JPH03143547A - 窒素酸化物分解触媒 - Google Patents
窒素酸化物分解触媒Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は窒素酸化物(以下、NOxと略称する)を含有
するガスからNOxを除去する触媒に関し、さらに詳し
くはNOxを直接分解する触媒に関する。
するガスからNOxを除去する触媒に関し、さらに詳し
くはNOxを直接分解する触媒に関する。
工業プラント、自動車等から排出される燃焼排ガス中の
NOxは光化学スモッグの発生原因ともなり得る物質で
あり、環境保全の立場からその除去方法の開発は、重大
かつ緊急の社会的課題である。NOxの中でもNOは特
に除去が困難であり、これまでにも種々の方法が検討さ
れてきた。例えば接触還元法は有効な手段のひとつとし
ては提案され開発が進められているが、アンモニア、水
素あるいは一酸化炭素等の還元剤を必要とし、更に未反
応還元剤を回収、あるいは分解するための特別の装置を
必要とする。これに対して接触分解法は還元剤などの特
別な添加剤を必要とせず、触媒層を通すだけで窒素と酸
素に分解する方法であり、プロセスも単純であることか
ら最も望ましい方法である。従来の研究によれば、Pt
、 CuO、CO3O4などにNO分解活性が認めら
れたが、何れも分解生成物である酸素の被毒作用を受け
るため、実用触媒とはなり得なかった〔「表面」著者、
内島俊雄、νol。
NOxは光化学スモッグの発生原因ともなり得る物質で
あり、環境保全の立場からその除去方法の開発は、重大
かつ緊急の社会的課題である。NOxの中でもNOは特
に除去が困難であり、これまでにも種々の方法が検討さ
れてきた。例えば接触還元法は有効な手段のひとつとし
ては提案され開発が進められているが、アンモニア、水
素あるいは一酸化炭素等の還元剤を必要とし、更に未反
応還元剤を回収、あるいは分解するための特別の装置を
必要とする。これに対して接触分解法は還元剤などの特
別な添加剤を必要とせず、触媒層を通すだけで窒素と酸
素に分解する方法であり、プロセスも単純であることか
ら最も望ましい方法である。従来の研究によれば、Pt
、 CuO、CO3O4などにNO分解活性が認めら
れたが、何れも分解生成物である酸素の被毒作用を受け
るため、実用触媒とはなり得なかった〔「表面」著者、
内島俊雄、νol。
18.Nα3 (1980)132頁〕。
上記触媒に代わる触媒としてシリカゲルやゼオライトに
Cuをイオン交換する方法が提案されているが、次のよ
うな問題がある。
Cuをイオン交換する方法が提案されているが、次のよ
うな問題がある。
(1) イオン交換法によってシリカゲルに銅イオン
を担持した触媒は、初期活性はかなり高いが、時間とと
もに活性が急激に低下する。
を担持した触媒は、初期活性はかなり高いが、時間とと
もに活性が急激に低下する。
(2)Y型ゼオライトやモルデナイトを用いて銅でイオ
ン交換した触媒は、酸素の存在下では分解活性が低い。
ン交換した触媒は、酸素の存在下では分解活性が低い。
(3) Z S M −5型ゼオライトを用いて銅で
イオン交換した触媒が提案されているが、NO分解活性
は高いがNOがN2に転化する選択性(2NO−、N、
+o2)が低いという問題がある。(特開昭60−12
5250号公報)。
イオン交換した触媒が提案されているが、NO分解活性
は高いがNOがN2に転化する選択性(2NO−、N、
+o2)が低いという問題がある。(特開昭60−12
5250号公報)。
本発明は従来技術が有する上記の問題を解決することを
目的としたものであり、特定の組成、結晶構造を有する
結晶性シリケートに銅をイオン交換したものが、Noの
接触分解触媒として極めて高い活性を示すばかりでなく
、NOのN2への選択性が高く、かつ酸素、SOxの共
存下においても活性が安定していることを見出し、本発
明を完成するに至った。
目的としたものであり、特定の組成、結晶構造を有する
結晶性シリケートに銅をイオン交換したものが、Noの
接触分解触媒として極めて高い活性を示すばかりでなく
、NOのN2への選択性が高く、かつ酸素、SOxの共
存下においても活性が安定していることを見出し、本発
明を完成するに至った。
すなわち、本発明は脱水された状態において、酸化物の
モル比で (1,0±0.4)R2[]’ 〔a−M2o3−b
−A12o3〕・ysio2(上記式中、Rはアルカリ
金属イオン及び/又は水素、M:■族元素、希土類元素
、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンか
らなる群から選ばれた1種以上の元素のイオン、a+b
=1.a>0.b>O,y>12) の化学式を有する結晶性シリケートに銅を含有させてな
ることを特徴とする窒素酸化物分解触媒である。
モル比で (1,0±0.4)R2[]’ 〔a−M2o3−b
−A12o3〕・ysio2(上記式中、Rはアルカリ
金属イオン及び/又は水素、M:■族元素、希土類元素
、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンか
らなる群から選ばれた1種以上の元素のイオン、a+b
=1.a>0.b>O,y>12) の化学式を有する結晶性シリケートに銅を含有させてな
ることを特徴とする窒素酸化物分解触媒である。
本発明の触媒はNOの分解反応に極めて高い活性を示し
、またその活性が長時間にわたって持続する。本発明の
触媒の作用については、イオン交換した銅イオンの酸化
還元サイクル(Cu”≠Cu” )が容易で、酸素を比
較的低温で放出する機構と、本発明の触媒の特異的結晶
構造とその構造安定性及び耐熱性等が複合的に作用して
いるものと考えられる。
、またその活性が長時間にわたって持続する。本発明の
触媒の作用については、イオン交換した銅イオンの酸化
還元サイクル(Cu”≠Cu” )が容易で、酸素を比
較的低温で放出する機構と、本発明の触媒の特異的結晶
構造とその構造安定性及び耐熱性等が複合的に作用して
いるものと考えられる。
以下、本発明の詳細な説明する。
ゼオライトはギリシャ語の「沸騰する石」を語源とする
ことに示される如く沸石水を含む結晶性アルミノシリケ
ートであり、その組成は一般的に次の式で表わされる。
ことに示される如く沸石水を含む結晶性アルミノシリケ
ートであり、その組成は一般的に次の式で表わされる。
XM2/II O”^1203 ・ys+zo HZ+
(20(ここでnは陽イオンMの原子価、Xは0.8〜
2の範囲の数、yは2以上の数、2は0以上の数である
。) その基本構造は珪素を中心として4つの酸素がその頂点
に配位したSin、四面体と、この珪素の代りにアルミ
ニウムがその中心にあるAIO,四面体とがO/(AI
+Si)の原子比が2となるように互いに酸素を共有し
て規則正しく三次元的に結合したものである。その結果
、この四面体同士の結合方式の違いによって大きさ、形
の異なる細孔を有する三次元的網目構造が形成される。
(20(ここでnは陽イオンMの原子価、Xは0.8〜
2の範囲の数、yは2以上の数、2は0以上の数である
。) その基本構造は珪素を中心として4つの酸素がその頂点
に配位したSin、四面体と、この珪素の代りにアルミ
ニウムがその中心にあるAIO,四面体とがO/(AI
+Si)の原子比が2となるように互いに酸素を共有し
て規則正しく三次元的に結合したものである。その結果
、この四面体同士の結合方式の違いによって大きさ、形
の異なる細孔を有する三次元的網目構造が形成される。
またAIOイ四面体の負電荷はアルカリ金属またはアル
カリ土類金属等の陽イオンと結合することにより電気的
に中和されている。一般にこのようにして形成される細
孔は2〜3人から10数人の大きさを有するが、AlO
4四面体と結合している金属陽イオンを、大きさまたは
原子価の異なる他の金属陽イオンと交換することによっ
て細孔の大きさを変えることができる。
カリ土類金属等の陽イオンと結合することにより電気的
に中和されている。一般にこのようにして形成される細
孔は2〜3人から10数人の大きさを有するが、AlO
4四面体と結合している金属陽イオンを、大きさまたは
原子価の異なる他の金属陽イオンと交換することによっ
て細孔の大きさを変えることができる。
ゼオライトはこの細孔を利用した気体、液体の工業的乾
燥剤または2種以上の分子の混合物中の分子同士を吸着
分離する分子篩として、また、金属陽イオンを水素イオ
ンと交換したものは固体酸として作用するため、この性
質を利用した工業用触媒としても広く用いられている。
燥剤または2種以上の分子の混合物中の分子同士を吸着
分離する分子篩として、また、金属陽イオンを水素イオ
ンと交換したものは固体酸として作用するため、この性
質を利用した工業用触媒としても広く用いられている。
ゼオライトには数多くの種類があり、X線回折図で特徴
づけられる結晶構造の違いによりそれぞれ異なるゼオラ
イト塩が付けられている。
づけられる結晶構造の違いによりそれぞれ異なるゼオラ
イト塩が付けられている。
天然に産出するものとしてはチャバサイト、エリオナイ
ト、モルデナイト、クリノプチロライト等があり、また
台底ゼオライトとしてはA。
ト、モルデナイト、クリノプチロライト等があり、また
台底ゼオライトとしてはA。
X、Y、 ラージ、ボートモルデナイト、23M5な
どがよく知られている。
どがよく知られている。
これらの多くのゼオライトの中で本発明に使用可能なも
のは、特定の組成構造を有する結晶性シリケートに限定
される。本発明の結晶性シリケートは天然には存在しな
いが、次の方法で台底される。
のは、特定の組成構造を有する結晶性シリケートに限定
される。本発明の結晶性シリケートは天然には存在しな
いが、次の方法で台底される。
本発明で使用する上記結晶性シリケートは、シリカの給
源、■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロ
ム、ニオブ、アンチモンの酸化物の給源、アルミナの給
源、アルカリの給源、水及び有機窒素含有化合物を含有
する反応混合物をつくり、この混合物を結晶性シリケー
トが生成するのに至る時間及び温度で加熱することによ
り台底される。
源、■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロ
ム、ニオブ、アンチモンの酸化物の給源、アルミナの給
源、アルカリの給源、水及び有機窒素含有化合物を含有
する反応混合物をつくり、この混合物を結晶性シリケー
トが生成するのに至る時間及び温度で加熱することによ
り台底される。
シリカの給源はぜオライド台底において普通に使用され
るシリカの化合物であれば、いずれのシリカの給源であ
ってもよく、例えば固型シリカ粉末、コロイド状シリカ
、又は水ガラス等のケイ酸塩などが用いられる。
るシリカの化合物であれば、いずれのシリカの給源であ
ってもよく、例えば固型シリカ粉末、コロイド状シリカ
、又は水ガラス等のケイ酸塩などが用いられる。
■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、
ニオブ、アンチモンの給源は、これらの硫酸塩、硝酸塩
、塩化物などの化合物が用いられる。
ニオブ、アンチモンの給源は、これらの硫酸塩、硝酸塩
、塩化物などの化合物が用いられる。
■族元素の例としては、鉄、コバルト、ルテニウム、ロ
ジウム、白金、パラジウムなどがあり、また希土類元素
としては、ランタン、セリウム、ネオジウムなどがある
。
ジウム、白金、パラジウムなどがあり、また希土類元素
としては、ランタン、セリウム、ネオジウムなどがある
。
アルミナの給源は、アルミン酸ソーダが最も適している
が、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物又は水酸化物など
の化合物が用いられる。
が、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物又は水酸化物など
の化合物が用いられる。
アルカリの給源は、ナトリウムなどのアルカリ金属の水
酸化物、又はアルミン酸、ケイ酸との化合物などが用い
られる。
酸化物、又はアルミン酸、ケイ酸との化合物などが用い
られる。
結晶性シリケートの水熱合成原料の一つである有機窒素
含有化合物としては、以下に示すものが使用できる。
含有化合物としては、以下に示すものが使用できる。
(1) 有機アミン類:
n−プロピルアミン、モノエタノールアミンなどの第1
級アミン、 ジプロピルアミン、ジェタノールアミンなどの第2級ア
ミン、 トリプロピルアミン、トリエタノールアミンなどの第3
級アミン、 又はエチレンジアミン、ジグリコールアミンなど、 又は上記化合物とハロゲン化炭化水素(臭化プロピルな
ど)と混合物、 その他テトラプロピルアンモニウム塩ナトの第4級アン
モニウム塩など、 (2)有機アミン以外の有機窒素含有化合物:ビリジン
、ピラジン、ピラゾールなど、これらの各種有機化合物
は例示であって、本発明はこれらに何等限定されるもの
ではない。
級アミン、 ジプロピルアミン、ジェタノールアミンなどの第2級ア
ミン、 トリプロピルアミン、トリエタノールアミンなどの第3
級アミン、 又はエチレンジアミン、ジグリコールアミンなど、 又は上記化合物とハロゲン化炭化水素(臭化プロピルな
ど)と混合物、 その他テトラプロピルアンモニウム塩ナトの第4級アン
モニウム塩など、 (2)有機アミン以外の有機窒素含有化合物:ビリジン
、ピラジン、ピラゾールなど、これらの各種有機化合物
は例示であって、本発明はこれらに何等限定されるもの
ではない。
本発明の結晶性シリケートは、従来のゼオライトの構造
中のA1の一部が■族元素、希土類元素、チタン、バナ
ジウム、クロム、ニオブ、アンチモンに置きかわったも
のであり、さらにS 102/ (M203十八+20
3)比が12以上であることを特徴としており、下記の
モル組成の反応混合物から製造される。
中のA1の一部が■族元素、希土類元素、チタン、バナ
ジウム、クロム、ニオブ、アンチモンに置きかわったも
のであり、さらにS 102/ (M203十八+20
3)比が12以上であることを特徴としており、下記の
モル組成の反応混合物から製造される。
5iO7/(M203+Al203) 12〜3
000(好ましくは、20〜200) OHVSiOz O〜1.0(好ましくは
、0.2〜0.8) lf、o/5iOz 2〜1000(好ま
しくは、10〜200) 有機窒素含有化合物/ (M203+Al203)(好
ましくは、5〜50) 本発明の結晶性シリケートは前記原料混合物を結晶性シ
リケートが生成するに充分な温度と時間加熱することに
より台底されるが、水熱合成温度は80〜300℃好ま
しくは130〜200℃の範囲であり、また水熱合成時
間は0.5〜14日、好ましくは1−10日である。
000(好ましくは、20〜200) OHVSiOz O〜1.0(好ましくは
、0.2〜0.8) lf、o/5iOz 2〜1000(好ま
しくは、10〜200) 有機窒素含有化合物/ (M203+Al203)(好
ましくは、5〜50) 本発明の結晶性シリケートは前記原料混合物を結晶性シ
リケートが生成するに充分な温度と時間加熱することに
より台底されるが、水熱合成温度は80〜300℃好ま
しくは130〜200℃の範囲であり、また水熱合成時
間は0.5〜14日、好ましくは1−10日である。
圧力は特に制限を受けないが、自圧で実施するのが望ま
、しい。
、しい。
水熱合成反応は所望の温度に原料混合物を加熱し、必要
であれば攪拌下に結晶性シリケートが形成されるまで継
続される。かくして結晶が形成された後、反応混合物を
室温まで冷却し、濾過し、水洗を行い、結晶を分別する
。さらに普通は100℃以上で5〜24時間程度乾燥が
行われる。
であれば攪拌下に結晶性シリケートが形成されるまで継
続される。かくして結晶が形成された後、反応混合物を
室温まで冷却し、濾過し、水洗を行い、結晶を分別する
。さらに普通は100℃以上で5〜24時間程度乾燥が
行われる。
前述した方法で製造された結晶性シリケートは、周知の
技術により、そのままで、あるいは従来から触媒成型用
として用いられている粘結剤等と混合して適当な大きさ
に成型して、触媒として使用されうる。
技術により、そのままで、あるいは従来から触媒成型用
として用いられている粘結剤等と混合して適当な大きさ
に成型して、触媒として使用されうる。
本発明の結晶性シリケートは一定の結晶構造を有する規
則正しい多孔性の結晶性物質であり、一般に表1に示す
X線回折パターンを示す。
則正しい多孔性の結晶性物質であり、一般に表1に示す
X線回折パターンを示す。
表
上記の水熱合成で得られる結晶性シリケートは、Na+
などのアルカリ金属イオン、(C3L) 、N”などの
有機窒素含有化合物のイオンを含有している。これらの
イオンの一部又は全部を水素イオンに置換するためには
、空気中で400〜700℃の範囲の温度で2〜48時
間焼戊す焼成とにより有機窒素含有化合物を除去した後
、塩酸などの強酸に浸漬して直接H型にする方法、又は
アンモニウム化合物の水溶液に浸漬してNH4型にした
後、焼成によりH型にする方法などがある。
などのアルカリ金属イオン、(C3L) 、N”などの
有機窒素含有化合物のイオンを含有している。これらの
イオンの一部又は全部を水素イオンに置換するためには
、空気中で400〜700℃の範囲の温度で2〜48時
間焼戊す焼成とにより有機窒素含有化合物を除去した後
、塩酸などの強酸に浸漬して直接H型にする方法、又は
アンモニウム化合物の水溶液に浸漬してNH4型にした
後、焼成によりH型にする方法などがある。
上記方法で得られる結晶性シリケート中のアルカリ金属
イオン、水素イオンなどのイオン交換サイトは、次の方
法によって銅イオンに交換され、本発明の触媒(以下、
本触媒と略す)が尋られる。
イオン、水素イオンなどのイオン交換サイトは、次の方
法によって銅イオンに交換され、本発明の触媒(以下、
本触媒と略す)が尋られる。
イオン交換は硫酸銅、硝酸銅などの鉱酸塩または酢酸銅
などの有機酸塩を溶解した水溶液中に結晶性シリケート
を浸漬するなどの通常の方法によって行われる。水溶液
中の銅イオンの濃度は、目的とする銅イオン交換率によ
って任意に選ぶことができ、銅イオンはCu” 、 C
u”CuDH+のいずれかの形で結晶性シリケート中の
陽イオンと交換している。イオン交換終了後は水で充分
洗浄した後、乾燥して本触媒が得られる。本触媒の銅イ
オン交換率は、触媒基剤である結晶性シリケート中に含
有される交換可能な全陽イオンの少なくとも10%以上
であることが必須であり、交換率が高い程NO分解活性
が高いので、好ましくは40〜200%の範囲である。
などの有機酸塩を溶解した水溶液中に結晶性シリケート
を浸漬するなどの通常の方法によって行われる。水溶液
中の銅イオンの濃度は、目的とする銅イオン交換率によ
って任意に選ぶことができ、銅イオンはCu” 、 C
u”CuDH+のいずれかの形で結晶性シリケート中の
陽イオンと交換している。イオン交換終了後は水で充分
洗浄した後、乾燥して本触媒が得られる。本触媒の銅イ
オン交換率は、触媒基剤である結晶性シリケート中に含
有される交換可能な全陽イオンの少なくとも10%以上
であることが必須であり、交換率が高い程NO分解活性
が高いので、好ましくは40〜200%の範囲である。
交換率10%以下では有効なNo分解活性を示さない。
銅のイオン交換率は、イオン交換サイトの中の銅イオン
の割合を示すものであり、Na” 2原子とCu”1原
子がイオン交換するとして計算している。
の割合を示すものであり、Na” 2原子とCu”1原
子がイオン交換するとして計算している。
従って交換率200%とは、イオン交換サイト全部が銅
でイオン交換された状態(Cuが1個の状態でイオン交
換されている)を示す。
でイオン交換された状態(Cuが1個の状態でイオン交
換されている)を示す。
本発明のNO分解触媒は従来の触媒と比較して使用温度
、範囲が広く、300〜1000℃の範囲、好ましくは
、400〜700℃の範囲で用いられる。
、範囲が広く、300〜1000℃の範囲、好ましくは
、400〜700℃の範囲で用いられる。
本触媒の工業的使用に際しては、適当な形に底形して使
用することが望ましい。例えば、シリカ、アルミナ等の
無機酸化物または粘土をバインダーとし、場合により有
機物等の成形助剤を使用して球状、柱状、ハニカム状に
底形する。
用することが望ましい。例えば、シリカ、アルミナ等の
無機酸化物または粘土をバインダーとし、場合により有
機物等の成形助剤を使用して球状、柱状、ハニカム状に
底形する。
銅イオンで交換する前の結晶性シリケートをあらかじめ
底形し、その成形体を銅イオンで交換したものでも本発
明の触媒とみなすことができる。成形体の大きさは特に
制限されない。
底形し、その成形体を銅イオンで交換したものでも本発
明の触媒とみなすことができる。成形体の大きさは特に
制限されない。
〔実施例1〕
結晶性シリケートを次のようにして台底した。
水ガラス、硫酸第二鉄、硫酸アルミニウム、水を
36Na20’ (0,1Fe2[13” 0.9A]
203) ’ 80SiL・1600H20 のモル比になるように調合し、これに硫酸を適当量添加
し、上記混合物のpHが9前後になるようにした後、有
機窒素含有化合物としてプロピルアミン、臭化プロピル
をFe2O+ 、 八1203の合計のモル数の20倍
加え、よく混合し、500CCのステンレス製オートク
レーブにはり込んだ。
203) ’ 80SiL・1600H20 のモル比になるように調合し、これに硫酸を適当量添加
し、上記混合物のpHが9前後になるようにした後、有
機窒素含有化合物としてプロピルアミン、臭化プロピル
をFe2O+ 、 八1203の合計のモル数の20倍
加え、よく混合し、500CCのステンレス製オートク
レーブにはり込んだ。
上記混合物を約500 rpmにて攪拌しながら160
℃、で3時間反応させた。冷却後、固形分を濾過し、洗
浄水のpHが約8になるまで充分水洗し、110℃で1
2時間乾燥し、550℃で3時間焼成した。
℃、で3時間反応させた。冷却後、固形分を濾過し、洗
浄水のpHが約8になるまで充分水洗し、110℃で1
2時間乾燥し、550℃で3時間焼成した。
この生成物の結晶粒径はlμ前後であり、酸化物のモル
比で表わした組成は、脱水の形態で表わして (H,Na) 20 ’ (0,IFf32L ’ 0
.9A1.03) ” 80SiLであった。これを結
晶性シリケート1と称する。
比で表わした組成は、脱水の形態で表わして (H,Na) 20 ’ (0,IFf32L ’ 0
.9A1.03) ” 80SiLであった。これを結
晶性シリケート1と称する。
この結晶性シリケート1を台底する場合、原料の中で塩
酸の代わりに硝酸などを用いても、又塩化デンタンの代
わりに硝酸ランタンを用いても、又水ガラスの代わりに
シリカゾルを用いても同様のシリケートが得られた。
酸の代わりに硝酸などを用いても、又塩化デンタンの代
わりに硝酸ランタンを用いても、又水ガラスの代わりに
シリカゾルを用いても同様のシリケートが得られた。
又、水熱合成条件として160℃で3日間反応させる代
わりに170℃または180℃で2日間反応させても同
様のシリケートが得られた。
わりに170℃または180℃で2日間反応させても同
様のシリケートが得られた。
結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二鉄と硫酸ア
ルミニウムの添加量をFe、O,とAl2O3のモル比
に換算して下記のように変えた以外は、結晶性シリケー
ト1の場合と同じ操作を繰り返して結晶性シリケート2
〜4を調製した。
ルミニウムの添加量をFe、O,とAl2O3のモル比
に換算して下記のように変えた以外は、結晶性シリケー
ト1の場合と同じ操作を繰り返して結晶性シリケート2
〜4を調製した。
結晶性シリケート
■の調合時において、
硫酸
の代わりに塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、塩
化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラン
タン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩
化クロム、塩化アンチモンを各々酸化物換算でFe2O
+と同じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート1
と同じ操作を繰り返して結晶性シリケート5〜13を調
製した。これらの結晶性シリケートの有機窒素含有化合
物を除外した組成は、酸化物のモル比(脱水の形態)で
表わして、 (H,Na) 20 ’ (0,1M203 ’ 0.
9AI、03) ’ 80Si[12であった。ここで
MはCa、 Ru、 Rh、 La。
化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラン
タン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩
化クロム、塩化アンチモンを各々酸化物換算でFe2O
+と同じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート1
と同じ操作を繰り返して結晶性シリケート5〜13を調
製した。これらの結晶性シリケートの有機窒素含有化合
物を除外した組成は、酸化物のモル比(脱水の形態)で
表わして、 (H,Na) 20 ’ (0,1M203 ’ 0.
9AI、03) ’ 80Si[12であった。ここで
MはCa、 Ru、 Rh、 La。
Ce、 Ti 、 V、 Cr、 Sb (結晶性シ
リケート5〜13の番号順)である。
リケート5〜13の番号順)である。
また結晶性シリケート1において調合時の5102/
(0,IFeJ、+ 0.9A1203)比を20.2
00とした以外は結晶性シリケートlと同じ操作を繰り
返して各々結晶性シリケー)14.15を調製した。
(0,IFeJ、+ 0.9A1203)比を20.2
00とした以外は結晶性シリケートlと同じ操作を繰り
返して各々結晶性シリケー)14.15を調製した。
以上の結晶性シリケート1〜15の粉末X線回折パター
ンは表1に示すパターンを示すことが確認された。
ンは表1に示すパターンを示すことが確認された。
以上の結晶性シリケート1〜15のそれぞれ10gを酢
酸銅1gを500ccの水に溶解した水溶液の中に入れ
、室温にて12時間攪拌するイオン交換操作を行った。
酸銅1gを500ccの水に溶解した水溶液の中に入れ
、室温にて12時間攪拌するイオン交換操作を行った。
このイオン交換操作を3回繰り返し行った後、水洗し、
100℃で12時間乾燥し、触媒l〜15(結晶シリケ
ートの番号に対応)を調製した。
100℃で12時間乾燥し、触媒l〜15(結晶シリケ
ートの番号に対応)を調製した。
触媒1〜15を16〜32メツシユに整粒し、触媒0.
5gを常圧固定床流過式反応器に充填し、次の反応条件
下で活性評価試験を行った。その結果を表2に示す。
5gを常圧固定床流過式反応器に充填し、次の反応条件
下で活性評価試験を行った。その結果を表2に示す。
ガス組11j2 + NO:0.5%、0.1%、11
eバランスガス流量:INl/h、 反応温度:50
0℃表 なお、反応したNOは全てN2,0□に転化(2NO→
N2+02) しており選択性の高いことがわかった。
eバランスガス流量:INl/h、 反応温度:50
0℃表 なお、反応したNOは全てN2,0□に転化(2NO→
N2+02) しており選択性の高いことがわかった。
〔実施例2〕
実施例1の触媒lを0.5 g 、常圧固定床流過式反
応器に充填し、反応条件をかえて、活性評価試験を行っ
た。その結果を表3に示す。
応器に充填し、反応条件をかえて、活性評価試験を行っ
た。その結果を表3に示す。
なお、反応したNOは全てN2.02に転化していた。
以上のように本発明の触媒はS02が含有したガスを用
いても活性が高いこと、また活性の経時変化が少ないこ
とがわかった。
いても活性が高いこと、また活性の経時変化が少ないこ
とがわかった。
〔実施例3〕
実施例1の結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二
鉄の代わりに塩化第二鉄と塩化クロムの混合物を用い、 36Na20’ (0,09Fe2L ’ 0.0IC
rzL ’ 0.9AI203)・80SiO□・16
00H2[1 のモル比になるように調合した点以外は、結晶性シリケ
ート1と同じ方法で結晶性シリケート16を得、同じ方
法でCuイオン交換を行い(ただしイオン交換操作2回
繰り返した)触媒16(Cuイオン交換率110%)を
得た。
鉄の代わりに塩化第二鉄と塩化クロムの混合物を用い、 36Na20’ (0,09Fe2L ’ 0.0IC
rzL ’ 0.9AI203)・80SiO□・16
00H2[1 のモル比になるように調合した点以外は、結晶性シリケ
ート1と同じ方法で結晶性シリケート16を得、同じ方
法でCuイオン交換を行い(ただしイオン交換操作2回
繰り返した)触媒16(Cuイオン交換率110%)を
得た。
実施例1と同じ活性評価を行った結果、NO転化率は8
0%であった。
0%であった。
実施例1の結晶性シリケート■の原料調合時の硫酸第二
鉄を添加せず 36Na、O” Al2O3・80Si02’ 160
0H,0のモル比になるように調合し、これに塩酸を適
当量添加し、上記混合物のpHが9前後になるようにし
た・後、有機窒素含有化合物として臭化テトラプロピル
アンモニウムをAIzOzの20倍加えた以外は実施例
1と同じ操作を繰返した。
鉄を添加せず 36Na、O” Al2O3・80Si02’ 160
0H,0のモル比になるように調合し、これに塩酸を適
当量添加し、上記混合物のpHが9前後になるようにし
た・後、有機窒素含有化合物として臭化テトラプロピル
アンモニウムをAIzOzの20倍加えた以外は実施例
1と同じ操作を繰返した。
実施例1と同様、銅でイオン交換しくCuイオン交換率
105%)、同じ条件活性評価を行った結果、NO転化
率は74%と高かったが、反応したNOのN2への転化
率は72%と低く、NO2などの副生が多いことがわか
った。
105%)、同じ条件活性評価を行った結果、NO転化
率は74%と高かったが、反応したNOのN2への転化
率は72%と低く、NO2などの副生が多いことがわか
った。
以上、実施例に示したように、本発明の結晶性シリケー
トに銅を含有させた触媒は、排ガス中のNOxをN2.
02に分解する触媒として有効に使用できる。
トに銅を含有させた触媒は、排ガス中のNOxをN2.
02に分解する触媒として有効に使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 脱水された状態において、酸化物のモル比で(1.0±
0.4)R_2O・〔a・M_2O_3・b・Al_2
O_3〕・ySiO_2(上記式中、Rはアルカリ金属
イオン及び/又は水素、M:VIII族元素、希土類元素、
チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンから
なる群から選ばれた1種以上の元素のイオン、a+b=
1、a>0、b>0、y>12) の化学式を有する結晶性シリケートに銅を含有させてな
ることを特徴とする窒素酸化物分解触媒。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28199689A JPH03143547A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 窒素酸化物分解触媒 |
| EP90915829A EP0451291B1 (en) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | Catalyst for nitrogen oxide decomposition and method of cleaning nitrogen oxide-containing exhaust gas |
| PCT/JP1990/001394 WO1991006508A1 (en) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | Catalyst for nitrogen oxide decomposition and method of cleaning nitrogen oxide-containing exhaust gas |
| CA002045128A CA2045128C (en) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | A catalyst for decomposing nitrogen oxides and a method of purifying a waste gas containing nitrogen oxides |
| US07/721,659 US5254515A (en) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | Catalyst for decomposing nitrogen oxides and a method of purifying a waste gas containing nitrogen oxides |
| DE69020539T DE69020539T2 (de) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | Katalysator zur zersetzung von stickoxyd und verfahren zur reinigung von stickoxyd enthaltendem abgas. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28199689A JPH03143547A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 窒素酸化物分解触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03143547A true JPH03143547A (ja) | 1991-06-19 |
Family
ID=17646776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28199689A Pending JPH03143547A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 窒素酸化物分解触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03143547A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0791644A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-04-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガスボイラ |
| JP2011521871A (ja) * | 2008-05-21 | 2011-07-28 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | CHA構造を有するCu含有ゼオライトの直接合成のための方法 |
| JP2018202407A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 古河電気工業株式会社 | No分解触媒構造体、no分解処理装置及びno分解触媒構造体の製造方法 |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28199689A patent/JPH03143547A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0791644A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-04-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガスボイラ |
| JP2011521871A (ja) * | 2008-05-21 | 2011-07-28 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | CHA構造を有するCu含有ゼオライトの直接合成のための方法 |
| US8715618B2 (en) | 2008-05-21 | 2014-05-06 | Basf Se | Process for the direct synthesis of Cu containing zeolites having CHA structure |
| US9272272B2 (en) | 2008-05-21 | 2016-03-01 | Basf Se | Process for the direct synthesis of Cu containing zeolites having CHA structure |
| JP2018202407A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 古河電気工業株式会社 | No分解触媒構造体、no分解処理装置及びno分解触媒構造体の製造方法 |
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