JPH03157365A - β―ラクタム化合物の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はβ−ラクタム化合物の製造法に関するものであ
る。

く背景技術〉 従来から広く利用されている有用な抗生物質として抗菌
スペクトルの広いペニシリン、セファロスポリン系抗生
物質が知られており、各種感染症に対し優れた効果を発
揮してきた。更にチェナマイシンが天然から発見（特開
昭５１−７３１９１号）されて以来、種々のカルバペネ
ム化合物を純合成的に得る方法が報告されている。更に
最近に至りカルバペネム骨格の１位のメチレン基が種々
のアルキル基等で置換された化合物が合成され、特に１
−メチルカルバペネム化合物は化学的にも、あるいは生
体内においても従来の１位無置換カルバペネム化合物に
比べ安定性が優れており、抗菌剤として極めて有用であ
ることが報告されている。しかしその合成法は反応工程
が長く、煩雑であり、特に１位のメチル基の導入を立体
選択的に行う方法で満足すべき報告は少ない。

一方、−放火■または１１で表されるβ−ラクタム化合
物は、Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈａｍ、、　５２．２５６３
（１９８７）に記載の方法によって高選択的に１−メチ
ルカルバペネム合成の中間体へと導かれている。　本発
明者らは、この−放火ＩまたはＨで表されるβ−ラクタ
ム化合物を短工程で容易な操作で得る方法を確立し、本
発明を完成した。

（式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基また
は水酸基が保護されていてもよい炭素数１〜６の１−ヒ
ドロキシアルキル基を、またＲ１は水素原子か又は窒素
原子の保護基を、Ｒ４、Ｒ５は同じかまたは異なる炭素
数１〜６のアルキル基を示すかまたは、Ｒ４とＲ５が互
いに結合してアルキレン娘を形成して５から７員環のシ
クロアルキル基を示し、Ｒ６は水酸基の保護基を意味す
る）〈発明の構成〉 本発明は式１ （式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基また
は水酸基が保護されていてもよい炭素数１〜６の１−ヒ
ドロキシアルキル基を、またＲ＋は水素原子か又は窒素
原子の保護基を意味する）で表わされる化合物に、式 （式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立に炭素数１〜６のア
ルキル基または、メトキシ基あるいはニトロ基で置換さ
れていることもあるフェニル基を含むアラルキル基を示
す）で表わされるジアゾマロン酸ジエステルを反応させ
式２ （式中、Ｒ，Ｒ’、　Ｒ’、Ｒ３は前記の定義に等しい
）で表わされる化合物に変換し、この式２の化合物を還
元して式３ （式中、Ｒ，Ｒ’は前記の定義に等しい）で表わされる
化合物に導き、この式３の化合物の一方の水酸基をハロ
ゲン化して式４ （式中、Ｒ，Ｒ’は前記の定義に等しく、Ｘはハロゲン
原子を意味する）で表わされる化合物に変換し、この式
４でＲ１が水素原子である化合物に酸の存在下で式 ％式％ （式中、Ｒ４、Ｒ５は同じかまたは異なる炭素数１〜６
のアルキル基を示すかまたは、Ｒ４とＲ５が互いに結合
してアルキレン鎖を形成して５か６７員環のシクロアル
キル基を形成しても良い）で表わされるカルボニル化合
物またはこのカルボニル化合物の各々のアルキル鎖が炭
素数１〜６であるようなジアルキルアセタール誘導体を
反応させて式５（式中、Ｒ，Ｒ’、Ｘは前記の定義に等
しく、Ｒ６は水酸基の保護基を意味する）で表わされる
化合物に変換しこの式５又は式６の化合物に式 （Ａｌｋｙｌ）　５ｓｎＨ （式中、Ａｌｋｙｌは炭素数１〜６のアルキル基を意味
する）で表わされるトリアルキルスズヒドリド化合物を
ラジーカル開始剤の存在下に反応させることを特徴とす
る式Ｉ （式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ’、　Ｘは前記の定義に等しい）
で現わされる化合物に変換するか、あるいは式４でＲ１
が水素原子でない化合物では水酸基を保護して（式中、
Ｒ，Ｒ’、Ｒ５は前記の定義に等しい）あるいは式ＩＩ （式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ６は前記の定義に等しい）で表わ
されるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。

前記−放火■またはＩＩにおけるＲのうち低級アルキル
基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ローブチル、５ｅｃ−ブチル等の炭素数１〜４の直
鎖状若しくは分枝状のアルキル基を挙げることができ、
好適な例としてはメチル、エチルを挙げることが出来る
。

また、Ｒとしてはｌ−ヒドロキシ低級アルキル基でもよ
く、このｌ−ヒドロキシ低級アルキル基のアルキル基部
分としては前記のような炭素数１〜４の直鎖状若しくは
分枝状のアルキル基を挙げることができ、好適な１−ヒ
ドロキシ低級アルキル基としては、ヒドロキシメチル基
、ｌ−ヒドロキシエチル基を挙げることが出来る。この
水酸基は保護されていてもよく、水酸基の保護基は一般
的に用いられるものであればよい、好適にはし一ブチル
オキシカルボニル基のような低級アルコキシカルボニル
基類：２−ヨウ化エチルオキシカルボニル基、２．２．
２−）−ジクロロエチルオキシカルボニル基のようなハ
ロゲノアルコキシカルボニル基類；ベンジルオキシカル
ボニル基、０−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル基のようなアラルキルオキシカ
ルボニル基類コトリメチルシリル基、し−ブチルジメチ
ルシリル基、し−ブチルジフェニルメチルシリル基のよ
うな置換シリル基類：メトキシメチル基、２−メトキシ
エトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基のような置換メチル基類等を挙げることがで
きる。

Ｒ＋の窒素原子の保護基は一般的に用いられるものでよ
いが、好適にはトリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基等のトリアルキルシリル基類：ｐ−メトキシ
フェニル基、２．４−ジメトキシフェニル基等の置換フ
ェニル基類：ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、２
．４−ジメトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、ジ
−ｐ−アユシルメチル基等のモノあるいはジアリールメ
チル基類：メトキシメチル基、２−メトキシエトキシメ
チル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロピラニル基
のような置換メチル基類等を挙げることができる。

Ｒ６としては水酸基の保護基として一般的に用いられる
ものであればよく、好適にはメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ｔ
−ブチルオキシカルボニル基のような低級アルコキシカ
ルボニル基類：２−ヨウ化エチルオキシカルボニル基、
２，２．２−トリクロロエチルオキシカルボニル基のよ
うなハロゲノアルコキシカルボニル基類：ベンジルオキ
シカルボニル基、０−ニトロベンジルオキシカルボニル
基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基のようなアラルキルオ
キシカルボニル基類ニトリメチルシリル基、ｔ−ブチル
ジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルメチルシリル
基のような置換シリル基類：メトキシメチル基、２−メ
トキシエトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラ
ヒドロピラニル基のような置換メチル基頚等を挙げるこ
とができる。

以下に本発明製造法について詳細に述べる。

Ａ工程 一般式２で表される化合物は、例えば特開昭６１−２０
７３７３号公報に記載の方法で得られる４−フニニルチ
オアゼチジン体とジアゾ化合物を触媒量の有機金属化合
物存在下、不活性溶媒中で反応させることにより得るこ
とができる。好適な有機金属化合物としては、ロジウム
（ＩＩ）アセテート　ダイマーが挙げられ、反応が充分
に進行するだけの量を用いることが望ましいが、好適に
は原料化合物１の０．００１〜０．０１倍量ということ
ができる。

好適な不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸メチル、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド等の
有機溶媒及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。

また反応温度は適宜冷却または加熱することにより反応
を抑制または促進することができるが、好適には２０℃
より７０℃の範囲で実施することができる。

Ｂ工程 −ａ式３で示される化合物は、エステルをアルコールへ
と導く一般的な還元反応の態様にて実施することができ
、種々の遷元剤を用いることができる。しかしながら好
適な方法としては、例えば水素化硼素、水素化アルミニ
ウム等の金属水素化合物、水素化硼素ナトリウム、水素
化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物を挙げる
ことができ、特に好適な方法としては、不活性溶媒中、
水素化ジイソブチルアルミニウムを使用する還元法をを
挙げることができる。

好適な不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の有機
溶媒及びこれらの混合溶媒を挙げることがで診る。

また反応温度は、適宜冷却または加熱することにより反
応を抑制または促進することができるが、好適には一７
８℃より２０℃の範囲で実施することができる。

Ｃ工程 一般式４で示される化合物は、アルコールのハロゲン化
あるいはスルホン酸エステル化により容易に得られ、−
船釣に知られた方法によりこれらの反応を実施すること
ができる。好適な方法としては、塩基の存在下または非
存在下各種のハロゲン化剤、例えば塩化チオニル、臭化
チオニルもしくは四塩化炭素−トリフェニルフォスフイ
ン等のハロゲン化アルキル−トリフェニルフォスファイ
トのハロゲン化合物リン錯体が挙げられ、また塩基の存
在下塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニ
ル等を不活性溶媒中反応させることにより得ることもで
きる。特に好適なものとしては塩化メタンスルホニル塩
化チオニルを挙げることができる。

好適な不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホ
ルムく、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、
酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、
ピリジン等の有機溶媒及びこれらの混合溶媒を挙げるこ
とができる。

好適な塩基としてはピリジン、４−ジメチルアミノビリ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、　Ｎ、Ｎ−ジメチル
アニリン等を挙げることができる。特に好適なものとし
て、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンを
挙げることができる。

また反応温度は、適宜冷却または加熱することにより反
応を抑制、または促進することができるが、好適には一
２０℃より０℃の範囲で実施することができる。

見工韮 一般式５で示される化合物は化合物４を酸の存在下、−
放火Ｒ’ＣＯＲ’［式中８３及びＲ４は同じかまたは異
なる低級アルキル基を示すか、またはＲ３とＲ４が互い
に結合してアルキレン鎮を表して５〜７員環のシクロア
ルキル基を形成する。］で表されるカルボニル化合物と
の脱水反応またはそのジー低級アルキルアセタール話導
体とのアミノアセタール化反応に付すことにより得られ
、本反応は一般にアミノアルコールをアミノアセタール
に導く各種の反応が適用可能である。

本反応に使用するカルボニル化合物の８３及びＲ４に関
してはメチル、エチル、プロピル、ブチル等炭素数１〜
４個の低級アルキル基あるいは互いに結合せるアルキレ
ン鎖を表して５〜７員環のシクロアルキル基を挙げるこ
とができる。

この反応で用いられる好適な不活性溶媒としては、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１．２−ジク
ロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒及び
これらの混合溶媒を挙げることができる。

また、この反応で用いられる好適な酸としてはメタンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、
硫酸、塩酸等のに酸類、塩化亜鉛、三フッ化硼素エーテ
レート、三臭化硼素等のルイス酸を挙げることができ、
特に好適なものとしては三フッ化硼素エーテレート、＋
１−）−ルエンスルホン酸を挙げることができる。

触媒としての酸の量については、反応が充分に進行する
だけの量を用いることが望ましいが、好適には原料化合
物４の０．Ｏ２Ｎ２．１倍量ということができる。

また反応温度は、適宜冷却または加熱することにより反
応を規制または促進することができるが、好適には一２
０℃より２０℃の範囲で実施することができる。

一般式４でＲ′が水素原子でない化合物から話導される
一般式６で示される化合物は、例えば、アルキルオキシ
カルボニルハライド、アラルキルオキシカルボニルハラ
イド、トリアルキルシリルハライド、アルコキシアルキ
ルハライド等を一般式４の化合物（Ｒ１が水素でない化
合物）とを塩基存在下で反応に不活性な溶媒中で反応さ
せればよい。

好適な塩基としてはピリジン、４−ジメチルアミノビリ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン等を挙げることができる。特に好適なものとして
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンを挙
げることができる。

好適な不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホ
ルムく、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、
酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、
ピリジン等の有機溶媒及びこれらの混合溶媒を挙げるこ
とができる。

Ｅ工程 −Ｓ式■または■ｒの化合物は、−放火５または６のよ
うなβ−ヒドロキシあるいはクロロスルフィドをアルケ
ンに導く各種の公知の方法をこれらに適用することによ
り得られる。例えば、Ｔｅｔｒａ−ｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ、　１９７７、４２２３に記載の方法に従い
ラジカル的に一般式ＴまたはＨのアルケン体を得ること
ができる。

ドリドで処理する方法が挙げられる。

特に好適な触媒としてはアゾビスイソブチロニトリル等
のラジカル開始剤が挙げられ、その量は反応が充分に進
行するだけの量を用いればよいが、好適には原料化合物
の０．０１〜０．００１倍量ということができる。

この反応で用いられる好適な不活性溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の有機溶媒及びこれらの混
合溶媒を挙げることができる。

また反応温度は、適宜冷却または加熱することにより反
応を抑制または促進することができるが、好適には２０
℃より　１００℃の範囲で実施することができる。

次に実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。

（ＩＲ，３Ｓ、４Ｒ）　３−＜１−ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４−フェニルチオ−２−アゼチ
ジノン３００ｍｇ及び触媒量のロジウムＨｔ）アセテー
トダイマーを無水ベンゼン−ジクロロメタン（１：ｌ、
　ｖ／ｖ）の混合溶媒２０　ｍｌに溶解、加熱還流し、
ジメチルジアゾマロネート　２１０　ｍｇの無水ベンゼ
ン−ジクロロメタン（１：１．　ｖ／ｖ）の混合溶媒４
０　ｍｌの溶液を徐々に滴下した。攪拌下に２４時間加
熱還流後溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルのカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−ベンゼン−ア
セトン（５０：５０：３．　ｖ／ｖ）の流分より標記の
化合物１！１１　ｏｇを無色油状物として得た。

ＩＲ：Ｖ！Ｒ：’ｇ＠−’：３４００．１７４０．１７
２０．１６［ｉ０’Ｈ−ＮＭＲ（２７０Ｍ）ｌｚ、　Ｃ
ＤＣ１３）δ：０．０７．０．０８（６Ｈ，各ｓ）。

０．８８（９８，ｓ）、　１．１３（３ｆ（、ｄ、　Ｊ
−ｆｆ、１１（ｚ）。

３．２４（ＩＬ　ｄ、　Ｊ−１，２Ｈｚ）、　３．［ｉ
２．３．６６（６Ｈ８各Ｓ）、　４．２４（１８，ｄｑ
、　Ｊ−１，８＆　６．７Ｈｚ）４．３６（ｌ）１．　
ｄ、　Ｊ−１，８Ｈｚ）、　５．７７（１）１．　ｂｒ
−ｓ）。

７．２−７．５（５Ｈ，ｍ）。

ＭＳ：ｔｎ／ｚ：　４１０（Ｍ”−ｔｆｌｕ）Ｈｉｇｈ
　ＭＳＨ Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ＋ＡＬＪＯ６ＳｉＳ：Ｍ”−ｔ
ＢＬｌ、　ｍ／ｚ　４１０．１０９２Ｆｏｕｎｄ：Ｍ”
−ｔＢｕ、　ｍ／ｚ　４１０．１０９７実施例１で得た
化合物２４０　ｒｎｇを無水テトラヒドロフラン５　Ｇ
＋１に溶解して窒素気流下、−７８℃でジイソブチルア
ルミニウムハイドライド（ＤＩＢＡＬ。

１ｍｏｌ／１．　トルエン溶液）、３　ｍｌを加えた後
、室温で３時間攪拌した０反応混合物を０℃に冷却し・
イソプロパツール１　ｍｌを加え、１時間攪拌した。

反応混合物に繋塩化アンモニウム水溶液をアルミニウム
化合物が完全に沈殿するまで加え（ｐＨ３，５〜４．０
）、セライトで濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、残留
物を酢酸エチルを用いたシリカゲルのクロマトグラフィ
ーにて精製し、標記の化合物１１４　ｍｇを黄色結晶と
して得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＩ（ｚ、　ＣＤ３０Ｄ）δ：０
．０７．０．０８（８）１．各Ｓ）。

０．８６（９）１．　ｓ）、　１．２８（３８，ｄ、　
Ｊ−６，１）１ｚ）。

３．３０（２）１．　ｂｒｓ）、　３．４７（１）１．
　ｄｄ、　Ｊ−１，８＆５．８Ｈ１）、　３．５４（Ｉ
Ｈ，ｄ、　Ｊ−１１，６１１２）、　３．８１（ＩＨ，
ｄ、　Ｊ＝１１．８Ｈｚ）、　３．６３（１）１．　ｄ
、　Ｊ−１１，６Ｈ２）、　３．７０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
−１１，６Ｈ２）、　３．８３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１，
８Ｈｚ）、　４．０８（１８，ｄｑ、　Ｊ−５，８，＆
δ、ＩＨｚ）、　７．４−７．７（５Ｈ，ｍ）。

ＭＳ；ｍＨｚ：３５４　（Ｍ”−ｔＢｕ）Ｈｉｇｈ　Ｍ
Ｓ； Ｃａ１ｃｄ　ｆｏｒ　ｌ＋ａ）Ｉ２ＪＯ４５ｉＳ：Ｍ”
−ｔＢｕ、　ｌ／Ｚ　３５４．１１９４Ｆｏｕｎｄ：Ｍ
”−ｔＢｕ、　　ｍＨｚ　３５４．１１８９ジノン メタンスルフォニルクロリド０．０３　ｍｌの無水ピリ
ジン５　ｍｌの溶液を窒素気流下で、実施例２で得た化
合物１４０　ｍｇ及びトリエチルアミン０．０６１１１
１の無水ピリジン５　ｍｌの溶液に０℃にて徐々に滴下
し、反応混合物を０℃にて３時間攪拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈し、飽和ＫＨ５Ｏ４水溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−
酢酸エチル（１０：１．　ｖ／ｖ）の流分より標記の化
合物１１０　ｔＩｌｇを白色結晶として得た。

ＩＲニジｍ！！！：”ｃｍ−’　：１７６０’Ｈ−ＮＭ
Ｒ（２７０Ｍ）ＩＺ、　ＣＤＣ１３）δ：０．１８．０
．１９（６Ｈ，各Ｓ）。

０、！１７（９）１．　　Ｓ）、　　１．３９（３Ｈ，
ｄ、　Ｊ−８，１Ｈ２）。

１．６９（ｌ）Ｉ、　　ｂｒｓ）、　　３．３０（ＩＨ
，ｄｄ、　Ｊ−１，２＆６．７Ｈｚ）、　　３．５１（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１３，４）ＩＺ）、　３．６２（ＩＦ
Ｉ、　　ｄ、　Ｊ−１３，４Ｈｚ）、　　３．８６（Ｉ
Ｈ，Ｊ−１２，２Ｈｚ）。

４．０３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．２Ｈｚ）、　　４．１
１ＤＨ，ｄ、　Ｊ−１２，２）１ｚ）、　４．２７（Ｌ
Ｈ，ｄｑ、　Ｊ−６，１＆　８．７Ｈｚ）。

６．１５（ＩＨ，ｂｒｓ）、　　７．２９−７．５３（
５Ｈ，ｍ）。

ＭＳ；ｍＨｚ：３７２（Ｍ”−ｔＢｕ）、　４１４（Ｍ
”−Ｍｅ）Ｈｉｇｈ　ＭＳ； Ｃａ１ｃｄ　　ｆｏｒ　　Ｃ，、Ｈ２３ＮＣ１０，Ｓｉ
Ｓ：Ｍ”−ｔＢｕ、　　ｍ／２３７２．０８５５Ｆｏｕ
ｎｄ：Ｍ”−ｔＢｕ、　　ｍＨｚ　３７２．０８４８実
施例３で得た化合物１００　ｍｇを無水ジクロロメタン
５　ｍｌに溶解し、０℃に冷却後２．２−ジメトキシプ
ロパンＱ、１７　ｍｌおよび触媒量のボロントリフルオ
ライドジエチルエーテラートを加えた。

室温で４時間攪拌後、反応混合物にトリエチルアミンを
錯体が沈殿するまで加え３０分間攪拌した。

反応混合物をジクロロメタンで希釈し、飽和食塩水及び
飽和Ｎａ２）１ｃＯ３水溶液で洗浄して無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し溶媒を減圧留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチ
ル（８：２．　ｖ／ｖ）の流分より標記の化合物８５Ｉ
Ｉ１ｇを黄色油状物として得た。

■Ｒ；ν！Ｒ旦１３ｃｍ−”：１７３０’Ｈ−ＮＭＲ（
２）ＯｈＬＨ２，（：ＤＣ１３）　　δ　：Ｏ，ＯＩｉ
、　　０．１２（６Ｈ，各Ｓ）０．８９（９）１．　Ｓ
）、　１．３５（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−６，１１（Ｚ）。

１．２３．１．６８（６）１．各Ｓ）、　：１．５３（
１）１．　ｄｄ、　Ｊ−２，４＆　２．５Ｈｚ）、　３
．５７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１２，２）１ｚ）３．７３（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１２，２８Ｚ）、　３．７６（１）１
．　ｄ。

Ｊ−１２，２８Ｚ）、　３．８２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１
２，２８Ｚ）。

４．０８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ・２．５Ｈ１）、　４．２８
（ＩＨ，ｄｑ。

Ｊ−２，５＆　６．１）１２）、　７．２６−７．６８
（５）１．　ｍ）ＭＳ；ｍＨｚ：４５４（Ｍ”−Ｍｅ）
、　４１２（Ｍ”−’Ｂｕ）Ｈｉｇｈ　ＭＳ； Ｃａ１ｃｄ　ｆｏｒ　Ｃｚ２ＨｓＪＣ１（ｈｓｉｓ：Ｍ
”−Ｍｅ、　　ｍ／ｚ Ｆｏｕｎｄ：Ｍ”−Ｍｅ、　　ｍ／ｚ ４５４．１１ｉ３９ ４５４．１６３９ クタン 実施例４で得た化合物５７　ｍｇを無水ベンゼン２　＆
　４）ＩＺ）、　　４．ｌ５−４．３４（３Ｈ，ｍ）４
．９６，５．０８（２Ｌ　　ｂｒｓ）ＭＳ：ｍ／ｚ：３
１０　（Ｍ”−Ｍｅ）　、　　２６１１　（Ｍ”−ｔＢ
Ｌ＋）　。

１６６（Ｍ”−ＣＨｉＣ）１０−ｔＢＤＭＳｉ）Ｈｉｇ
ｈ　ＭＳ；　　Ｃａ１ｃｄ　　ｆｏｒ　Ｃ，６）ｔ２．
Ｎｏ、Ｓｉ：Ｍ”−Ｍｅ、　　ｍ／ｚ　　３１０．１８
２８Ｆｏｕｎｄ：Ｍ”−Ｍｅ、　　ｍ／ｚ　３１０．１
８２８ｍ１および触媒量のアゾビスイソブチロニトリル
（ＡＩＢＮ）の無水ベンゼン１５　ｍｌの溶液を６時間
かけて徐々に滴下した。更に１６時間加熱遠流した後溶
媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（１０：１．
　ｖ／ｖ）の流分より標記の化合物３４．７　Ｂを黄色
油状物として得た。

ＩＲ，シｇａｐ１３ａｓ−’：１７５０’Ｈ−ＮＭＲ（
２７０ＭＨｚ、　（：ＤＣ１３）δ：０．０７．０．０
８（６Ｈ，各５）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式１ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基また
   は水酸基が保護されていてもよい炭素数１〜６の１−ヒ
   ドロキシアルキル基を、またＲ＾１は水素原子か又は窒
   素原子の保護基を意味する）で表わされる化合物に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２およびＲ＾３は各々独立に炭素数１〜６
   のアルキル基または、メトキシ基あるいはニトロ基で置
   換されていることもあるフェニル基を含むアラルキル基
   を示す）で表わされるジアゾマロン酸ジエステルを反応
   させ式２ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は前記の定義に等
   しい）で表わされる化合物に変換し、この式２の化合物
   を還元して式３ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１は前記の定義に等しい）で表わされ
   る化合物に導き、この式３の化合物の一方の水酸基をハ
   ロゲン化して式４ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１は前記の定義に等しく、Ｘはハロゲ
   ン原子を意味する）で表わされる化合物に変換し、この
   式４でＲ＾１が水素原子である化合物に酸の存在下で式 Ｒ＾４ＣＯＲ＾５ （式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５は同じかまたは異なる炭素数１
   〜６のアルキル基を示すかまたは、Ｒ＾４とＲ＾５が互
   いに結合してアルキレン鎖を形成して５から７員環のシ
   クロアルキル基を形成しても良い）で表わされるカルボ
   ニル化合物またはこのカルボニル化合物の各々のアルキ
   ル鎖が炭素数１〜６であるようなジアルキルアセタール
   誘導体を反応させて式５▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｘは前記の定義に等しい
   ）で現わされる化合物に変換するか、あるいは式４でＲ
   ＾１が水素原子でない化合物では水酸基を保護して式６ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｘは前記の定義に等しく、Ｒ＾６
   は水酸基の保護基を意味する）で表わされる化合物に変
   換しこの式５又は式６の化合物に式 （Ａｌｋｙｌ）＿３ＳｎＨ （式中、Ａｌｋｙｌは炭素数１〜６のアルキル基を意味
   する）で表わされるトリアルキルスズヒドリド化合物を
   ラジカル開始剤の存在下に反応させることを特徴とする
   式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾４、Ｒ＾５は前記の定義に等しい）あ
   るいは式II ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾６は前記の定義に等しい）で
   表わされるβ−ラクタム化合物の製造法