JPH03149003A - 耐剥離性に優れたセラミツクス層被覆貴金属装飾品およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 この発明は、貴金属装飾品の表面に耐剥離性の優れたセ
ラミックス層を被覆してなる貴金属装飾品およびその製
造法に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、金、銀、白金およびそれらの合金（以下、貴金
属という）を用いて、例えば指輪、腕輪、時計バンド、
時計ケース、イヤリング、ネックレス、ブローチ、帯止
め、ネクタイピン、カフスボタン、メダル、硬貨、ペン
ダント、カード等の装飾品が製造されているが、上記貴
金属は本質的に延性に富み、軟かいために、上記貴金属
で作製さ−れた装飾品は、所持中または使用中にその表
面に肉眼では見えない無数の傷がつき、そのため表面の
光沢が減少することが知られている。

そのため、従来から貴金属装飾品の表面に透明なセラミ
ックス層を被覆して貴金属装飾品の表面の傷の発生を防
止する処理が施されていた（特開昭８２−２７０７７４
公報参照）。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記従来の方法で貴金属装飾品の表面に
形成されたセラミックス層は、いずれも付着力が弱いた
めに、上記貴金属装飾品を長期間所持または使用してい
るうちに、上記セラミックス層の剥離が発生し、装飾品
としての価値が低下してしまうという問題点があった。

〔課題を解決するための手段］ そこで、本発明者等は、上記貴金属装飾品の表面に耐剥
離性の優れたセラミックス層を形成すべく研究を行った
結果、 （１）　　貴金属装飾品およびセラミックス層の双方に
付着力の強い中間層を介して貴金属装飾品表面にセラミ
ックス層を形成すると、耐剥離性の優れたセラミックス
層を形成することができる、（２）　　Ｓｉは、貴金属
と容易に反応してシリサイドを形成し、酸素とも容易に
反応して酸化ケイ素を形成し、上記酸化ケイ素は、他の
セラミックス層との付着力が強いことから、上記中間層
としてＳｉ層を酸化した酸化ケイ素層を用いることが好
ましい、 という知見を得たのである。

この発明は、かかる知見にもとづいてなされたものであ
って、 貴金属装飾品の表面にＳｉ層を形成する工程、上記貴金
属装飾品の表面とＳｉ層の界面に貴金属のシリサイド層
を形成したのち、上記Ｓｉ層を酸化して酸化ケイ素層と
する工程、 上記酸化ケイ素層の表面にセラミックス層を形成する工
程、 を経て製造された耐剥離性に優れたセラミックス層被覆
貴金属装飾品およびその製造法に特徴を有するものであ
る。

上記貴金属装飾品の表面にＳｉ層を形成するには一般に
スパッタリング法が用いられ、Ｓｉ層を被覆した貴金属
装飾品を不活性ガス雰囲気中で比較的低温度で加熱する
と、貴金属装飾品表面とＳｉ層の界面に貴金属のシリサ
イド層が形成され、貴金属装飾品の表面に付着力の優れ
たＳｉ層が形成される。

上記Ｓｉ層を有する貴金属装飾品をさらに酸素雰囲気中
で比較的高温で加熱すると、上記Ｓｉ層は酸化され、酸
化ケイ素層となる。上記酸化ケイ素層の貴金属装飾品表
面に近い部分には、貴金属が拡散されて、貴金属−８１
−０からなる複合酸化物層が形成されていることもある
。

上記貴金属装飾品表面に形成された酸化ケイ素層の表面
に、セラミックス層をスパッタリング等の方法により形
成すると、上記酸化ケイ素層とセラミックス層とは付着
力が大であり、また上記酸化ケイ素層と貴金属装飾品と
は貴金属のシリサイド層を介して強固に付着しているこ
とから、貴金属装飾品の表面にセラミックス層が強固に
付着し、耐剥離性の優れたセラミックス層を有する貴金
属装飾品が得られるのである。

〔実　施　例〕

つぎに、この発明を実施例にもとづいて具体的に説明す
る。

たて＝ｌＯｍｍ、横　１０Ｂｓ厚さ＝１＋ｍｓの寸法を
有する、いずれも純度：　９９．９９重量％のＡｇ板、
ｐｔ板およびＡｇ板を用意し、これら貴金属板の表面を
鏡面研磨し、この鏡面研磨した貴金属板の表面に、直径
＝５インチのＳｉターゲットを用いて、 雰囲気：Ａｒガス、 圧カニ　３ｍＴｏｒｒｘ ＲＦ　　　：　２００Ｗ。

の条件で膜厚：　１０００人のＳｉスパッタリング膜を
形成し、ついで上記Ｓｉスパッタリング膜を有する貴金
属板をＡｒガス雰囲気中、温度＝３５０℃、１０分間保
持の条件で熱処理し、上記貴金属板表面と８１スパッタ
リング膜の界面に貴会讐のシリサイド層を形成した。

上記貴金属のシリティド層を介しそ形成したＳｉスパッ
タリング膜を、さらに酸化雰囲気の赤外線加熱炉内に温
度：　ｙｏｏ℃にて１０分間保持し、上記Ｓｌスパッタ
リング膜を酸化して酸化ケイ素膜とし、上記貴金属板の
表面に貴金属のシリサイド層を介して酸化ケイ素層を形
成した。

上記酸化ケイ素層の上に、さらに、 雰囲気：　Ａ　ｒ　／　０２　＝　１０／　２、圧　力
＝　３ｍＴｏｒｒ％ ＲＦ　　：　２００Ｗ。

の条件のスパッタリング法により、厚さ：　２０００人
のＺｒＯＭｇＯ，Ｓｉｎ２．サイアロン。

Ｙ　　ＯＳｉＣ，Ｓｉ３Ｎ４またはＢＮからなる笛１表
の本発明セラミックス層１〜２４を形成した。

一方、比較のために、上記たて＝　１０１１１１％横＝
１０＋ｎ、厚さ＝ＩＢの寸法を有するＡｕ板、ｐｔ板お
よびＡｕ板の鏡面に、直接、上記スパッタリング法と同
一条件で厚さ：　２０００人のＺ　ｒ　Ｏｚ　−Ｍ　ｇ
　Ｏ。

８　（０２ｅサイアロン、Ｙ２０３．　　Ｓ　ｉ　Ｃ，
，Ｓ　ｉｓ　Ｎ。

またはＢＮからなる第１表の従来セラミックス層１−〜
２４を形成した。

、上記第１表の本発明セラミックス層１〜２４および従
来セラミックス層１〜２４の貴金属板に対する耐剥離性
を調べるために、下記のスクラッチ試験を行った。

レス力社製の超薄膜スクラッチ試験機ＣＳＲ−０２型を
用い、本発明セラミックス層１〜２４および従来セラミ
ックス層１〜２４を有する貴金属板をそれぞれ傾斜角度
：４度のステージ上に固定し、上記本発明セラミックス
層１〜２４および従来セラミックス層１〜２４の各セラ
ミックス表面に、それぞれ上記試験機に取付けられてい
る先端曲率半径：１５ｍのダイヤモンド圧子を荷動負荷
速度＝１！８．５３−Ｎ／ｌＩＩＩとなるように当て、
同時に上記ダイヤモンド圧子に振動数：　：（Ｏｌｌｚ
、振幅＝　ＴＯａｍの振動を加えながら、上記振動して
いるダイヤモンド圧子が上記４度の傾斜角度で保持され
た本発明セラミックス層１〜２４および従来セラミック
ス層１〜２４の各セラミックス表面を２０ａｍ／ｓｅｅ
のスピードで昇るように上記ステージの方を移動せＬめ
、上記ダイヤモンド圧子が押し上げられて荷重が印加さ
れ上記貴金属板の表面に形成された本発明セラミックス
層１〜２４および従来セラミックス層１〜２４が、剥離
するときの破壊音を測定して、剥離が発生する限界荷重
（−に）を測定し、これらの測定結果を第１表に示した
。

第１表に示されるスクラッチ試験の測定結果から、酸化
ケイ素を中間層部して介在した本発明セラミックス層は
、従来の貴金属板に直接被覆したセラミックス層よりも
耐剥離性が優れていることがわかる。

ヨ　種　　別　一板　の巨イ素層−。１による剥離発生
置第　　　１　　　表　の　　１ １　種　　別　看板　の１ケイ素層ｌ、ｒ、＠、）カド
よる剥離発生−第　　　１　　　表　　の　　２ １　種　別　１板　の１ケイ素層り力、ｌ）ヵ１による
剥離発生１第　　　１　　　表　　の　　３ 〔発明の効果〕 この発明の方法を貴金属装飾品の表面に施すことにより
、傷の付きにくい貴金属装飾品を製造することができ、
装飾産業に対して大いに貢献することができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）貴金属装飾品の表面に、貴金属のシリサイド層を
   介して形成した酸化ケイ素層および上記酸化ケイ素層の
   上に形成したセラミックス層を被覆してなることを特徴
   とする耐剥離性に優れたセラミックス層被覆貴金属装飾
   品。
2. （２）上記セラミックス層は、ＺｒＯ＿２、ＭｇＯ、Ｓ
   ｉＯ＿２、サイアロン、Ｙ＿２Ｏ＿３、Ｓｉ＿３Ｎ＿４
   、ＳｉＣ、ＢＮのうちのいずれか１種からなるセラミッ
   クス層であることを特徴とする請求項１記載の耐剥離性
   に優れたセラミックス層被覆貴金属装飾品。
3. （３）貴金属装飾品の表面にＳｉ層を形成する工程、上
   記貴金属装飾品の表面とＳｉ層の界面に貴金属のシリサ
   イド層を形成したのち、上記Ｓｉ層を酸化して酸化ケイ
   素層とする工程、 上記酸化ケイ素層の表面にセラミックス層を形成する工
   程、 からなることを特徴とする耐剥離性に優れたセラミック
   ス層被覆貴金属装飾品の製造法。
4. （４）上記セラミックス層は、ＺｒＯ＿２、ＭｇＯ、Ｓ
   ｉＯ＿２、サイアロン、Ｙ＿２Ｏ＿３、Ｓｉ＿３Ｎ＿４
   、ＳｉＣ、ＢＮのうちのいずれか１種からなるセラミッ
   クス層であることを特徴とする請求項３記載の耐剥離性
   に優れたセラミックス層被覆貴金属装飾品の製造法。