JPH0271430A - 磁気記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH0271430A JPH0271430A JP22387488A JP22387488A JPH0271430A JP H0271430 A JPH0271430 A JP H0271430A JP 22387488 A JP22387488 A JP 22387488A JP 22387488 A JP22387488 A JP 22387488A JP H0271430 A JPH0271430 A JP H0271430A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- hardness
- recording medium
- magnetic recording
- underlying layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 9
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 7
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体用基板の製造方法に関するもので
あり、特に基板の製造工程中における熱〔従来の技術〕 従来から使用されている磁気記録媒体は、非磁性材料か
らなる基板の表面上に下地層を設け、この下地層の上に
磁性材料からなる磁性層を被着させて構成しである。こ
のような磁気記録媒体を磁気ディスク装置に装着して媒
体上に情報を記録し若しくは媒体上に記録した情報を再
生出力するためには１例えば上記媒体と０．２〜０．３
μｍの微小間隙を介して保持した磁気へンドを使用する
。なお静止時においては磁気ヘッドと磁気記録媒体とは
接触するため２両者の摩擦、摩耗および／または衝突に
伴う損傷防止のために浮動へラドスライダを使用するの
が通常である。従って磁気記録媒体には起動時および停
止時におけるヘッド若しくはスライダとの接触摺動（Ｃ
ｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ａｎｄ５ｔｏｐ＋以下Ｃ３
Ｓと記す）特性が良好であることが要求される。このた
め磁気記録媒体上に設ける下地層および磁性層の硬さが
大に形成する方がＣ３Ｓ特性の点においては有利である
とされ、下地層の硬さはＨｖ≧３００が好ましいとされ
ている。
あり、特に基板の製造工程中における熱〔従来の技術〕 従来から使用されている磁気記録媒体は、非磁性材料か
らなる基板の表面上に下地層を設け、この下地層の上に
磁性材料からなる磁性層を被着させて構成しである。こ
のような磁気記録媒体を磁気ディスク装置に装着して媒
体上に情報を記録し若しくは媒体上に記録した情報を再
生出力するためには１例えば上記媒体と０．２〜０．３
μｍの微小間隙を介して保持した磁気へンドを使用する
。なお静止時においては磁気ヘッドと磁気記録媒体とは
接触するため２両者の摩擦、摩耗および／または衝突に
伴う損傷防止のために浮動へラドスライダを使用するの
が通常である。従って磁気記録媒体には起動時および停
止時におけるヘッド若しくはスライダとの接触摺動（Ｃ
ｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ａｎｄ５ｔｏｐ＋以下Ｃ３
Ｓと記す）特性が良好であることが要求される。このた
め磁気記録媒体上に設ける下地層および磁性層の硬さが
大に形成する方がＣ３Ｓ特性の点においては有利である
とされ、下地層の硬さはＨｖ≧３００が好ましいとされ
ている。
なお磁気記録媒体の製造方法の一例を記述すると上記の
ようになる。まず純度９９．９９％のアルミニウムから
なる基板の表面を平滑に機械加工し。
ようになる。まず純度９９．９９％のアルミニウムから
なる基板の表面を平滑に機械加工し。
この基板をクロム酸溶液中に浸漬させて陽極酸化処理を
行って表面に厚さ１０μｍのアルマイト質の下地層を形
成する。次にこの基板に例えば３４０’ＣＸ３Ｈｒの熱
処理を施した後、下地層の表面を平滑に研磨加工すると
共に、磁気へノドとの吸着を防止するテクスチャー加工
を施す。基板を洗浄後２例えばマグネトロンスパッタ装
置によって。
行って表面に厚さ１０μｍのアルマイト質の下地層を形
成する。次にこの基板に例えば３４０’ＣＸ３Ｈｒの熱
処理を施した後、下地層の表面を平滑に研磨加工すると
共に、磁気へノドとの吸着を防止するテクスチャー加工
を施す。基板を洗浄後２例えばマグネトロンスパッタ装
置によって。
例えばＣｏ−Ｎｉ合金からなる磁性層を設けた後。
真空中において例えば３２０”ＣＸ ３ Ｈｒの熱処理
を行い、１性層に所定の磁気特性を付与する。以後もｎ
性層の表面に潤滑剤を塗布して磁気記録媒体とするので
ある。
を行い、１性層に所定の磁気特性を付与する。以後もｎ
性層の表面に潤滑剤を塗布して磁気記録媒体とするので
ある。
上記のような製造工程を経由する磁気記録媒体用の７ｉ
Ｅ仮には、下地層を形成後において研磨加工およびテク
スチャー加工を施すため、加工による硬さの上昇が起こ
り、以後の熱処理時までに下地層の硬さはＨｖ 嬌５０
０に到達する。このため真空中熱処理工程において基板
に変形および／またはクランクが発生し、基板の品質を
著しく低下させると共に２歩留を大幅に低下させるとい
う問題点がある。上記の例えばアルマイトｔの下地層の
硬さを低くするためには、クロム酸溶液の温度、すなわ
ち化成温度を上昇させる手段がある。しかしながら、上
記化成温度の上昇によって変形および／またはクランク
は濾少する一方において３丁地層の多孔性および孔の大
きさが増大して！ＬＪ滑剤の浸透が大となると共に、前
記Ｃ８Ｓ特性を著しく阻害するという問題点がある。
Ｅ仮には、下地層を形成後において研磨加工およびテク
スチャー加工を施すため、加工による硬さの上昇が起こ
り、以後の熱処理時までに下地層の硬さはＨｖ 嬌５０
０に到達する。このため真空中熱処理工程において基板
に変形および／またはクランクが発生し、基板の品質を
著しく低下させると共に２歩留を大幅に低下させるとい
う問題点がある。上記の例えばアルマイトｔの下地層の
硬さを低くするためには、クロム酸溶液の温度、すなわ
ち化成温度を上昇させる手段がある。しかしながら、上
記化成温度の上昇によって変形および／またはクランク
は濾少する一方において３丁地層の多孔性および孔の大
きさが増大して！ＬＪ滑剤の浸透が大となると共に、前
記Ｃ８Ｓ特性を著しく阻害するという問題点がある。
本発明は上記従来技術に存在する問題点を解決し、変形
および／またはクラックの発生を防止すると共に潤滑剤
の浸透のない磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する
ことを目的とする。
および／またはクラックの発生を防止すると共に潤滑剤
の浸透のない磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する
ことを目的とする。
上記目的を達成するために２本発明においてはジ目ｆ１
性材料からなる基板の表面上に下地層を設け。
性材料からなる基板の表面上に下地層を設け。
この下地層の上に磁性材料からなる磁性層を被着させて
なる磁気記録媒体用基板の製造方法において、アルミニ
ウム若しくはアルミニウム基合金からなる基板をクロム
酸溶液中に浸漬させて陽極酸化処理を行い、前記基板の
表面に硬さＨｖが２５０〜４００であるアルマイト質の
下地層を設け、この下地層に封孔処理を施す、という技
術的手段を採用した。
なる磁気記録媒体用基板の製造方法において、アルミニ
ウム若しくはアルミニウム基合金からなる基板をクロム
酸溶液中に浸漬させて陽極酸化処理を行い、前記基板の
表面に硬さＨｖが２５０〜４００であるアルマイト質の
下地層を設け、この下地層に封孔処理を施す、という技
術的手段を採用した。
本発明においてアルマイト質からなる下地層の硬さが（
１νで４００を越えると９例えば真空中熱処理等の高温
雰囲気における処理時の変形および／またはクラックの
発生が著しく増大するため不都合である。一方前記下地
層の硬さがＨｖで２５０未満であると、前記変形および
／またはクランクの発生が残少するが、潤滑剤の浸透が
大となると共にＣ３Ｓ特性を著しく阻害することとなる
ため好ましくない。
１νで４００を越えると９例えば真空中熱処理等の高温
雰囲気における処理時の変形および／またはクラックの
発生が著しく増大するため不都合である。一方前記下地
層の硬さがＨｖで２５０未満であると、前記変形および
／またはクランクの発生が残少するが、潤滑剤の浸透が
大となると共にＣ３Ｓ特性を著しく阻害することとなる
ため好ましくない。
次に本発明における基板の構成材料としてはアルミニウ
ムの他にアルミニウムを主成分とし、これに他の金属元
素を含有させて１強度、岡り性、耐食性等の特性のうち
１若しくは２以上の特性を改良したものが好適であり１
例えばマグネシウムを３〜４重量％含有するアルミニウ
ム基合金が好ましい。
ムの他にアルミニウムを主成分とし、これに他の金属元
素を含有させて１強度、岡り性、耐食性等の特性のうち
１若しくは２以上の特性を改良したものが好適であり１
例えばマグネシウムを３〜４重量％含有するアルミニウ
ム基合金が好ましい。
またアルマイト質の下地層の厚さは、ヘッドクラッシュ
を防止する耐力を付与するため、および内部熱応力の過
大化を防止するため１通常は６〜１５μｍに形成するこ
とが好ましい。
を防止する耐力を付与するため、および内部熱応力の過
大化を防止するため１通常は６〜１５μｍに形成するこ
とが好ましい。
上記の構成により、アルマイト質の下地層形成時におけ
る硬度が低いため、製造工程中において熱処理を行って
も加熱によるクランクの発生を防止し得ると共に、下地
層による基板の拘束力が小さいため、基板の変形を小に
するという作用を期待できる。
る硬度が低いため、製造工程中において熱処理を行って
も加熱によるクランクの発生を防止し得ると共に、下地
層による基板の拘束力が小さいため、基板の変形を小に
するという作用を期待できる。
〔実施例〕
マグネシウムを４重量％含をするアルミニウム合金から
なる。２３＋ａの表面を旋削加工により平滑に形成し、
外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの基板
とした。次にこの基板をクロム酸を含む酸性溶液中で、
電流密度０．５Ａ／ｄｍ”、電圧６０ｖ、浴温３５〜５
５°Ｃの条件で電解処理し、基板の表面に厚さ１０〜１
５μｍのアルマイト質の下地層を形成した。この場合ク
ロム酸の濃度および浴温か低く、電流密度が高ければ、
生成されるアルマイト’ｆの下地層の硬さが大となり、
逆に上記濃度と浴温か高く電流密度が低ければ下地層の
硬さは小となる。本実施例においては浴温の変化によっ
て種々の硬さの下地層を形成した。次に上記基板に封孔
処理を施す。すなわち基板を熱水中に浸漬させて煮沸処
理をする。この場合熱水に二・ンケルやコバルトの酢酸
塩やクロム酸塩を添加すると、アルマイト質の多孔質状
の下地層の孔中に、前記金属の水酸化物が析出するため
、前記熱水による下地層の部分的水和、膨潤による封孔
作用を助長することができる。また、上記封孔処理は二
ンケルイオンとフッ素イオンとを含む常温封孔浴中で行
っても、熱水中と同様の封孔作用が得られる。次にこれ
らの基板に従来同様の製造工程を経由して磁気記録媒体
とした。なお封孔処理後の下地層の硬さ、磁気記録媒体
の変形量その他を測定した結果を表に示す。下地層の硬
さは、厚さ１０μｍのアルマイト質の部位を荷重２５ｇ
で測定した値である。また変形量はニブツク社製ＦＴ３
Ｃ平面度計によって測定した。
なる。２３＋ａの表面を旋削加工により平滑に形成し、
外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの基板
とした。次にこの基板をクロム酸を含む酸性溶液中で、
電流密度０．５Ａ／ｄｍ”、電圧６０ｖ、浴温３５〜５
５°Ｃの条件で電解処理し、基板の表面に厚さ１０〜１
５μｍのアルマイト質の下地層を形成した。この場合ク
ロム酸の濃度および浴温か低く、電流密度が高ければ、
生成されるアルマイト’ｆの下地層の硬さが大となり、
逆に上記濃度と浴温か高く電流密度が低ければ下地層の
硬さは小となる。本実施例においては浴温の変化によっ
て種々の硬さの下地層を形成した。次に上記基板に封孔
処理を施す。すなわち基板を熱水中に浸漬させて煮沸処
理をする。この場合熱水に二・ンケルやコバルトの酢酸
塩やクロム酸塩を添加すると、アルマイト質の多孔質状
の下地層の孔中に、前記金属の水酸化物が析出するため
、前記熱水による下地層の部分的水和、膨潤による封孔
作用を助長することができる。また、上記封孔処理は二
ンケルイオンとフッ素イオンとを含む常温封孔浴中で行
っても、熱水中と同様の封孔作用が得られる。次にこれ
らの基板に従来同様の製造工程を経由して磁気記録媒体
とした。なお封孔処理後の下地層の硬さ、磁気記録媒体
の変形量その他を測定した結果を表に示す。下地層の硬
さは、厚さ１０μｍのアルマイト質の部位を荷重２５ｇ
で測定した値である。また変形量はニブツク社製ＦＴ３
Ｃ平面度計によって測定した。
以下余白。
表から明らかなように、まずＮα１においては下地層の
硬さが大であるため、変形量が大であると共にクラック
の発生が認められ、磁気記録媒体の品質が著しく低い。
硬さが大であるため、変形量が大であると共にクラック
の発生が認められ、磁気記録媒体の品質が著しく低い。
またＮｏ、 ５においては５ クロム酸７ｇ？ａの浴温
か高いため、下地層の硬さ、変形量が小さく、クラ、り
の発生は認められない。しかしながら下地層の成膜速度
が大であるため孔の大きさが大となり（３００〜５００
人）、封孔処理によっても潤滑剤の浸透が発生し、ＣＳ
Ｓ特性が著しく低い。これに対してＮα２〜４において
は何れも変形量が小であり、クラックおよび潤滑剤の浸
透も全く認められず、掻めて品質が高いことを示してい
る。
か高いため、下地層の硬さ、変形量が小さく、クラ、り
の発生は認められない。しかしながら下地層の成膜速度
が大であるため孔の大きさが大となり（３００〜５００
人）、封孔処理によっても潤滑剤の浸透が発生し、ＣＳ
Ｓ特性が著しく低い。これに対してＮα２〜４において
は何れも変形量が小であり、クラックおよび潤滑剤の浸
透も全く認められず、掻めて品質が高いことを示してい
る。
本実施例においては、アルマイトの下地層の硬さを調節
若しくは制御する手段としてクロム酸溶液の浴温を変化
させる手段を選定した例を示したが クロム酸）容液の
４度、電流密度等の制御によっても作用は同一である。
若しくは制御する手段としてクロム酸溶液の浴温を変化
させる手段を選定した例を示したが クロム酸）容液の
４度、電流密度等の制御によっても作用は同一である。
また下地層形成後において実施する封孔処理は熱水中に
おける煮沸の他に、熱水蒸気に曝す処理によってもよく
、また熱水中に更にフッ素イオンを介在させると、孔中
の電荷が打消されて水酸化物を生成すべき金属イオンの
進入が促進されるので好都合である。
おける煮沸の他に、熱水蒸気に曝す処理によってもよく
、また熱水中に更にフッ素イオンを介在させると、孔中
の電荷が打消されて水酸化物を生成すべき金属イオンの
進入が促進されるので好都合である。
本発明は以上記述のような構成および作用であるから、
変形および／またはクラックの発生を防止し得ると共に
潤滑剤の浸透がなく ＣＳＳ特性の優れた磁気記録媒体
用基板を容易に製造し得るという効果がある。
変形および／またはクラックの発生を防止し得ると共に
潤滑剤の浸透がなく ＣＳＳ特性の優れた磁気記録媒体
用基板を容易に製造し得るという効果がある。
Claims (1)
- 非磁性材料からなる基板の表面上に下地層を設け、こ
の下地層の上に磁性材料からなる磁性層を被着させてな
る磁気記録媒体用基板の製造方法において、アルミニウ
ム若しくはアルミニウム基合金からなる基板をクロム酸
溶液中に浸漬させて陽極酸化処理を行い、前記基板の表
面に硬さＨｖが２５０〜４００であるアルマイト質の下
地層を設け、この下地層に封孔処理を施すことを特徴と
する磁気記録媒体用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22387488A JPH0271430A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22387488A JPH0271430A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0271430A true JPH0271430A (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=16805063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22387488A Pending JPH0271430A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0271430A (ja) |
-
1988
- 1988-09-07 JP JP22387488A patent/JPH0271430A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4631112A (en) | Surface-treated aluminum alloy substrates for magnetic disks | |
| US4678547A (en) | Anodized memory disk substrate and method of manufacturing the same | |
| JPH0520658A (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| JPH0271430A (ja) | 磁気記録媒体用基板の製造方法 | |
| US4507179A (en) | Process of producing aluminum substrate for magnetic recording media | |
| JPS63167409A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS62278294A (ja) | 磁気記録媒体用基板の製造方法 | |
| GB2136448A (en) | Anodising Aluminium Substrate for Magnetic Recording Media | |
| JPS5961107A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS59177725A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0568772B2 (ja) | ||
| JPS62125526A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6057131B2 (ja) | 高記録密度磁気デイスクの製造法 | |
| JPS5718029A (en) | Production of magnetic disk of high recording density | |
| JPS59180829A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH01133218A (ja) | 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法 | |
| KR950014824B1 (ko) | 자기 기록매체의 제조방법 | |
| JP2006070298A (ja) | Ｃｒ−Ｍｏ−Ｓ合金めっき被膜 | |
| JPS6187221A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPH09147357A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6035332A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH01223628A (ja) | 高耐熱性基盤とその製造法 | |
| JPS63303096A (ja) | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法 | |
| JPS6085433A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS6323225A (ja) | 磁気記録媒体 |