JPH03112955A - 光学活性カルボン酸エステル化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクチノボリンやバクトポリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９）（式中＊は不斉炭素を
表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）上記式
（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関しては
、ラセミ体についてはＲ，Ｃ０ｒｄＯＶａ等　（丁ｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ、、２５．２９４５（１
９８４）　　）　　、　　ＫＪＩ。

Ｐｉｅｔｒｕｓｉｅｗｉｃｚ等（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ
、、５３．２８３７（１９８８）　）が報告しているが
光学活性体についてはに、Ｈｏｒｉ等（丁ｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ、　占５２９５　（１９８５）　）が知られて
いるのみである。

光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。

（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく、ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（ｎ）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。

反応経路（Ｉ［＞ （６） （Ａ） （ア） 本発明はこの反応経路（ｎ）において得られる中間体を
提供するものである。

すなわち、本発明は 一般式（Ｂ） （Ｄ−ＥはＣＨ＝ＣＨ又はＣＨ２ＣＨ２を、Ｒ３は低級
アルキル基、アルケニル基又はベンジル基を、Ｘ′は水
素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭素を表わす。

） で表わされる光学活性カルボン酸エステル化合物（Ｂ）
を提供するものでおる。

一般式（Ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）のＲ３としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
ｔ−ブチル、ペンチル基等炭素数１〜５のアルキル基、
アリル、２−メチルアリル。

２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテニル基等炭素
数３〜５のアルケニル基又はベンジル基を挙げることが
できる。

本発明の化合物（Ｂ）は化合物（６）から化合物（７）
を経て合成され、化合物（６）は、反応回路（Ｉ＞に従
って、グリシジルエーテル（２）から合成される。

すなわち、光学活性なα、β不飽和δラクトン化合物（
６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機合
成化学協会誌４５巻、　１１５７頁（１９８７）　）に
よりグリシジルエーテル（２）から、反応経路（Ｉ＞に
示すようにして製造することができる。

反応経路（１） （２） （３） （４） （５）　　　　　　　　　　　　　　　　（６）反応経
路（Ｉ＞においてＲ１は容易に脱離可能な保護基を表わ
し、具体的にはベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−
クロルベンジル基等のアラルキル基、メトキシメチル、
ｔ−ブトキシメチル。

１−エトキシエチル、１−イソプロポキシエチル基等の
アルキルオキシアルキル基、アリル、メタリル基等のア
ルケニル基又はテトラヒドロフラニル、テトラヒドロピ
ラニル基等の環内に異項原子を含むシクロアルキル基を
表わす。またＲ２はｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ル、メチルなどの低級アルキル基を表わす。−＊は不斉
炭素を表わす。

前記反応経路（ｎ）において、Ｘは水酸基、フェニルチ
オ基若しくは一０Ｒ１を、Ｙは水素原子若しくは一〇〇
２　Ｒ３を表わす。Ｘ′とＲ１及びＲ３は上記と同一の
ものを表わす。

以下詳細反応経路（ＩＩａ＞、（Ｉ［ｂ＞に従って、こ
の化合物（６）より出発して化合物（７）より本発明の
化合物（Ｂ）を合成する方法を詳細に説明する。

詳細反応経路（■ａ） 詳細反応経路（ＩＩｂ） （９） ａ）δラクトン化合物Ａの合成 光学活性α、β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、トルエン、ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中（７）Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）の
アニオンを１，４−付加サセテ化合物（Ａ−１）（Ｘ＝
ＯＲ１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）
エステルの加水分解と脱炭酸、工程２）保護基の脱離。

工程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い
、化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣｃ＋　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）
を合成する。

１）エステルの加水分解と脱炭酸、２）保護基の脱離、
３）生じた水ＩＩのフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。

１）、２＞、３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。

工程１）はアルカリおるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どを用いることができる。

酸としては硫酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸
あるいは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅なとのル
イス酸を用いることができる。溶媒としては極性溶媒、
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトニトリル。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどが使用できる。

工程２）の保護基の脱離は選択させるＲ１により適宜種
々の方法を使いわけることができる。例えばＲ１がペン
シル、アリル基のときはパラジウム触媒を用いて水素化
分解おるいは異性化分解の手法が、メトキシメチルや１
−エトキシエチルの場合は鉱酸や有機酸、ルイス酸を用
いて含水溶媒中で加水分解する手法が使用できる。水酸
基をフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニル
ホスフィン、トリーｎ−ブチルホスフィン、１．２−ビ
ス（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィン
の存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールをピ
リジン、トリエチルアミンなどを溶媒として反応させる
ことにより達成できる。

また化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物（
Ａ−５＞（Ｘ＝ＯＨ，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３＞、（Ａ−６）（
Ｘ＝ＳＣｓ　Ｒ５，Ｙ＝ＣＣｈ　Ｒ３）を経て化合物（
Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）に導くことも
できる。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ’　、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）か
ら化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣａ　Ｈｓ。

Ｙ＝Ｈ）への変換の具体例を以下に示すが、製法はこの
具体例に限られるものではない。

化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｂｎはベンシル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｈｓ　）を塩化マグネシウムとジメ
チルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製し、化
合物（Ａ−２）（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｙ＝Ｈ＞のトランス体、
シス体を各々得ることができる。このものをパラジウム
触媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３＞（Ｘ＝Ｏ
Ｈ。

Ｙ＝Ｈ）とし、トリーｎ−ブチルホスフィン、ジフェニ
ルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ−４
＞（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　、￥＝Ｈ＞を得る。

ｂ）ヘミアセタール化合物（７）の合成化合物（Ａ−４
＞（Ｘ＝ＳＣａ　Ｒ５，Ｙ＝Ｈ＞をジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどの水素化アルミニウム試剤で還
元するとヘミアセタール（７−１＞が得られる。反応は
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル。

ジオキサンなどの不活性溶媒中、Ｏ〜−８０°の低温で
行う。化合物（７−２＞（Ｘ’　＝Ｈ＞は化合物（７−
１＞　　（Ｘ’　＝−３Ｃｓ　Ｒ５）をラネーニッケル
を用いて還元することにより得られる。

Ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成化合物（７−１
＞を一般式Ｒ３０ＣＯＣＨ＝ＰＺＲ４（８）で表わされ
るｐ−イリド（式（８）でＺは酸素、（ＯＲ３）２また
は（Ｃ６Ｈｓ　）　２を、Ｒ４はＯＲ３またはＣ６Ｈ５
を、Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）と反応させて
化合物（Ｂ−１）　　（Ｄ−Ｅ　：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　
＝ＳＣｃ＋Ｈｓ＞を得る。化合物（Ｂ−１＞から化合物
（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）へは工程４）二重結合の還元
。

工程５）フェニルチオ基の還元、工程６）ニトリルの加
水分解、工程７）δラクトン環への閉環の４つの工程を
行うことにより達成できる。尚、化合物（７−２）（Ｘ
’　＝ｌ−１）を原料とした場合は工程５）は必要ない
。

この４つの工程は工程７）のまえに工程６）を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４）、５）の工程、６）、７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸あるいはパラジウム、白金、ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸、
硫酸、臭化水素酸なとの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。

また工程７）のδラクトン環への閉環はニトリルの加水
分解で生じたカルボン酸を酸処理すれば達成できる。こ
れらの各工程を適宜選択すれば望ましい生成物を選択的
に得ることができる。

例えば化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝ＣＨ。

Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈ５）を亜鉛−酢酸で還元すると化合
物（Ｂ−２＞　　（Ｄ−Ｅ　：ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　＝
ＳＣ６Ｈｓ　）が得られ、化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ　
：Ｃ１−（＝ＣＨ，Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈｓ　）をラネー
ニッケルで還元するとフェニルチオ基の還元と二重結合
の還元が同時におこり、化合物（Ｂ−３＞（Ｄ−Ｅ　：
　ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　＝Ｈ）が得られる。

本発明の化合物Ｂは前記反応経路（ｎ）に従って、光学
活性δラクトン化合物（９）とすることができる。以下
類に説明する。

ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３＞のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−２
＞（Ｘ’　＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応させエ
ステル化して化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　＝Ｈ＞とする。

工程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から（
Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）へ
の変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）か
ら（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウム
や白金による水素化で行い、工程６）、７）を前述の方
法で行って化合物（Ｃ−１＞（Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈ５）
を得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（Ｃ−
２＞（Ｘ’　＝Ｈ）としたのち最後の分子内縮環反応を
行う。

ここで得られたδラクトン化合物（Ａ）、ヘミアセター
ル化合物（７）、カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体である。

ｅ）δラクトン化合物（９）の合成 化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　＝Ｈ）の分子内縮環反応は不
活性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ｔ−ブタノール、ジメチルホル
ムアミドなどを用い、カリウム−ｔ−ブトキシド、水素
化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の塩基と反応させて公知の目的物質、光学活性δラクト
ン化合物（９）を光学純度よく高収率で得る事ができる
。

（発明の効果） 本発明の光学活性化合物はδラクトン系抗生物質の母核
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
でおって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。

（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。

実施例１ １）化合物（Ａ−１＞の合成 ＜６）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−１＞
（Ｂｎはベンジル基、Ｅｔはエチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、シアン酢酸エチルエステル１．２４ｇ
　（１１ｍＭ＞を鉱油でけんだくした６０Ｗ／Ｗ％の水
素化ナトリウム４４０ｍ（１（１１ｍＭ＞のテトラヒド
ロフラン１５ｄけんだく液中に水冷下で加え１０分間至
至温撹拌した。次に８体のα、β不飽和δラクトン＜　
６　）　２．　Ｏｆｊ　（９，１７ｍＭ＞のテトラヒド
ロフラン溶液５ｄを水冷下ゆっくり加え、同温で１時間
撹拌した。反応液をジエチルエーテル５０ｍ１で希釈し
、１０％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶
媒を留去すると１，４−付加体（Ａ−１＞が黄色油状物
質として３．５ｇ得られた。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＵ３　） δ：１．３２　（３）−１，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ　＞
２．０　　（２Ｈ，ｍ） ２．６０　２Ｈ，ｍ） ２．９０　１Ｈ，ｍ＞ ３．６０　３Ｈ，ｍ） ４．３０　２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．ＩＨｚ　）４．５６　
２８．　ｓ＞ ４．６０　（ＩＨ，ｍ＞ ７゜３３（５Ｈ，５） ｉＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４０．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ３３２　（Ｍ＋１　）　、　９１　（１００％）２〉化
合物（Ａ−２＞の合成 ０ｍ−１ （Ａ−１＞　　　　　　　　　　　　　＜Ａ−２＞アル
ゴン気流下、上記１，４−付加体（Ａ−１＞３．５ｇを
水１０滴、塩化マグネシウム６水塩１　、８６（１（９
，１７ｍ）ｌ）とジメチルアセトアミド３０ｍｅ中で１
７０℃、１２時間加熱還流し、空温にもどしたのち、水
とジエチルエーテルを加え、抽出分離し、水層は塩酸で
酸性にしたのち酢酸エチルで抽出した。有機層をあわせ
て無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し
、残渣をベンゼン５０威にとかし、１２時間加熱還流し
た。次に反応液を減圧上溶媒を留去し、残漬をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン（ｔｏｏ：ｉｖ／ｖ　）流出し、３Ｒ，５８のδラク
トン化合物（八−２）を無色油状物質として１．４７ｇ
（（６）より６２％）得た。更にエーテルで溶出して３
３．５３のδラクトン化合物＜Ａ−２）　　１８５ｍａ
（（６）より７．８％）を得た。３Ｒ，５Ｓのδラクト
ン化合物（八−２）のデータは次の通りである。

１ｔ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：１．７〜２．９　　（７Ｈ，ｍ） ３．６５　　　　（２１−（、ｄ、　Ｊ＝４．４Ｈ２）
４．５８　　　　（２Ｈ，ｓ＞ ４．６　　　　　（ＩＨ，ｍ） ７゜３３　　　　（５Ｈ，ｓ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４２．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ２５９　（Ｍ”　）　、　９１　（１００％）３）化合
物（Ａ−３＞の合成 ０ｍ−１ （Ａ−２）　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−３）上
記３Ｒ，５３体のδラクトン化合物（Ａ−２＞１．３８
Ｇ　（５，３３ｍＭ）を酢１１チル４０７にとかし、水
酸化パラジウム１８０ｍｇ　、濃塩酸１滴を加え水素ガ
ス雰囲気下空温で３時間撹拌した。反応液をセライトろ
過し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル留分より化合物（
Ａ−３＞を無色油状物質として８６６、７ｍ（Ｉｆ得た
。収率９６％’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３） δ：１．６５〜３．１　（８Ｈ，ｍ＞ ３．７８　　　　（２Ｈ，ｍ） ４．５７　　　　　　　　（ＩＨ，５ｅｘｔｅｔ、　　
Ｊ＝４．４ＨｚＩＲ（ｎｅａｔ） ３３３０、２２５０．１７３５　　Ｃｍ−１Ｍ５　　ｍ
／ｅ １７０　（Ｍ＋１　＞　、　　１３８　（１００％）４
）化合物（Ａ−４）の合成 ） （Ａ−３）　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−４
＞（ｐｈはフェニル基を、１３ｕはブチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（Ａ−３）５０１＋１（７
（０，２９６ｍ１（＞　、ジフェニルジスルフィド１９
３ｍｇ（０，８８８ｍＭ）　、　　トリーｎ−ブチルフ
ォスフイン０．２２ｍ１（０，８８８ｍＭ）をピリジン
２ｍｌに加え、室温で１２時間撹拌する。反応液を酢酸
エチル３０ｄで希釈し、１０％塩酸で洗浄し、次いで飽
和硫酸銅水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒留去し、
残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エ
ーテル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４＞　７１
ｍｇ　（９２％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：　１．８５〜２．７５　（７Ｈ，ｍ＞２．７Ｍ　　
　　（１ｆ−ｆ、　ｄｄ、　Ｊ＝１４．５．９．０Ｈｚ
　）３．３０　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１４．５．
５．８Ｈ２）４．４５　　　　（ＩＨ，ｕ、　Ｊ＝　９
．０．５．８ｔｌＺ　）７．３０　　　　（５Ｈ，ｍ＞ ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９３０、２２５０．１７４０．　７４０．　６９５　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２６１　（Ｍ＋　）　、　　１２３　（１００％）５）
化合物（７−１）の合成 （Ａ−４＞　　　　　　　　　　　　　　　　　（７−
１＞アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ−４
＞　　９８４ｍ（Ｊ＜３．７７ｍＭ＞のテトラヒドロフ
ラン溶液２５ｍ１に一３０℃撹拌下ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドの２Ｍトルエン溶液２ｒｒ１１（４
ｍＨ）をゆつ（り加え、−３０℃で１０分間撹拌した。

反応液に１０％ＮａＯＨ水溶液を少量加え、室温で２時
間撹拌し、セライトろ過した後、減圧上溶媒を留去し、
ヘミアセタール（７−’ｌ）　　９８６ｍｇを得た。

ＩＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．５〜１．９　　（４Ｈ，ｍ） ２．２〜２．５　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．７　　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ２．９〜３．６　　（２Ｈ，ｍ） ３．７〜４．４　　（ＩＨ，ｍ） ５．０〜５．４　　（ＩＨ，ｍ） ７．２〜７．４５　（５Ｈ，ｍ） ＪＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２９１０．２２５０．　７４５．　６９５　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２Ｂ３　（Ｍ＋　）　、　　１２４　（１００％）６）
化合物（Ｂ−１＞の合成 （７−１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
Ｂ−１＞アルゴン気流下、上記へミアセタール（７−１
）９８６ｍｇ　（３，７５ｍＭ　）の塩化メチレン溶液
２０ｄにトリフェニルフォスフインのエトキシカルボニ
ルメチルイリド３．９（Ｊ　（１１，２５ｍＭ）を加え
、室温で１５時間撹拌する。反応液を減圧上溶媒留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル：ヘキサン（３：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より５−シ
アンメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオオクタ
−２−エノイツクアシツドエチルエステル（Ｂ−１＞を
１．０３（］　（８８２％無色油状物質として得た。

ＩＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．２９　　　　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ　
＞１．６０　　　　（２Ｈ，ｍ） ２．０〜２．７　　（５Ｈ，ｍ） （１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１３゜９．８．８１−１２　＞（
ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１３．９．３．７Ｈｚ　）（ＩＨ，
ｍ＞ （２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝　７．ＩＨｚ） （ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５．６Ｈ２） （ＩＨ，ｄｔ、　Ｊ＝１５．６．γ、ＩＨｚ　）２．６
８ ３．１５ ３．７０ ４．９０ ５．９０ ６．８０ ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４５０、２９１０．２２５０．１９１０．１６５０゜
７４０、　６９０　　ｃｍ−１ ＭＳ　　ｍ／ｅ ３３３（Ｍ＋）、　　１２４（ ７）化合物（Ｂ−３）の合成 １００％） （Ｂ−１＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｂ
−３）（Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。）上記化
合物（Ｂ−１）　８７ｍｇ（０，２６ｍＭ）のエタノー
ル１ｍｆ！溶液にラネーニッケル０．６ｍＭのエタンー
ル溶液０．６威を加え、９０°Ｃで２０分加熱還流した
後、反応液をセライトろ過し、減圧上溶媒を留去し、残
漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、エ
ーテル：ヘキサン（７：１　ｖ／ｖ）留分より化合物（
Ｂ−３＞　３７．２ｍＣｌ　（６３％）を無色油状物質
として得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：　１．２３　　　　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ
　＞１．２６　　　　（３ｔ−１，ｔ、　Ｊ＝７．１ｆ
ｌｚ　）１．４〜１．８　　（７Ｈ，ｍ＞ １．９５　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ２．３３　　　　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ　＞２
．４８　　　　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．４Ｈ２’）３．
９０　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ４．１４　　　　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７．ＩＨ２）Ｉ　
Ｒ（ｎｅａｔ） ３４００、２２５０．１７２５　　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ
／ｅ ２２Ｂ　（Ｍ＋　１　）　、　　１６４　（１００％）
合成例 化合物（Ｃ−２＞の合成 （Ｂ−３）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｃ
−２＞アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３＞　　２５
０ｍｇ（１，１ｍＭ）を３０％水酸化カリウム水溶液ｉ
ｍｆ！、エタノール８ｄにとかし、１２時間加熱還流し
た。反応液にエーテル３０ｒｎｌｌ、水２０ｍ１を加え
、抽出分離し、水層に′ａ塩酸を加え酸性とし、塩化メ
チレンで抽出した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去した。残漬を塩化メチ
レンでとかし、ジアゾメタンのエーテル溶液を加えてメ
チルエステルとした。これを減圧上溶媒留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル
：ヘキサン（ｉ：ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より（Ｃ−２＞　　
１９２．１ｍｇ（８２％）を無色結晶として得た。

ｍｐ　　　　７２．５〜７３℃ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：１．３８　　　　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３ｔｌｚ
　）１．１〜２．９　　（ＩＩＨ，ｍ＞ ３．６８　　　　（３Ｈ，Ｓ） ４．４　　　　　（１Ｈ，ｍ＞ ＩＲ（ＣＨＣＩ２３　＞　　　２９００．１７２０　　
ｃｍ−’ＭＳ　　ｍ／ｅ ２１５　（Ｍ＋　１　＞　、　７４　（１００％）化合
物（９）の合成 （Ｃ−２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（９
）アルゴン気流下、化合物（Ｃ−２）　　１７８ｍｇ（
０，８３ｎ＋Ｈ）のテトラヒドロフラン溶液２ｍｌをカ
リウム−１−ブトキシド２８９．５ｍｃ＋　（２，６８
ｎ＋Ｈ）のテトラヒドロフランけんだく液８ｍｆ！に室
温で加え、更に同温度で１０分間撹拌した。反応液に水
２（７，エーテル３０ｍ１を加え、抽出分離した。水層
を濃塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機層を
あわせて無水硫鼠マグネシウムで乾燥した後、減圧下で
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：５　ｖ／ｖ）留
分より化合物（９）　　１０６ｍｇ（７０％）を無色針
状晶として１ｑだ。

ｍｐ　　　１２１〜１２２℃ （ｌｉｔ、　ｍｌ）　１２０〜１２１°Ｃ：、、　Ｆ、
Ｈ，５ｔｏｄｏｌａ、ｅｔ　ａｌ。

Ｂｉｏｃｈｅｍ、Ｊ、、９３．９２（１９６４））［α
］　Ｖ　＋１８．１°　（ｃ＝１．０３．　エタ／−／
Ｌ／）（ｌｉｔ、［α］　Ｄ＋１８．２°　（Ｃ＝１．
１５．エタノール。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（Ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｂ） （Ｄ−ＥはＣＨ＝ＣＨ又はＣＨ＿２ＣＨ＿２を、Ｒ＾３
   は低級アルキル基、アルケニル基又はベンジル基を、Ｘ
   ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭素を表
   わす。） で表わされる光学活性カルボン酸エステル化合物。
2. （２）一般式（Ｂ）において、Ｒ＾３がメチル、エチル
   、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペン
   チル基からなる低級アルキル基、アリル、２−メチルア
   リル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテニル基
   からなるアルケニル基及びベンジル基の中から選ばれる
   ことを特徴とする請求項１記載の光学活性カルボン酸エ
   ステル化合物。