JPH03148265A - ５，７―ジフェニル―４，６―ジアザインダン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、新規な６．７−ジフェニル−４゜６−ジアザ
インダン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とす
る除草剤をと関する。

〈従来の技術および発明が解決しようとする課題〉 従来より多くの除草剤が使用されているが、それらは除
草効力が不充分であったり、作物・雑草間の選択性に劣
ったりすることから必ずしも満足すべきものとは言い難
い。

く課題を解決するための手段〉 本発明者等は、このような状況に鑑み、種々（４） 検討した結果、下記一般式ＣＩ）で示される６゜７−ジ
フェニル−４，６−ジアザインダン誘導体が優れた除草
効力を有し、かつ作物・雑草間に優れた選択性を示す化
合物であることを見出し、本発明に至った。

すなわち、本発明は、一般式（Ｉ） 〔式中、Ｒはオルト位もしくはメタ位のハロゲン原子、
低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
ル基、低級アルキルチオ基、低級ハロアルコキシル基ま
たは低級ハロアルキルチオ基を表わす。Ｒは水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、
低級アルコキシル基または低級ハロアルコキシル基を表
わす。Ｒ８およびＲ４は同−または相異なり、水素原子
または低級アルキル基を表わし、Ｘはメチレン基、酸素
原子またはイオウ原子を表わす。〕 で示される６、７−ジフェニル−４，６−ジアザインダ
ン誘導体Ｃ以下、本発明化合物と記″ｒ、）、その製造
法およびそれを有効成分とする除草剤を提供するもので
ある。

次に本発明化合物の製造法について詳しく説明する。

すなわち、本発明化合物は、−数式（Ｅｌ）〔式中、Ｒ
１，Ｒｅ、　Ｒ４およびＸは前記と同じ意味を表わす。

〕 で示されるジケトン誘導体と一般式（Ｉ［［）〔式中、
Ｒ２は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるベンズア
ミジン誘導体とを反応させることによって製造すること
ができる。

本反応は、通常、無溶媒または溶媒中で行なわれ、反応
温度は５０〜１５０Ｃ，反応時間は０．６〜５０時間で
あり、反応に供される試剤の量は、−数式（［１）で示
されるジケトン誘導体１モルに対して、−数式（ＩＩＩ
）で示されるベンズアミジン誘導体は１〜ｌＯモルであ
る。

溶媒を使用する場合、使用される溶媒としては、たとえ
ばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール
、イソプロパツール、ｔ−ブタノール、オクタツール、
シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチレング
リコール、グリセリン等のアルコール類、ピリジン、ト
リエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン類、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、水等ある
いはそれらの混合物があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行ない、必要ならば、クロマトグラフィー
、蒸留、再結晶等の操作によって精製することにより、
目的の本発明化合物を得ることができる。

６Ｉ“ また、本発明化合物のうち、Ｘは酸素原子またはイオウ
原子であり、Ｒが低級アルキル基である化合物は、下記
の製造法によっても製造することができる。

すなわち、−数式（ｆｆ） Ｃ式中、Ｒ，ＲおよびＲは前記と向じ意味を表わし　Ｈ
，ｌｈは水素原子または低級ナルキル基を表わし、Ｙは
酸素原子またはイオウ原子を表わす。〕 で示されるピリミジン島導体を加熱することにより製造
することができる。

本反応は、通常、無溶媒または溶媒中で行なわれ、反応
温度は１００〜８００℃、反応時間は０．６〜１０時間
である、 溶媒を使用する場合、使用される溶媒としては、たとえ
ばデカリン等の脂肪族炭化水素類、ジクロルベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等
の第８級アミン類、スルホラン等の硫黄化合物等あるい
はそれらの混合物があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行ない、必要ならば、クロマトグラフィー
、蒸留、再結晶等の操作によって精製することにより、
目的の本発明化合物を得ることができる。

本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般式（
ｆｆ）で示されるピリミジン誘導体は、−数式〔マ〕 〔式中　Ｒ１およびＲ″は前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるピリミジン誘導体と一般式〔■〕〔式中、Ｒ
’ＲＩ’およびＹは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアルコールまたはチオアルコール誘導体とを
反応させることによって製造することができる。

次に本発明の製造法で製造できる本発明化合物のいくつ
かを第１表にあげるが、本発明はもちろんこれらのみに
限定されるものではない。

第　　　１　　　表 １ 本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつ作物・雑
草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物は、
畑地の茎葉処理および土壌処理において、問題となる種
々の雑草、たとえばスベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオ
ゲイトウ、ダイコン、ノハラガラシ、ナズナ、アメリカ
ッノクサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴジ
カ、フィールドパンジー　ヤエムグラ、アメリカアサガ
オ、マルバアサガオ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリコ
ソウ、ホトケノザ、シロパナチ１ウセンアサガオ、イヌ
ホオズキ、オオイヌノフグリ、オナモミ、ヒマワリ、イ
ヌカミツレ、コーンマリーゴールド等の広葉雑草、ヒエ
、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビ
ラ、ノスズメノテフポウ、エンバク、カラスムギ、セイ
バンモロコシ、ウマノテヤヒキ等のイネ科雑草等に対し
て除草効力を有し、しかも本発明化合物は、トウモロコ
シ、コムギ、イネ等の主要作物に対して問題となるよう
な薬害を示さない。

また、本発明化合物は、水田の湛水処理において、問題
となる種々の雑草、たとえば、タイヌビエ等のイネ科雑
草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草等に
対して除草効力を有し、しかもイネに対しては問題とな
るような薬害を示さない。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤用
補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製
剤して用いる。

これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を、重
量比で１〜８０９６、好ましくは２〜７０％含有する。

固体担体としては、たとえばカオリンクレーアッタパル
ジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィ
ライト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫
酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは
粒状物があげられ、液体担体としては、たとえばキシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パツール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等の
ケトン類、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。

乳化、分散、湿層等のために用いられる界面活性剤とし
ては、たとえばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスル
ホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキル
スルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリー
ルエーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポ
リオキシプロピレンブロックコポリマー　ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル等の非イオン界面活性剤等があげられる。

その他の製剤用補助剤としては、たとえばリグニンスル
ホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラ
ビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、Ｐ
ＡＰ（酸性’Ｊン酸イソプロピル）等があげられる。

本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出
芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理される。土壌
処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉
処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着
しないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。

また他の除草剤と混合して用いることにより、除草効力
の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線
虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と
混合して用いることもできる。

なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地の有効成分として用いる
ことができる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場
所、対象雑草、対象作物等にょうでも異なるが、通常１
アールあたり０．５ｔ〜２００ｔ、好ましくは１？−１
００９であり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通常その所
定量を１アールあたり！リットル〜１０リットルの（必
要ならば、展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して
処理し、粒剤等は、通常なんら希釈することなくそのま
ま処理する。

展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシ
エチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。

〈実施例〉 以下、本発明を製造例、製剤例および試験例により、さ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。

まず、本発明化合物の製造例を示す。

製造例１　（本発明化合物（１）の製造）２−　（（８
−）リフルオロメチルフェニル）−ベンゾイルツーシク
ロペンタノン８ｆとべンズアミジン６ｆとをメタノール
５０譚ｔに溶解し、２０時間加熱還流した。減圧下に溶
媒を留去した後、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し
、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、７−（８−トリフルオロメチルフェニル）−６−フェ
ニル−４，６−ジアザインダン０．２Ｆを得た。

ｍｐ９１．６℃ 製造例２　（本発明化合物（８）の製造）２−フェニル
−４−（８−クロロフェニル）−６−プロパルギルオキ
シピリミジン１２とスルホラン０゜５−とを混合し、８
時間、２２０〜２４０℃で加熱した。冷却後、残渣に水
を加え、酢酸エチルで抽出し、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、７−（８−クロロフェニ
ル）−６−フェニル−１−オキソ−４，６−−ジアザイ
ンダン０．８５９を得た。　　　ｍｐ１ｇ２．９℃ 次にこれらの製造例に準じて製造された本発明化合物の
い（つかを、第２表に示す。

第 表 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第２表の化合
物番号で示す。部は重量部である。

製剤例１ 本発明化合物（２）　５０部、リグニンスルホン酸カル
シウム８部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含
水酸化珪素４６部をよく粉砕混合して水和剤を得る。

製剤例２ 本発明化合物（１）または（２）　１０部、ポリオキシ
エチレンスチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カルシウム６部およびキシレン７０部
をよく混合して、各々の乳剤を得る。

製剤例８ 本発明化合物（１）２部、合成含水酸化珪素１部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト８０部お
よびカオリンクレー６６部をよく粉砕混合し、水を加え
てよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。

製剤例４ 本発明化合物（２）　２５部、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノオレエート８部、ＣＭＣ８部および水６９部
を混合し、粒度が６ミクロン以下になるまで湿式粉砕し
て懸濁剤を得る。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は第１表の
化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第８表の
化合物記号で示す。

第 表 また、除草効力および薬害の評価は、調査時の供試植物
（雑草および作物）の出芽および生育の状態が無処理の
それと比較して全くないしほとんど違いがないものを「
０」とし、供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育
が完全に抑制されているものを「１０」として、θ〜ｌ
Ｏの１１段階に区分し、０．１１２％８，４１６゜６．
７．８．９．１０で示す。

試験例１　畑地茎葉処理試験 直径１０ｃｇ１深さ１０畑の円筒型プラスチツクポット
醤ζ畑地土壌を詰め、ダイコン、イチビおよびアサガオ
を播種し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤例
２に準じて得られた供試化合物の乳剤の所定量を、１ア
ールあたり１０リツトル相当の展着剤を含む水で希釈し
、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後
２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を第４表に示す。

第４表 試験例２　　水田湛水処理試験 直径８ｃ１１１、深さ１２ｃｍの円筒型プラスチックポ
ットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を１〜２傭の深
さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、さらに２
菜期のイネを移植し、温室内で育成した。６日後（各雑
草の発生初期）に製剤例２に準じて得られた供試化合物
の乳剤の所定量を、６ミリリツトルの水で希釈し、水面
に処理した。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力
および薬害を調査した。その結果を第６表に示す。

第　　　６　　　表 〈発明の効果〉 本発明化合物は、畑地の土壌処理および茎葉処理、さら
に水田の湛水処理において問題となる種々の雑草に対し
て優れた除草効力を有し、主要作物と雑草間に優れた選
択性を示す。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１はオルト位もしくはメタ位のハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級ハロ アルキル基、低級アルコキシル基、低級ア ルキルチオ基、低級ハロアルコキシル基ま たは低級ハロアルキルチオ基を表わす。Ｒ＾２は水素原
   子、ハロゲン原子、低級アルキル 基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ ル基または低級ハロアルコキシル基を表わ す。Ｒ＾３およびＲ＾４は同一または相異なり、水素原
   子または低級アルキル基を表わし、 Ｘはメチレン基、酸素原子またはイオウ原 子を表わす。〕 で示される５，７−ジフェニル−４，６−ジアザインダ
   ン誘導体。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はオルト位もしくはメタ位のハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級ハロア ルキル基、低級アルコキシル基、低級アル キルチオ基、低級ハロアルコキシル基また は低級ハロアルキルチオ基を表わす。Ｒ＾３およびＲ＾
   ４は同一または相異なり、水素原子または低級アルキル
   基を表わし、Ｘはメチ レン基、酸素原子またはイオウ原子を表わ す。〕 で示されるジケトン誘導体と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
   ル基、低級ハロアルキル基、低級 アルコキシル基または低級ハロアルコキシ ル基を表わす。〕 で示されるベンズアミジン誘導体とを反応させることを
   特徴とする請求項１記載の５，７−ジフェニル−４，６
   −ジアザインダン誘導体の製造法。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１はオルト位もしくはメタ位のハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級ハロ アルキル基、低級アルコキシル基、低級ア ルキルチオ基、低級ハロアルコキシル基ま たは低級ハロアルキルチオ基を表わす。Ｒ＾２は水素原
   子、ハロゲン原子、低級アルキル 基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ ル基または低級ハロアルコキシル基を表わ す。Ｒ＾４およびＲ＾５は同一または相異なり、水素原
   子または低級アルキル基を表わし、 Ｙは酸素原子またはイオウ原子を表わす。〕で示される
   ピリミジン誘導体を加熱することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＹは前
   記と同じ意味を表わす。〕 で示される５，７−ジフェニル−４，６−ジアザインダ
   ン誘導体の製造法。
4. （４）請求項１記載の５，７−ジフェニル−４，６−ジ
   アザインダン誘導体を有効成分として含有することを特
   徴とする除草剤。