JPH0257698A - ステンレス材料のクロムめっき方法 - Google Patents
ステンレス材料のクロムめっき方法Info
- Publication number
- JPH0257698A JPH0257698A JP20788088A JP20788088A JPH0257698A JP H0257698 A JPH0257698 A JP H0257698A JP 20788088 A JP20788088 A JP 20788088A JP 20788088 A JP20788088 A JP 20788088A JP H0257698 A JPH0257698 A JP H0257698A
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- Japan
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- plating
- stainless steel
- chromium plating
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- steel material
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、ステンレス材料に対して電気クロムめっきを
施す方法に関する。
施す方法に関する。
「従来技術およびその問題点」
ステンレス材料はめつき等の表面処理を施さなくとも一
般的に優れた外観を有するが、例えば車両のモールディ
ングとして使用する際に隣接する他のモールディングと
の色調を合わせるために、あるいは防錆性および耐食性
をさらに向上させるために、さらにクロムめっきを施す
ことがある。
般的に優れた外観を有するが、例えば車両のモールディ
ングとして使用する際に隣接する他のモールディングと
の色調を合わせるために、あるいは防錆性および耐食性
をさらに向上させるために、さらにクロムめっきを施す
ことがある。
このステンレス材料に対するクロムめっきは従来１次の
手順によって行なわれてきた。
手順によって行なわれてきた。
すなわち先ず表面を洗浄するために、例えばトリクロル
エタンによる蒸気洗浄（洗浄処理）を行ない１次に、こ
れを活性化槽に入れ、酸等の薬品による処理を行なって
活性化する。活性化とは、ステンレス表面に形成されて
いる。クロムめっきの密着を阻害する不動態皮膜（酸化
皮膜）を除去する処理をいう、この活性化処理の終了し
たステンレス材料は次にクロムめっき槽に入れてクロム
めっきされる。この活性化処理は電気的負荷をかけない
で酸等の薬品処理を行ない、めっき処理においては、通
常ステンレス材料を一極に、めっき液を子種にして行な
う。
エタンによる蒸気洗浄（洗浄処理）を行ない１次に、こ
れを活性化槽に入れ、酸等の薬品による処理を行なって
活性化する。活性化とは、ステンレス表面に形成されて
いる。クロムめっきの密着を阻害する不動態皮膜（酸化
皮膜）を除去する処理をいう、この活性化処理の終了し
たステンレス材料は次にクロムめっき槽に入れてクロム
めっきされる。この活性化処理は電気的負荷をかけない
で酸等の薬品処理を行ない、めっき処理においては、通
常ステンレス材料を一極に、めっき液を子種にして行な
う。
この従来のクロムめっき処理方法は、活性化槽からめっ
き檀にステンレス材料を移す際に、ステンレス材料が一
旦空気に触れることが避けられない、ところが活性化処
理の済んだステンレス材料が空気に触れると、ステンレ
ス材料が活性化されているために、その表面に僅かでは
あるが、再び不動態皮膜が形成され、この不動態皮膜が
クロムめっきの付着を妨げることが見出された。このた
め、クロムめっきの付着性が悪化し、長期の使用によっ
て部分的に剥離したり、防錆性、耐食性が悪化する。
き檀にステンレス材料を移す際に、ステンレス材料が一
旦空気に触れることが避けられない、ところが活性化処
理の済んだステンレス材料が空気に触れると、ステンレ
ス材料が活性化されているために、その表面に僅かでは
あるが、再び不動態皮膜が形成され、この不動態皮膜が
クロムめっきの付着を妨げることが見出された。このた
め、クロムめっきの付着性が悪化し、長期の使用によっ
て部分的に剥離したり、防錆性、耐食性が悪化する。
「発明の目的」
本発明は、ステンレス材料に施すクロム電気めっきにつ
いての以上の問題点の発見に基づき、活性化処理からめ
っき処理に移行する際に不動態皮膜が形成されず、従２
て、ステンレス材料とクロムめっきとの付着性の悪化の
ないクロムめっき方法を得ることを目的とする。
いての以上の問題点の発見に基づき、活性化処理からめ
っき処理に移行する際に不動態皮膜が形成されず、従２
て、ステンレス材料とクロムめっきとの付着性の悪化の
ないクロムめっき方法を得ることを目的とする。
「発明の概要」
本発明は、クロムめっき処理は電解処理の一種であると
ころ、クロムめっき液中において、クロムめっき時と逆
の極性で電解処理を施すと、活性化処理ができることを
見出して本発明を完成したものである。
ころ、クロムめっき液中において、クロムめっき時と逆
の極性で電解処理を施すと、活性化処理ができることを
見出して本発明を完成したものである。
すなわち本発明によるクロムめっき方法は、洗浄処理の
済んだステンレス材料をクロムめっき液中に浸漬し、こ
のクロムめっき液中において、クロムめっき時とは逆の
極性で電解処理を施し、その後、クロムめっきを施すこ
とを特徴とするステンレス材料のクロムめっき方法であ
る。
済んだステンレス材料をクロムめっき液中に浸漬し、こ
のクロムめっき液中において、クロムめっき時とは逆の
極性で電解処理を施し、その後、クロムめっきを施すこ
とを特徴とするステンレス材料のクロムめっき方法であ
る。
この方法によると、ステンレス材料の活性化処理とめっ
き処理との間において、ステンレス材料が空気に触れる
ことがなく、めっき処理の前に再び不動態皮膜が形成さ
れるおそれは皆無である。
き処理との間において、ステンレス材料が空気に触れる
ことがなく、めっき処理の前に再び不動態皮膜が形成さ
れるおそれは皆無である。
よって不動態皮膜の存在を理由として、ステンレス材料
とクロムめっきとの付着性が悪化することはない。
とクロムめっきとの付着性が悪化することはない。
「発明の実施例Ｊ
以下図示実施例について本発明を説明する。第１図は本
発明によるクロムめっき処理の工程を示すブロック図で
あり、第２図は対照として示す従来のクロムめっき処理
の工程を示すブロック図である。クロムめっきを施すべ
きステンレス材料Ｓは、洗浄処理工程１１において１例
えばトリクロルエクンの蒸気洗浄を受け、次に活性化・
めっき工程１２において、第３図に模式的に示すクロム
めっき槽１３内に入れられる。クロムめっき槽１３内の
クロムめっき液（電解液）１４は、クロム酸液を主剤と
し、少量の硫酸を含む周知のものである。
発明によるクロムめっき処理の工程を示すブロック図で
あり、第２図は対照として示す従来のクロムめっき処理
の工程を示すブロック図である。クロムめっきを施すべ
きステンレス材料Ｓは、洗浄処理工程１１において１例
えばトリクロルエクンの蒸気洗浄を受け、次に活性化・
めっき工程１２において、第３図に模式的に示すクロム
めっき槽１３内に入れられる。クロムめっき槽１３内の
クロムめっき液（電解液）１４は、クロム酸液を主剤と
し、少量の硫酸を含む周知のものである。
本発明は、このクロムめっき槽１３内において、ステン
レス材料Ｓにクロムめっき時とは逆の極性によって逆電
解処理を施し、次にクロムめっき処理を施すのである。
レス材料Ｓにクロムめっき時とは逆の極性によって逆電
解処理を施し、次にクロムめっき処理を施すのである。
逆電解処理は、ステンレス材Ｉ４ Ｓを子種とし、クロ
ムめっき液１４を一極として行ない、めっき処理は、周
知のようにステンレス材料Ｓを一極とし、クロムめっき
液１４を子種として行なう、この極性の反転のために、
電源２０には極性反転器２１を付設する。
ムめっき液１４を一極として行ない、めっき処理は、周
知のようにステンレス材料Ｓを一極とし、クロムめっき
液１４を子種として行なう、この極性の反転のために、
電源２０には極性反転器２１を付設する。
逆電解処理は、活性化処理であり、ステンレス材料Ｓの
表面に形成されている不動態皮膜を除去することができ
ることが本発明者によって確認された。第４図は、不動
態皮膜の除去を効果的に行なうための液温（左縦軸）、
処理時間（横軸）、および電流密度（右縦軸）の一つの
関係例を示したもので、斜線の範囲が最適条件である。
表面に形成されている不動態皮膜を除去することができ
ることが本発明者によって確認された。第４図は、不動
態皮膜の除去を効果的に行なうための液温（左縦軸）、
処理時間（横軸）、および電流密度（右縦軸）の一つの
関係例を示したもので、斜線の範囲が最適条件である。
この最適条件を外れると、不動態皮膜の除去が不完全に
なったり、逆に活性化されたステンレス材料の表面に、
金属不純物（Ｃ，Ｓｉ、Ｍｏ、Ｍｎ等）が発生するとと
もに、表面粗度が大きくなり過ぎ、後に付着するクロム
めっきの外観、付着性が悪くなる。
なったり、逆に活性化されたステンレス材料の表面に、
金属不純物（Ｃ，Ｓｉ、Ｍｏ、Ｍｎ等）が発生するとと
もに、表面粗度が大きくなり過ぎ、後に付着するクロム
めっきの外観、付着性が悪くなる。
この活性化処理が終了したら、極性反転器２１によって
ステンレス材料Ｓとクロムめっき液１４の極性を反転し
て電気クロムめっきを行なう。この反転は電気的に瞬時
に行なうことができる。ステンレス材料Ｓの表面に必要
厚さのクロムめっきが形成されたら、電解電流を断ち、
クロムめっき槽１３からステンレス材料Ｓを取り出す。
ステンレス材料Ｓとクロムめっき液１４の極性を反転し
て電気クロムめっきを行なう。この反転は電気的に瞬時
に行なうことができる。ステンレス材料Ｓの表面に必要
厚さのクロムめっきが形成されたら、電解電流を断ち、
クロムめっき槽１３からステンレス材料Ｓを取り出す。
このようにして、同一のクロムめっき槽１３の中におい
て、クロムめっき液１４に浸漬したままステンレス材料
Ｓに対して活性化処理とめっき処理を行なう本発明方法
によれば、活性化処理とめっき処理の間において、ステ
ンレス材料Ｓが空気に触れることはありえず、よって空
気に触れることによる酸化皮膜（不動態皮膜）の形成も
ない、従って、ステンレス材料Ｓとクロムめっきの付着
性を最高の状態に高めることができる。
て、クロムめっき液１４に浸漬したままステンレス材料
Ｓに対して活性化処理とめっき処理を行なう本発明方法
によれば、活性化処理とめっき処理の間において、ステ
ンレス材料Ｓが空気に触れることはありえず、よって空
気に触れることによる酸化皮膜（不動態皮膜）の形成も
ない、従って、ステンレス材料Ｓとクロムめっきの付着
性を最高の状態に高めることができる。
第２図の従来の工程では、洗浄処理工程１１を経たステ
ンレス材料Ｓは、活性化工程１６において不動態皮膜を
除去され、−旦空気に触れた後、めっき処理工程１７に
至る。空気に触れたとき、再び不動態皮膜が形成される
ため、クロムめっきの付着性が悪化するのである。
ンレス材料Ｓは、活性化工程１６において不動態皮膜を
除去され、−旦空気に触れた後、めっき処理工程１７に
至る。空気に触れたとき、再び不動態皮膜が形成される
ため、クロムめっきの付着性が悪化するのである。
「発明の効果」
以上のように本発明によるステンレス材料のクロムめっ
き方法は、従来、別々の槽で行なっていた活性化処理と
めっき処理を、クロムめっき液を有する単一のめっき槽
において極性を反転して行なう二つの電解処理、つまり
逆電解処理とめっき処理とで行なうことができる。よっ
て活性化処理とめっき処理との間でステンレス材料が空
気に触れることはありえず、空気に触れることに起因す
る不動態皮膜の形成がない、このためステンレス材料と
クロムめっきとの付着性が高まり、クロムめっきによる
防錆性および耐食性の効果を十分に発揮することができ
る。
き方法は、従来、別々の槽で行なっていた活性化処理と
めっき処理を、クロムめっき液を有する単一のめっき槽
において極性を反転して行なう二つの電解処理、つまり
逆電解処理とめっき処理とで行なうことができる。よっ
て活性化処理とめっき処理との間でステンレス材料が空
気に触れることはありえず、空気に触れることに起因す
る不動態皮膜の形成がない、このためステンレス材料と
クロムめっきとの付着性が高まり、クロムめっきによる
防錆性および耐食性の効果を十分に発揮することができ
る。
第１図は本発明によるステンレス材料のクロムめっき方
法の工程を示すブロック図、第２図は従来のそれの工程
を示すブロック図、第３図はクロムめっき槽における逆
電解処理とめっき処理の概念図、第４図は逆電解処理の
最適条件の一例を示す図である。 １１・・・洗浄処理工程、１２・・・活性化・めっき工
程、１３・・・クロムめっき槽、１４・・・クロムめっ
き液、２０・・・電源、２１・・・極性反転器、Ｓ・・
・ステンレス材料。
法の工程を示すブロック図、第２図は従来のそれの工程
を示すブロック図、第３図はクロムめっき槽における逆
電解処理とめっき処理の概念図、第４図は逆電解処理の
最適条件の一例を示す図である。 １１・・・洗浄処理工程、１２・・・活性化・めっき工
程、１３・・・クロムめっき槽、１４・・・クロムめっ
き液、２０・・・電源、２１・・・極性反転器、Ｓ・・
・ステンレス材料。
Claims (1)
- （１）洗浄処理されたステンレス材料をクロムめっき液
中に浸漬し、このクロムめっき液中に浸漬したまま、ク
ロムめっき処理時とは逆の極性による逆電解処理と、ク
ロムめっき処理とを施すことを特徴とするステンレス材
料のクロムめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20788088A JPH0257698A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | ステンレス材料のクロムめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20788088A JPH0257698A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | ステンレス材料のクロムめっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0257698A true JPH0257698A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16547088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20788088A Pending JPH0257698A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | ステンレス材料のクロムめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0257698A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001329393A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-27 | Nippon Steel Corp | Ｎｉ−Ｃｒメッキ鋼板の製造方法 |
| US6972146B2 (en) | 2002-03-15 | 2005-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Structure having holes and method for producing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53102840A (en) * | 1977-02-21 | 1978-09-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Preliminarily treating method for diffusion welding of stainless steel, aluminum or aluminum alloy |
| JPS61201800A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 圧延用のＣｒメッキロールの製造方法 |
-
1988
- 1988-08-22 JP JP20788088A patent/JPH0257698A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53102840A (en) * | 1977-02-21 | 1978-09-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Preliminarily treating method for diffusion welding of stainless steel, aluminum or aluminum alloy |
| JPS61201800A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 圧延用のＣｒメッキロールの製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001329393A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-27 | Nippon Steel Corp | Ｎｉ−Ｃｒメッキ鋼板の製造方法 |
| US6972146B2 (en) | 2002-03-15 | 2005-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Structure having holes and method for producing the same |
| US7214418B2 (en) | 2002-03-15 | 2007-05-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Structure having holes and method for producing the same |
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