JPH0283220A - ガラス体の製造法 - Google Patents
ガラス体の製造法Info
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- JPH0283220A JPH0283220A JP23535188A JP23535188A JPH0283220A JP H0283220 A JPH0283220 A JP H0283220A JP 23535188 A JP23535188 A JP 23535188A JP 23535188 A JP23535188 A JP 23535188A JP H0283220 A JPH0283220 A JP H0283220A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 3
- 239000000693 micelle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 abstract description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 abstract 1
- -1 methyl orthosilicate Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 63
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 7
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- HFGHRUCCKVYFKL-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-piperazin-1-yl-7-pyridin-4-yl-5h-pyrimido[5,4-b]indole Chemical compound C1=C2NC=3C(OCC)=NC(N4CCNCC4)=NC=3C2=CC=C1C1=CC=NC=C1 HFGHRUCCKVYFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N n-[(1s)-1-(5-fluoropyrimidin-2-yl)ethyl]-3-(3-propan-2-yloxy-1h-pyrazol-5-yl)imidazo[4,5-b]pyridin-5-amine Chemical compound N1C(OC(C)C)=CC(N2C3=NC(N[C@@H](C)C=4N=CC(F)=CN=4)=CC=C3N=C2)=N1 AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N odevixibat Chemical compound C12=CC(SC)=C(OCC(=O)N[C@@H](C(=O)N[C@@H](CC)C(O)=O)C=3C=CC(O)=CC=3)C=C2S(=O)(=O)NC(CCCC)(CCCC)CN1C1=CC=CC=C1 XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- KMIOJWCYOHBUJS-HAKPAVFJSA-N vorolanib Chemical compound C1N(C(=O)N(C)C)CC[C@@H]1NC(=O)C1=C(C)NC(\C=C/2C3=CC(F)=CC=C3NC\2=O)=C1C KMIOJWCYOHBUJS-HAKPAVFJSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はガラス体の製造方法に関し、特に、有機金属化
合物原料の加水分解・縮重合により溶液をゲル化させた
後、この得られたゲル体を乾燥、焼結してガラス体とす
る、通称ゾル−ゲル法と呼ばれるガラス体の製造方法に
間する。
合物原料の加水分解・縮重合により溶液をゲル化させた
後、この得られたゲル体を乾燥、焼結してガラス体とす
る、通称ゾル−ゲル法と呼ばれるガラス体の製造方法に
間する。
有機金属化合物を用いたゾル−ゲル法によるガラス製品
の製造においては、溶媒の蒸発による体積収縮が激しく
、ゲル体の乾燥工程でクラ・ンクが発生しやすいという
大きな問題点があった。これを防ぐには、乾燥速度を抑
えて数週閏から数カ月かけて、ゆっくりと乾燥を行う方
法が知られている。しかしながら、上記方法では製造に
要する時間が長くなり、産業上の利用が事実上、不可能
となってしまう。 近年、この問題を解決するために、いくつかの方策が提
案されている0代表的なものは■原料溶液にシリカ微粉
末を添加してクラックを抑える方法(例えば、特開昭5
9−92924)、■ゲル体を臨界条件下で乾燥するこ
とによりクラックのないゲル体を得る。方法(例えば、
特開昭57−209817 )、■溶媒に蒸発速度の遅
いホルムアミド等を用いる方法(例えば、L、L、He
nchら、 Mat、Res、Soc、Symp、P
roc、、 32.47(1984))、■ゲル体中
に残留しているアルコキシル基を水酸基に置換した後に
乾燥を行う方法(例えば、T、Mizunoら、第4回
ゾルゲル国際ワークショップ、1987年、京都)であ
る。 しかしながら、上記の従来技術において、■のシリカ微
粉末を添加する方法では、クラックの発生傾向は低くな
るものの、溶液にシリカの微粉末を分散させるのに手間
がかかる上に、乾燥速度を大幅に上げることが不可能で
あるという問題点があった。また、■のゲル体を臨界条
件下で乾燥する方法では、オートクレーブを使用するた
め、設備投資が大きく、かつ生産性が悲いという問題点
があり、ざらに■の溶媒にホルムアミドを用いる方法で
は、ゲル体中に多量のホルムアミドが残留しており、こ
れが焼結工程中のゲル体にクラックを発生させるという
問題点があった。
の製造においては、溶媒の蒸発による体積収縮が激しく
、ゲル体の乾燥工程でクラ・ンクが発生しやすいという
大きな問題点があった。これを防ぐには、乾燥速度を抑
えて数週閏から数カ月かけて、ゆっくりと乾燥を行う方
法が知られている。しかしながら、上記方法では製造に
要する時間が長くなり、産業上の利用が事実上、不可能
となってしまう。 近年、この問題を解決するために、いくつかの方策が提
案されている0代表的なものは■原料溶液にシリカ微粉
末を添加してクラックを抑える方法(例えば、特開昭5
9−92924)、■ゲル体を臨界条件下で乾燥するこ
とによりクラックのないゲル体を得る。方法(例えば、
特開昭57−209817 )、■溶媒に蒸発速度の遅
いホルムアミド等を用いる方法(例えば、L、L、He
nchら、 Mat、Res、Soc、Symp、P
roc、、 32.47(1984))、■ゲル体中
に残留しているアルコキシル基を水酸基に置換した後に
乾燥を行う方法(例えば、T、Mizunoら、第4回
ゾルゲル国際ワークショップ、1987年、京都)であ
る。 しかしながら、上記の従来技術において、■のシリカ微
粉末を添加する方法では、クラックの発生傾向は低くな
るものの、溶液にシリカの微粉末を分散させるのに手間
がかかる上に、乾燥速度を大幅に上げることが不可能で
あるという問題点があった。また、■のゲル体を臨界条
件下で乾燥する方法では、オートクレーブを使用するた
め、設備投資が大きく、かつ生産性が悲いという問題点
があり、ざらに■の溶媒にホルムアミドを用いる方法で
は、ゲル体中に多量のホルムアミドが残留しており、こ
れが焼結工程中のゲル体にクラックを発生させるという
問題点があった。
本発明者らが帰室じている■の方法は、ゲル体を、その
細孔を満たしている液体の含水率より高い含水率の液体
に浸漬してアルコキシル基を水酸基へall!L、た後
乾燥する方法であり、簡便な方法ながら、非常に効果が
ある。また、この方法において使用できる液体の液性は
、酸性から塩基性まで幅広い、特に塩基性液体に浸漬処
理したゲル体は、同時にその比表面積が小さくなり、っ
まり細孔径が大きくなり焼結性が向上するのでガラスを
容易に得ることができることがわがフでいる(例えば、
T、Mizunoら、 J、 Man−Cryst
、 5olids、出。 236(198B)) 、 ところが、その後の本発
明者らの研究から、ゲル体を大きくすると塩基性液体に
浸漬した場合、乾燥時にクラックが発生し易くなること
がわかった。 本発明は上記の従来技術に鑑み、塩基性液体に浸漬した
大型ゲル体の焼結性を維持し、かつ乾燥時のクラックを
抑制する方法を提供するものである。
細孔を満たしている液体の含水率より高い含水率の液体
に浸漬してアルコキシル基を水酸基へall!L、た後
乾燥する方法であり、簡便な方法ながら、非常に効果が
ある。また、この方法において使用できる液体の液性は
、酸性から塩基性まで幅広い、特に塩基性液体に浸漬処
理したゲル体は、同時にその比表面積が小さくなり、っ
まり細孔径が大きくなり焼結性が向上するのでガラスを
容易に得ることができることがわがフでいる(例えば、
T、Mizunoら、 J、 Man−Cryst
、 5olids、出。 236(198B)) 、 ところが、その後の本発
明者らの研究から、ゲル体を大きくすると塩基性液体に
浸漬した場合、乾燥時にクラックが発生し易くなること
がわかった。 本発明は上記の従来技術に鑑み、塩基性液体に浸漬した
大型ゲル体の焼結性を維持し、かつ乾燥時のクラックを
抑制する方法を提供するものである。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
あフて、有機金属化合物を含む原料溶液をゲル化してゲ
ル体を作製し、該ゲル体の細孔中の液体の含水率より高
い含水率の塩基性液体と該ゲル体とを接触させた後、乾
燥・vE結してガラス体を製造する方法において、乾燥
前のゲル体を、界面活性剤を含有する溶液と接触させて
いる。 該ゲル体を、界面活性剤を含有する溶液と接触させる方
法としては、■該ゲル体の細孔中の液体の含水率より高
い含水率の塩基性液体と該ゲル体とを接触させる際に、
該塩基性液体に界面活性剤を添加しておく方法、■界面
活性剤を含有する溶1αとゲル体とを接触させた後、引
続き塩基性液体と該ゲル体とを接触させる方法、■塩基
性液体とゲル体とを接触させた後、界面活性剤を含有す
る溶液と該ゲル体とを接触させる方法、■塩基性液体と
ゲル体と接触させた後、該塩基性液体に界面活性剤を添
加し該ゲル体と接触させる方法、等が例示できる。 塩基性液体のp Hは、特に限定されるものではないが
、8より小さいとゲル細孔径増大効果が顕著ではなく、
また12より大きいとゲル溶解が著しく起こり、ゲルの
強度が低下するので好ましくない、よって、塩基性液体
のPHは8以上12以下であることが好ましい。 ゲル体と界面活性剤との接触により、ゲル体縞孔中の液
体の表面張力が小さくなる。該’a液に添加する界面活
性剤の量は、臨界ミセル濃度より多いことが好ましいが
、臨界ミセル濃度より多くても表面張力は著しく低下し
ないので、過剰の界面活性剤は無駄となる。また、あま
り界面活性剤が多いとゲル焼結時に界面活性剤が残留し
、ガラスの純度が低下する。よって、界面活性剤濃度の
上限は臨界ミセル濃度以上のlvt%が好ましい。添加
する界面活性剤は、それ以ドであっ′Cも、蛇燥工稈中
に濃縮され効果を発揮する。実際に顕著な効果を得るた
めには、少なくとも0. OO01vt%含有さUる
ことが好ましい。 界面活性剤の種類については、とのようなものでもある
程度の効果を発揮する。しかし、陰イオン系界面活性剤
は、溶出したシリカ等のゲル成分と吸着反応を起こし、
ゲル粒子の成長を阻害するので好ましくない、また、陰
イオン系界面活性剤は、乾燥歩留が低いため好ましくな
い0両性界面活性剤または非イオン系W面活性剤では、
乾燥歩留が高く、これらの界面活性剤を用いるのがより
好ましい。 ゲル体と、界面活性剤を含む塩基性液体とを接触させる
温度は、特に限定されるものではないが、あまり、低温
であると液体の置換反応及びゲル粒子成長反応が緩慢と
なり、処理時閉が長くなる。 また高温であると、溶媒の沸点を越え内圧が上昇するた
め、高価な耐圧容器が必要となる。従って20〜80℃
が好ましい。 また、ゲル体と、界面活性剤を含む塩基性液体とを接触
させる時間も、特に限定されるものではないが、あまり
短いとゲル粒子の成長が不完全となり、ゲル表層と内部
との不均一も顕著となるので、3時間以上が好ましい、
接触時間が、あまり長いと生産性が低下し、またゲル溶
解が次第に起こるなどの弊害も現れるので、上限は10
000時間ましい。
あフて、有機金属化合物を含む原料溶液をゲル化してゲ
ル体を作製し、該ゲル体の細孔中の液体の含水率より高
い含水率の塩基性液体と該ゲル体とを接触させた後、乾
燥・vE結してガラス体を製造する方法において、乾燥
前のゲル体を、界面活性剤を含有する溶液と接触させて
いる。 該ゲル体を、界面活性剤を含有する溶液と接触させる方
法としては、■該ゲル体の細孔中の液体の含水率より高
い含水率の塩基性液体と該ゲル体とを接触させる際に、
該塩基性液体に界面活性剤を添加しておく方法、■界面
活性剤を含有する溶1αとゲル体とを接触させた後、引
続き塩基性液体と該ゲル体とを接触させる方法、■塩基
性液体とゲル体とを接触させた後、界面活性剤を含有す
る溶液と該ゲル体とを接触させる方法、■塩基性液体と
ゲル体と接触させた後、該塩基性液体に界面活性剤を添
加し該ゲル体と接触させる方法、等が例示できる。 塩基性液体のp Hは、特に限定されるものではないが
、8より小さいとゲル細孔径増大効果が顕著ではなく、
また12より大きいとゲル溶解が著しく起こり、ゲルの
強度が低下するので好ましくない、よって、塩基性液体
のPHは8以上12以下であることが好ましい。 ゲル体と界面活性剤との接触により、ゲル体縞孔中の液
体の表面張力が小さくなる。該’a液に添加する界面活
性剤の量は、臨界ミセル濃度より多いことが好ましいが
、臨界ミセル濃度より多くても表面張力は著しく低下し
ないので、過剰の界面活性剤は無駄となる。また、あま
り界面活性剤が多いとゲル焼結時に界面活性剤が残留し
、ガラスの純度が低下する。よって、界面活性剤濃度の
上限は臨界ミセル濃度以上のlvt%が好ましい。添加
する界面活性剤は、それ以ドであっ′Cも、蛇燥工稈中
に濃縮され効果を発揮する。実際に顕著な効果を得るた
めには、少なくとも0. OO01vt%含有さUる
ことが好ましい。 界面活性剤の種類については、とのようなものでもある
程度の効果を発揮する。しかし、陰イオン系界面活性剤
は、溶出したシリカ等のゲル成分と吸着反応を起こし、
ゲル粒子の成長を阻害するので好ましくない、また、陰
イオン系界面活性剤は、乾燥歩留が低いため好ましくな
い0両性界面活性剤または非イオン系W面活性剤では、
乾燥歩留が高く、これらの界面活性剤を用いるのがより
好ましい。 ゲル体と、界面活性剤を含む塩基性液体とを接触させる
温度は、特に限定されるものではないが、あまり、低温
であると液体の置換反応及びゲル粒子成長反応が緩慢と
なり、処理時閉が長くなる。 また高温であると、溶媒の沸点を越え内圧が上昇するた
め、高価な耐圧容器が必要となる。従って20〜80℃
が好ましい。 また、ゲル体と、界面活性剤を含む塩基性液体とを接触
させる時間も、特に限定されるものではないが、あまり
短いとゲル粒子の成長が不完全となり、ゲル表層と内部
との不均一も顕著となるので、3時間以上が好ましい、
接触時間が、あまり長いと生産性が低下し、またゲル溶
解が次第に起こるなどの弊害も現れるので、上限は10
000時間ましい。
乾燥中のゲル体にクラックを発生させる力は、気−液一
固界面で生ずる毛細管力であり、これは毛細管力ΔP、
ゲルの細孔半径r、纏孔を満たしている液体の表面張力
γ、ゲル纏孔中の液体とゲルの接触角θを用いて、次の
ように示されることが知られている。 上記式(1)から、ゲル細孔中の液体の表面張力を小さ
くすると、乾燥中のクラックを抑制することができる。 含水率の高い液体の表面張力は数十dyn/c■である
が、界面活性剤を添加することで、1/2〜173程度
に減少させることができる。 塩基性液体にゲ、ルを浸漬すると、ゲル粒子径の増大が
認められる。この結果、ゲルの細孔径が大きくなり、乾
燥中のゲルの耐クラツク性が向上する。また、そればか
りでなく、ゲルの焼結性も向上し、容易にガラス化する
ことができるようになる。 界面活性剤の作用は、ゲル細孔中液体の表面張力を低下
させることであるが、本発明における塩基性液体を使用
する状況では、特に、両性界面活性剤または非イオン系
界面活性剤を用いた場合、クラック抑制に一層の効果が
ある。 以上のように、本発明によれば、界面活性剤を含む塩基
性液体にゲル体を接触させることで、クラックの発生原
因である毛細管力を低減でき、クラックを発生させるこ
となく素早く乾燥を行うことができる。かつゲル細孔径
が大きくなるので焼結性のよいゲル体を得ることができ
るようになる。 本発明の方法は、有機金属化合物を含む液体から作製し
たゲル体であれば、どのような組成のゲル体にも適用で
きる。 以下、実施例に基づいて本発明を更に詳しく説明する。
固界面で生ずる毛細管力であり、これは毛細管力ΔP、
ゲルの細孔半径r、纏孔を満たしている液体の表面張力
γ、ゲル纏孔中の液体とゲルの接触角θを用いて、次の
ように示されることが知られている。 上記式(1)から、ゲル細孔中の液体の表面張力を小さ
くすると、乾燥中のクラックを抑制することができる。 含水率の高い液体の表面張力は数十dyn/c■である
が、界面活性剤を添加することで、1/2〜173程度
に減少させることができる。 塩基性液体にゲ、ルを浸漬すると、ゲル粒子径の増大が
認められる。この結果、ゲルの細孔径が大きくなり、乾
燥中のゲルの耐クラツク性が向上する。また、そればか
りでなく、ゲルの焼結性も向上し、容易にガラス化する
ことができるようになる。 界面活性剤の作用は、ゲル細孔中液体の表面張力を低下
させることであるが、本発明における塩基性液体を使用
する状況では、特に、両性界面活性剤または非イオン系
界面活性剤を用いた場合、クラック抑制に一層の効果が
ある。 以上のように、本発明によれば、界面活性剤を含む塩基
性液体にゲル体を接触させることで、クラックの発生原
因である毛細管力を低減でき、クラックを発生させるこ
となく素早く乾燥を行うことができる。かつゲル細孔径
が大きくなるので焼結性のよいゲル体を得ることができ
るようになる。 本発明の方法は、有機金属化合物を含む液体から作製し
たゲル体であれば、どのような組成のゲル体にも適用で
きる。 以下、実施例に基づいて本発明を更に詳しく説明する。
実施例−1〜4
市販のオルト珪酸メチル、エタノールおよび水を体積比
でl+o、43:1.83の割合で混合し、約30分明
攪拌して、透明な液体を得た。この液体260m1を、
−辺が15cmのテフロンコーティングを施したステン
レス製容器に入れて密閉し、60℃で24時間、ゲル化
及び養生を行った。このウェットゲルを、第1表に示し
たような各種界面活性剤を0.02vt%含む0.IN
アンモニア水260m1に60℃で24時間浸漬した。 その後液体を捨て、80℃で乾燥を行った。乾燥の初期
は0、 2%の間口率の蓋をして24WIt間保持し、
その後、蓋を除去して、18時間乾燥を行い、約85m
m角、7 m m厚の乾燥ゲルを得た。乾燥歩留を第1
表に示す、その後、得られた乾燥ゲル°を、1000〜
1100℃で熱処理したところ、いずれのゲルも、約6
0mm角、5mm厚の透明なガラスとなった。 比較例−1〜2 本発明の効果を確認するため、実施例−1〜4と同様に
して得たウェットゲルを、 比較例1:0.INアンモニア水 比較例2:水+両性界面活性剤(0,02wt%)の水
溶液にそれぞれ浸漬し、上記実施例と同一条件で浸漬処
理を行い、乾燥、焼結を行った。結果を111表に示す
。 処理液中に界面活性剤が含まれていない(比較例1)な
らば乾燥歩留が低く、アンモニアが含ま第 1 表 第 1 表(つづき) れていない(比較例2)ならば焼結性が悉く、この条件
では発泡した。よって、上記実施例および比較例から、
本発明の効果が顕著であることがわかる。 実施例−5 実施例−1−4と同様にして得られたウェットゲルを、
0.INアンモニア水260m1に浸漬し、60℃、1
2時間処理した。その後、両性界面活性剤を、濃度がO
−02wt%となるように添加して、60℃、 12時
間放置した。このゲルを、実施例−1〜4と同様にして
乾燥を行ったところ、乾燥歩留は、実施例3と同様、8
5%であった。 また、この乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ1000
〜1100℃で熱処理したところ、透明なガラスとなっ
た。 実施例−6 市販のオルト珪酸メチル、エタノール、および水を、l
:o、43:1.83の体積比で混合した溶液に、市販
のT i (OCnH*) 4を、焼成後にチタニアと
して5wt%含まれるように添加し、混合溶液を作製し
、実施例−1〜4と同様にしてウェットゲルを得た。こ
のウェットゲルを、両性界面活性剤を0゜002wt%
含む0.INアンモニア水260 m lに60℃で2
4時間浸漬した。その後、実施例−1〜4と同様にして
乾燥を行った。乾燥歩留を、第2表に示す、この乾燥ゲ
ルは、1100〜1200℃の熱処理により容易にガラ
ス化できた(第2表参照)。 第 2 表 比較例−3〜4 実施例−6と同様にして得たウェットゲルを、比較例3
:0.INアンモニア水 比較例4: 水子両性界面活性剤(0,002wt%)
の水溶液にそれぞれ浸漬し、実施例−6と同一条件で浸
漬処理を行い、乾燥、焼結を行った。結果を第2表に示
す。 実施例−7 実施例−1〜4と同様にして得られたウェットゲルを、
0.INアンモニア水260 m lに浸漬し、60℃
、24時間浸漬処理した。その後、アンモニア水を捨て
、0. 02wt%の両性界面活性剤水溶液260m1
に60℃、24時間浸漬した。 その後、液体を捨て、実施例−1〜4と同様にして乾燥
を行ったところ、乾燥歩留は、80%であフた。また、
この乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ条件で熱処理し
たところ、透明なガラスとなった。 実施例−8 実施例−7の■アンモニア水処理と■界面活性剤処理の
順番を逆にした以外は実施例−7の手順を用いてゲル体
を作成した。乾燥歩留は、50%であった。また、この
乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ条件で熱処理したと
ころ、透明なガラスとなった。 上記実施例においては、有機金属化合物を含む原料溶液
として、シリカ微粉末等を添加していない通常のゾル−
ゲル溶液を用いているが、本発明は上記に限らず、シリ
カ微粉末等を含む有機金属化合物を含む原料溶液を用い
てもかまわない。
でl+o、43:1.83の割合で混合し、約30分明
攪拌して、透明な液体を得た。この液体260m1を、
−辺が15cmのテフロンコーティングを施したステン
レス製容器に入れて密閉し、60℃で24時間、ゲル化
及び養生を行った。このウェットゲルを、第1表に示し
たような各種界面活性剤を0.02vt%含む0.IN
アンモニア水260m1に60℃で24時間浸漬した。 その後液体を捨て、80℃で乾燥を行った。乾燥の初期
は0、 2%の間口率の蓋をして24WIt間保持し、
その後、蓋を除去して、18時間乾燥を行い、約85m
m角、7 m m厚の乾燥ゲルを得た。乾燥歩留を第1
表に示す、その後、得られた乾燥ゲル°を、1000〜
1100℃で熱処理したところ、いずれのゲルも、約6
0mm角、5mm厚の透明なガラスとなった。 比較例−1〜2 本発明の効果を確認するため、実施例−1〜4と同様に
して得たウェットゲルを、 比較例1:0.INアンモニア水 比較例2:水+両性界面活性剤(0,02wt%)の水
溶液にそれぞれ浸漬し、上記実施例と同一条件で浸漬処
理を行い、乾燥、焼結を行った。結果を111表に示す
。 処理液中に界面活性剤が含まれていない(比較例1)な
らば乾燥歩留が低く、アンモニアが含ま第 1 表 第 1 表(つづき) れていない(比較例2)ならば焼結性が悉く、この条件
では発泡した。よって、上記実施例および比較例から、
本発明の効果が顕著であることがわかる。 実施例−5 実施例−1−4と同様にして得られたウェットゲルを、
0.INアンモニア水260m1に浸漬し、60℃、1
2時間処理した。その後、両性界面活性剤を、濃度がO
−02wt%となるように添加して、60℃、 12時
間放置した。このゲルを、実施例−1〜4と同様にして
乾燥を行ったところ、乾燥歩留は、実施例3と同様、8
5%であった。 また、この乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ1000
〜1100℃で熱処理したところ、透明なガラスとなっ
た。 実施例−6 市販のオルト珪酸メチル、エタノール、および水を、l
:o、43:1.83の体積比で混合した溶液に、市販
のT i (OCnH*) 4を、焼成後にチタニアと
して5wt%含まれるように添加し、混合溶液を作製し
、実施例−1〜4と同様にしてウェットゲルを得た。こ
のウェットゲルを、両性界面活性剤を0゜002wt%
含む0.INアンモニア水260 m lに60℃で2
4時間浸漬した。その後、実施例−1〜4と同様にして
乾燥を行った。乾燥歩留を、第2表に示す、この乾燥ゲ
ルは、1100〜1200℃の熱処理により容易にガラ
ス化できた(第2表参照)。 第 2 表 比較例−3〜4 実施例−6と同様にして得たウェットゲルを、比較例3
:0.INアンモニア水 比較例4: 水子両性界面活性剤(0,002wt%)
の水溶液にそれぞれ浸漬し、実施例−6と同一条件で浸
漬処理を行い、乾燥、焼結を行った。結果を第2表に示
す。 実施例−7 実施例−1〜4と同様にして得られたウェットゲルを、
0.INアンモニア水260 m lに浸漬し、60℃
、24時間浸漬処理した。その後、アンモニア水を捨て
、0. 02wt%の両性界面活性剤水溶液260m1
に60℃、24時間浸漬した。 その後、液体を捨て、実施例−1〜4と同様にして乾燥
を行ったところ、乾燥歩留は、80%であフた。また、
この乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ条件で熱処理し
たところ、透明なガラスとなった。 実施例−8 実施例−7の■アンモニア水処理と■界面活性剤処理の
順番を逆にした以外は実施例−7の手順を用いてゲル体
を作成した。乾燥歩留は、50%であった。また、この
乾燥ゲルを、実施例−1〜4と同じ条件で熱処理したと
ころ、透明なガラスとなった。 上記実施例においては、有機金属化合物を含む原料溶液
として、シリカ微粉末等を添加していない通常のゾル−
ゲル溶液を用いているが、本発明は上記に限らず、シリ
カ微粉末等を含む有機金属化合物を含む原料溶液を用い
てもかまわない。
本発明によれば、上記実施例および比較例から明らかな
ように、クラックを発生させずに、焼結性の非常によい
乾燥ゲルを、短時間で得ることができるようになる。 本発明は、ゲル体自身に対する制限がほとんどないので
、いかなる成分、組成のガラスにも適用可能である。 特許出願人 日本板硝子株式会社 で二部5・1
ように、クラックを発生させずに、焼結性の非常によい
乾燥ゲルを、短時間で得ることができるようになる。 本発明は、ゲル体自身に対する制限がほとんどないので
、いかなる成分、組成のガラスにも適用可能である。 特許出願人 日本板硝子株式会社 で二部5・1
Claims (1)
- (1)有機金属化合物を含む原料溶液をゲル化してゲル
体を作製し、該ゲル体を、該ゲル体の細孔中の液体の含
水率より高い含水率の塩基性液体と接触させた後、乾燥
・焼結してガラス体を製造する方法において、乾燥前の
ゲル体を、界面活性剤を含有する溶液と接触させること
を特徴とするガラス体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23535188A JPH0283220A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | ガラス体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23535188A JPH0283220A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | ガラス体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283220A true JPH0283220A (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=16984802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23535188A Pending JPH0283220A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | ガラス体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0283220A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP23535188A patent/JPH0283220A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
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