JPH02678A - ポリアミド酸ワニス - Google Patents

ポリアミド酸ワニス

Info

Publication number
JPH02678A
JPH02678A JP32990588A JP32990588A JPH02678A JP H02678 A JPH02678 A JP H02678A JP 32990588 A JP32990588 A JP 32990588A JP 32990588 A JP32990588 A JP 32990588A JP H02678 A JPH02678 A JP H02678A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamic acid
varnish
acid varnish
polyimide
aprotic polar
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32990588A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Matsuura
秀一 松浦
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Masatoshi Yoshida
正俊 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP32990588A priority Critical patent/JPH02678A/ja
Publication of JPH02678A publication Critical patent/JPH02678A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は極めて耐熱性及び強度のすぐれたポリイミド成
形物を製造することができるポリアミド酸ワニスに関す
る。
〔従来の技術〕
従来、ポリイミド成形物に用いるポリイミドとしては4
,4′−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット酸
二無水物とからなる縮合物が知られている。これは、該
ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の危機溶剤溶液
(ポリアミド酸ワニス)を成形し、イミド化することに
よって製造されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
眞記のポリイミドは耐熱性の一つの目安となるガラス転
移温度が400℃以下と低く、また引張強度もたかだか
17 kg/ no2前後と低いものである。そのため
400℃以上で使用する場合や強度の必要な場合には使
用できないという欠点がある。
本発明は耐熱性及び強度にすぐれたポリイミド成形物を
製造するための中間体であるポリイミド酸ワニスを提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は4,4′−ジアミノジフェニルエーテル10〜
90モル%とp−フェニレンジアミン90〜10モル%
からなるジアミン成分とピロメリット酸二無水物とを反
応させて得られるポリアミド酸を非プロトン性極性溶媒
に溶解させてなるポリアミド酸ワニスに関する。
本発明に係るポリアミド酸ワニスは、前記ジアミン成分
とピロメリット酸二無水物とを非プロトン性極性溶媒中
、好ましくは一り0℃〜100 ’Cで反応させて製造
することができる。このポリアミド酸ワニスから最終的
にポリイミド成形物を得ることができる。
本発明において4,4′−ジアミノジフェニルエーテル
とp−フェニレンジアミンのモル比は、前者/後者で9
0/10−10/90とする。p−フェニレンジアミン
のモル分率が0.1  より少ないとポリイミドのガラ
ス転移温度および強度が低く、 0.9  より多いと
ポリイミド成形物がもろく好ましくない。
また、4,4′−ジアミノジフェニルエーテルとp−フ
ェニレンジアミンのモル比は成形物の吸湿率の点からは
、前者/後者で、90/10〜50150とするのが好
ましく、さらに90/10〜70/30とするのが特に
好ましい。
本発明において用いる非プロトン性極性溶媒としてはN
−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルポル11アミ1へ、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、メチルスルホラン。
テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、ブチ
ルラクトン等が好ましく、これらの溶媒を単独あるいは
2種以上を混合して用いてもよいし、さらにこれらにキ
シレン、トルエン、ベンゼン。
フェノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジアセ1
−ンアルコール、セロソルブ、メチルイソブチルケトン
、クレゾール、ジオキサン、シクロヘキサノン等の溶媒
をポリアミド酸が析出しない範囲で添加して使用しても
よい。
ジアミン成分とピロメリット酸二無水物とのモル比はほ
ぼ等量で用いるのが好ましいが、いずれか一方の成分の
過剰量が他方の成分に対して10モル%以内、好ましく
は5モル%以内であればよい。
ポリアミド酸ワニスの樹脂分は5〜25重量%が好まし
く15〜20%が特に望ましい。
反応温度は一10°C〜100℃が好ましく、特に望ま
しくは0〜50℃である。反応温度が一10℃より低い
とどロメリット酸二無水物の溶解性が悪く、また温度が
低すぎるために反応の完結までに長時間を要する。また
1 00 ’Cより高いとイミド化が進みすぎ樹脂が析
出するために好ましくない。
上記方法によって得られるポリアミド着ワニスは、流延
によってフィルム化したり、導体をワニス中に浸漬した
り、あるいは基板上に塗布したりして成形した後、10
0℃以上に加熱するかあるいは脱水剤、例えば無水酢酸
−ピリジンで処理することによってイミド化し、耐熱性
強度及び絶縁性に優れたポリイミド成形物とすることが
できる。
〔実施例〕
以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明するが、
本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない
実施例1 温度計、撹拌機および塩化カルシウム管をつけた300
mQ4つロフラスコに4.4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル(以下DDEと略す) 17.0g、P−フェニ
レンジアミン(以下1) P Dと略す)1.62 g
とN、N−ジメチルアセトアミド229.1gを入れ攪
拌し溶解する。この溶液を10°C前後に保ちながらピ
ロメリット酸二無水物(以下PMOAと略す)21.8
g  を徐々に添加した後3時間攪拌して還元粘度2,
34dQ/g(溶媒ジメチルアセ1−アミド、濃度0.
1g/dQ、温度25.0°C)のポリアミド酸ワニス
を得た。
このワニスをガラス板上に流延した後90°Cで30分
間乾燥してポリアミド酸からなる丈夫なフィルムを得た
。フィルムをガラス板上より剥離し金枠に固定し200
°CIO分更に425℃で10分加熱してポリイミドフ
ィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの引張り強
さおよび伸び率をJll定したところそれぞれ20 、
2 kg/ n1112.72%であった。ガラス転移
温度は407℃であり、400 ’Cで30分間加熱し
た後の収縮率は0.3%で、I!A湿率(25℃、75
%RHにおける飽和吸湿率)は3.0%であった。また
耐屈曲性は15000回以上であった。
比較例1 DDE20.0g  とPMDA21.8g 、ジメチ
ルアセトアミド236.9 g  を用いる以外は実施
例1と同様にして還元粘度2.08dQ/ど のポリア
ミド酸ワニスを得た。実施例1と同様にして得たポリイ
ミドフィルムの引張強さは16.8kg/no2、伸び
率は74%であった。ガラス転移温度は390 ’Cで
あり、400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.6
%で吸湿率は3.0%であった。また耐屈曲性は100
00回以上であった。
実施例2 DDE 14.0 g  とPPD3.24g 、ジメ
チルボルムアミド156.2g、PMDA21.8gを
用いる以外は実施例1と同様にして還元粘度2.43c
lQ/g  のポリアミド酸ワニスを得た。
この後実施例1に示すのと同様にしてポリイミドフィル
ムを得た。このフィルムの引張強さは22 、4 kg
/ rra2、伸び率は58%であった。ガラス転移温
度は420°Cであり、400℃で30分間加熱した後
の収縮率は0.15%で吸湿率は3.2%であった。耐
屈曲性は1.5000回以上であった。
実施例3 DDEIO,0%、PPD5.4.g、N−メチル2−
ピロリドン211 g、PMDA21.8gを用い、反
応温度を30℃とした以外は実施例1と同様にして還元
粘度2.33dQ/g  のポリアミド酸ワニスを得た
この後、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得
た。このフィルムの引張強さは25.5kg/1111
2、伸び率は42%で、吸湿率は3.5%であった。ガ
ラス転移温度は440℃であり、400℃で30分間加
熱した後の収縮率は0.1%であった。また耐屈曲性は
15000回以上であった。
実施例4 DDE5.0g  、PPD8.1g  、ジメチルア
セ1ヘアミド198g、PMDA21.8gを用い、反
応温度を40’Cとした以外は実施例1と同様にして還
元粘度1.98dQ/g  のポリアミド酸ワニスを得
た。
この後、最終処理温度を450 ’Cとする以外は実施
例1に示すのと同様にしてポリイミドフィルl−を得た
。このフィルムの引張強さは28.5kg/nn、伸び
率は35%であった。ガラス転移温度は460°Cであ
り、400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.1%
で、吸湿率は4 、3 % であった。また耐屈曲性は
15000回以上であった。
比較例2 DDEl、0g  、PPDlo、3g  、ジメチル
アセトアミド242.4g、PMDA21.8gを用い
る以外は実施例1と同様にして還元粘度1.63d Q
/g  のポリアミド酸ワニスを得た。
この後、実施例4に示すのと同様にしてポリイミドフィ
ル11を得た。このフィル11の引張強さは32 、3
 kg/ nwn2伸び率は8%であった。ガラス転移
温度は470℃であり、4oO′cで30分間加熱した
後の収縮率は0.1%で、吸湿s8は・1.9%であっ
たが耐屈曲性は2800回であった。
〔発明の効果〕
本発明に係るポリアミド酸ワニスがら耐熱性、強度の優
れたポリイミド成形物を得ることができる。
ゝ・こり

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル10〜90
    モル%とp−フェニレンジアミン90〜10モル%から
    なるジアミン成分とピロメリット酸二無水物とを反応さ
    せて得られるポリアミド酸を非プロトン性極性溶媒に溶
    解させてなるポリアミド酸ワニス。
JP32990588A 1988-12-27 1988-12-27 ポリアミド酸ワニス Pending JPH02678A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32990588A JPH02678A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 ポリアミド酸ワニス

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32990588A JPH02678A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 ポリアミド酸ワニス

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6716584A Division JPS60210629A (ja) 1984-04-04 1984-04-04 ポリイミド成形物の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02678A true JPH02678A (ja) 1990-01-05

Family

ID=18226572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32990588A Pending JPH02678A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 ポリアミド酸ワニス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02678A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100403185C (zh) * 2004-07-02 2008-07-16 三星电子株式会社 湿式电子照相成像装置及其装配方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100403185C (zh) * 2004-07-02 2008-07-16 三星电子株式会社 湿式电子照相成像装置及其装配方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6715406B2 (ja) 高耐熱ポリイミドフィルム
JPH0134455B2 (ja)
JPS6042817B2 (ja) ポリイミド成形物の製造方法
JP4665373B2 (ja) ポリイミドフィルム
US4996293A (en) Composition comprising polyimide resin from diphenyl sulfone -3,3',4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride
JPH01121A (ja) ポリイミド樹脂組成物並びにその製造方法
JP3687044B2 (ja) 共重合ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JPH047333A (ja) 新規ポリイミド
JPS62205124A (ja) ポリイミド
JPS6337821B2 (ja)
JP2973516B2 (ja) 芳香族ポリイミドフィルムの製造法
KR20090089002A (ko) 폴리이미드 필름
JPH09227697A (ja) ゲルを経由した耐熱性ポリイミドフィルムの製造方法
JPS614730A (ja) 有機溶媒可溶性ポリイミド化合物の製法
JP2903704B2 (ja) 芳香族ポリイミドフィルムの製造法
JPS5813631A (ja) シロキサン結合含有ポリヒドラジド酸−アミド酸及びポリヒドラジイミド−シロキサン型共重合体樹脂の製造法
JPS63297428A (ja) 特殊なポリイミドの鋳型成形フイルムおよび被覆剤としての使用
JPH02678A (ja) ポリアミド酸ワニス
EP0418889B1 (en) Polyamic acid having three-dimensional network molecular structure, polyimide obtained therefrom and process for the preparation thereof
JP2910796B2 (ja) ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム並びにそれらの製造方法
JPH11209470A (ja) ポリイミド系樹脂の製造方法
JPS63199239A (ja) 新規な溶剤可溶性ポリイミド及びその製造方法
JPH0470332B2 (ja)
JP2002212287A (ja) ポリイミドの製造方法
JPS63314241A (ja) ポリアミド酸共重合体の製造方法