JPH03112974A - 光学活性ヘミアセタール化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクチノボリンやバクトポリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９）（式中＊は不斉炭素を
表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）上記式
（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関しては
、ラセミ体についてはＲ，Ｃｏｒｄｏｖａ等（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２５．２９４５（１９８
４）　）　、に０Ｍ。

ＰｉｅｔｒＵＳｉｅＷｉＣＺ等（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ
９，５３．２８３７（１９８８）　）が報告しているが
光学活性体についてはに、Ｈｏｒｉ等（Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ、　匹５２９５（１９８５）　）が知られてい
るのみである。

光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。

（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく、ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（ｎ）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。

反応経路（Ｉｔ） （６） （Ａ） （７） 本発明はこの反応経路（ｎ）において得られる中間体を
提供するものである。

すなわち、本発明は、 一般式（７） （Ｘ’　は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭
素を表わす。） で表わされる光学活性ヘミアセタール化合物（７）を提
供するものである。

一般式（７）で表わされる化合物（７）のＸ′としては
水素原子又はフェニルチオ基が挙げられる。

本発明の化合物（７）は化合物（６）から化合物（Ａ＞
を経て合成され、化合物（６）は、反応経路（Ｉ＞に従
って、グリシジルエーテル（２）から合成される。

すなわち、光学活性なα、β不飽和δラクトン化合物（
６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機合
成化学協会誌４５巻、　１１５７頁（１９８７）　）に
よりグリシジルエーテル（２）から、反応経路（Ｉ＞に
示すようにして製造することができる。

反応経路（１） （２） （３） 〈４） （５）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（６
）反応経路（Ｉ＞においてＲ１は容易に脱離可能な保護
基を表わし、具体的にはベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、ｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基、メトキシ
メチル、ｔ−ブトキシメチル。

１−エトキシエチル、　１−イソプロポキシエチル基等
のアルキルオキシアルキル基、アリル、メタリル基等の
アルケニル基又はテトラヒドロフラニル、テトラヒドロ
ピラニル基等の環内に異項原子を含むシクロアルキル基
を表わす。またＲ２はローブチル、イソブチル、ｔ−ブ
ヂル、メチルなどの低扱アルキル基を表わす。＊は不斉
炭素を表わす。

前記反応経路（ｎ）において、Ｘは水酸基、フェニルチ
オ基若しくは一０Ｒ１を、Ｙは水素原子若しくは−ＣＯ
２Ｒ３を表わす。Ｘ′とＲ１は上記と同一のものを表わ
し、Ｒ３は、メチル、エチル、プロピル、インプロピル
、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル基等炭素数１〜５のア
ルキル基、アリル、２−メチルアリル、２−ブテニル、
３−ブテニル、２−ペンテニル基等炭素数３〜５のアル
ケニル基又はベンジル基を表わす。

以下詳細反応経路（ＩＩａ）、（ＩＩｂ）に従って、こ
の化合物（６）より出発して化合物（Ａ＞より本発明の
化合物（７）を合成する方法を詳細に説明する。

詳細反応経路（Ｉ［ａ＞、（ＩＩｂ）において、Ｒ１，
Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同一のものを表わす。

またーＳｐｈはフェニルチオ基を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。

詳細反応経路（Ｉ［ａ） 詳細反応経路（Ｉ［ｔ）） （９） ａ）δラクトン化合物Ａの合成 光学活性α、β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、トルエン；ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを１，４−付加させて化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ
１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ’　）を合成し、これから工程１〉エ
ステルの加水分解と脱炭酸、工程２）保護基の脱離。

工程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い
、化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣａ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）を
合成する。

１）エステルの加水分解と脱炭酸、２）保護基の脱離、
３〉生じた水酸基のフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。

１）、２）、３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。

工程１）はアルカリあるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どを用いることができる。

酸としては硫酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸
あるいは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅なとのル
イス酸を用いることができる。溶媒としては極性溶媒、
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトニトリル。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどが使用できる。

工程２）の保護基の脱離は選択させるＲ１により適宜種
々の方法を使いわけることができる。例えばＲ１がベン
ジル、アリル基のときはパラジウム触媒を用いて水素化
分解あるいは異性化分解の手法が、メトキシメチシャ１
−エトキシエチルの場合は鉱酸や有機酸、ルイス酸を用
いて含水溶媒中で加水分解する手法が使用できる。水酸
基をフェニルチオ基に変換する工程３）はｉ〜リフェニ
ルホスフィン、トリーローブチルホスフィン、１，２−
ビス（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィ
ンの存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールを
ピリジン、トリエチルアミンなどを溶媒として反応させ
ることにより達成できる。

また化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ１、Ｙ−ＣＯ２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物（
Ａ−５）（Ｘ−ＯＨ，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）、（Ａ−６＞（
Ｘ＝ＳＣ６ｔ−１ｓ　、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を経て化合物
（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣ８Ｒ５、Ｙ＝Ｈ）に導くこともで
きる。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ’　、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）か
ら化合物（△−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　。

Ｙ−Ｈ）への変換の異体例を以下に示すが、製法はこの
具体例に限られるものではない。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｂｎはベンジル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２１−１ｓ　）を塩化マグネシウムと
ジメチルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製し
、化合物（Ａ−２＞（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｙ＝Ｈ）のトランス
体、シス体を各々得ることができる。このものをパラジ
ウム触媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３）（Ｘ
＝ＯＨ。

Ｙ＝Ｈ）とし、トリーｎ−ブヂルホスフィン、ジフェニ
ルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ−４
）（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　、Ｙ−ト１）を得る。

ｂ）へミアセタール化合物（７）の合成化合物（Ａ−４
）（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）をジイソブチルアル
ミニウムハイドライドなどの水素化アルミニウム試剤で
還元するとヘミアセタール（７−１＞が得られる。反応
はテトラヒドロフラン、■チレングリコールジメチルエ
ーテル。

ジオキサンなどの不活性溶媒中、Ｏ〜−８０’の低温で
行う。化合物（７−２）（Ｘ’　＝Ｈ）は化合物（７−
１）　　（Ｘ’　＝−３Ｃｓ　Ｈｓ　）をラネーニッケ
ルを用いて還元することにより得られる。

本発明の化合物（７）は前記反応経路（ｎ）に従って、
光学活性δラクトン化合物（９）とすることができる。

以下順に説明する。

Ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成化合物（７−１
）を一般式Ｒ３０ＣＯＣＨ−ＰＺＲ４（８）で表わされ
るｐ−イリド（式（８）で７は酸素、（ＯＲ３）２また
は（Ｃｓ　Ｒ５）　２を、Ｒ４はＯＲ３またはＣ６Ｈｓ
を、Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）と反応させて
化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　＝ＳＣ
ｅＨｓ）を得る。化合物（Ｂ−１）から化合物（Ｃ−２
＞（Ｘ’　＝Ｈ＞へは工程４）二重結合の還元。

工程５）フェニルチオ基の還元、工程６）ニトリルの加
水分解、工程７）δラクトン環への閉環の４つの工程を
行うことにより達成できる。尚、化合物（７−２）（Ｘ
’　＝Ｈ）を原料とした場合は工程５）は必要ない。

この４つの工程は工程７）のまえに工程６〉を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４）、５）の工程、６）、７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸あるいはパラジウム、白金、ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸、
硫酸、臭化水素酸なとの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。

また工程７）のδラクトン環への閉環はニトリルの加水
分解で生じたカルボン酸を酸処理すれば達成できる。こ
れらの各工程を適宜選択すれば望ましい生成物を選択的
に得ることができる。

例えば化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ：ＣＨ＝ＣＨ。

Ｘ’　−３Ｃｓ　Ｈｓ　）を亜鉛−酢酸で還元すると化
合物（Ｂ−２）　　（Ｄ−Ｅ　：ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　
＝ＳＣｅ　Ｈｓ　）が得られ、化合物（Ｂ−１＞（ＤＥ
　：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈｓ　）をラネーニ
ッケルで還元するとフェニルチオ基の還元と二重結合の
還元が同時におこり、化合物（Ｂ−３＞（Ｄ−Ｅ　：　
ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　＝ｌ−１）が得られる。

ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３）のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−２
）（Ｘ’　＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ＞とし、低扱アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応させエ
ステル化して化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　＝Ｈ）とする。

工程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から（
Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）へ
の変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）か
ら（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウム
や白金による水素化で行い、工程６）、７）を前）ホの
方法で行って化合物（Ｃ−１＞（Ｘ’　−３Ｃｅ　Ｈｓ
　）を得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（
Ｃ−２＞（Ｘ’　＝ト１）としたのち最後の分子内縮環
反応を行う。

ここで得られたδラクトン化合物（Ａ）、ヘミアセター
ル化合物く７）、カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体でおる。

ｅ）δラクトン化合物（９）の合成 化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　＝Ｈ）の分子内縮環反応は不
活性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコ
ールジメヂルエーテル、　ｔ−ブタノール、ジメチルホ
ルムアミド ム−ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどの塩基と反応させて公知の目
的物質，光学活性δラクトン化合物（９）を光学純度よ
く高収率で得る事ができる。

（発明の効果） 本発明の光学活性化合物はδラクトン系抗生物質の母核
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
でおって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。

（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。

実施例１ １）化合物（Ａ−１＞の合成 ＜６）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ〜
１）（Ｂｎはベンジル基，Ｅｔはエチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、シアン酢酸エチルエステル１、２４ｇ
（ｌ１ｍ）！＞を鉱油でけんだくした６０Ｗ／Ｗ％の水
素化ナトリウム４４０ｍＣＩ　（　１１ｍＭ＞のテトラ
ヒドロフラン１５ｍｌけんだく液中に水冷下で加え１０
分間室温で撹拌した。次に８体のα，β不飽和δラクト
ン（６　）　２．０９　（　９．　１７ｍＭ＞のテトラ
ヒドロフラン溶液５７！を氷冷下ゆっくり加え、同温で
１時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル５（７で希
釈し、１０％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
上溶媒を留去すると１．４−付加体（Ａ−１＞が黄色油
状物質として３，５ｇ得られた。

’ＨＮＭＲ　（ＣＤＣｂ　） δ：１．３２　（　３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．１Ｈｚ　＞
２．０　　（２Ｈ，ｍ） ２．６０　（２Ｈ，ｍ＞ ２．９０　（１１−１，ｍ） ３．６０　（、］七ｍ） ４．３０（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７．１１１ｚ　＞４．５６
（２Ｈ，Ｓ） ４．６０（ＩＨ，ｍ） ７゜３３（５Ｈ，５） ＩＲ（口ｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４０．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ３３２　（Ｍ＋　１　＞　、　９１　（１００％）２）
化合物（Ａ−２）の合成 ｍ−１ （Ａ−１＞　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−２）ア
ルゴン気流下、上記１，４−付加体（Ａ−１＞３．５ｇ
を水１０滴、塩化マグネジ「タム６水塩１　、８６ｇ（
９，１７ｍＭ）とジメチルアセトアミド３０ｒｄ！中で
１７０’Ｃ，１２時間加熱還流し、室温にもどしたのら
、水とジエチルエーテルを加え、抽出分離し、水層は塩
酸で酸性にしたのら酢酸エチルで抽出した。有機層をあ
わＵて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留
去し、残渣をベンゼン５０ｍ１にとかし、１２時間加熱
還流した。次に反応液を減圧上溶媒を留去し、残漬をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：
ヘキサン（１００：１ｖ／ｖ　）流出し、３Ｒ，５３の
δラクトン化合物（八−２）を無色油状物質として１．
４７（７（（６）より６２％）得た。更にエーテルで溶
出して３３．５３のδラクトン化合物（Ａ−２）　　１
８５ｍｑ　（（６）　ヨＶ）７．８％）を得た。３Ｒ，
５Ｓのδラクトン化合物（八−２）のデータは次の通り
でおる。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｂ　） δ：１．７〜２．９　　（７Ｈ，ｍ） ３．６５　　　　　　　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝４．４
ｔｌｚ　　＞４．５８　　　　（２Ｈ，Ｓ） ４．６　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ７．３３　　　　（５Ｈ，５） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．７７４０．　７４２．　７（１０
ＭＳ　　ｍ／ｅ ２５９　（Ｍ＋　）　、　９１　（１００％）３）化合
物（Ａ−３＞の合成 ｍ−１ （Ａ−２＞　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−３＞上
記３Ｒ，５３体のδラクトン化合物（Ａ−２＞１．３８
（１（５，３３ｍｔ（＞を酢ｆｌｊエチル４０ｍ１にと
がし、水酸化パラジウム１８０ｍｇ、濃塩酸１滴を加え
水素ガス雰囲気下至温で３時間撹拌した。反応液をセラ
イトろ過し、減圧上溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル留分より化
合物（Ａ−３＞を無色油状物質として８６６、７ｒＵＪ
、９た。収率９６％ＩＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．６５〜３．１　（８１−１，ｍ＞３．７８　　
　　（２Ｈ，ｍ＞ ４゜５７　　　　　（１Ｈ，５ｅｘｔｅｔ、　　Ｊ＝４
．４ＨｚＩＲ（ｎｅａｔ） ３３３（）、　２２５０．１７３５　　ｃｍ−１ＭＳ　
　ｍ／ｅ １７０（Ｍ＋’ｌ）、　　１３８（１００％）４）化合
物（Ａ−４）の合成 ） （Ａ−３）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−
４＞（ｐｈはフェニル基を、Ｂｕはブチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（△−３）　ｓｏｍｇ（０
，２９６ｍＭ＞　、ジフェニルジスルフィド１９３ｍｇ
＜　０．８８８ｍ）ｌ）　、　　トリー〇−ブヂルフォ
スフィン０．２２ｄ　（０，８８８ｍＭ）をピリジン２
ｍｌに加え、室温で１２時間撹拌する。反応液を酢酸エ
チル３０ｍｆ！で希釈し、１０％塩酸で洗浄し、次いで
飽和硫酸銅水溶液、飽和型費水、飽和食塩水の順に洗浄
し、無水５Ａ酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸
し、エーテル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４＞
　７１ｍｇ　（９２％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：　１．８５〜２．７５　（７Ｈ，ｍ＞２．９４　　
　　（ＩＨ，ｄｃｆ、　Ｊ＝１４．５．９．０１１ｚ　
）３．３０　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１４．５．５
．８ｔｌＺ　）４．４５　　　　（ＩＨ，ｔｔ、　Ｊ＝
　９．０．５．８ｔｌｚ　）７．３０　　　　　　　　
（５Ｈ，ｍ＞ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９３０、２２５０．１７４０．　７４０．　６９５　
　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ／ｅ ２６１　（Ｍ”　）　、　　１２３　（１００％）５）
化合物（７−１）の合成 （Ａ−４）　　　　　　　　　　　　　　　　（７−１
＞アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ−４）
　　９８４ｍｇ（３，７７ｍＭ）のテトラヒドロフラン
溶液２５ｍ１に一３０℃撹拌下ジインブチルアルミニウ
ムハイドライドの２Ｍトルエン溶液２ｍ１（４ｍＭ＞を
ゆっくり加え、−３０’Ｃで１０分間撹拌した。反応液
に１０％ＮａＯＨ水溶液を少但加え、室温で２時間撹拌
し、セライトろ過した後、減圧上溶媒を貿去し、ヘミア
セタール（７−’ｌ）　　９８６＋ｎｇを得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ　：１．５　〜１．９　　　（４，Ｈ，ｍ＞２．２〜
２．５　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．７　　　　　（１１−（、ｍ） ２．９〜３．６　　（２Ｈ，ｍ） ３．７〜４．４　　（ＩＨ，ｍ＞ ５．０　〜５．４　　　（ＩＨ，ｍ＞ ７．２〜７．４５　（５１−１，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２９１０．２２５０．　７４５．　６９５　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２６３　（Ｍ＋　）　、　　１２４　（１００％）合成
例 化合物（Ｂ−１＞の合成 ＜７−１　）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
Ｂ−１）アルゴン気流下、上記へミアセタール（７−１
＞９８６ｍ（１（３，７５ｍ）りの塩化メチレン溶液２
０７！にトリフェニルフォスフインのエトキシカルボニ
ルメチルイリド３，９ｑ　（１１，２５ｍＭ＞を加え、
室温で１５時間撹拌する。反応液を減圧上溶媒留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エ
ーテル：ヘキサン（３：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より５−シア
ンメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオオクタ−
２−エノイツクアシツドエチルエステル（８−１）を１
．０３（］　（８８２％無色油状物質として得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｂ　） δ　：１．２９　　　　　　　　（３Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝
７．１Ｈｚ　　＞１．８０　　　　　　　　（２Ｈ，ｍ
）２．０〜２．７　　（５１−１，ｍ） ２．６８　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１３．９．８．
ａｔｌＺ　）３．１５　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１
３．９．３．７Ｈｚ　＞３．７０　　　　　　（ＩＨ，
ｍ＞ ４．９０　　　　　　　（２Ｈ，（１，Ｊ＝　　７．１
Ｈｚ＞５．９０　　　　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５．６Ｈ
ｚ）６．８０　　　　（ＩＨ，ｄｔ、　Ｊ＝１５．６．
７．１Ｈ２）ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４５０、２９１０．２２５０．１９１０．１６５０゜
７４０、　６９０　　ｃｍ−１ ＭＳ　　ｍ／ｅ ３３３　（Ｍ＋　）　、　　１２４　（１００％）化合
物（Ｂ−３＞の合成 （Ｂ−１＞　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｂ−
３）（Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。）上記化合
物（Ｂ−１＞　８７ｍｇ（０，２６ｍＭ）のエタノール
１ｍｌ溶液にラネーニッケル０．６ｍＭのエタノ−ル溶
液０．６ｍｌを加え、９０℃で２０分加熱還流した後、
反応液をセライトろ過し、減圧上溶媒を留去し、残漬を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、エーテ
ル：ヘキサン（７：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より化合物（３−
３）　３７．２ｍｇ　（６３％）を無色油状物質として
得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１：＋　） δ：１．２３　　　　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３ｔｌｚ
　＞１．２６　　　　（３１−１，ｔ、　Ｊ＝７．１［
ＩＺ　）ｔ４〜１．８　　（７Ｈ，ｍ＞ １．９５　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ２．３３　　　　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ　＞２
．４８　　　　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．４Ｈｚ　）３．
９０　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ４．１４　　　　（２ｆ−１，ｑ、　Ｊ＝７．１ｔｌｚ
　）ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２２５０．１７２５　　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ
／ｅ ２２８　（Ｍ＋１　＞　、　　１６４　（ｉｏｏ％）化
合物（Ｃ−２＞の合成 （Ｂ−３＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｃ
−２１アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３＞　　２５
０ｍｇ（１，１ｍ）ｆ）を３０％水酸化カリウム水溶液
１ｍ、エタノール８ｄにとかし、１２時間加熱還流した
。反応液にエーテル３０ｍ１．水２０ｍを加え、抽出分
離し、水層に濃塩酸を加え酸性とし、塩化メチレンで抽
出した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧上溶媒を留去した。残渣を塩化メチレンでとか
し、ジアゾメタンのエーテル溶液を加えてメチルエステ
ルとした。これを減圧上溶媒留去し、残漬をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン
（１：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分Ｊ＝す（Ｃ−２＞　　１９２．
１ｍｇ（８２％）を無色結晶として得た。

ｍｐ　　　　７２．５〜７３℃ １−（ＮＭＲ（ＣＱＣＪ１３） （３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ　） （１１Ｈ，ｍ） （３Ｈ，Ｓ） （１Ｈ，ｍ＞ ２９００、１７２０　　ｃｍ−１ δ：１．３８ １．１〜２．９ ３．６８ ４．４ ＩＲ（ＣＨα３） ＭＳ　　ｍ／ｅ ２１５（Ｍ＋１ 化合物（９）の合成 ）、７４（ １００％） （Ｃ−２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
９）アルゴン気流下、化合物（Ｃ−２＞　　１７８ｍｇ
（０，８３ｍ）ｌ　）のテトラヒドロフラン溶液２ｍｌ
をカリウム−ｔ−ブトキシド２８９．５ｍｇ　（２，６
８ｎ＋Ｈ）のテトラヒドロフランけんだく液８ｍｌに至
温で加え、更に同温度で１０分間撹拌した。反応液に水
２０ｄ、エーテル３０ｍｆｆ１を加え、抽出分離した。

水層を濃塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有Ｒ
層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：５　ｖ／ｖ
）ｍ分より化合物（９）　　１０６１１０６ｌ１１％）
を無色針状晶として得た。

ｍ０１２１〜１２２°Ｃ （ｌｉｔ、　ｍｐ　１２０〜１２１°Ｃ，Ｆ、ｔｌ、５
ｔｏｄｏｌａ、ｅｔ　ａｌ。

Ｂｉｏｃｈｅｍ、Ｊ、、９３．９２（１９６４））［α
］ダ＋１８．１°　（ｃｍ１゜０３．エタノール）（ｌ
ｉｔ、　［α］　Ｄ＋１８．２°　（ｃｍ１．１５．エ
タノール。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式（７） ▲数式、化学式、表等があります▼（７） （Ｘ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭素
   を表わす。） で表わされる光学活性ヘミアセタール化合物。