JPH0259400A - Icカード用の半導体装置の製造方法 - Google Patents
Icカード用の半導体装置の製造方法Info
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- JPH0259400A JPH0259400A JP63209539A JP20953988A JPH0259400A JP H0259400 A JPH0259400 A JP H0259400A JP 63209539 A JP63209539 A JP 63209539A JP 20953988 A JP20953988 A JP 20953988A JP H0259400 A JPH0259400 A JP H0259400A
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- Japan
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- chip
- die
- bonding material
- hardening
- card
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- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/077—Constructional details, e.g. mounting of circuits in the carrier
- G06K19/0772—Physical layout of the record carrier
- G06K19/07728—Physical layout of the record carrier the record carrier comprising means for protection against impact or bending, e.g. protective shells or stress-absorbing layers around the integrated circuit
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/67—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はICカード用の半導体装置のl遣方法に係り、
更に詳しくは、カード搭載用のChip onBoar
d型ICモジュ型用Cモジュールチップのダイボンディ
ング方法に関する。
更に詳しくは、カード搭載用のChip onBoar
d型ICモジュ型用Cモジュールチップのダイボンディ
ング方法に関する。
[従来の技術]
ICカードは、コンパクトでありながら記憶容量が大き
く情報の読みさぎができることから、近時急速に悴及し
つつある。
く情報の読みさぎができることから、近時急速に悴及し
つつある。
第7図〜第10図は従来のICカードに係り、第7図並
びに第8図示のように、例えば塩化ビニールなどのプラ
スチック製のカード1の収納凹部内に、ICカード用の
ICチップを樹脂で封止してなるICモジュール3を内
蔵・搭載して接着剤2で固着し、該ICモジュール3に
形成した外部接続用の端子部4をカード1の表面と路面
−に露呈させた構成を採っている。そして、ICカード
をカードリーダライタに装着した際には、上記端子部4
を介して情報の読み書きが行なわれるようになっている
。
びに第8図示のように、例えば塩化ビニールなどのプラ
スチック製のカード1の収納凹部内に、ICカード用の
ICチップを樹脂で封止してなるICモジュール3を内
蔵・搭載して接着剤2で固着し、該ICモジュール3に
形成した外部接続用の端子部4をカード1の表面と路面
−に露呈させた構成を採っている。そして、ICカード
をカードリーダライタに装着した際には、上記端子部4
を介して情報の読み書きが行なわれるようになっている
。
第9図は前記ICモジュール3を示している。
同図において、5はモジュール用の基板で、該基板5の
一面上にはICチップ接続用の導体パターン6並びに金
属製のダイパッド7が形成されており、また、基板5の
他面には上記導体パターン6とスルーホール8を介して
接続された端子部4が形成されている。10はICチッ
プで、上記平坦なダイパッド7上に例えば熱硬化型のエ
ポキシ系樹脂よりなるダイボンド材11を加熱硬化させ
ることによってダイボンディングされており、また、I
Cチップ10の接続端子部は、Au線12によって1涌
記導体パターン6とワイヤボンディングによって電気的
に接続されている。13は封止材で、例えば熱硬化型の
エポキシ系樹脂よりなっており。
一面上にはICチップ接続用の導体パターン6並びに金
属製のダイパッド7が形成されており、また、基板5の
他面には上記導体パターン6とスルーホール8を介して
接続された端子部4が形成されている。10はICチッ
プで、上記平坦なダイパッド7上に例えば熱硬化型のエ
ポキシ系樹脂よりなるダイボンド材11を加熱硬化させ
ることによってダイボンディングされており、また、I
Cチップ10の接続端子部は、Au線12によって1涌
記導体パターン6とワイヤボンディングによって電気的
に接続されている。13は封止材で、例えば熱硬化型の
エポキシ系樹脂よりなっており。
ボッティグもしくはトランスファモールドで形成されて
前記ICチップ1oを封入・保護するようになっている
。
前記ICチップ1oを封入・保護するようになっている
。
[発明が解決しようとするaM]
ところで、上述した従来のICカード用のICモジュー
ル3にあっては、前記ダイボンド材11の収縮応力によ
って、ICチップ10の表面側には第10図に示すよう
に大きな引張応力F(T)が発生する。このICチップ
10の引張残留応力は、時としてICチップ10の破壊
限界値(引張応力で100MPa程度)近傍に達するこ
ともあり、組立て工程時におけるICチップクラックの
発生や、カード化した後のICチップ破壊限界値の低下
などを招来し、製造歩留り並びに製品の信頼性を著しく
劣化させるという開運があった。
ル3にあっては、前記ダイボンド材11の収縮応力によ
って、ICチップ10の表面側には第10図に示すよう
に大きな引張応力F(T)が発生する。このICチップ
10の引張残留応力は、時としてICチップ10の破壊
限界値(引張応力で100MPa程度)近傍に達するこ
ともあり、組立て工程時におけるICチップクラックの
発生や、カード化した後のICチップ破壊限界値の低下
などを招来し、製造歩留り並びに製品の信頼性を著しく
劣化させるという開運があった。
従って、本発明の解決すべき技術的課題は上述した従来
技術のもつ問題点を解消することにあり、その目的とす
るところは、ICチップの残留応力を軽減し、以って製
造歩留りが向上でき、信頼性の高いICカード用の半導
体装置(ICモジュール)を堤供することにある。
技術のもつ問題点を解消することにあり、その目的とす
るところは、ICチップの残留応力を軽減し、以って製
造歩留りが向上でき、信頼性の高いICカード用の半導
体装置(ICモジュール)を堤供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の上記した目的は、基板上にICチップをダイボ
ンディングすると共に、基板上の導体パターンとICチ
ップとをワイヤボンデイグし、さらにICチップを封止
材で封止してなるICモジュールを、カードに搭載する
ようにしたICカード用の半導体装置の製造方法におい
て、前記ICチップ用のダイボンド材を、特定箇所を硬
化の起点として該起点から遠ざかる方向に順次硬化を進
行させることによって達成される。
ンディングすると共に、基板上の導体パターンとICチ
ップとをワイヤボンデイグし、さらにICチップを封止
材で封止してなるICモジュールを、カードに搭載する
ようにしたICカード用の半導体装置の製造方法におい
て、前記ICチップ用のダイボンド材を、特定箇所を硬
化の起点として該起点から遠ざかる方向に順次硬化を進
行させることによって達成される。
[作用]
本発明は上述の如く、前記ダイボンド材の硬化の起点と
硬化進行方向を制御しているので、従来のようにダイボ
ンド材全体が急激に加熱硬化されるものに比して、ダイ
ボンド材の硬化収縮応力が緩和され、従ってICチップ
の表面側の引張残留応力は大幅に軽減される。
硬化進行方向を制御しているので、従来のようにダイボ
ンド材全体が急激に加熱硬化されるものに比して、ダイ
ボンド材の硬化収縮応力が緩和され、従ってICチップ
の表面側の引張残留応力は大幅に軽減される。
[実施例コ
以下本発明を図示した実施例によって説明する。
第1図は本発明の第1実施例に係るICカード用の半導
体装置たるICモジュールを示す図で、同図において前
記第9図示の従来構成と同一の部材には同一符号を付し
である。
体装置たるICモジュールを示す図で、同図において前
記第9図示の従来構成と同一の部材には同一符号を付し
である。
この本発明の第1実施例に係るICモジュール3Aは、
封止材13Aをトランスファモールドによって形成しで
ある。第1図に示すモジュール用の基板5Aの一面には
、前記導体パターン6並びに後記する形状のダイパッド
14が形成されていると共に、該基板5Aの他面には前
記スルーホール8を介して導体パターン6と接続された
前記端子部4が形成されている。そして、前記ICチッ
プ10が、ダイボンド材11によってダイボンディング
された後、前記Au線12によってICチップlOと導
体パターン6とがワイヤボンディングされ、然る後、封
止材13Aをトランスファモールド法で形成することに
よって、ICモジュール3Aが完成されるようになって
いる。
封止材13Aをトランスファモールドによって形成しで
ある。第1図に示すモジュール用の基板5Aの一面には
、前記導体パターン6並びに後記する形状のダイパッド
14が形成されていると共に、該基板5Aの他面には前
記スルーホール8を介して導体パターン6と接続された
前記端子部4が形成されている。そして、前記ICチッ
プ10が、ダイボンド材11によってダイボンディング
された後、前記Au線12によってICチップlOと導
体パターン6とがワイヤボンディングされ、然る後、封
止材13Aをトランスファモールド法で形成することに
よって、ICモジュール3Aが完成されるようになって
いる。
前記金属製のダイパッド14は、該実施例においては第
2図に示すように、その中央部分に平坦な突出頂部14
aと、該突出頂部14aから四辺に向って高さが漸次減
じられた傾斜部14bとをもつ、頂部が切落された偏平
な四角錐形状を呈している。そして、ダイパッド14は
その平坦な下面側を前記基板5A上に適宜手段で密着固
定されるようになっている。
2図に示すように、その中央部分に平坦な突出頂部14
aと、該突出頂部14aから四辺に向って高さが漸次減
じられた傾斜部14bとをもつ、頂部が切落された偏平
な四角錐形状を呈している。そして、ダイパッド14は
その平坦な下面側を前記基板5A上に適宜手段で密着固
定されるようになっている。
ICチップ10のダイボンディングに際しては、前記ダ
イパッド14の上面側(上記突出頂部14aと傾斜部1
4b)に、例えばエポキシ系樹脂などの熱硬化型樹脂よ
りなる前記ダイボンド材11を塗布した後、前記ICチ
ップ10が載置され、図示せぬ加熱手段によってダイボ
ンド材11が加熱硬化される。この際、第3図に示した
ようにICチップ10の下面中央部分の下のダイボンド
材11の量は他の部位よりも少ないため、この部分(即
ち突出頂部14a上)で先ず硬化が先行して始まり、突
出頂・部14a上がダイボンド材11の硬化の起点とな
る。また、突出頂部14aの周囲には前記傾斜部14b
が存在しているため、ダイボンド材11はICチップ1
0の外縁に向ってその量が増加している。このためIC
チップ10の外縁に向うほどダイボンド材11の硬化に
遅延を生じ、硬化はICチップ10の中央から外周側に
放射状に進行する。このように、グーCボンド材11の
硬化が、硬化起点から遠ざかる方向に遅延して進行する
ことによって、ダイボンド材11の収縮量、即ち収縮応
力を低減でき、よってICチップ10の表面側の引張応
力が従来に較べて大幅に軽減できる。従って1組立て工
程時におけるICチップクラックの発生の虞れや、カー
ド化した後のICチップ破壊限界値の低下などの悪影響
を排除でき、製造歩留り並びに製品の信頼性が大きく向
上する。
イパッド14の上面側(上記突出頂部14aと傾斜部1
4b)に、例えばエポキシ系樹脂などの熱硬化型樹脂よ
りなる前記ダイボンド材11を塗布した後、前記ICチ
ップ10が載置され、図示せぬ加熱手段によってダイボ
ンド材11が加熱硬化される。この際、第3図に示した
ようにICチップ10の下面中央部分の下のダイボンド
材11の量は他の部位よりも少ないため、この部分(即
ち突出頂部14a上)で先ず硬化が先行して始まり、突
出頂・部14a上がダイボンド材11の硬化の起点とな
る。また、突出頂部14aの周囲には前記傾斜部14b
が存在しているため、ダイボンド材11はICチップ1
0の外縁に向ってその量が増加している。このためIC
チップ10の外縁に向うほどダイボンド材11の硬化に
遅延を生じ、硬化はICチップ10の中央から外周側に
放射状に進行する。このように、グーCボンド材11の
硬化が、硬化起点から遠ざかる方向に遅延して進行する
ことによって、ダイボンド材11の収縮量、即ち収縮応
力を低減でき、よってICチップ10の表面側の引張応
力が従来に較べて大幅に軽減できる。従って1組立て工
程時におけるICチップクラックの発生の虞れや、カー
ド化した後のICチップ破壊限界値の低下などの悪影響
を排除でき、製造歩留り並びに製品の信頼性が大きく向
上する。
第4図は本発明の第2実施例に係るICカード用の半導
体装置たるICモジュール3Bを示す図で、該実施例は
ダイパッドの形状を除き前記した第9図の従来例と同等
構成をとっており、第9図の構成と同等の部材には同一
符号を付してあり。
体装置たるICモジュール3Bを示す図で、該実施例は
ダイパッドの形状を除き前記した第9図の従来例と同等
構成をとっており、第9図の構成と同等の部材には同一
符号を付してあり。
その説明は重複を避けるため制電する。
第4図において15は金属型のダイパッドで、第5図に
詳細を示すように、該ダイパッド15は、その中央部分
に平坦な突出頂部15aと、該突出頂部15aから四辺
に向って高さが漸次減じられた略偏平円錐面状の傾斜部
15bとをもつものとなっている。該実施例におけるダ
イパッド15も前記第1実施例と同様に、前記ダイボン
ド材11の硬化を、突出頂部15a上を起点としてIC
チップ10の外縁に向って放射状に遅延して進行させる
ように機能し、前記実施例と同等の効果を奏することが
できる。
詳細を示すように、該ダイパッド15は、その中央部分
に平坦な突出頂部15aと、該突出頂部15aから四辺
に向って高さが漸次減じられた略偏平円錐面状の傾斜部
15bとをもつものとなっている。該実施例におけるダ
イパッド15も前記第1実施例と同様に、前記ダイボン
ド材11の硬化を、突出頂部15a上を起点としてIC
チップ10の外縁に向って放射状に遅延して進行させる
ように機能し、前記実施例と同等の効果を奏することが
できる。
第6図は本発明の第3実施例を示しており、該実施例に
おける金属型のダイパッド16は、その中心から偏った
隅部近傍に平坦な突出頂部16aが形成されていると共
に、該突出頂部16aから遠ざかるに従って高さが漸次
減じられた傾斜部16bが形成されている。この実施例
においては。
おける金属型のダイパッド16は、その中心から偏った
隅部近傍に平坦な突出頂部16aが形成されていると共
に、該突出頂部16aから遠ざかるに従って高さが漸次
減じられた傾斜部16bが形成されている。この実施例
においては。
前記ダイボンド材11の硬化は、ICチップ10の下面
隅部の突出頂部16a上を硬化起点として、図示矢印の
如く硬化起点から遠ざかる方向に放射状に進行し、この
場合も、前記各実施例と同様にダイボンド材11の硬化
収縮応力が小さくなって、ICチップ10の表面側の引
張残留応力を大幅に軽減できる。
隅部の突出頂部16a上を硬化起点として、図示矢印の
如く硬化起点から遠ざかる方向に放射状に進行し、この
場合も、前記各実施例と同様にダイボンド材11の硬化
収縮応力が小さくなって、ICチップ10の表面側の引
張残留応力を大幅に軽減できる。
以上本発明を図示した実施例によって説明したが、当業
者には本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変形が可
能で、例えば、ダイボンディング工程時のICチップの
位置決めを工夫することによって、ダイパッドの形状を
切頭錐体形状ではなく、頂部が尖った偏平錐体形状とす
ることも可能であり、場合によってはモジュール用の基
板自体にダイパッドに見合う形状を一体形成するように
しても良い。
者には本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変形が可
能で、例えば、ダイボンディング工程時のICチップの
位置決めを工夫することによって、ダイパッドの形状を
切頭錐体形状ではなく、頂部が尖った偏平錐体形状とす
ることも可能であり、場合によってはモジュール用の基
板自体にダイパッドに見合う形状を一体形成するように
しても良い。
[5I!明の効果コ
以上のように、本発明のICカード用の半導体装置(I
Cモジュール)の製造方法によれば、ICチップの残留
応力を軽減でき、製造歩留り並びにICチップの信頼性
が向上しうるICカード用の半導体装置(ICモジュー
ル)を提供でき、その産業的価値は高い。
Cモジュール)の製造方法によれば、ICチップの残留
応力を軽減でき、製造歩留り並びにICチップの信頼性
が向上しうるICカード用の半導体装置(ICモジュー
ル)を提供でき、その産業的価値は高い。
第1図〜第3図は本発明の第1実施例によるICカード
用のICモジュールに係り、第1図はICモジュールの
断面図、第2図(a)はダイパッドの1例を示す平面図
、第2図(b)は第2図(a)のA−A線断面図、第3
図はダイボンド材の硬化進行方向を示す説明図、第4図
及び第5図は本発明の第2実施例によるICカード用の
ICモジュールに係り、第4図はICモジュールの断面
図、第5図(、)はダイパッドの1例を示す平面図、第
5図(b)は第5図(a)のB−B線断面図、第6図は
本発明の第3実施例を示す説明図、第7図〜第10図は
従来例に係り、第7図はICカードの平面図、第8図は
ICカードの要部断面図、第9図はICモジュールの断
面図、第10図はICチップにおける応力発生を示すた
めの模式化した説明図である。 1・・・・・・カード、2・・・・・・接着剤、3.3
A、3B・・・・・・ICモジュール、4・・・・・・
端子部、5,5A・・・・・・モジュール用の基板、6
・・・・・・導体パターン、7・・・・・・ダイパッド
、8・・・・・・スルーホール、10・・・・・・IC
チップ、11・・・・・・ダイボンド材、12・・・・
・・Au #1.l 3 、 13 A−−封止材、1
4,15.16・・・・・・ダイパッド、14a、15
a、16a・・・・・・突出頂部、14b、15b、1
6b・・・・・・傾斜部。 第7図 第10図 の」お
用のICモジュールに係り、第1図はICモジュールの
断面図、第2図(a)はダイパッドの1例を示す平面図
、第2図(b)は第2図(a)のA−A線断面図、第3
図はダイボンド材の硬化進行方向を示す説明図、第4図
及び第5図は本発明の第2実施例によるICカード用の
ICモジュールに係り、第4図はICモジュールの断面
図、第5図(、)はダイパッドの1例を示す平面図、第
5図(b)は第5図(a)のB−B線断面図、第6図は
本発明の第3実施例を示す説明図、第7図〜第10図は
従来例に係り、第7図はICカードの平面図、第8図は
ICカードの要部断面図、第9図はICモジュールの断
面図、第10図はICチップにおける応力発生を示すた
めの模式化した説明図である。 1・・・・・・カード、2・・・・・・接着剤、3.3
A、3B・・・・・・ICモジュール、4・・・・・・
端子部、5,5A・・・・・・モジュール用の基板、6
・・・・・・導体パターン、7・・・・・・ダイパッド
、8・・・・・・スルーホール、10・・・・・・IC
チップ、11・・・・・・ダイボンド材、12・・・・
・・Au #1.l 3 、 13 A−−封止材、1
4,15.16・・・・・・ダイパッド、14a、15
a、16a・・・・・・突出頂部、14b、15b、1
6b・・・・・・傾斜部。 第7図 第10図 の」お
Claims (2)
- (1)基板上にICチップをダイボンディングすると共
に、基板上の導体パターンとICチップとをワイヤボン
デイグし、さらにICチップを封止材で封止してなるI
Cモジュールを、カードに搭載するようにしたICカー
ド用の半導体装置の製造方法において、前記ICチップ
用のダイボンド材を、特定箇所を硬化の起点として該起
点から遠ざかる方向に順次硬化を進行させるようにした
ことを特徴とするICカード用の半導体装置の製造方法
。 - (2)請求項(1)記載において、前記ICチップは前
記基板上に設けられたダイパッドにダイボンディングさ
れ、前記ダイボンド材は、上記ダイパッドの突出頂部を
硬化の起点として硬化が進行するようにされたことを特
徴とするICカード用の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63209539A JPH0259400A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Icカード用の半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63209539A JPH0259400A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Icカード用の半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0259400A true JPH0259400A (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=16574484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63209539A Pending JPH0259400A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Icカード用の半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0259400A (ja) |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63209539A patent/JPH0259400A/ja active Pending
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