂは磁性基板、２ａ。

２ｂは磁性合金、３ａ、３ｂはガラス、４ａ。

４ｂはハーフブロック、５はコアブロック、６はギャッ
プ部、７は高融点ガラス、８ａ、８ｂはコア半休、９は
１１＆Ｉ溝、ｌＯは低融点ガラスである。

第１図（萄について、磁性基板１ａ、ｌｂ（本実施例で
は、フェライト基板を用いた）を母材に磁気ヘッドにお
いて主磁路となる磁性合金２ａ、２ｂ（本実施例では、
Ｃｏ系−アモルファス合金を用いた）とガラス３ａ、３
ｂをスパッタリング法または蒸着法などで磁気ヘッドの
トラック幅に相当する膜厚で磁性基板１ａ、ｌｂ上に分
割着膜しハーフブロック４ａ、４ｂとする。

第１図（ロ）は、さらに、ハーフブロック４ａ、４ｂを
ガラス３ａ、３ｂ面で密着させ所定の治具にて加圧しつ
つガラス３ａ、３ｂの軟化点以上の温度で加熱圧着し磁
性合金を主磁路としたコアブロック５を得る。

第１図（Ｃ）は、その後、コアブロック５は切断、鏡面
研磨等の加工工程を経て第１図（Ｃ）に示す磁気ヘッド
として完成するが、磁性基板を母材とすることからギヤ
ツブ部６近傍にトランク規制用の高融点ガラス７を配す
る構造となっている。また、両コア半体８ａ、８ｂの少
な（とも一方のコア半休にコイル巻線溝９を設けその接
合部には接合強度を高めるため低融点ガラス１０を溶融
させである。

尚、図では省略するが両コア半体８ａ、８ｂの接合部に
は所定のギャップ部材（本実施令では、ｓｉｏ、を用い
た）を磁気ヘッドのギヤラプスパーサ−としている。

実施例２実施例１で用いたＣｏ系−アモルファス合金の代わりに
磁性合金２ａ、２ｂとしてＦｅＡｌ−Ｓｉを主成分とす
る合金薄膜を用いて実施例１と同様にして磁気ヘッドを
作成した、得られた結果は実施例１と同様良好なもので
あった。

実施例３実施例１で用いたＣｏ系−アモルファス合金の代わりに
磁性合金２ａ、２ｂとしてＦｅ−Ｎｉを主成分とする合
金薄膜を用いて実施例１と同様にして磁気ヘッドを作成
した、得られた結果は実施例１と同様良好なものであっ
た。

発明の効果以上のように本発明は、主磁路を磁性合金とし多層に積
層する磁気へノドにおいて、作動ギヤツブ部以外のコア
厚を大きくすることにより磁気抵抗を軽減でき、結果と
して記録再生効率の優れた磁気ヘッドを供給することが
出来る。また、成膜方法もすべてスパッタリング法など
で着膜するため大幅な工数低減が出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁路形成方法を示す構成図と斜視図
、第２図は、従来の磁路形成方法を示す構成図と斜視図
である。ｌａ、ｌｂ・・・・・・磁性基板、２ａ、２ｂ・・・・
・・磁性合金、３ａ、３ｂ・・・・・・ガラス、４ａ、
４ｂ・・・・・・ハーフコア、５・・・・・・コアブロ
ック、６・・・・・・ギャップ部、７・・・・・・高融
点、８ａ、８ｂ・・・・・・コ′７半体、９・・・・・
・巻線溝、ｌＯ・・・・・・低融点。代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　はか１名Ｃｑ派区＋３　　　心０リ　　ぐソ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）磁性合金を多層に積層して主磁路とする磁気ヘッ
ドの磁路形成方法であって、磁性合金と層間に介する非
磁性層をスパッタリング法などで着膜し、非磁性層を磁
性合金の層間絶縁と接着層として用いることを特徴とす
る磁気ヘッドの磁路形成方法。
（２）磁性合金にＣｏを主成分とするアモルファス合金
薄膜またはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉを主成分とする合金薄膜ま
たはＦｅ−Ｎｉを主成分とする合金薄膜の何れかを用い
ることを特徴とする請求項（１）記載の磁気ヘッドの磁
路形成方法。