JPH03122807A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH03122807A JPH03122807A JP26064689A JP26064689A JPH03122807A JP H03122807 A JPH03122807 A JP H03122807A JP 26064689 A JP26064689 A JP 26064689A JP 26064689 A JP26064689 A JP 26064689A JP H03122807 A JPH03122807 A JP H03122807A
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- silicon nitride
- magnetic material
- magnetic
- alloy magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高保磁力を有する磁気記録媒体に対する高密
度記録再生用として供される磁気ヘッドに関するもので
ある。
度記録再生用として供される磁気ヘッドに関するもので
ある。
近年、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置にお
ける高記録密度化に伴い、高透磁率かつ高飽和磁束密度
の合金磁性材料を使用した磁気ヘッドが多用されている
。
ける高記録密度化に伴い、高透磁率かつ高飽和磁束密度
の合金磁性材料を使用した磁気ヘッドが多用されている
。
上記の磁気ヘッドは、第１１図ないし第１９図に示す工
程を経て製造される。即ち、先ず、第１１図に示すよう
に、センダスト等の高透磁率かつ高飽和磁束密度を有す
る合金磁性材料からなり、合金磁性材層としての対をな
す一方のブロックｌに、外部巻線溝２、ガラス充填溝３
および内部巻線溝４を形成する。また、第１２図に示す
ように、他方のブロック５に外部巻線溝２とガラス充填
溝３とを形成する。
程を経て製造される。即ち、先ず、第１１図に示すよう
に、センダスト等の高透磁率かつ高飽和磁束密度を有す
る合金磁性材料からなり、合金磁性材層としての対をな
す一方のブロックｌに、外部巻線溝２、ガラス充填溝３
および内部巻線溝４を形成する。また、第１２図に示す
ように、他方のブロック５に外部巻線溝２とガラス充填
溝３とを形成する。
次に、上記のブロックト５の磁気テープとの摺接面であ
る摺動面７とギャップ対向面６とを鏡面状に研磨する。
る摺動面７とギャップ対向面６とを鏡面状に研磨する。
次に、第１３図および第１４図に示すように、所定のト
ラック幅を得るために、ブロックト５の各ギャップ対向
面６に複数のトラック溝８・・・を形成する。
ラック幅を得るために、ブロックト５の各ギャップ対向
面６に複数のトラック溝８・・・を形成する。
次に、ブロックト５のギャップ対向面６上と、ガラス充
填溝３、内部巻線溝４およびトラック溝８・・・の内面
上とに、第１５図および第１６図に示すように、ギャッ
プ材層として、Ｓｉｎ、等からなる非磁性酸化膜１０・
１０を１５００人の厚みで形成し、ギャップ材積層ブロ
ック１１−１２を得る。
填溝３、内部巻線溝４およびトラック溝８・・・の内面
上とに、第１５図および第１６図に示すように、ギャッ
プ材層として、Ｓｉｎ、等からなる非磁性酸化膜１０・
１０を１５００人の厚みで形成し、ギャップ材積層ブロ
ック１１−１２を得る。
次に、第１７図に示すように、ギャップ材積層ブロック
１１・１２を非磁性酸化膜１０・１０同士が対向する状
態で貼着し、その後、ガラス充填溝３・３および内部巻
線溝４によって形成される各隙間に棒状のガラス充填剤
９・９を配する。
１１・１２を非磁性酸化膜１０・１０同士が対向する状
態で貼着し、その後、ガラス充填溝３・３および内部巻
線溝４によって形成される各隙間に棒状のガラス充填剤
９・９を配する。
次に、上記のガラス充填剤９・９を加熱して溶融させる
と、第１７図と上下を逆にして示した第１８図に示すよ
うに、ガラス充填剤９・９が内部巻線溝４の上部、トラ
ック溝８・・・およびガラス充填溝３にガラス層１３と
なって充填され、ギャップ材積層ブロック１１・１２が
一体化する。
と、第１７図と上下を逆にして示した第１８図に示すよ
うに、ガラス充填剤９・９が内部巻線溝４の上部、トラ
ック溝８・・・およびガラス充填溝３にガラス層１３と
なって充填され、ギャップ材積層ブロック１１・１２が
一体化する。
次に、ギャップ材積層ブロック１１・１２の摺動面７を
研磨して曲率を付与し、その後、二点鎖線にて示す位置
から切断することにより、第１９図に示すコア１４を得
る。
研磨して曲率を付与し、その後、二点鎖線にて示す位置
から切断することにより、第１９図に示すコア１４を得
る。
その後、上記のコア１４を図示しないヘッドベースに貼
着すると共に、コア１４の内部巻線溝４の空隙部と外部
巻線溝２との間にそれぞれコイルを巻回することより、
磁気ヘッドが得られる。
着すると共に、コア１４の内部巻線溝４の空隙部と外部
巻線溝２との間にそれぞれコイルを巻回することより、
磁気ヘッドが得られる。
ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、第２０図に示す
ように、磁気ギャップ１５において、ギャップ材積層ブ
ロック１１・工２のブロック１５と非磁性酸化膜１０・
１０とが直接に接しているため、合金磁性材料であるブ
ロックト５の表面がＳｉｎ、等の非磁性酸化膜１０・１
０中の酸素にて酸化され、軟磁気特性が劣化することに
なる。このため、磁気ヘッドの実効ギャップ長が広がっ
てしまい、磁気ヘッドの感度の低下を招来するという問
題点を有している。
ように、磁気ギャップ１５において、ギャップ材積層ブ
ロック１１・工２のブロック１５と非磁性酸化膜１０・
１０とが直接に接しているため、合金磁性材料であるブ
ロックト５の表面がＳｉｎ、等の非磁性酸化膜１０・１
０中の酸素にて酸化され、軟磁気特性が劣化することに
なる。このため、磁気ヘッドの実効ギャップ長が広がっ
てしまい、磁気ヘッドの感度の低下を招来するという問
題点を有している。
〔課題を解決するための手段］
本発明の磁気ヘッドは、上記の課題を解決するために、
一対の合金磁性材層間にギャップ材層が設けられて磁気
ギャップが形成されている磁気ヘッドにおいて、上記の
ギャップ材層は、両合金磁性材層におけるギャップ対向
面に設けられた窒化シリコン膜と、これら両窒化シリコ
ン膜間に設けられた酸化シリコン膜との積層膜からなる
ことを特徴としている。
一対の合金磁性材層間にギャップ材層が設けられて磁気
ギャップが形成されている磁気ヘッドにおいて、上記の
ギャップ材層は、両合金磁性材層におけるギャップ対向
面に設けられた窒化シリコン膜と、これら両窒化シリコ
ン膜間に設けられた酸化シリコン膜との積層膜からなる
ことを特徴としている。
上記の構成によれば、一対の合金磁性材層がギャップ材
層を介して一体化され、このギャップ材層が、両合金磁
性材層におけるギャップ対向面に設けられた窒化シリコ
ン膜と、これら両窒化シリコン膜間に設けられた酸化シ
リコン膜との積層膜からなるので、両合金磁性材層とは
窒化シリコン膜が直接に接することになる。この窒化シ
リコン膜は熱的にも化学的にも非常に安定な物質である
ため、合金磁性材層とギャップ材層との化学反応は起こ
らない。このため、合金磁性材層表面の化学反応による
軟磁気特性の劣化を防止することができる。
層を介して一体化され、このギャップ材層が、両合金磁
性材層におけるギャップ対向面に設けられた窒化シリコ
ン膜と、これら両窒化シリコン膜間に設けられた酸化シ
リコン膜との積層膜からなるので、両合金磁性材層とは
窒化シリコン膜が直接に接することになる。この窒化シ
リコン膜は熱的にも化学的にも非常に安定な物質である
ため、合金磁性材層とギャップ材層との化学反応は起こ
らない。このため、合金磁性材層表面の化学反応による
軟磁気特性の劣化を防止することができる。
また、例えばギャップ材層を窒化シリコン膜の単層とし
た場合、両合金磁性材層を一体化するガラス層と窒化シ
リコン膜とが直接に接し、この場合には、ガラス層中に
多数の気泡が発生するという不都合が起こる。これに対
し、本発明のように、合金磁性材層側に設けられた窒化
シリコン膜とこの窒化シリコン膜間に設けられた酸化シ
リコン膜とからなる積層膜をギャップ材層とした場合に
は、上記のガラス層と接するのはガラスと相性のよい酸
化シリコン膜となるため、気泡の発生が生じない。
た場合、両合金磁性材層を一体化するガラス層と窒化シ
リコン膜とが直接に接し、この場合には、ガラス層中に
多数の気泡が発生するという不都合が起こる。これに対
し、本発明のように、合金磁性材層側に設けられた窒化
シリコン膜とこの窒化シリコン膜間に設けられた酸化シ
リコン膜とからなる積層膜をギャップ材層とした場合に
は、上記のガラス層と接するのはガラスと相性のよい酸
化シリコン膜となるため、気泡の発生が生じない。
本発明の一実施例を第１図ないし第１０図に基づいて以
下に説明する。
下に説明する。
本発明に係る磁気ヘッドは、第１図に示すコア４４を備
えている。このコア４４はギャップ材積層ブロック４１
・４２が両者間に配されたガラス層４３・４３にて一体
化されることにより形成されている。ギャップ材積層ブ
ロック４１・４２は、第２図にも示すように、センダス
ト等の高這磁率かつ高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料からなる合金磁性材層としての一対のブロック３１・
３５と、これらブロック３Ｉ・３５における後述のギャ
ップ対向面３６上に形成された窒化シリコン膜４６と、
この窒化シリコン膜４６上に形成された酸化シリコン膜
４７とからなる。これら窒化シリコン１１９４６と酸化
シリコン膜４７とは、磁気ギャップ４５を形成するため
のギャップ材層を構成している。
えている。このコア４４はギャップ材積層ブロック４１
・４２が両者間に配されたガラス層４３・４３にて一体
化されることにより形成されている。ギャップ材積層ブ
ロック４１・４２は、第２図にも示すように、センダス
ト等の高這磁率かつ高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料からなる合金磁性材層としての一対のブロック３１・
３５と、これらブロック３Ｉ・３５における後述のギャ
ップ対向面３６上に形成された窒化シリコン膜４６と、
この窒化シリコン膜４６上に形成された酸化シリコン膜
４７とからなる。これら窒化シリコン１１９４６と酸化
シリコン膜４７とは、磁気ギャップ４５を形成するため
のギャップ材層を構成している。
また、コア４４における磁気テープとの摺接面は曲率が
付与され、摺動面３７となっている。そして、上記のコ
ア４４が図示しないヘッドベースに貼着されると共に、
コア４４の内部巻線溝３４の空隙部と各ギャップ材積層
ブロック４１・４２における外部巻線溝３２との間に図
示しないコイルが巻回されることにより磁気ヘッドが形
成されている。
付与され、摺動面３７となっている。そして、上記のコ
ア４４が図示しないヘッドベースに貼着されると共に、
コア４４の内部巻線溝３４の空隙部と各ギャップ材積層
ブロック４１・４２における外部巻線溝３２との間に図
示しないコイルが巻回されることにより磁気ヘッドが形
成されている。
上記の構成において、本磁気ヘッドは、第３図ないし第
１０図および第１図に示す工程を経て製造される。即ち
、先ず、第３図に示すように、センダスト等の合金磁性
材料からなり、対をなす一方のブロック３１の一面に外
部巻線溝３２を形成し、反対面にガラス充填溝３３およ
び内部巻線溝３４を形成する。また、第４図に示すよう
に、他方のブロック３５の一面に外部巻線溝３２を形成
し、反対面にガラス充填溝３３を形成する。
１０図および第１図に示す工程を経て製造される。即ち
、先ず、第３図に示すように、センダスト等の合金磁性
材料からなり、対をなす一方のブロック３１の一面に外
部巻線溝３２を形成し、反対面にガラス充填溝３３およ
び内部巻線溝３４を形成する。また、第４図に示すよう
に、他方のブロック３５の一面に外部巻線溝３２を形成
し、反対面にガラス充填溝３３を形成する。
次に、上記のブロック３１・３５における各摺動面３７
とギャップ対向面３６とを鏡面状に研磨する。
とギャップ対向面３６とを鏡面状に研磨する。
次に、第５図および第６図に示すように、ブロック３１
・３５の各ギャップ対向面３６におけるガラス充填溝３
３側とは反対側の端縁部に複数のトラック溝３８・・・
を形成する。
・３５の各ギャップ対向面３６におけるガラス充填溝３
３側とは反対側の端縁部に複数のトラック溝３８・・・
を形成する。
次に、第７図および第８図に示すように、ブロック３１
・３５のギャップ対向面３６上と、ガラス充填溝３３、
内部巻線溝３４およびトラック溝３８・・・の内面上と
に、反応性スパッタリング法等により、窒化シリコン膜
４６を約８００人の厚みで形成し、さらにこの窒化シリ
コン膜４６の上に、反応性スパッタリング法等により、
酸化シリコン膜４７を約７００人の厚みで形成する。こ
れにより、一対のギャップ材積層ブロック４１・４２を
得る。
・３５のギャップ対向面３６上と、ガラス充填溝３３、
内部巻線溝３４およびトラック溝３８・・・の内面上と
に、反応性スパッタリング法等により、窒化シリコン膜
４６を約８００人の厚みで形成し、さらにこの窒化シリ
コン膜４６の上に、反応性スパッタリング法等により、
酸化シリコン膜４７を約７００人の厚みで形成する。こ
れにより、一対のギャップ材積層ブロック４１・４２を
得る。
次に、第９図に示すように、ギャップ材積層ブロック４
１・４２を酸化シリコン膜４７・４７同士が対向する状
態で貼着し、その後、ガラス充填溝３３・３３および内
部巻線溝３４によって形成される各隙間に棒状をなすガ
ラス充填剤３９・３９を配する。
１・４２を酸化シリコン膜４７・４７同士が対向する状
態で貼着し、その後、ガラス充填溝３３・３３および内
部巻線溝３４によって形成される各隙間に棒状をなすガ
ラス充填剤３９・３９を配する。
次に、上記のガラス充填剤３９・３９を加熱して溶融さ
せると、第９図と上下を逆にして示した第１０図に示す
ように、ガラス充填剤３９・３９が内部巻線溝３４の上
部、トラック溝３８・・・およびガラス充填溝３３にガ
ラス層４３となって充填され、ギャップ材積層ブロック
４１・４２同士が一体化する。
せると、第９図と上下を逆にして示した第１０図に示す
ように、ガラス充填剤３９・３９が内部巻線溝３４の上
部、トラック溝３８・・・およびガラス充填溝３３にガ
ラス層４３となって充填され、ギャップ材積層ブロック
４１・４２同士が一体化する。
次に、一体化したギャップ材積層ブロック４１・４２の
摺動面３７を研磨して曲率を付与し、その後、二点鎖線
にて示す位置から切断することにより、第１図に示すコ
ア４４を得る。
摺動面３７を研磨して曲率を付与し、その後、二点鎖線
にて示す位置から切断することにより、第１図に示すコ
ア４４を得る。
従って、上記のコア４４は、切断された一対のギャップ
材積層ブロック４１・４２が上下で密着したものとなり
、上方の密着部は両側のトラック溝３８・３日によって
対向部分の幅が規制され、所定のギャップ幅を有する磁
気ギャップ４５となる。
材積層ブロック４１・４２が上下で密着したものとなり
、上方の密着部は両側のトラック溝３８・３日によって
対向部分の幅が規制され、所定のギャップ幅を有する磁
気ギャップ４５となる。
次に、上記のコア４４を図示しないヘッドベースに貼着
すると共に、コア４４の内部巻線溝３４の空隙部と各ギ
ャップ材積層ブロック４１・４２における外部巻線溝３
２との間にそれぞれ図示しないコイルを巻回することよ
り、磁気ヘッドが完成する。
すると共に、コア４４の内部巻線溝３４の空隙部と各ギ
ャップ材積層ブロック４１・４２における外部巻線溝３
２との間にそれぞれ図示しないコイルを巻回することよ
り、磁気ヘッドが完成する。
このようにして得られた磁気ヘッドは、合金磁性材料か
らなるブロック３１・３５のギャップ対向面３６に、熱
的にも化学的にも非常に安定な物質である窒化シリコン
膜４６が設けられているので、ブロック３１・３５と窒
化シリコン膜４６との化学反応は起こらず、ブロック３
１・３５の軟磁気特性の劣化を生じないようになってい
る。また、ギャップ材積層ブロック４１・４２を一体化
するガラスＮ４３とは、ガラスと相性の良い酸化シリコ
ン膜４７が接しているので、ガラス層４３中に多数の気
泡が発生するとったガラス層４３の化学反応が防止され
ている。
らなるブロック３１・３５のギャップ対向面３６に、熱
的にも化学的にも非常に安定な物質である窒化シリコン
膜４６が設けられているので、ブロック３１・３５と窒
化シリコン膜４６との化学反応は起こらず、ブロック３
１・３５の軟磁気特性の劣化を生じないようになってい
る。また、ギャップ材積層ブロック４１・４２を一体化
するガラスＮ４３とは、ガラスと相性の良い酸化シリコ
ン膜４７が接しているので、ガラス層４３中に多数の気
泡が発生するとったガラス層４３の化学反応が防止され
ている。
本発明の磁気ヘッドは、以上のように、一対の合金磁性
材層間にギャップ材層が設けられて磁気ギャップが形成
されている磁気ヘッドにおいて、上記のギャップ材層は
、両合金磁性材層におけるギャップ対向面に設けられた
窒化シリコン膜と、これら両窒化シリコン膜間に設けら
れた酸化シリコン膜との積層膜からなるなる構成である
。
材層間にギャップ材層が設けられて磁気ギャップが形成
されている磁気ヘッドにおいて、上記のギャップ材層は
、両合金磁性材層におけるギャップ対向面に設けられた
窒化シリコン膜と、これら両窒化シリコン膜間に設けら
れた酸化シリコン膜との積層膜からなるなる構成である
。
それゆえ、合金磁性材層の酸化反応を防止することがで
き、ギャップ対向面付近における合金磁性材層の軟磁気
特性の劣化を防止することができる。これにより、高感
度の磁気ヘッドを得ることができるという効果を奏する
。
き、ギャップ対向面付近における合金磁性材層の軟磁気
特性の劣化を防止することができる。これにより、高感
度の磁気ヘッドを得ることができるという効果を奏する
。
すものである。
第１図は磁気ヘッドのコアを示す斜視図である。
第２図は第１図に示したコアの部分拡大平面図である。
第３図ないし第１Ｏ図は磁気ヘッドの製造工程を示す斜
視図である。
視図である。
第１１図ないし第２０図は従来例を示すものである。
第１１図ないし第１９図は磁気ヘッドの製造工程を示す
斜視図である。
斜視図である。
第２０図は第１９図に示したコアの部分拡大平面図であ
る。
る。
３１・３５はブロック（合金磁性材層）、３６はギャッ
プ対向面、４１・４２はギャップ材積層ブロック、４４
はコア、４５は磁気ギャップ、４６は窒化シリコン膜、
４７は酸化シリコン膜である。
プ対向面、４１・４２はギャップ材積層ブロック、４４
はコア、４５は磁気ギャップ、４６は窒化シリコン膜、
４７は酸化シリコン膜である。
第１図ないし第１０図は本発明の一実施例を示第 １
ス 第２ 図 第 ３ 図 １ 第 図 □−−− 第 図 ５ 図 第 図 ３ 第 図 ４°１ ７ １１１ 図 ３ｇ １２ 図 第 １５図 冨１６ 図 ｊｉ’ １３ 図 第 １４図 第１７ １
ス 第２ 図 第 ３ 図 １ 第 図 □−−− 第 図 ５ 図 第 図 ３ 第 図 ４°１ ７ １１１ 図 ３ｇ １２ 図 第 １５図 冨１６ 図 ｊｉ’ １３ 図 第 １４図 第１７ １
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一対の合金磁性材層間にギャップ材層が設けられて
磁気ギャップが形成されている磁気ヘッドにおいて、 上記のギャップ材層は、両合金磁性材層におけるギャッ
プ対向面に設けられた窒化シリコン膜と、これら両窒化
シリコン膜間に設けられた酸化シリコン膜との積層膜か
らなることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260646A JP2628763B2 (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260646A JP2628763B2 (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03122807A true JPH03122807A (ja) | 1991-05-24 |
| JP2628763B2 JP2628763B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=17350809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1260646A Expired - Lifetime JP2628763B2 (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2628763B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8574159B2 (en) | 2006-07-10 | 2013-11-05 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Thermally enhanced ultrasonic probe |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS505924A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-22 | ||
| JPS6323208A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 | Victor Co Of Japan Ltd | 複合型磁気ヘツド |
| JPH01245412A (ja) * | 1988-03-26 | 1989-09-29 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド |
-
1989
- 1989-10-05 JP JP1260646A patent/JP2628763B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS505924A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-22 | ||
| JPS6323208A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 | Victor Co Of Japan Ltd | 複合型磁気ヘツド |
| JPH01245412A (ja) * | 1988-03-26 | 1989-09-29 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8574159B2 (en) | 2006-07-10 | 2013-11-05 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Thermally enhanced ultrasonic probe |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2628763B2 (ja) | 1997-07-09 |
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