JPH0256490A - セフアロスポリン誘導体の製造法 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体の製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
- C07D501/34—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセファロスポリンにおける、またはそれに関わ
る改善に関する。より詳細には経口用抗生物質セフロキ
シムアキセテルの製造(二関する。
る改善に関する。より詳細には経口用抗生物質セフロキ
シムアキセテルの製造(二関する。
セフロキシムアキセテル(Cefuroxime ax
etil)、すなわち(6R,7R) −!l−カルバ
モイルオキシメチル−7−[: (Z) −2−(フル
ー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セフ
−5−エム−4−カルボン酸(セフロ゛キシム)の1−
アセトキシエチルエステルは英国特許第1,571,6
83号;二記載されている。セフロキシムアキセチルは
経口投与できるので特に価値あるセファロスポリンであ
る。この化合物は広いスはクトルのグラム陽性細菌およ
びグラム陽性細菌に対し経口投与により良好な抗生活性
を有しかつβ−ラクタマーゼに対し高い安定性を有する
ことが示されている。
etil)、すなわち(6R,7R) −!l−カルバ
モイルオキシメチル−7−[: (Z) −2−(フル
ー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セフ
−5−エム−4−カルボン酸(セフロ゛キシム)の1−
アセトキシエチルエステルは英国特許第1,571,6
83号;二記載されている。セフロキシムアキセチルは
経口投与できるので特に価値あるセファロスポリンであ
る。この化合物は広いスはクトルのグラム陽性細菌およ
びグラム陽性細菌に対し経口投与により良好な抗生活性
を有しかつβ−ラクタマーゼに対し高い安定性を有する
ことが示されている。
セファロスポリンエステル類は適当な7−アミツセフア
ロスボリンを、これに7−置換基を導入させうる化合物
を予め形成させておいてそれを用いてアシル化すること
によるか、または相当するセファロスポリン4−カルボ
ン酸の4−カルボキシル基をエステル化する1例えば7
10エステルと反応させること(=より所望のエステル
基を導入することにより通常製造されうる。
ロスボリンを、これに7−置換基を導入させうる化合物
を予め形成させておいてそれを用いてアシル化すること
によるか、または相当するセファロスポリン4−カルボ
ン酸の4−カルボキシル基をエステル化する1例えば7
10エステルと反応させること(=より所望のエステル
基を導入することにより通常製造されうる。
これら−投法はセフロキシムアキセチルの製法に関する
英国特許第1.571.683号(二記載されている。
英国特許第1.571.683号(二記載されている。
今、セファロスポリン核の3−置換基上のカルバモイル
基がカルバモイル化反応により合成の最後の主要化学工
程として導入されることからなるセフロキシムアキセチ
ルおよびその保護された銹導体の製法が考案された。
基がカルバモイル化反応により合成の最後の主要化学工
程として導入されることからなるセフロキシムアキセチ
ルおよびその保護された銹導体の製法が考案された。
それゆえ1本発明の観点の一つによれば、般式(I)
さH3
(式中Rは水素原子または不安定な置換基であり、Zは
SまたはS→0でありそして点線はその化合物がセフ−
2−エムまたは七フー5−モム化合物であることを示す
)を有する化合物なH5 (式中2および点線は前記のとおりである)を有する化
合物を3−位に1工程またはそれ以上の1糧でカルバモ
イルオキシメチル基またはN−置換力ルバモイルオキシ
メチル基を導入しつるカルバモイル化剤と反応させるこ
とからなる方法が提供される。
SまたはS→0でありそして点線はその化合物がセフ−
2−エムまたは七フー5−モム化合物であることを示す
)を有する化合物なH5 (式中2および点線は前記のとおりである)を有する化
合物を3−位に1工程またはそれ以上の1糧でカルバモ
イルオキシメチル基またはN−置換力ルバモイルオキシ
メチル基を導入しつるカルバモイル化剤と反応させるこ
とからなる方法が提供される。
式(II)の3−ヒドロキシメチル化合物のカルバモイ
ル化は適当なアンル他剤(すなわちカルバモイル化剤)
を用いて慣用の方法により行われうる。適当なカルバモ
イル化剤には式P、aNCO(式中R′′は不安定な置
換基である)を有するイソシアネートが包含され、この
ものは式−cH2o−co冊t(式中Raは前記した意
味を有する)を有する3−置換基を含有する化合物を生
成させる。
ル化は適当なアンル他剤(すなわちカルバモイル化剤)
を用いて慣用の方法により行われうる。適当なカルバモ
イル化剤には式P、aNCO(式中R′′は不安定な置
換基である)を有するイソシアネートが包含され、この
ものは式−cH2o−co冊t(式中Raは前記した意
味を有する)を有する3−置換基を含有する化合物を生
成させる。
式(I)の化合物またはその中間体中に存在する不安定
な置換基RまたはH&は反応原序中の適当な段階で容易
に除去されうる基が好都合で、例をあげればアシル基(
fi−1ニアセチルのような低級アルカノイル基、モノ
−ジーまたはトリークロロアセチルのようなへロ置換低
蔽アルカノイル基、クロロスルホニル!?、=、はブロ
モスルホニル基、ジクロロホスホニル基のようナシハロ
ホスホニル基、または2.2.2− )リクロロエトキ
シ力ルボニルのようなハロゲン化アルコキシカルボニル
基)である。
な置換基RまたはH&は反応原序中の適当な段階で容易
に除去されうる基が好都合で、例をあげればアシル基(
fi−1ニアセチルのような低級アルカノイル基、モノ
−ジーまたはトリークロロアセチルのようなへロ置換低
蔽アルカノイル基、クロロスルホニル!?、=、はブロ
モスルホニル基、ジクロロホスホニル基のようナシハロ
ホスホニル基、または2.2.2− )リクロロエトキ
シ力ルボニルのようなハロゲン化アルコキシカルボニル
基)である。
カルバモイル化反応は望ましくは炭化水素(例えばベン
ゼンおよびトルエンのような芳香族炭化水素)、ハロゲ
ン化炭化水素(例えばジクロロメタン)、アミド(例え
ばホルムアミドまたはジメチルホルムアミド)、エステ
ル(例えば酢酸エチル)、エーテル(例えばテトラヒド
ロフランおよびジオキサンのような環状エーテル)、ケ
トン(例えばアセトン)、スルホキシド(例えばジメチ
ルスルホキシド)、およびこれら溶媒の2種またはそれ
以上の混合物から選択される溶媒または溶媒混合物の存
在下に実施されつる。反応は好都合には一80℃から反
応混合物の沸点までの温度、例えば100℃までの温度
、好ましくは一20℃〜+30℃で実施されうる。
ゼンおよびトルエンのような芳香族炭化水素)、ハロゲ
ン化炭化水素(例えばジクロロメタン)、アミド(例え
ばホルムアミドまたはジメチルホルムアミド)、エステ
ル(例えば酢酸エチル)、エーテル(例えばテトラヒド
ロフランおよびジオキサンのような環状エーテル)、ケ
トン(例えばアセトン)、スルホキシド(例えばジメチ
ルスルホキシド)、およびこれら溶媒の2種またはそれ
以上の混合物から選択される溶媒または溶媒混合物の存
在下に実施されつる。反応は好都合には一80℃から反
応混合物の沸点までの温度、例えば100℃までの温度
、好ましくは一20℃〜+30℃で実施されうる。
カルバモイル化剤は過剰(例えば式(由の化合物(二対
し少くとも11モル)に使用されるのが望ましい。カル
バモイル化は塩基例えばトリ低級アルキルアミン(例え
ばトリエチルアミン)のような第三有機塩基の存在(二
より助成されうるが、かかる助成はイソシアネートが比
較的活性な場合、例えばRがクロロスルホニルまたはト
リクロロアセチルのような強力な電子求引基である化合
物の場合は必要ないであろう。
し少くとも11モル)に使用されるのが望ましい。カル
バモイル化は塩基例えばトリ低級アルキルアミン(例え
ばトリエチルアミン)のような第三有機塩基の存在(二
より助成されうるが、かかる助成はイソシアネートが比
較的活性な場合、例えばRがクロロスルホニルまたはト
リクロロアセチルのような強力な電子求引基である化合
物の場合は必要ないであろう。
もう一つの有用なカルバモイル化剤は例えばシアン酸ナ
トリウムのようなアルカリ金属シアネートからその場で
好都合に生成されるシアン酸であり、その場合反応は酸
、例えばトリフルオロ酢酸のような強有機酸の存在によ
り促進される。シアン酸は事実RELが水素である前記
したインシアネート化合物に相当し、従って式(mの化
合物を直接その3−カルバモイルオキシメチル類似体に
変換する。
トリウムのようなアルカリ金属シアネートからその場で
好都合に生成されるシアン酸であり、その場合反応は酸
、例えばトリフルオロ酢酸のような強有機酸の存在によ
り促進される。シアン酸は事実RELが水素である前記
したインシアネート化合物に相当し、従って式(mの化
合物を直接その3−カルバモイルオキシメチル類似体に
変換する。
あるいはまた、カルバモイル化は式(IOの化合物を場
合1:より水性または非水性反応媒体中でホスゲ゛ンま
たはカルボニルジイミダゾール、続いてアンモニアまた
はその適当に活性化された形態と反応させることによっ
ても実施できる。
合1:より水性または非水性反応媒体中でホスゲ゛ンま
たはカルボニルジイミダゾール、続いてアンモニアまた
はその適当に活性化された形態と反応させることによっ
ても実施できる。
従ってカルバモイル化剤は逐次的に反応されるホスゲン
またはカルボニルジイミダゾール、およびアンモニアで
あることもできる。
またはカルボニルジイミダゾール、およびアンモニアで
あることもできる。
カルバモイル化反応に続いて所望の場合は初めに得られ
た式(I)の化合物を例えば下記工程、すなわち (I)ZがSi2である化合物の2がSである化合物へ
の還元、 (I1) △2−異性体のΔ3−異性体への変換、(
I1D カルバモイル上に置換基が存在する場合はそ
の除去、 の111またはそれ以上j二より別の式(I)の化合物
に変換することができる。
た式(I)の化合物を例えば下記工程、すなわち (I)ZがSi2である化合物の2がSである化合物へ
の還元、 (I1) △2−異性体のΔ3−異性体への変換、(
I1D カルバモイル上に置換基が存在する場合はそ
の除去、 の111またはそれ以上j二より別の式(I)の化合物
に変換することができる。
この反応は慣用の方法(二より任意の好都合な順序で逐
行できる。
行できる。
従って、所望の場合は本発明方法;;より得られたΔ2
−セファロスポリンは、例えばΔ2−エステルをビリジ
/またはトリエチルアミンのような塩基で処理すること
により相当するΔ3−誘導体に変換できる。
−セファロスポリンは、例えばΔ2−エステルをビリジ
/またはトリエチルアミンのような塩基で処理すること
により相当するΔ3−誘導体に変換できる。
セフ−2−エム反応生成物はまた例えば過酢酸またはm
−クロロ過安息香酸のような過酸と反応させることによ
り酸化して相当するセフ−3−エム1−オキサイドとな
すこともできる。
−クロロ過安息香酸のような過酸と反応させることによ
り酸化して相当するセフ−3−エム1−オキサイドとな
すこともできる。
生成するスルホキシドは次に以下に記載されるようにし
て還元して相当するセフ−3−エムスルフイツトとなす
ことができる。
て還元して相当するセフ−3−エムスルフイツトとなす
ことができる。
ZがS−+Oである式(I)の化合物が得られる場合は
、所望(二よりこのものは例えばその場で調製される相
当するアシルオキシスルホニウム塩(例えばアセトキシ
スルホニウム塩の場合にはアセチルクロライドと反応さ
せることによる)、またはアルコキシスルホニウム塩を
還元することにより相当するスルフイツトに変換でき、
その場合還元は例えば亜:):fオン酸ナトリウム(二
よるかまたは溶媒例えば酢酸、アセトン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはジメ
チルアセトアミド中の沃化カリウムの溶液としてのヨー
ダイトイオンにより行われる。この反応は一20℃〜+
50℃で実施できる。
、所望(二よりこのものは例えばその場で調製される相
当するアシルオキシスルホニウム塩(例えばアセトキシ
スルホニウム塩の場合にはアセチルクロライドと反応さ
せることによる)、またはアルコキシスルホニウム塩を
還元することにより相当するスルフイツトに変換でき、
その場合還元は例えば亜:):fオン酸ナトリウム(二
よるかまたは溶媒例えば酢酸、アセトン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはジメ
チルアセトアミド中の沃化カリウムの溶液としてのヨー
ダイトイオンにより行われる。この反応は一20℃〜+
50℃で実施できる。
式(I)の化合物中に存在する任意の不安定な置換基R
が画業上知られた任意の適当な方法(−より所望に応じ
て除去されつる。クロロスルホニル、ジクロロホスホニ
ルおよびトリクロロアセチルのような不安定な基は一般
に酸もしくは塩奉により触媒された加水分解(二より開
裂でき、そして2.2.2− )リクロロエトキシ力ル
ボニルのようなハロゲン化された基も還元的に開裂でき
、一方クロロアセチルのような基はチオ尿素のようなチ
オアミドと処理することによっても開裂されうる。例え
ばトリクロロアセチル基は場合(二よりメタノールのよ
うな水混和性溶媒を含有していてもよい水中で蟻酸ナト
リウムと処理することにより開裂できるしあるいはまた
この基はメチレンクロライドのような有機溶媒中シリカ
で処理することによって除去することもできる。
が画業上知られた任意の適当な方法(−より所望に応じ
て除去されつる。クロロスルホニル、ジクロロホスホニ
ルおよびトリクロロアセチルのような不安定な基は一般
に酸もしくは塩奉により触媒された加水分解(二より開
裂でき、そして2.2.2− )リクロロエトキシ力ル
ボニルのようなハロゲン化された基も還元的に開裂でき
、一方クロロアセチルのような基はチオ尿素のようなチ
オアミドと処理することによっても開裂されうる。例え
ばトリクロロアセチル基は場合(二よりメタノールのよ
うな水混和性溶媒を含有していてもよい水中で蟻酸ナト
リウムと処理することにより開裂できるしあるいはまた
この基はメチレンクロライドのような有機溶媒中シリカ
で処理することによって除去することもできる。
カルバモイルオキシメチル基を巻き込んだ望ましからぬ
副反応を最小限(=抑えるためには、中間体3−カルバ
モイルオキシメチル化合物を変換させる量子安定な置換
基を保有するかまたはかかる基を導入さえするのが好都
合でありうること(=留意すべきである。それゆえ本発
明のもう一つの特徴として、Rが不安定な置換基である
相当する式(I)の化合物からその不安定な置換基を除
去することによるRが水素である式(I)の化合物の製
法が提供される。この不安定な置換基は前記した方法を
用いることにより除去されうる。
副反応を最小限(=抑えるためには、中間体3−カルバ
モイルオキシメチル化合物を変換させる量子安定な置換
基を保有するかまたはかかる基を導入さえするのが好都
合でありうること(=留意すべきである。それゆえ本発
明のもう一つの特徴として、Rが不安定な置換基である
相当する式(I)の化合物からその不安定な置換基を除
去することによるRが水素である式(I)の化合物の製
法が提供される。この不安定な置換基は前記した方法を
用いることにより除去されうる。
反応生成物は、例えば未変化セファロスボジン出発物質
およびその他の物質を含有しうる反応混合物から溶媒(
=よる抽出、再結晶、イオン泳動、カラムクロマトグラ
フィー、高圧液体クロマトグラフィー イオン交換クロ
マトグラフィーまたは巨大網状樹脂でのクロマトグラフ
ィーを含む種々の方法により分離されうる。
およびその他の物質を含有しうる反応混合物から溶媒(
=よる抽出、再結晶、イオン泳動、カラムクロマトグラ
フィー、高圧液体クロマトグラフィー イオン交換クロ
マトグラフィーまたは巨大網状樹脂でのクロマトグラフ
ィーを含む種々の方法により分離されうる。
式(I)の化合物が異性体の混合物として得られる場合
は、結晶化またはクロマトグラフィーのような慣用の方
法によりシン異性体を得ることができる。また、生成物
は例えば英国特許第2.145,409号に記載される
ようにエステル化基のRおよびS異性体の約1:1モル
比混合物の形でも回収されうる。
は、結晶化またはクロマトグラフィーのような慣用の方
法によりシン異性体を得ることができる。また、生成物
は例えば英国特許第2.145,409号に記載される
ようにエステル化基のRおよびS異性体の約1:1モル
比混合物の形でも回収されうる。
式(U)の化合物は例えば式(nl)
(式中2および点線は前記のとおりである)を有する化
合物またはその塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリ
ウムまたはカリウム塩)またはオニウム塩例えばアンモ
ニウム塩(例えば四級アンモニウム塩)を適当なへロエ
ステル例えば1−アセトキシエチルブロマイドでエステ
ル化することにより調製されうる。
合物またはその塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリ
ウムまたはカリウム塩)またはオニウム塩例えばアンモ
ニウム塩(例えば四級アンモニウム塩)を適当なへロエ
ステル例えば1−アセトキシエチルブロマイドでエステ
ル化することにより調製されうる。
この反応は好都合には不活性溶媒、例えばN、N−ジメ
チルホルムアミド、 N、N−ジメチルアセトアミドの
ようなN、N−ジ置換アミド;アセトンのようなケトン
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド;ジクロ
ロメタンのようなハロゲン化炭化水素;またはアセトニ
トリルのようなニトリル中で実施される。この反応は一
50℃〜+150℃、例えば−10℃〜+50℃、好都
合には一り0℃〜室温で実施されうる。
チルホルムアミド、 N、N−ジメチルアセトアミドの
ようなN、N−ジ置換アミド;アセトンのようなケトン
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド;ジクロ
ロメタンのようなハロゲン化炭化水素;またはアセトニ
トリルのようなニトリル中で実施される。この反応は一
50℃〜+150℃、例えば−10℃〜+50℃、好都
合には一り0℃〜室温で実施されうる。
このエステル化は一般鑑=4−カルボキシル官能基から
アニオンを生成させうる試薬例えばアルカリ金属炭酸塩
(例えば炭酸ナトリウムまたはカリウム)のような塩基
の存在下に実施される。
アニオンを生成させうる試薬例えばアルカリ金属炭酸塩
(例えば炭酸ナトリウムまたはカリウム)のような塩基
の存在下に実施される。
式(III)の化合物は例えば英国特許第1,474,
520号に記載される慣用のアシル化法(二より調製さ
れつる。Rが不安定な置換基である式■の化合物は前記
したカルバモイル化反応(二より製造されるか、あるい
はまた例えば英国特許第1,571,683号に記載さ
れる慣用のアシル化法を用いることもできる。
520号に記載される慣用のアシル化法(二より調製さ
れつる。Rが不安定な置換基である式■の化合物は前記
したカルバモイル化反応(二より製造されるか、あるい
はまた例えば英国特許第1,571,683号に記載さ
れる慣用のアシル化法を用いることもできる。
本発明を以下;二例示する。温度はすべて摂氏による。
「乾燥」なる用語は硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシ
ウムでの乾燥を意味する。ベトロールは石油エーテル(
沸点40〜60℃)を指す。
ウムでの乾燥を意味する。ベトロールは石油エーテル(
沸点40〜60℃)を指す。
中間体 1
カリウム(6R,7R) −7−((z)−2−(フル
ー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3
−ヒドロキシメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレ
ート エタノール(I50Wt)中の(6R,7R) −7−
((Z)−2−(フルー2−イル)−2,−メトキシイ
ミノアセトアミド〕−3−ヒドロキシメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸(I0,04j)の約40℃の溶
液なけいそう土で濾過することにより清澄化した。F液
;二酢酸カリウムの0.5M溶液(52,6d)を20
分間かかつて滴下処理した。結晶化性混合物を15時間
で4℃まで冷却しそして濾過した。この固形物をエタノ
ール(3X40ml)およびエーテル(2X40 rn
t)で洗いそして約1 mmHgおよび20℃で五酸化
燐で20時間乾燥して標記化合物(I1,11F)を得
た。
ー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3
−ヒドロキシメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレ
ート エタノール(I50Wt)中の(6R,7R) −7−
((Z)−2−(フルー2−イル)−2,−メトキシイ
ミノアセトアミド〕−3−ヒドロキシメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸(I0,04j)の約40℃の溶
液なけいそう土で濾過することにより清澄化した。F液
;二酢酸カリウムの0.5M溶液(52,6d)を20
分間かかつて滴下処理した。結晶化性混合物を15時間
で4℃まで冷却しそして濾過した。この固形物をエタノ
ール(3X40ml)およびエーテル(2X40 rn
t)で洗いそして約1 mmHgおよび20℃で五酸化
燐で20時間乾燥して標記化合物(I1,11F)を得
た。
λmax (エタノール)275nm (E7446)
中間体 2 (6R,7R) −7−(2−チエニルアセトアミド)
−3−()リクロロアセチル力ルバモイルオキシメチル
)セフ−3−エム−4−カルボン酸酢酸エチル(70m
1)中の(6R,7R) −3−ヒドロキシメチル−7
−(2−チエニルアセトアミド)セフ−3−エム−4−
カルボン酸(I0,621)の6℃で攪拌されている懸
濁液中(ニトリクロロアセチルイソシアネート(4,3
rnt)を素早く加えた。この反応混合物を5℃で40
分間攪拌した。はトロールを15分間で滴下した。この
混合物を30分間攪拌し、濾過しそして固形物をはトロ
ールで洗い乾燥して標記化合物を固形物として得た(I
S、48F)。
中間体 2 (6R,7R) −7−(2−チエニルアセトアミド)
−3−()リクロロアセチル力ルバモイルオキシメチル
)セフ−3−エム−4−カルボン酸酢酸エチル(70m
1)中の(6R,7R) −3−ヒドロキシメチル−7
−(2−チエニルアセトアミド)セフ−3−エム−4−
カルボン酸(I0,621)の6℃で攪拌されている懸
濁液中(ニトリクロロアセチルイソシアネート(4,3
rnt)を素早く加えた。この反応混合物を5℃で40
分間攪拌した。はトロールを15分間で滴下した。この
混合物を30分間攪拌し、濾過しそして固形物をはトロ
ールで洗い乾燥して標記化合物を固形物として得た(I
S、48F)。
CD〕22+75°(c 1.2、Me2BO中)。
中間体 3
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−7−(2−f−エニルアセトアミド) −3−(トリ
クロロアセチルカルバモイルオキシメチル)セフ−3−
エム−4−カルボキシレートジメチルホルムアミド(I
500tnt )中の中間体2 (218F )の溶液
を20℃未満の温度で炭た。この溶液を3℃に冷却しそ
して(R,8) −1−アセトキシエチルブロマイド(
80mj、1時間間隔で5回に分けて添加)と3℃で合
計3時間攪拌した。この混合物を水冷2M塩酸(5))
中に注入しそして酢酸エチルで抽出した(3X2.51
)。有機層を合し、?+r2M塩酸(2X2.5j)。
−7−(2−f−エニルアセトアミド) −3−(トリ
クロロアセチルカルバモイルオキシメチル)セフ−3−
エム−4−カルボキシレートジメチルホルムアミド(I
500tnt )中の中間体2 (218F )の溶液
を20℃未満の温度で炭た。この溶液を3℃に冷却しそ
して(R,8) −1−アセトキシエチルブロマイド(
80mj、1時間間隔で5回に分けて添加)と3℃で合
計3時間攪拌した。この混合物を水冷2M塩酸(5))
中に注入しそして酢酸エチルで抽出した(3X2.51
)。有機層を合し、?+r2M塩酸(2X2.5j)。
冷水(2,5J)、冷3チ重炭酸ナトリウム溶液(2X
2.4M)、および水(2,i)で洗った。有機層を乾
燥し蒸発させてガム状物質となし、これを少量の酢酸エ
チルを含有する<)a−ル(沸点60〜80℃、11)
と攪拌して標記化合物を固形物として得た(f75F)
。
2.4M)、および水(2,i)で洗った。有機層を乾
燥し蒸発させてガム状物質となし、これを少量の酢酸エ
チルを含有する<)a−ル(沸点60〜80℃、11)
と攪拌して標記化合物を固形物として得た(f75F)
。
a (CDC13) 91 (IH,巾広S)、7.9
〜6.6 (5H,m)、5.9 (IH,m)、
5.4〜4.8 (3H,m)、 3.8 (2L
s)、 五6(2H,m)、 2.02 (5H
,s)および1.5 (3H,d)。
〜6.6 (5H,m)、5.9 (IH,m)、
5.4〜4.8 (3H,m)、 3.8 (2L
s)、 五6(2H,m)、 2.02 (5H
,s)および1.5 (3H,d)。
中間体 4
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−7−アミノ−3−()リクロロアセチル力ルパモイル
オキシメチル)セフ−5−エム−4−カルボキシレート
塩酸塩 五塩化燐(4t73r)をジクロロメタン(400−)
中で溶液がほとんど透明となるまで攪拌した。これを水
浴中で冷却しセしてピリジン(I6,1−)を滴下処理
した。この混合物の温度が5℃のところで中間体3 (
452,85? )を加え、この混合物を10℃未満の
温度で2時間攪拌した。
−7−アミノ−3−()リクロロアセチル力ルパモイル
オキシメチル)セフ−5−エム−4−カルボキシレート
塩酸塩 五塩化燐(4t73r)をジクロロメタン(400−)
中で溶液がほとんど透明となるまで攪拌した。これを水
浴中で冷却しセしてピリジン(I6,1−)を滴下処理
した。この混合物の温度が5℃のところで中間体3 (
452,85? )を加え、この混合物を10℃未満の
温度で2時間攪拌した。
この溶液をジクロロメタン(I7om/)中のメタノー
ル(71]+g)の攪拌された溶液に一40℃〜−30
℃で30分間かかつて加えた。10分後この溶液を一1
0℃まで加温し、水(200d)と攪拌した。この混合
物を冷却することなく30分間攪拌しそして分離した。
ル(71]+g)の攪拌された溶液に一40℃〜−30
℃で30分間かかつて加えた。10分後この溶液を一1
0℃まで加温し、水(200d)と攪拌した。この混合
物を冷却することなく30分間攪拌しそして分離した。
水理をジクロロメタン(2x10[]+j)で抽出しそ
して有機層な合し、蒸発させてガム状物質を得、これを
エーテルで摩砕して標記化合物を固形物(40,3F
)として得た。
して有機層な合し、蒸発させてガム状物質を得、これを
エーテルで摩砕して標記化合物を固形物(40,3F
)として得た。
a (DMSO−d6) <!w9 (IH,m)、5
.3 (2H,m)、5.1(2H。
.3 (2H,m)、5.1(2H。
m)、3.8 (2H,m)、 2.04 (3)t、
s)およびt5 (3H。
s)およびt5 (3H。
d)。
中間体 5
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−7−アミノ−3−()リクロロアセテル力ルバモイル
オキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート ジクロロメタン(25oi)中の中間体4 (4Q?)
の溶液を水(I0C1d)中の重炭酸ナトリウム(6,
82r )の溶液と振盪した。有機相を分離しそして金
型炭酸ナトリウム溶液および水で洗い、乾燥した。木炭
での処理に続き溶媒を除去して標記化合物を泡状物(5
t3f)として得た。
−7−アミノ−3−()リクロロアセテル力ルバモイル
オキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート ジクロロメタン(25oi)中の中間体4 (4Q?)
の溶液を水(I0C1d)中の重炭酸ナトリウム(6,
82r )の溶液と振盪した。有機相を分離しそして金
型炭酸ナトリウム溶液および水で洗い、乾燥した。木炭
での処理に続き溶媒を除去して標記化合物を泡状物(5
t3f)として得た。
♂6.9および6.7 (IH,m)、4.92 (2
H,巾広s)5.0および4.6 (2H)、3.9〜
3.4 (2H)、2.00 (3H,s)および1.
42 (5H,d)。
H,巾広s)5.0および4.6 (2H)、3.9〜
3.4 (2H)、2.00 (3H,s)および1.
42 (5H,d)。
実施例 1
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−3−カルバモイルオキシメチル−7((Z)−2−(
フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕
セフ−3−エム−4−カルボキシレート ジメチルホルムアミ)(I00d)中の中間体1の生成
物(2,15?)の懸濁液を(R,8) −1−アセト
キシエチルブロマイド(I,162)と窒素の下−10
℃そして次;ニー10℃〜0℃で45分間攪拌した。こ
の溶液を一10℃に冷却しそしてクロロスルホニルイソ
シアネート(I,M)ト−10℃で5分間、次に0℃で
50分間攪拌した。この溶液を氷(20C1)、2M塩
1!!?(2D [1−)および酢酸エチルの混合物中
1=注ぎ入れ、これを90分間攪拌した。この混合物を
分離し。
−3−カルバモイルオキシメチル−7((Z)−2−(
フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕
セフ−3−エム−4−カルボキシレート ジメチルホルムアミ)(I00d)中の中間体1の生成
物(2,15?)の懸濁液を(R,8) −1−アセト
キシエチルブロマイド(I,162)と窒素の下−10
℃そして次;ニー10℃〜0℃で45分間攪拌した。こ
の溶液を一10℃に冷却しそしてクロロスルホニルイソ
シアネート(I,M)ト−10℃で5分間、次に0℃で
50分間攪拌した。この溶液を氷(20C1)、2M塩
1!!?(2D [1−)および酢酸エチルの混合物中
1=注ぎ入れ、これを90分間攪拌した。この混合物を
分離し。
水層な酢酸エチルで抽出した。有機層を合し、2M塩酸
、水(2回)、飽和重炭酸ナトリウム溶液(2回)、お
よび水で洗いセしてチオ硫酸ナトリウム溶液と攪拌した
。有機層を分離し、水(2回)およびブライン(2回)
で洗い、乾燥しそして蒸発させた。酢酸エチル(30m
l)中のこのガム状物質の溶液をベトロール(5oom
t)(=加えて白色固形物(869Q)を得た。この固
形物の一部分(797J19)をシリカ(4C1)でク
ロマトグラフィーし、はじめジクロロメタン/酢酸エチ
ル(4:1)次;朶ジクロロメタン/酢酸エチル(3:
1)を用いて溶離した。適切なフラクションを合し、蒸
発させてガム状物質を得、これを酢酸エチルに溶解させ
、ベトロールに加えて標記化合物を固形物(9!ijg
)として得た。
、水(2回)、飽和重炭酸ナトリウム溶液(2回)、お
よび水で洗いセしてチオ硫酸ナトリウム溶液と攪拌した
。有機層を分離し、水(2回)およびブライン(2回)
で洗い、乾燥しそして蒸発させた。酢酸エチル(30m
l)中のこのガム状物質の溶液をベトロール(5oom
t)(=加えて白色固形物(869Q)を得た。この固
形物の一部分(797J19)をシリカ(4C1)でク
ロマトグラフィーし、はじめジクロロメタン/酢酸エチ
ル(4:1)次;朶ジクロロメタン/酢酸エチル(3:
1)を用いて溶離した。適切なフラクションを合し、蒸
発させてガム状物質を得、これを酢酸エチルに溶解させ
、ベトロールに加えて標記化合物を固形物(9!ijg
)として得た。
このものはHPLCによれば、セフロキシムアキセテル
の真正試料と同一であった。
の真正試料と同一であった。
カラムをジクロロメタン/酢酸エブール(3:2)で溶
離するとさらに標記化合物が白色固形物(I461g)
として得られた。
離するとさらに標記化合物が白色固形物(I461g)
として得られた。
実施例 2
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−7−((フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセ
トアミド)−3−)リクロロアセチル力ルパモイルオキ
シメチルセフー3−エム−4−カルボキシレート 方法 a ジメチルホルムアミド(I00mj)中の中間体1の生
成物(2,23f)の窒素の下−10℃(:おける懸濁
液を(R,8) −1−アセトキシエチルブロマイド(
I,201t)と1時間攪拌して(Rおよび5)−1−
アセトキシエチル((SR,7R) −7−((Z)−
2−(フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−ヒドロキシメチルセフ−6−エム−4−カ
ルボキシレートの溶液を得た。この溶液にトリクロロア
セテルイソシアネー)(I,8mg)を窒素の下−10
℃で加えた。この溶液を一10℃で5分間次;二約0℃
で25分間攪拌した。このものを氷(20C1)、2M
塩酸(200rd)および酢酸エチル(I00rRt)
の混合物中に注ぎ入れた。これを30分間攪拌しそして
分離した。水層な酢酸エチル(gXloo−)で抽出し
、そして有機層を合して2M塩酸(2X100m)、水
(I回)、飽和重炭酸ナトリウム溶液(I:1に希釈、
2回)、チオ硫酸ナトリウム溶液(I回洗浄、1回攪拌
洗浄)、水およびプライン(2回)で洗った。有機層を
乾燥し蒸発させて泡状物を得、それを酢酸エチル(20
tRt)に溶解させ、はトロール(500m)に加えて
標記化合物を固形物(I,59sr)として得た。
−7−((フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセ
トアミド)−3−)リクロロアセチル力ルパモイルオキ
シメチルセフー3−エム−4−カルボキシレート 方法 a ジメチルホルムアミド(I00mj)中の中間体1の生
成物(2,23f)の窒素の下−10℃(:おける懸濁
液を(R,8) −1−アセトキシエチルブロマイド(
I,201t)と1時間攪拌して(Rおよび5)−1−
アセトキシエチル((SR,7R) −7−((Z)−
2−(フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−ヒドロキシメチルセフ−6−エム−4−カ
ルボキシレートの溶液を得た。この溶液にトリクロロア
セテルイソシアネー)(I,8mg)を窒素の下−10
℃で加えた。この溶液を一10℃で5分間次;二約0℃
で25分間攪拌した。このものを氷(20C1)、2M
塩酸(200rd)および酢酸エチル(I00rRt)
の混合物中に注ぎ入れた。これを30分間攪拌しそして
分離した。水層な酢酸エチル(gXloo−)で抽出し
、そして有機層を合して2M塩酸(2X100m)、水
(I回)、飽和重炭酸ナトリウム溶液(I:1に希釈、
2回)、チオ硫酸ナトリウム溶液(I回洗浄、1回攪拌
洗浄)、水およびプライン(2回)で洗った。有機層を
乾燥し蒸発させて泡状物を得、それを酢酸エチル(20
tRt)に溶解させ、はトロール(500m)に加えて
標記化合物を固形物(I,59sr)として得た。
λmax cエタノール)275.5nm (E 3
!+5)δ(CDC45)7.51 (IH,5)47
.28 (IH,d J 8Hz)、7.13および6
.98 (IH,q J 6Hz)、6.89 (IH
,m)、6.48 (IH,m)、 5.98 (iH
,mχ5.4〜4.8 (3H、rn )、4.02
(5H,s)、3.80および3.(So (2H,m
χ2.04(3H,/1)および156 (3H,d
J 6Hz)。
!+5)δ(CDC45)7.51 (IH,5)47
.28 (IH,d J 8Hz)、7.13および6
.98 (IH,q J 6Hz)、6.89 (IH
,m)、6.48 (IH,m)、 5.98 (iH
,mχ5.4〜4.8 (3H、rn )、4.02
(5H,s)、3.80および3.(So (2H,m
χ2.04(3H,/1)および156 (3H,d
J 6Hz)。
方法 b
ジクロロメタン(20tnt)中の中間体5 (I,0
1P)および(Z) −2−(フルー2−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸(0,34F)の溶液をジシクロへ
キシルカルボジイミド(0,4!M)と20℃で45分
間攪拌した。水(20m)を加え、この混合物を20℃
で15分間攪拌しそして分離した。有機層をジクロロメ
タン中に作成したソープシ/l/ (Sorbsil)
(I0f )のカラムでクロマトグラフィーした。ジ
クロロメタン中の10%酢酸エチルで溶離したフラクシ
ョンを合し、蒸発させて固形物を得た。これを酢酸エチ
ルを含有するベトロール(沸点60〜80℃)で摩砕し
て標記化合物を固形物(t2f)として得た。
1P)および(Z) −2−(フルー2−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸(0,34F)の溶液をジシクロへ
キシルカルボジイミド(0,4!M)と20℃で45分
間攪拌した。水(20m)を加え、この混合物を20℃
で15分間攪拌しそして分離した。有機層をジクロロメ
タン中に作成したソープシ/l/ (Sorbsil)
(I0f )のカラムでクロマトグラフィーした。ジ
クロロメタン中の10%酢酸エチルで溶離したフラクシ
ョンを合し、蒸発させて固形物を得た。これを酢酸エチ
ルを含有するベトロール(沸点60〜80℃)で摩砕し
て標記化合物を固形物(t2f)として得た。
実施例 3
方法 a
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−3−カルバモイルオキシメゾルー7−((Z)−2−
(フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド
〕セフ−3−エム−4−カルボキシレート メタノール(I5+d)中の実施例2aの生成物(91
119)の溶液を水(ITnt)中の蟻酸ナトリウム(
280Q)の溶液と20℃で2.25時間攪拌した。こ
の溶液を酢酸エチルおよび溝型炭酸ナトリウム溶液の混
合物中(二注ぎ入れ、そして水層をさらに酢酸エチルで
2回抽出した。有機層を合し、水(2回)およびプライ
ン(2回)で洗い、乾燥および蒸発させて泡状物を得た
。酢酸エチル(I0WLt)中のこの泡状物の溶液なベ
トロール(4ood)中に加えて固形生成物(520m
g )を得た。
−3−カルバモイルオキシメゾルー7−((Z)−2−
(フルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド
〕セフ−3−エム−4−カルボキシレート メタノール(I5+d)中の実施例2aの生成物(91
119)の溶液を水(ITnt)中の蟻酸ナトリウム(
280Q)の溶液と20℃で2.25時間攪拌した。こ
の溶液を酢酸エチルおよび溝型炭酸ナトリウム溶液の混
合物中(二注ぎ入れ、そして水層をさらに酢酸エチルで
2回抽出した。有機層を合し、水(2回)およびプライ
ン(2回)で洗い、乾燥および蒸発させて泡状物を得た
。酢酸エチル(I0WLt)中のこの泡状物の溶液なベ
トロール(4ood)中に加えて固形生成物(520m
g )を得た。
この固形物の一部分(46219)をシリカ(272)
でクロマトグラフィーし、初めジクロロメタン/酢酸エ
チル(4:1)(フラクションを捨てる)そして次にジ
クロロメタン/酢酸エチル(3:1)で溶離した。適当
なフラクションを合し、蒸発させ、残留物を酢酸エチル
中にとった。
でクロマトグラフィーし、初めジクロロメタン/酢酸エ
チル(4:1)(フラクションを捨てる)そして次にジ
クロロメタン/酢酸エチル(3:1)で溶離した。適当
なフラクションを合し、蒸発させ、残留物を酢酸エチル
中にとった。
この溶液なはトロール中(=加えて標記化合物を白色固
形物(I62j9)として得た。このものはHPLCに
よればセフロキシムアキセチルの標準試料と同一であっ
た。
形物(I62j9)として得た。このものはHPLCに
よればセフロキシムアキセチルの標準試料と同一であっ
た。
方法 b
ジクロロメタン中の実施例2の生成物(785ag )
の溶液なシリカ(I C1)と約15分間攪拌した。溶
媒を蒸発させ、そして被覆されたシリカをジクロロメタ
ン/酢酸エチル(4:1)中リシリカ(40F)のカラ
ムに充填した。この方ラムをジクロロメタン/酢酸エチ
ル(4:3および3:1)で溶離してフラクションを得
、これを捨てた。ジクロロメタン/酢酸エチル(3:2
次に1=1)で溶離したフラクションを合して標記化合
物を泡状物(o、2ar)として得た。このものはHP
LCによれば標準試料と同一であった。
の溶液なシリカ(I C1)と約15分間攪拌した。溶
媒を蒸発させ、そして被覆されたシリカをジクロロメタ
ン/酢酸エチル(4:1)中リシリカ(40F)のカラ
ムに充填した。この方ラムをジクロロメタン/酢酸エチ
ル(4:3および3:1)で溶離してフラクションを得
、これを捨てた。ジクロロメタン/酢酸エチル(3:2
次に1=1)で溶離したフラクションを合して標記化合
物を泡状物(o、2ar)として得た。このものはHP
LCによれば標準試料と同一であった。
特許出願人 グラクツ・グループ・リミテッド外2名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子または不安定な置換基であり、Zは
Sまたは−SO−でありそして点線はその化合物がセフ
−2−エムまたはセフ−3−エム化合物であることを示
す)を有する化合物を製造するに当り、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Zおよび点線は前記のとおりである)を有する化
合物を3−位に1工程またはそれ以上の工程でカルバモ
イルオキシメチル基またはN−置換カルバモイルオキシ
メチル基を導入しうるカルバモイル化剤と反応させ、所
望の場合は続いて初めに得られた式( I )の化合物を
下記工程、すなわち (i)Zが−SO−である化合物のZがSである化合物
への還元、 (ii)Δ^2−異性体のΔ^3−異性体への変換、(
iii)カルバモイル上に置換基が存在する場合はその
除去。 の1種またはそれ以上により別の式( I )の化合物に
変換することからなる方法。 2)カルバモイル化剤が式R^aNCO(式中R^aは
不安定な置換基である)を有するイソシアネートまたは
シアン酸からなる請求項1記載の方法。 3)カルバモイル化剤が式R^aNCO(式中R^aは
アシル基である)を有する化合物からなる請求項2記載
の方法。 4)カルバモイル化剤がクロロスルホニルイソシアネー
トまたはトリクロロアセチルイソシアネートからなる請
求項3記載の方法。 5)カルバモイル化剤が、逐次的に反応させるホスゲン
またはカルボニルジイミダゾールおよびアンモニアから
なる請求項1記載の方法。 6)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子であり、ZはSまたは −SO−でありそして点線はその化合物がセフ−2−エ
ムまたはセフ−3−エム化合物であることを示す)を有
する化合物を製造するに当り、Rが不安定な置換基であ
る相当する式( I )の化合物から該不安定な置換基を
除去することからなる方法。 7)不安定な置換基が酸もしくは塩基により触媒された
加水分解、還元的開裂またはチオアミドとの処理により
除去されることからなる請求項6記載の方法。 8)式( I )の化合物が請求項1〜5のいずれかに記
載の方法により初めに調製されることからなる請求項6
または7記載の方法。 9)式(II)(式中ZはSでありそして点線はその化合
物がセフ−3−エム化合物であることを示す)を有する
化合物を前記カルバモイル化剤と反応させることからな
る請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 10)前記各項のいずれかに記載の方法により製造され
た、請求項1記載の一般式( I )を有する化合物。 11)請求項9記載の方法により製造されたセフロキシ
ムアキセチル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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