JPS599654A - フオトレジスト定温注入システム - Google Patents

フオトレジスト定温注入システム

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Publication number
JPS599654A
JPS599654A JP57118586A JP11858682A JPS599654A JP S599654 A JPS599654 A JP S599654A JP 57118586 A JP57118586 A JP 57118586A JP 11858682 A JP11858682 A JP 11858682A JP S599654 A JPS599654 A JP S599654A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
photoresist
liquid
tube
gelatin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57118586A
Other languages
English (en)
Inventor
Seikichi Saito
斉藤 誠吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57118586A priority Critical patent/JPS599654A/ja
Publication of JPS599654A publication Critical patent/JPS599654A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフォトレジストを一定温度で注入するシステム
、特に固体撮像素子のウェーハへのゼラチン塗布に好適
なフォトレジスト定温注入システムに関するものである
一般に固体撮1永素子には、色分解フィルタとして一補
のフォトレジストであるゼラチンが使用されており、こ
のセラチンはウェーハ上に形成された絵素上に回転塗布
法により核層形成される。そして、このゼラチンは、約
258C柱度の常温でゲル状態を呈しているため、約2
58C以−ヒに温め、ゾル状態にしておかなければ壁布
できない。さらにゼラチンは、またウェーハも値布膜厚
が均一で膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定
の温度に温調する必要がある。
これらの条件を踏まえた従来のゼラチン値布システムを
第1図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽1.ヒータ2.温度センサ3゜攪拌器4および温度調
節器5により恒温にivAされる液体6に、ゼラチン1
の収容容器8が入れられだ加圧容器9を浸け、ゼラチン
Tをゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させ
る。゛また恒温槽1から皺布室10までの注入系を内部
に注入管11が通された弗素樹脂製チューブ12と、こ
の外部を援った断熱材13と、これとチューブ12との
間に入れられたヒータ14および温度センサ15と、温
度調節器16とにより温調し、ゼラチン7を一短温度で
吐出させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよび
フィルタとからなるファンヒータユニットとによシ、温
風17をダクト18を通して偵布室10へ送り込み、回
転するように(,4成され−Cいるチャック19に吸着
されたウェーハ20を一定温度に加熱するようになって
いる。なお、21は廃液回収容器、22はウェーハ20
の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、23は
ゼラチンを吐出させるだめの所足の圧力にfljlJ御
されたN2ガス、24はフィルタ、25゜26は圧入管
11の開閉、吐出側ゼラチンのサックバック用ベローズ
である。
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器5の
設定温度とゼラチン7の吐出温度どが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。
まfc、塗布至10内のゼラチン温度を調節できないと
いう欠点もあった。さらにこのため、ウェーハ加熱用の
温風を塗布至10へ送り込延なければ注入管110末砧
からゼラチンが凝固してくる問題もめった。
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を屏消
するだめになされたものでめり、その目的とするところ
は、注入糸の末端まで温調できるフォトレジスト犀温旺
入システムを提供することに必る。
このような目的を達成するために不発明は、注入系に温
調手段を設けたものである。
以下、1囲を用いて不発明の実施例を詳卸1に説明する
第2図は不発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第1図と同符号は同−
安水となるのでその説明は省略する。第2図において、
恒温槽1から塗布室10を経由し、再び恒温槽1筐でポ
ンプ27を通してチューブ28が配管されている。そし
て、このチューブ28の内部にはゼラチン1の注入管1
1が塗布室10まで通されている。また塗布室10内の
ゼラチン吐出部分は第3図に要部断面図で示すような構
造を治している。すなわち、第3図において、29はコ
ネクタであり、このコネクタ29には前記チューブ28
が通常用いられているチューブ継手30によシ接続され
ている。また、前記注入管11の先端はフランジ加工さ
れ、コネクタ29の一端にねじ込まれるノズル31によ
り、コネクタ29に締付固定されている。なお、32は
シール材である。
このように配材された圧入糸において、ポンプ21を作
動させることにより、恒温槽1内の液体6がl土人看1
1の−まわりを包むようにしてチューブ28とコネクタ
29とを通って循環する。一方、液体6はAil述した
ように恒温となるように常時加熱藺画されている。した
がって、この定温注入システムによれば、収容容器8内
のゼラチン7の温度を一定に保つと同時に佳人官11内
のゼラチン温度も−yに保つことができる。−また、液
体6の温度はそのまま収容容器8および圧入管11内の
ゼラチン温度となるため、温度調に1〕器5の設定温度
とゼラチン吐出部分とが同一となる。
以上説明したように、+発明によれば、温度調節器の設
定温変通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部
までにわたってゼラチン温度することができるので、1
止出敢温調型が簡単となり、かつ吐出部先端からのゼラ
チンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効米
が倚られる。
【図面の簡単な説明】
8141図は従来のゼラチン堕布システムの一例を説明
するだめの要部断囲構成図、第2図は本発明に係わるゼ
ラチン塗布シスデムの一例を説明するための袋部断面構
成図、第3図は第2図のゼラチン吐出部分を示す断面構
成図である。 1・・・・恒温慣、2・・・・ヒータ、3・・・・温度
センサ、4・・・・攪拌器、5・・・・温度調節器、6
・・・・液体、7・・・Φゼラチン、8・・・・収容容
器、9・・・・加圧容器、10・・争・堕布量、11・
・・拳法入管、12・・・・チューブ、13・・・・断
熱材、14番・・・ヒータ、15・・・・温度センサ、
16・・・・温度調節器、17・・・・温風、18・・
ダクト、19・・や・チャック、2011@・・ウェー
ハ、21・・Φ・廃液tr!I収谷器収容2・・・・ブ
ロア、23・Φ・・N2ガス、24・・・・フィルタ、
25.26・・・・ベローズ、2T・・・・ポンプ、2
8・・・・チューブ、29・・・・コネクタ、30・会
・拳チューフ゛m手、31−・・・ノズル、32・・e
拳シール材。 331− 第3図 1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 液体を収容する恒温槽と、この恒温槽に取付けられかつ
    一端を液体中に投じられた攪拌器、ヒータおよび温度セ
    ンサと、この温度センサとヒータとにより液体の温度を
    制御する温度調節器と、この液体中に漬けられたフォト
    レジストの収容容器と、この液体をフォトレジストの吐
    出部を経由して循環させるように配管されたチューブと
    、この吐出部においてチューブ継手によりこのチューブ
    と接続されるコネクタと、このコネクタの先端にねじ込
    まれたフォトレジスト吐出ノズルと、この吐出ノズルに
    よりフランジ形の先端をコネクタに固定させこのコネク
    タとチューブの内部を通してフォトレジスト収容容器ま
    で導かれたフォトレジストの注入官とから構成され、液
    体で収容容器内から吐出部までにわたりフォトレジスト
    を温調することを特徴とするフォトレジスト定温注入シ
    ステム。
JP57118586A 1982-07-09 1982-07-09 フオトレジスト定温注入システム Pending JPS599654A (ja)

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JPS599654A true JPS599654A (ja) 1984-01-19

Family

ID=14740248

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