JPH0267633U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0267633U JPH0267633U JP14663188U JP14663188U JPH0267633U JP H0267633 U JPH0267633 U JP H0267633U JP 14663188 U JP14663188 U JP 14663188U JP 14663188 U JP14663188 U JP 14663188U JP H0267633 U JPH0267633 U JP H0267633U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- sample
- processing
- processing chamber
- plasma
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例の有磁場マイクロ
波プラズマ処理装置の要部縦断面図である。 １０……放電管、２０……容器、３０……空間
、４０，４１……導波管、５０……電磁コイル、
６０……試料台、７０……ガイド溝、７１……突
起、８０……移動具、８１……柱状部材、８２，
８３……鍔部材、９０，９１……コイルバネ、１
００……永久磁石、１１０……試料。
波プラズマ処理装置の要部縦断面図である。 １０……放電管、２０……容器、３０……空間
、４０，４１……導波管、５０……電磁コイル、
６０……試料台、７０……ガイド溝、７１……突
起、８０……移動具、８１……柱状部材、８２，
８３……鍔部材、９０，９１……コイルバネ、１
００……永久磁石、１１０……試料。
Claims (1)
- 電界と磁場との作用により処理室内で生成され
たプラズマを利用して試料を処理する装置におい
て、前記磁場を利用して前記処理室内で前記試料
を移動させる手段を具備したことを特徴とする有
磁場プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14663188U JPH0267633U (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14663188U JPH0267633U (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267633U true JPH0267633U (ja) | 1990-05-22 |
Family
ID=31416301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14663188U Pending JPH0267633U (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0267633U (ja) |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP14663188U patent/JPH0267633U/ja active Pending
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