JPH0256432U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0256432U JPH0256432U JP13489188U JP13489188U JPH0256432U JP H0256432 U JPH0256432 U JP H0256432U JP 13489188 U JP13489188 U JP 13489188U JP 13489188 U JP13489188 U JP 13489188U JP H0256432 U JPH0256432 U JP H0256432U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- chamber
- coil
- plasma chamber
- supplies
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 2
Description
第１図は本考案の実施例のＥＣＲプラズマＣＶ
Ｄ装置の模式断面図、第２図は第１図における
―線断面図、第３図は第２図のＡ方向からみた
側面図である。 １……試料台、２……試料、４……プラズマ室
、５……デポジシヨン室、６……ガス供給管、７
……導波管、８……第１のコイル、１０……ガス
供給部、１１……段差、１２，１３……側壁部、
１４，１５，１６，１７……第２のコイル。
Ｄ装置の模式断面図、第２図は第１図における
―線断面図、第３図は第２図のＡ方向からみた
側面図である。 １……試料台、２……試料、４……プラズマ室
、５……デポジシヨン室、６……ガス供給管、７
……導波管、８……第１のコイル、１０……ガス
供給部、１１……段差、１２，１３……側壁部、
１４，１５，１６，１７……第２のコイル。
Claims (1)
- プラズマが生成されるプラズマ室と、このプラ
ズマ室の周側に設けられた第１のコイルと、前記
プラズマ室と開口を介して連つたデポジシヨン室
と、前記プラズマ室にガスを供給するガス供給管
と、前記開口の前記デポジシヨン室側にガスを供
給するガス供給部と、前記プラズマ室にマイクロ
波を供給する導波管と、前記デポジシヨン室の周
囲に設けられ前記第１のコイルが発生する磁界の
方向と直交する方向の磁界を発生する第２のコイ
ルと、を備えて成ることを特徴とする電子サイク
ロトロン共鳴プラズマＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13489188U JPH0256432U (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13489188U JPH0256432U (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256432U true JPH0256432U (ja) | 1990-04-24 |
Family
ID=31394047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13489188U Pending JPH0256432U (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0256432U (ja) |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP13489188U patent/JPH0256432U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0256432U (ja) | ||
| JPH028132U (ja) | ||
| JPH022829U (ja) | ||
| JPS62184733U (ja) | ||
| JPH03120559U (ja) | ||
| JPS6418727U (ja) | ||
| JPH0377434U (ja) | ||
| JPS61138243U (ja) | ||
| JPH02138426U (ja) | ||
| JPH0379420U (ja) | ||
| JPS62191868U (ja) | ||
| JPH01168946U (ja) | ||
| JPH0444362U (ja) | ||
| JPH0460556U (ja) | ||
| JPS61206649U (ja) | ||
| JPH0267633U (ja) | ||
| JPS622244U (ja) | ||
| JPH0244324U (ja) | ||
| SRIVATSA | Plasma assisted chemical vapor deposition of diamond films | |
| JPH028854U (ja) | ||
| JPH01168947U (ja) | ||
| JPH01164760U (ja) | ||
| JPH02114926U (ja) | ||
| JPS6361120U (ja) | ||
| JPH0245627U (ja) |