JPH031154A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH031154A
JPH031154A JP1080018A JP8001889A JPH031154A JP H031154 A JPH031154 A JP H031154A JP 1080018 A JP1080018 A JP 1080018A JP 8001889 A JP8001889 A JP 8001889A JP H031154 A JPH031154 A JP H031154A
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bis
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Nariaki Muto
武藤 成昭
Mikio Kadoi
幹男 角井
Keisuke Sumita
圭介 住田
Susumu Nakazawa
中沢 享
Toshihiko Nishiguchi
西口 年彦
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Kyocera Mita Industrial Co Ltd
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Mita Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、複写機などの画像形成装置において好適に使
用される電子写真感光体に関する。
(従来技術) 近年、導電性基体上に感光層が形成された電子写真用感
光体として、加工性がよく製造コストの面で有利である
と共に、機能設計の自由度が大きな有機感光体が使用さ
れている。上記有機感光体においては、光照射により電
荷を発生させる電荷発生材料と発生した電荷を輸送する
電荷輸送材料とにより電荷発生機能と電荷輸送機能とを
分離した感光層を有することで、高感度化を図った機能
分離型電子写真用感光体が知られている。上記機能分離
型電子写真用感光体の感光層としては、少なくとも電荷
発生材料を含有する電荷発生層と、電荷輸送材料と結着
樹脂とを含有する電荷輸送層とが積層された積層型感光
体や、電荷発生材料および電荷輸送材料とを結着樹脂中
に分散させて成る単層型感光体等が種々提案されている
上記積層感光体は、電荷発生層と電荷輸送層とにより各
種機能を分離しているため、前記単層型感光体と異なり
、高感度で感光材料の選択幅が広いという利点がある。
ところで、電荷輸送材料には正電荷輸送型が多いことや
表面に耐久性を持たせるため、導電性基体上に電荷発生
層を設け、更にその上に電荷輸送層を設けた負帯電用積
層感光体の構造をとることが一般的である。しかしなが
ら、このような負帯電用積層感光体では負帯電時に雰囲
気中にオゾンが発生し感光体の劣化及び複写環境の汚染
を引き起こしたり、また現像時には製造が困難である正
帯電性のトナーを必要とする等の問題がある。
一方上記の単層型感光体は、正帯電させることができる
だけでなく、感光体の静電潜像を現像するトナーとして
負帯電性トナーを使用できる。これは、一般にトナーは
負帯電するものが得られ易いため、トナー材料の選択幅
が広く、種々のトナー材料を使用することができるとい
う利点がある。
しかしながら、−・層中で電子と正孔を移動させるため
、どちらかがトラップとなり残留電位が大きくなる傾向
がある。しかも、電荷発生材料と電荷輸送材料との組合
せ方により、帯電特性、感度、残留電位等の電子写真特
性が大きく左右されるという問題点がある。
そこで、上記問題点に鑑みドリフト移動度に関する電界
強度依存性が小さいジアミン誘導体と、ペリレン系化合
物とを組み合わせることで帯電特性、感度、残留電位等
の電子写真特性の優れた正帯電性の単層型電子写真感光
体(特願昭62−277158号公報、特願昭62−2
77159号公報、特願昭62−277161号公報、
特願昭62−277162号公報)を先に提案した。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、先に提案した特願昭62−277158
号公報、特願昭62−277159号公報、特願昭62
−277161号公報、特願昭62−277162号公
報の感光体では、帯電特性、感度、残留電位等の電子写
真特性は優れているが、さらに複写プロセスの繰り返し
においても、表面電位の安定性に優れた感光体を提供す
べく本発明者等が鋭意研究した結果、本発明の感光体を
完成させるに至った。
従って、本発明は帯電特性、感度、残留電位等の電子写
真特性だけでなく、さらに繰り返し安定性にも優れた正
帯電性の単層型電子写真感光体を提供することを目的と
する。
(問題点を解決するための手段および作用)従って、本
発明においては結着樹脂中に、電荷発生材料として下記
−形成(1) (式中、R1,、R2、R3およびR4は、アルキル基
を示す)で表されるペリレン系化合物と、電荷輸送材料
として下記−最式〔■〕〜(V)(以下余白) 系化合物、下記−形式(■〕で表されるフルオレン系化
合物、下記−形式〔■]で表されるm−フェニレンジア
ミン系化合物 (式中、R5〜Rzoは°、同一または異なって、水素
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン原子を示す;Yは、水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基またはハロゲン原子を示す;nは1〜3の
整数を示す;l、m、oおよびPはO〜2の整数を示す
;但し、R9、RIG、 R目およびRttは同時に水
素原子でないものとし、水素原子でない前記R’、R1
0、R”およびRttの!、m、oおよびpは、少なく
とも1つが2であるものとする)で表されるジアミン誘
導体の群から選ばれる少なくとも一種の化合物と、 さらに下記−形式(VI)で表されるヒドラゾン(式中
、R21は水素原子またはアルキル基を示す)(式中、
Rtt、R23、R24およびR2Sは、水素原子また
はアルキル基を示す) (式中、RZ6、R27、RZ[+およびR29、R1
0は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し
、それぞれフェニル基に置換しなくてもまた、置換し得
る限り何個置換してもよく、またすべての置換基は同一
でも、それぞれ互いに異なっていてもよい)よりなる群
の中から少なくとも一種を選択して含有する感光層を、
導電性基体上に形成して電子写真感光体を構成すること
により上記目的を達成した。
本発明者等が鋭意研究の結果、電荷発生材料として一般
式CI)で表されるペリレン系化合物と、電荷輸送材料
として一般式(Tl)〜(V)で表されるジアミン誘導
体の群から選ばれた少なくとも一種の化合物とを結着樹
脂中に含有する系の単層型感光層を有する感光体におい
ては、前記−形式(VI)で表されるヒドラゾン系化合
物、前記−形式〔■〕で表されるフルオレン系化合物、
前記−形式〔■]で表されるm−フェニレンジアミン系
化合物よりなる群の中から少なくとも一種を選択して混
合させることによって、複写プロセスを繰り返した場合
においても安定した表面電位を維持できることが判明し
た。
(発明の好適態様) 本発明に使用される電荷発生材料としてのペリレン系化
合物は、前記−形式〔1〕で表され、式中のR’ 、R
2、R’ 、R’のうちアルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル
、jert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基などの炭素
数1〜6のアルキル基が例示される。
具体的には、N、  N’−ジ(3,5−ジメチルフェ
ニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシ
ジイミド、N、 N’−ジ(3−メチル−5−エチルフ
ェニル)ペリレン−3,4,910−テトラカルボキシ
ジイミド、N、 N’−ジ(3,5−ジエチルフェニル
)ペリレン−3,4゜9.10−テトラカルボキシジイ
ミド、N、  N’ジ(3,5−ジプロピルフェニル)
ペリレン3.4,9.10−テトラカルボキシジイミド
、N、N”−ジ(3,5−ジイソプロピルフェニル)ペ
リレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド
、N、 N’−ジ(3−メチル−5イソプロピルフエニ
ル)ペリレン−3,4,9゜10−テトラカルボキシジ
イミド、N、 N’−ジ(3,5−ジブチルフェニル)
ペリレン−3,4゜9.10−テトラカルボキシジイミ
ド、N、 N’ジ(3,5−ジーtert、−ブチルフ
ェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキ
シジイミド、N、N’−ジ(3,5−ジブチルフェニル
)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイ
ミド、N、  N’−ジ(3,5−ジブチルフェニル)
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミ
ド等が例示されるが、中でも、N、 No−ジ(3,5
−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミドが好ましい。
本発明に使用される電荷輸送材料としてのジアミン誘導
体としては、前記−形式[n)〜(V)で表される化合
物が用いられる。
上記−形式〔■〕〜(V)における低級アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基などの炭素数1〜6のアルキル基が例示される。上
記低級アルキル基のうち、炭素数1〜4のアルキル基が
好ましい。
また、低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素
数1〜6のアルコキシ基が例示される。上記低級アルコ
キシ基のうち、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましい
また、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およ
びヨウ素原子が挙げられる。
なお、上記置換基R5〜R2°および上記置換基Yは、
フェニル環またはナフチル環の任意の位置に置換してい
てもよい。
また、上記−形式(II)で表されるジアミン誘導体に
おいて、n=1のp−フェニレンジアミン誘導体のうち
好ましい化合物としては、例えば、1.4−ビス(N、
N−ジフェニルアミノ)ベンゼン、1−(N、N−ジフ
ェニルアミノ)−4[N−(3−メチルフェニル)−N
−フェニルアミノコベンゼン、1.4−ビス[N−(3
−メチルフェニル)−N−フェニルアミノコベンゼンな
どが例示され、その他に特願昭62−277158号公
報P13〜P20に記載のジアミン誘導体が例示される
上記−形式(TI)で表されるジアミン誘導体において
、n=2のベンジジン誘導体のうち、好ましい化合物と
しては、例えば、4.4′−ビス(N、N−−ジフェニ
ルアミノ)ジフェニル、4゜11′−ビス[N−(3−
メチルフェニル)−N−フェニルアミノコシフェニル、
4.4’−ビスIN−(3−メ]・キシフェニル)−N
−フェニルアミノコシフェニル、4,4′−ビス[N−
(3−クロロフェニル)−N−フェニルアミノコシフェ
ニル、4−[N−(’2−メチルフェニル)−Nフェニ
ルアミノ]−4’−[N−(4−メチルフェニル)−N
−フェニルアミノコシフェニル、4−[N−(2−メチ
ルフェニル)−N−フェニルアミノ] −4’−[N−
(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノコシフェ
ニル、3゜3゛−ジメチル−N、N、N“、No−テト
ラキス−4−メチルフェニル(1,1” −ビフェニル
)−4,4’−ジアミンなどが例示され、その他に特願
昭62−277158号公報P21〜P28に記載のジ
アミン誘導体が例示される。
上記−形式(n)で表されるジアミン誘導体において、
n=3の4,4”−テルフェニルジアミン誘導体のうち
、好ましい化合物としては、例えば、4,4°′−ビス
(N、N−ジフェニルアミノ)−1,1’:4’、  
1”−テルフェニル、4゜4゛−ビス[N−(3−メチ
ルフェニル)−Nフェニルアミノ]−1,1°:4’+
1”−テルフェニルなどが例示され、その他に特願昭6
2277158号公報P28〜P34に記載のジアミン
誘導体が例示される。
また、上記−形式(III)で表されるジアミン誘導体
において、n−1のp−フェニレンジアミン誘導体のう
ち、好ましい化合物としては、例えば、1 [N−(3
,5−ジメチルフェニル)−Nフェニルアミノ]−4−
(N、N−ジフェニルアミノ)ベニ/ゼン、1−[N、
N−ジ(3,5−ジメチルフェニル)アミノ] −4−
(N、N−ジフェニルアミノ)ヘンゼン、1,4−ビス
[N−(3,5−’;メチルフェニル)−N−フェニル
アミノコベンゼンなどが例示され、その他に特願昭62
−277159号公報P13〜P21に記載のジアミン
誘導体が例示される。
上記−形式(III)で表されるジアミン誘導体におい
て、n=2のベンジジン誘導体のうち、好ましい化合物
としては、例えば、4,4−ビス[N(3,5−’;メ
チルフェニル)−N−フェニルアミノコシフェニル、4
,4−ビス[N−(3゜5−ジメトキシフェニル)−N
−フェニルアミノコシフェニル、4,4−ビス[N−(
3,5−ジクロロフェニル)−N−フェニルアミノコシ
フェニル、4,4−ビス[N−(3,5−ジメチルフェ
ニル)−N−(3−メチルフェニル)アミノコジフェニ
ル、4− [N−(2,4−ジメチルフェニル)−N−
フェニルアミノ]−4°−[N−(3,5−’;メチル
フェニル)−N−フェニルアミノコシフェニルなどが例
示され、その他に特願昭62−277159号公報P2
1〜P29に記載のジアミン誘導体が例示される。
上記−形式(III)で表されるジアミン誘導体におい
て、n=3の4,4°′−テルフェニルジアミン誘導体
のうち、好ましい化合物としては、例えば、4.4”−
ビス[N−(3,5−ジメチルフェニル)−N−フェニ
ルアミノ]−1,l’:4°、1′°−テルフェニル、
4−[N−(3,5−ジメチルフェニル)−N−フェニ
ルアミノ]4”−(N、N−ジフェニルアミノ)−1,
1’=4°、1”−テルフェニル、4− [N、N−ビ
ス(3,5−ジメチルフェニル)アミノ]=4”=(N
、N−ジフェニルアミノ)−1,1゜:4’、1”−テ
ルフェニルなどが例示され、その他に特願昭62−27
7159号公報P29〜P36に記載のジアミン誘導体
が例示される。
また、上記−形式(IV)で表されるジアミン誘導体に
おいて、n=1のp−フェニレンジアミン誘導体のうち
、好ましい化合物としては、例えば、1.4−ビス[N
−(6−メチルナフチル)−N−フェニルアミノコベン
ゼン、1.4−ビス(Nナフチル−N−フェニルアミノ
)ベンゼン、1−(N−ナフチル−N−フェニルアミノ
)−4−[N−(6−メチルナフチル)−N−フェニル
アミノコベンゼンなどが例示され、その他に特願昭62
−277161号公報PL3〜P19に記載のジアミン
誘導体が例示される。
上記−形式[IV)で表されるジアミン誘導体において
、n=2のベンジジン誘導体のうち、好ましい化合物と
しては、例えば、4.4′−ビス(N−ナフチル−N−
フェニルアミノ)ジフェニル、4.4′−ビス[N−(
6−メチルナフチル)−N−フェニルアミノコシフェニ
ル、4゜4°−ビス[N−(6−メチルナフチル)−N
−フェニルアミノコシフェニル、4.4’−ビス[N−
(6−10ロナフチル)−N−フェニルアミノコシフェ
ニル、4,4′−ビス[N−(6−メチルナフチル)−
N−(3−メチルフェニル)アミノコジフェニル、4−
 [N−(6−メチルナフチル)−N−フェニルアミノ
] −4’−[N−(6−メチルナフチル)−N−(3
−メチルフェニル)アミノコジフェニル、4− [N−
(4−メチルナフチル)−N−フェニルアミノ]−4’
[N−(6−メチルナフチル)−N−フェニルアミノコ
シフェニルなどが例示され、その他に特願昭62−27
7161号公報P19〜P25に記載のジアミン誘導体
が例示される。
上記−形式(IV)で表されるジアミン誘導体において
、n=3の4,4”−テルフェニルジアミン誘導体のう
ち、好ましい化合物としては、例えば、4.4“−ビス
(N−ナフチル−N−フェニルアミノ)−1,1’:4
°、1”−テルフェニル、4.4”−ばス[N−(6−
メチルナフチル)−N−フェニルアミノ]−1,1″:
4′1”−テルフェニルなどが例示され、その他に特願
昭62−277161号公報P25〜P30に記載のジ
アミン誘導体が例示される。
また、上記−形式(V)で表されるジアミン誘導体にお
いて、n=1のp−フ二二レンジアミン誘導体のうち、
好ましい化合物としては、例えば、■、4−ビス(N、
N−ジナフチルアミノ)ベンゼン、1−(N、N−ジナ
フチルアミノ)−4−[N−(6−メチルナフチル)−
N−ナフチルアミノ1ベンゼン、1.4−ビス[N−(
6−メチルナフチル)−N−ナフチルアミノコベンゼン
などが例示され、その他に特願昭62−277162号
公報PI3〜P22に記載のジアミン誘導体が例示され
る。
上記−形式(V)で表されるジアミン誘導体において、
n=2のベンジジン誘導体のうち、好ましい化合物とし
ては、例えば、4,4゛−ビス[N、 N−ジ(6−メ
チルナフチル)アミノコジフェニル、4,4°−ビス[
N−(6−メチルナフチル)−N−ナフチルアミノコジ
フェニル、4゜4′−ビス[N−(6−メチルナフチル
)−Nナフチルアミノコジフェニル、4,4°−ビス[
N−(6−クロロナフチル)−N−ナフチルアミノコジ
フェニル、4−[N、N−ジ(6−メチルナフチル)ア
ミノ]−4°−[N−(6−メチルナフチル)−N−ナ
フチルアミノ1ジフエニル、4− [N−(4−メチル
ナフチル)アミノ−Nナフチルアミノコ −4’−[N
−(6−メチルナフチル)−N−ナフチルアミノコジフ
ェニルなどが例示され、その他に特願昭62−2771
62号公報P22〜P30に記載のジアミン誘導体が例
示される。
上記−形式[V)で表されるジアミンFa m 体ニお
いて、n=3の4,4°°−テルフェニルジアミン誘導
体のうち、好ましい化合物としては、例えば、4.4°
゛−ビス(N、N−ジナフチルアミノ)−1,1’:4
’、  1”−テルフェニル、4゜4”−ビス[N−(
6−メチルナフチル)−N−ナフチルアミノコ−1,1
°:4’、1°−テルフェニルなどが例示され、その他
に特願昭62−277162号公報P30−P38に記
載のジアミン誘導体が例示される。
上記−形式(n)〜〔■〕で表されるジアミン誘導体は
、一種または二種以上混合して用いられる。なお、上記
ジアミン誘導体は、分子の対称性がよく、光照射により
異性化反応などが生じず、光安定性に優れているだけで
なく、ドリフト移動度が大きく、しかもドリフト移動度
に関する電界強度依存性が小さい。
上記のような特性を有するジアミン誘導体と、前記ペリ
レン系化合物とを組み合わせることにより、単層型感光
層を存する感光体であっても、高感度で残留電位の小さ
なものが得られる。
本発明に使用される結着樹脂としては、種りのもの、例
えば、スチレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン
−アクリル系重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、
アイオノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アル
キッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂
、ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、
ジアリルフタレート、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノー
ル樹脂や、エポキシアクリレート等の光硬化型樹脂等、
各種の重合体が使用できるが、感光体の感度を高め、感
光体の耐摩耗性および繰り返し特性に優れると共に結着
樹脂を溶解する溶剤の選択幅が広いポリ(4,4’−シ
クロへキシリデンジフェニル)カーボネートが好ましい
。上記ポリ(4,4’−シクロヘキシリデンジフェニル
)カーボネートを用いると、従来、溶液安定性等の点か
ら、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の塩素系溶
剤しか使用できなかったビスフェノールA型ポリカーボ
ネートと異なり、テトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン等の溶剤も使用することができるので、安全衛生上
も好ましく、取扱いが容易である。なお、上記ポリ(4
,4’−シクロへキシリデンジフェニル)カーボネート
の中でも、分子量15000〜25000、ガラス転移
点が58°C程度のものが好ましい。
上記ペリレン系化合物とジアミン誘導体と上記結着樹脂
との使用割合は、特に限定されず、所望する電子写真窓
光体の特性等に応じて適宜選択することができるが、結
着樹脂100重星部に対して、ペリレン系化合物2〜2
0重量部、好ましくは、3〜15重屋部、ジアミン誘導
体40〜200重量部、好ましくは、50〜100重量
部使用される。ペリレン系化合物およびジアミン誘導体
が上記使用量よりも少ないと、感光体の怒度が十分でな
いばかりか、残留電位が大きくなる。また上記範囲を越
えると感光体の耐摩耗性等が十分でなくなる。
さらに、上記ペリレン系化合物とジアミン誘導体とを結
着樹脂中に含有する系のt$層梨型感光体、前記−形式
〔■〕で表されるヒドラゾン系化合物、前記−形式〔■
]で表されるフルオレン系化合物、前記−形式〔■〕で
表されるm−フ二二しンジアミン系化合物の中から一種
を選択して混合させるか、前記−形式〔■〕で表される
フルオレン系化合物に対して、前記−形式(Vl)で表
されるヒドラゾン系化合物あるいは前記−形式〔■〕で
表されるm〜フェニレンジアミン系化合物を組み合わせ
た二種を選択して混合させることで、複写プロセスの繰
り返しにおける表面電位の低下が防止され安定した表面
電位を維持することができる。
前記−形式(Vl)、〔■]、〔■]におけるアルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、t、 e r t。
ブチル、ペンチル、ヘギシル基等の炭素数1〜6のアル
キル基が例示される。また、前記−形式〔■〕における
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ter
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等が
例示される。また、前記−形式〔■〕におけるハロゲン
原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素原子が
挙げられる。
前記−形式(VI)で表されるヒドラゾン系化合物とし
ては、3−カルバゾリルアルデヒドN、  N−ジフェ
ニルヒドラゾン、N−メチル−3−カルバゾリルアルデ
ヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン、N−エチル−3−
カルバゾリルアルデヒドNN−ジフェニルヒドラゾン、
N−プロピル−3−カルパゾリルアルデヒドN、N−ジ
フェニルヒドラゾン、N−イソプロピル−3−カルバゾ
リルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン、N−ブ
チル−3−カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニル
ヒドラゾン、N−イソブチル−3−カルバゾリルアルデ
ヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン2、N−tert−
ブチル−3−カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニ
ルヒドラゾン、N−ペンチルー3−カルバゾリルアルデ
ヒドNN−ジフェニルヒドラゾン、N−へキシル−3−
カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン
等が例示されるが、中でも、N−エチル−3−カルバゾ
リルアルデヒドN、  N−ジフェニルヒドラゾンが好
ましい。
前記−形式〔■〕で表されるフルオレン系化合物として
は、9−カルバゾリルイミノフルオし・ン9−(3−メ
チルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9−(3,6−
シメチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9−(3,
6−シエチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9−(
3−エチル−6−メチルカルバゾリルイミノ)フルオレ
ン、9−(3,6−ジプロピルカルバゾリルイミノ)フ
ルオレン、9−(3,6−ジイツプロビルカルバゾリル
イミノ)フルオレン、9−(3,6−シブチルカルバゾ
リルイミノ)フルオレン、9− (3゜6〜ジイソブチ
ルカルバゾリルイミノ)フルオトン、9〜(3,6−シ
ーtert−ブチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、
1−(3,6−ジベンチルカルバゾリルイミノ)フルオ
レン、9(3,6−ジヘキシルカルパゾリルイミノ)フ
ルオレン、9〜(3,6−シメチルカルバゾリルイミノ
)−3−メチルフルオレン、9− (3,6−シメチル
カルバゾリルイミノ)−3,6−シメチルフルオレン、
9− (3,6〜ジメチルカルバゾリルイミノ)−3,
6−シエチルフルオレン、9−(3,6−シメチルカル
バゾリルイミノ)−3−エチルフルオレン等が例示され
るが、中でも、9−カルバゾリルイミノフルオレンが好
ましい。
下記−最弐〔■〕で表されるm−フェニレンジアミン系
化合物としては、N、N、N’、N”−テトラフェニル
−1,3−フェニレンジアミン、N。
N、N’、N’−テトラキス(3−トリル)−13−フ
ェニレンジアミン、N、N、N’、N’−テトラフェニ
ル−3,5−4リレンジアミン、N。
N、N’、N’−テトラキス(3−トリル)−3゜5−
トリレンジアミン、N、N、N’、N’−テトラキス(
lトリル)−1,3−フェニレンジアミン、N、N、N
“、No−テトラキス(4−トリル)−3,5−トリレ
ンジアミン、N、N、N”。
N’−−テトラキス(3−エチルフェニル)−1゜3−
フェニレンジアミン、N、N、N’、N’−テトラキス
(4−プロピルフェニル)−1,3−フェニレンジアミ
ン、N、N、N’、N’−テトラフェニル−5−メトキ
シ−1,3−フェニレンジアミン、N、N−ビス(3−
トリル)−N’、N’ジフェニル−1,3−フェニレン
ジアミン、N。
N’−ビス(4−トリル)−N、N’−ジフェニル−1
,3−フェニレンジアミン、N、 N’−ビス(4−ト
リル)−N、N”−ビス(3−トリル)−1,3−フェ
ニレンジアミン、N、  N’ビス(4−トリル)−N
、N’−ビス(3−トリル)−3,5−トリレンジアミ
ン、N、N’−ビス(4−エチルフェニル)−N、N’
−ビス(3エチルフエニル)−1,3−フェニレンジア
ミン、N、 N’−ビス(4−エチルフェニル)−N。
No−ビス(3−エチルフェニル)−3,5−トリレン
ジアミン、N、N、N’、N”−テトラキス(2,4,
6−ドリメチルフエニル)−1,,3−フェニレンジア
ミン、N、N、No、No−テトラキス(2,4,6−
)リメチルフェニル)−“3゜5−トリレンジアミン、
N、N、No、N“−テトラキス(3,5−ジメチル)
−1,3−フェニレンジアミン、N、N、N’、N“−
テトラキス(3゜5−ジメチル)−3,5−トリレンジ
アミン、N。
N、N’、N’−テトラキス(3,5−ジエチル)−1
,3−フェニレンジアミン、N、N、N’。
No−テトラキス(3,5−ジメチル)−3,5−トリ
レンジアミン、N、N、N’、N’−テトラキス(3−
クロロフェニル)−1,3−フェニレンジアミン、N、
N、N’、N’−テトラキス(3ブロモフエニル)−1
,3−フェニレンジアミン、N、N、N”、No−テト
ラキス(3−ヨードフェニル)−1,3−フェニレンジ
アミン、N。
N、N’、N’−テトラキス(3−フルオロフェニル)
−鳳 3−フェニレンジアミン等が例示されるが、中で
も、分子の対称性が悪いことに起因して分子間の相互作
用が小さくなり、逆に樹脂との相互作用が大きくなるこ
とから極めて結晶化しにくい特性を持ち樹脂中に十分溶
解できることから、前記−形式〔■〕中(711,RZ
&、 R27、RZ9、R:l11を窒素原子に対して
メタ位に置換する基とした化合物、あるいはR16、R
3°を窒素原子に対してバラ位に、R4?、RZ9を窒
素原子に対してメタ位に置換する基とした化合物が好ま
しい。具体的には、N、 N’−ビス(3−トリル)−
N、N’−ビス(l)リル)−1,:3−フェニレンジ
アミンである。
なお、」二記各化合物は、感光体の特性等に応じて適宜
す使用することができるが1.ト記各化合物のうちヒド
ラゾン系化合物を使用する場合は、電荷輸送材料として
のジアミン系化合物とヒドラゾン系化合物とが95;5
乃至90:10の重量比で感光層中に含有することが好
ましい。
また、上記各化合物のうちフルオレン系化合物を使用す
る場合は、電荷輸送材料としてのジアミン系化合物とフ
ルオレン系化合物とが90810乃至80:20の重量
比で感光層中に含有することが好ましい。
また、上記各化合物のうちm−フェニレンジアミン系化
合物を使用する場合は、電荷輸送材料としてのジアミン
系化合物とm−フェニレンジアミン系化合物とが75 
: 25乃至25 : 75の重量比、特に70 : 
30乃至50 : 50の重量比で感光層中に含有・す
ることが好ましい。
すなわち、感光層中に上記重量比より少ない割合で上記
各化合物を含有すると繰り返し特性が十分でなく、上記
重量比を越えた割合で上記各化合物を含有すると繰り返
し特性は高くなるものの怒度等が十分でなくなるのであ
る。
また、上記ペリレン系化合物が長波長側に分光感度がな
いことから、本発明の11i層型電子写真感光体を赤の
分光エネルギーの大きいハロゲンランプと組み合わせた
場合においてより高感度化するために、長波長側に分光
感度を持つX型メタルフリーフタロシアニンを使用する
のが好ましい。
上記X型メタルフリーフタロシアニンとしては、ブラッ
グ角度(2θ±0.2°)が7.5°  9゜1°  
16.7’   17.3’、22.3’に強い回折ピ
ークを示すものが好ましい。上記X型メタルフリーフタ
ロシアニンは、ペリレン系化合物100重量部に対して
1.25乃至3.75重量部添加すると分光感度領域が
長波長側に拡大し、より感光体の感度が高くなるのであ
る。しかし、X型メタルフリーフタロシアニンをペリレ
ン系化合物100重量部に対して1625重量部以下添
加しただけでは、長波長側への増感効果が生じない。ま
た、X型メタルフリーフタロシアニンをペリレン系化合
物100重量部に対して3.75重量部以上添加すると
逆に長波長側での分光感度が高くなってしまい、赤色原
稿の再現性が悪くなってしまう。
また、酸化防止剤を併用すると、酸化の影ビを受は易い
構造を持つ電荷1論送材料等の酸化による劣化を好適に
防止することができる。
上記酸化防止剤としては、2,6−シーtert−7’
チル−p−クレゾール、トリエチレングリコール−ビス
(3−(3−t e r t−ブチル−5−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘ
キサンシオールービス〔3(3,5−ジーtert−ブ
チルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペ
ンタエリスリチル−テトラキス(3−(3,5−ジーt
ert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)、プロピオ
ネートL2,2−チオ−ジエチレンビス〔3(3,5−
ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネート〕、2,2−チオビス(4−メチル−6−t
ert−ブチルフェノール)、N、N’−へキサメチレ
ンビス(3,5ジーtert−ブチル−4−ヒドロキシ
−ヒドロシンナマミド)、1,3.5−トリメチル−2
゜4.6−1−リス(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等のフェノール系酸
化防止剤を例示することができるが、中でも、2,6−
シーtert−ブチル−p−クレゾールが好ましい。
本発明の感光体は、前述した各成分を含有する塗布液を
調製し、この塗布液を導電性基体上に塗布し、乾燥させ
ることで得られる。
上記導電性基体は、導電性を有するシート状やドラム状
のいずれであってもよく、導電性を有する種々の材料、
例えば、表面がアルマイト処理された、または未処理の
アルミニウム、アルミニウム合金、銅、錫、白金、金、
銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チ
タン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス
鋼、真鍮などの金属単体や、蒸着等の手段により上記金
属、酸化インジウム、酸化錫等の層が形成されたプラス
チック材料およびガラス等が例示されるが、中でも硫酸
アルマイト法で陽極酸化し、酢酸ニッケルで封孔処理し
たものが好ましい。
また、導電性基体は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めてもよい。
なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着樹
脂等の種類に応じて適宜の有機溶剤が使用され、該有機
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロ
パツール、イソプロパツール、ブタノールなどのアルコ
ール類、n−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の
脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、テ
トラヒト・ロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル
類等種々の溶剤が例示され、一種または二種以上混合し
て用いられる。また、上記各塗布液を調製する際、分散
性、塗工性等をよくするため、界面活性剤、シリコーン
オイルなどのレベリング剤、あるいはターフェニル、ハ
ロナフトキノン類、アセナフチレンなどの従来公知の増
感剤等、種々の添加剤を併用していてもよい。上記シリ
コーンオイルとしては、ポリジメチルシロキサンが好ま
しい。
上記各塗布液などは、従来慣用の混合分散方法、例えば
、ペイントシェーカー ミキサー、ボールミル、サンド
ミル、アトライター、超音波分散器等を用いて調製する
ことができ、得られた分散液などの塗布に際しては、従
来慣用のコーティング方法、例えば、デイツプコーティ
ング、スプレーコーティング、スピンコーティング、ロ
ーラーコーティング、ブレードコーティング、カーテン
コーティング、パーコーティング法等が採用される。
本発明における電子写真感光体の単層型感光体は、適宜
の厚みを有してもよいが、15〜30μm、特に18〜
27μmの厚みを有するものが好ましい。
(実施例) 以下に、実施例に基づき、本発明をより詳細に説明する
厖lエ ポリ(4,4″〜シクロへキシリデンジフェニル)カー
ボネート(三菱瓦斯化学社製、商品名ポリカーボネート
Z)100重量部、N、 N’−ジ(3,5−ジメチル
フェニル)ペリレン−3,4゜9.10−テトラカルボ
キシジイミド8重量部、X型メタルフリーフタロシアニ
ン(大日本インキ社!!!り0.2重量部、3.3−ジ
エチル−N、 N。
N’、N’−テトラキス−4−メチルフェニル(1゜1
°−ビフェニル)−4,4’−ジアミン95重量部、N
−メチル−3−カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェ
ニルヒドラゾン5重量部、酸化防止剤(川口化学社製、
商品名アンテージBHT)5重量部、シリコーンオイル
(信越化学社製)0.01重量部および所定量のテトラ
ヒドロフランを用い、超音波分散器にて単層型感光層用
分散液を調製すると共に、約8μmにアルマイト処理さ
れたアルミニウム素管上に塗布し、約100′Cで熱処
理を加えることにより、厚み約23μmの感光層を有す
る電子写真感光体を作製した。
又1拠I 実施例1の材料に加えて、9−カルバゾリルイミノフル
オレン10重量部を用いて、上記実施例1と同様にして
電子写真感光体を作製した。
支泡■盈 実施例1の3.3−ジエチル−N、N、N’。
N゛−テトラキス−4−メチルフェニル(1゜1−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンを30重4部用い、N−
メチル−3−力ルバゾリルアルデヒド N、N−ジフェ
ニルヒドラゾンに代えてN、N、N’、N“−テトラキ
ス(3−トリル)−1,3−フェニレンジアミフッ0重
量部を用いて、上記実施例1と同様にして電子写真感光
体を作製した。
実j1汁士 実施例3の材料に加えて、9−カルバゾリルイミノフル
オレン10重量部を用いて、上記実施例1と同様にして
電子写真感光体を作製した。
裏施孤i 実施例工の3.3−ジエチル−N、N、N’。
N゛−テトラキス−4−メチルフェニル(1゜1°−ビ
フェニル)−4,4”−ジアミンを70重量部用い、N
−メチル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N−ジフ
ェニルヒドラゾンに代えてN、N’−ビス(3−トリル
) −N、  N’−ビス(4−トリル)−1,3−フ
ェニレンジアミン30重量部を用いて、上記実施例1と
同様にして電子写真感光体を作製した。
災施皿旦 実施例5の材料に加えて、9−カルバゾリルイミノフル
オレン10重量部を用いて、上記実施例工と同様にして
電子写真感光体を作製した。
実淘LLt二ュ」一 実施例1〜4において、それぞれ33−ジエチル−N、
N、N’、N’−テトラキス−4−メチルフェニル(1
,1’−ビフェニル)−4,4”−ジアミンに代えて、
4,4°−ビス[1l−(3゜5−ジメチルフェニル)
−N−フェニルアミノコジフェニルを用いる以外は、実
施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
免1辻り土ごユ↓ 実施例1〜4において、それぞれ3,3−ジエチル−N
、 N、 N’、N’−テトラキス−4−メチルフェニ
ル(1,1°−ビフェニル)−4,4゜−ジアミンに代
えて、4,4′−ビス[N−(6メチルナフチル)−N
−フェニルアミノコジフェニルを用いる以外は、実施例
1と同様にして電子写真感光体を作製した。
災胤開上i二上主 実施例1〜4において、それぞれ3.3−ジエチル−N
、 N、 N’ N’−テトラキス−4−メチルフェニ
ル(1,1’−ビフェニル)−4,4’ジアミンに代え
て、4,4”−ビス[N−(6メチルナフチル)−N−
ナフチルアミノコジフェニルを用いる以外は、実施例1
と同様にして電子写真感光体を作製した。
止較皿土 実施例1の材料において、N−メチル−3−カルバゾリ
ルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾンを用いず
、3,3−ジエチル−N、N。
N’、 N’  −テトラキス−4−メチルフェニル(
1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンを100
重量部用いる以外は、上記実施例1と同様にして電子写
真感光体を作製した。
IJ!J阻 比較例1において、3.3−ジエチル−N、N。
N’ N’−テトラキス−4−メチルフェニル(11′
−ビフェニル)−4,4’−ジアミンに化工て、4.4
′−ビス[N−(3,5−ジメチルフェニル)−N−フ
ェニルアミノコジフェニル100重量部を用いる以外は
、実施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
土較皿主 比較例1において、3,3−ジエチル−N、 N。
N′、N′−テトラキス−4−メチルフェニル(1゜1
“−ビフェニル)−4,4’−ジアミンに代えて、4.
4′−ビス[N−(6−メチルナフチル)−N−フェニ
ルアミノコジフェニル100重量部を用いる以外は、実
施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
土較■土 比較例1において、3,3−ジエチル−N、 N。
N’ N”−テトラキス−4−メチルフェニル(1゜1
′−ビフェニル)−4,4°−ジアミンに代えて、4,
4′−ビス[N−(6−メチルナフチル)−N−ナフチ
ルアミノコジフェニル100重量部を用いる以外は、実
施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
比較−例」一 実施例1の材料において、3,3−ジエチル−N  N
、 N’、N″−テトラキス−4〜メチルフエニル(1
,1”−ビフェニル)−4,4“−ジアミンを用いず、
N−メチル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N−ジ
フェニルヒドラゾンヲlOO重量部用いる以外は、上記
実施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
1月i仄験 (a)帯電特性、感光特性等 上記各実施例および比較例で得られた電子写真用感光体
の帯電特性、感光特性を調べるため、ドラム感度試験m
(ジエンチック社製、ジエンチック シンシア 30M
)を用いて各感光体を正に帯電させ、それらの帯電電位
(表面電位)S、P(V)を測定した。また、ハロゲン
ランプにより露光し、前記帯電電位が1/2となるまで
の時間を求め、半減露光量El/2  (μJ / c
i )を算出した。また、露光後、0.15秒経過後の
表面電位を残留電位R,P (V)とした。
(b)繰り返し特性 1000回の繰り返し使用により表面電位が低下するか
否かを調べた。なお、上記感光体の繰り返し使用により
、感′光体の表面電位が100V以上低下したものを×
、50〜100vの範囲内で低下したものを△、5QV
以下しか低下しなかったものを○として評価した。
(c)赤色再現性 赤と同じ明度のグレー原稿を複写し、得られた複写物の
反射濃度を反射))=変針によって測定した後、 を算出することで赤色再現性を調べた。赤色再現性が7
0%以下のものを×、70〜100%の範囲内のものを
△、100%以上のものをOとして評価した。
上記実施例および比較例で得られた各電子写真感光体の
帯電特性、感光特性、繰り返し特性および赤色再現性の
結果を表に示す。
(以下余白) く変化せず、繰り返し特性に優れている。
これに対して、比較例の感光体は、いずれも繰り返し使
用により、表面電位の低下が見られた。
(発明の効果) 以−ヒのように、本発明によれば、帯電特性、感度、残
留電位等の電子写真特性に優れるだけでなく、複写プロ
セスの繰り返しにおいても表面電位の安定性に優れた電
子写真感光体を提供することができる。
表から明らかなように、本発明の電子写真感光体は、い
ずれも半減露光量が小さく、感度が良好であり、帯電電
位が高く、しがもげ留電位が小さい。また、繰り返し使
用しても、表面電位が太き特許出願人  三田工業株式
会社 日本蒸溜工業株式会社 日本触媒化学工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)結着樹脂中に、電荷発生材料として下記一般式〔
    I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4は、アル
    キル基を示す)で表されるペリレン系化合物と、電荷輸
    送材料として下記一般式〔II〕〜〔V〕▲数式、化学式
    、表等があります▼〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔V〕 (式中、R^5〜R^2^0は、同一または異なって、
    水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハ
    ロゲン原子を示す;Yは、水素原子、低級アルキル基、
    低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す;nは1〜
    3の整数を示す;l、m、oおよびpは0〜2の整数を
    示す;但し、R^9、R^1^0、R^1^1およびR
    ^1^2は同時に水素原子でないものとし、水素原子で
    ない前記R^9、R^1^0、R^1^1およびR^1
    ^2のl、m、oおよびpは、少なくとも1つが2であ
    るものとする) で表されるジアミン誘導体の群から選ばれる少なくとも
    一種の化合物と、 さらに、下記一般式〔VI〕で表されるヒドラゾン系化合
    物、下記一般式〔VII〕で表されるフルオレン系化合物
    、下記一般式〔VIII〕で表されるm−フェニレンジアミ
    ン系化合物よりなる群の中から少なくとも一種を選択し
    て含有する感光層を、導電性基体上に形成することを特
    徴とする電子写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VI〕 (式中、R^2^1は水素原子またはアルキル基を示す
    ) ▲数式、化学式、表等があります▼〔VII〕 (式中、R^2^2、R^2^3、R^2^4およびR
    ^2^5は、水素原子またはアルキル基を示す) ▲数式、化学式、表等があります▼〔VIII〕 (式中、R^2^6、R^2^7、R^2^8およびR
    ^2^9、R^3^0は、アルキル基、アルコキシ基、
    ハロゲン原子を示し、それぞれフェニル基に置換しなく
    てもまた、置換し得る限り何個置換してもよく、またす
    べての置換基は同一でも、それぞれ互いに異なっていて
    もよい) (2)前記感光層が、X型メタルフリーフタロシアニン
    を含有する請求項第1項記載の電子写真感光体。 (3)前記感光層が、酸化防止剤を含有する請求項第1
    項又は第2項記載の電子写真感光体。 (4)ペリレン系化合物が、N、N’−ビス(3、5−
    ジメチルフェニル)ペリレン−3、4、9、10−テト
    ラカルボキシジイミドである請求項第1項記載の電子写
    真感光体。(5)R^5〜R^2^0が、同一または異
    なって、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のア
    ルコキシ基またはハロゲン原子である請求項第1項記載
    の電子写真感光体。 (6)Yが、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4
    のアルコキシ基またはハロゲン原子である請求項第1項
    記載の電子写真感光体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05273773A (ja) * 1992-01-22 1993-10-22 Mita Ind Co Ltd 電子写真感光体
JP2002138452A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Satsumaya Shoten:Kk あぜ道構造体

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