JPH0316928B2 - - Google Patents
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- JPH0316928B2 JPH0316928B2 JP57189578A JP18957882A JPH0316928B2 JP H0316928 B2 JPH0316928 B2 JP H0316928B2 JP 57189578 A JP57189578 A JP 57189578A JP 18957882 A JP18957882 A JP 18957882A JP H0316928 B2 JPH0316928 B2 JP H0316928B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- triple bond
- compound
- palladium
- reaction
- partial hydrogenation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は三重結合の部分水素添加方法に関し、
詳しくは三重結合を有する化合物にパラジウム系
触媒及び3価の有機リン化合物の存在下水素添加
し、三重結合を選択的に二重結合にすることを特
徴とする三重結合の部分水素添加方法に関する。 三重結合の部分水素添加は有機合成中間体、医
薬、合成香料などの製造における重要な反応であ
り、古くから研究がなされ、その反応に用いる触
媒として鉛で被毒されたパラジウム−炭酸カルシ
ウム、すなわちリンドラー触媒は特に著名である
〔エイチ・リンドラー、ヘルベチカ・キミカ・ア
クタ第35巻、第446〜450頁(1952年)参照〕。ま
たこの反応において反応抑制剤としてキノリン、
ヘキサメチレンテトラミン、メラミン、低級アミ
ン、液体アンモニアなどを触媒と併用することも
効果ありとされていた。この場合、反応抑制剤は
三重結合を有する化合物に対して約10重量%以上
の希釈剤もしくは溶剤的な使用量が必要とされて
いる〔特公昭35−12762号公報、特公昭36−23317
号公報及び特公昭40−18284号公報参照〕。 本発明者は各種の三重結合を有する化合物の部
分水素添加について研究を行なつたが、リンドラ
一触媒をはじめとするパラジウム系触媒と上記公
知の反応抑制剤とを併用して部分水素添加を行な
つた場合、常に未反応の三重結合を有する化合物
及び過度に水素添加が進んだ飽和化合物が反応生
成物中にみられ、充分満足すべき結果は得られな
かつた。そこで三重結合の部分水素添加反応に有
効に使用できる触媒及び反応抑制剤などの添加剤
を求めて広範囲な研究を行なつた結果、パラジウ
ム系触媒と3価の有機リン化合物とを組合わせ使
用した場合に、未反応の三重結合がほとんど残存
せずしかも部分水素添加により生じた二重結合が
さらに水素添加されることはほとんどなく極めて
選択的に三重結合が水素添加されて二重結合にな
ること、しかもその3価の有機リン化合物は従来
の反応抑制剤の使用量に比べ1/100以下の触媒量
で有効であることを見出し、本発明を完成するに
至つた。 本発明に用いられる3価の有機リン化合物は、
好ましくはトリn−ブチルホスフイン、トリシク
ロヘキシルホスフイン、トリフエニルホスフイ
ン、トリベンジルホスフインなどのホスフイン;
トリエチルホスフアイト、トリn−ブチルホスフ
アイト、ジエチルヘキシルホスフアイト、トリイ
ソデシルホスフアイト、トリセチルホスフアイ
ト、トリシクロヘキシルホスフアイト、トリフエ
ニルホスフアイト、トリベンジルホスフアイトな
どの亜リン酸エステルなどである。これら3価の
有機リン化合物は三重結合を有する化合物に対し
て約0.1〜0.00001重量%、好ましくは0.05〜
0.0001重量%の触媒量の使用で充分本発明の目的
を達成することができる。 またパラジウム系触媒としては従来部分水素添
加反応に用いられているパラジウム系触媒がその
まま使用できる。例えば、パラジウム−炭酸カル
シウム、パラジウム−炭酸バリウム、パラジウム
−活性炭などの担体付触媒;塩化パラジウムなど
のパラジウム塩;又はリンドラー触媒などの鉛、
錫、亜鉛、ビスマス、銅などの金属で被毒された
担体付パラジウム触媒が好ましく使用される。こ
れらパラジウム系触媒の使用量は三重結合を有す
る化合物に対し約0.001〜20重量%、好ましくは
0.005〜1重量%である。 本発明は特に三重結合を有するヒドロキシル化
合物に好ましく適用される。これらの化合物を例
示すると、フエニルアセチレン、2−メチル−3
−ブチン−2−オール、2−フエニル−3−ブチ
ン−2−オール、3−メチル−1−ペンチン−3
−オール、3−エチル−1−ペンチル−3−オー
ル、3−ヘキシン−1−オール、3,5−ジメチ
ル−1−ヘキシン−3−オール、デヒドロリナロ
ール(3,7−ジメチル−6−オクテン−1−イ
ン−3−オール)、1,6−ジヒドロキシル−3,
7ージメチル−9−(2,6,6−トリメチルシ
クロヘキセン−1−イル)−2,7−ノナジエン
−−4−イン、1−メトキシ−3,7−ジメチル
−6−ヒドロキシル−9−(2,6,6−トリメ
チルシクロヘキセン−1−イル)−2,7−ノナ
ジエン−4−イン、1−メトキシ−3,7−ジメ
チル−7−ヒドロキシル−9−(2,6,6−ト
リメチルシクロヘキセン−1−イル)−2,8−
ノナジエン−4−イン、デヒドロネロリドール
(3,7,11−トリメチル−6,10−ドデカジエ
ン−1−イン−3−オール)、3,7,11−トリ
メチル−1−ドデカイン−3−オール、デヒドロ
イソフイトール(3,7,11,15−テトラメチル
−1−ヘキサデカイン−3−オール)などであ
る。特に本発明はデヒドロリナロール、デヒドロ
ネロリドール又はデヒドロイソフイトールを部分
水素添加して対応するリナロール、ネロリドー
ル、イソフイトールを製造する場合に好ましく適
用される。 本発明の方法は溶媒の存在下又は不存在下に室
温で、加温下に又は冷却下において、大気圧下に
又は加圧下に行なうことができる。なお、本発明
方法は水素雰囲気中の減圧下においても適用でき
るが、外部からの空気の流入などの危険を伴なう
ものであるから、通常はその適用をよしとしな
い。溶媒としてはベンゼンなどの芳香族炭化水
素、n−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、ジクロ
ルメタンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系化合物、アセトンなど
のケトン化合物などが用いられるが、一般には原
料である三重結合を有する化合物をよく溶解する
ものが適当である。 以下に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 デヒドロリナロール93.6g、n−ヘキサン100
ml、鉛で被毒した5%パラジウム−炭酸カルシウ
ム(日本エンゲハルト社製)0.023g及びトリフ
エニルホスフイン0.047gを内容積300mlの電磁式
撹拌装置付オートクレーブに仕込み、反応温度40
℃、水素圧4.0Kg/cm2で3時間撹拌した。反応終
了液のG,L,C、の分析によると、デヒドロリ
ナロールは検出されず、生成物としてリナロール
が98%、ジヒドロリナロールが2%の割合で得ら
れた。 実施例 2 デヒドロイソフイトール60g、n−ヘキサン
100ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウ
ム触媒0.06g及びトリフエニルホスフイン0.012
gを実施例1におけると同一の反応装置に仕込
み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で4時間30
分撹拌した。反応終了液を実施例1と同様にして
分析すると、デヒドロイソフイトールは検出され
ず、生成物としてイソフイトールが97.8%、ジヒ
ドロイソフイトールが2.2%の割合で得られた。 実施例 3〜6 デヒドロリナロール93.6g、n−ヘキサン100
ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウム触
媒0.023g及び表1に記した有機リン化合物9.36
mgを実施例1におけると同一の反応装置に仕込
み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で表1に記
した時間撹拌した。反応終了液を実施例1と同様
にして分析すると、デヒドロリナロールの転化率
及び生成物であるリナロールとジヒドロリナロー
ルの割合は表1のとおりであつた。
詳しくは三重結合を有する化合物にパラジウム系
触媒及び3価の有機リン化合物の存在下水素添加
し、三重結合を選択的に二重結合にすることを特
徴とする三重結合の部分水素添加方法に関する。 三重結合の部分水素添加は有機合成中間体、医
薬、合成香料などの製造における重要な反応であ
り、古くから研究がなされ、その反応に用いる触
媒として鉛で被毒されたパラジウム−炭酸カルシ
ウム、すなわちリンドラー触媒は特に著名である
〔エイチ・リンドラー、ヘルベチカ・キミカ・ア
クタ第35巻、第446〜450頁(1952年)参照〕。ま
たこの反応において反応抑制剤としてキノリン、
ヘキサメチレンテトラミン、メラミン、低級アミ
ン、液体アンモニアなどを触媒と併用することも
効果ありとされていた。この場合、反応抑制剤は
三重結合を有する化合物に対して約10重量%以上
の希釈剤もしくは溶剤的な使用量が必要とされて
いる〔特公昭35−12762号公報、特公昭36−23317
号公報及び特公昭40−18284号公報参照〕。 本発明者は各種の三重結合を有する化合物の部
分水素添加について研究を行なつたが、リンドラ
一触媒をはじめとするパラジウム系触媒と上記公
知の反応抑制剤とを併用して部分水素添加を行な
つた場合、常に未反応の三重結合を有する化合物
及び過度に水素添加が進んだ飽和化合物が反応生
成物中にみられ、充分満足すべき結果は得られな
かつた。そこで三重結合の部分水素添加反応に有
効に使用できる触媒及び反応抑制剤などの添加剤
を求めて広範囲な研究を行なつた結果、パラジウ
ム系触媒と3価の有機リン化合物とを組合わせ使
用した場合に、未反応の三重結合がほとんど残存
せずしかも部分水素添加により生じた二重結合が
さらに水素添加されることはほとんどなく極めて
選択的に三重結合が水素添加されて二重結合にな
ること、しかもその3価の有機リン化合物は従来
の反応抑制剤の使用量に比べ1/100以下の触媒量
で有効であることを見出し、本発明を完成するに
至つた。 本発明に用いられる3価の有機リン化合物は、
好ましくはトリn−ブチルホスフイン、トリシク
ロヘキシルホスフイン、トリフエニルホスフイ
ン、トリベンジルホスフインなどのホスフイン;
トリエチルホスフアイト、トリn−ブチルホスフ
アイト、ジエチルヘキシルホスフアイト、トリイ
ソデシルホスフアイト、トリセチルホスフアイ
ト、トリシクロヘキシルホスフアイト、トリフエ
ニルホスフアイト、トリベンジルホスフアイトな
どの亜リン酸エステルなどである。これら3価の
有機リン化合物は三重結合を有する化合物に対し
て約0.1〜0.00001重量%、好ましくは0.05〜
0.0001重量%の触媒量の使用で充分本発明の目的
を達成することができる。 またパラジウム系触媒としては従来部分水素添
加反応に用いられているパラジウム系触媒がその
まま使用できる。例えば、パラジウム−炭酸カル
シウム、パラジウム−炭酸バリウム、パラジウム
−活性炭などの担体付触媒;塩化パラジウムなど
のパラジウム塩;又はリンドラー触媒などの鉛、
錫、亜鉛、ビスマス、銅などの金属で被毒された
担体付パラジウム触媒が好ましく使用される。こ
れらパラジウム系触媒の使用量は三重結合を有す
る化合物に対し約0.001〜20重量%、好ましくは
0.005〜1重量%である。 本発明は特に三重結合を有するヒドロキシル化
合物に好ましく適用される。これらの化合物を例
示すると、フエニルアセチレン、2−メチル−3
−ブチン−2−オール、2−フエニル−3−ブチ
ン−2−オール、3−メチル−1−ペンチン−3
−オール、3−エチル−1−ペンチル−3−オー
ル、3−ヘキシン−1−オール、3,5−ジメチ
ル−1−ヘキシン−3−オール、デヒドロリナロ
ール(3,7−ジメチル−6−オクテン−1−イ
ン−3−オール)、1,6−ジヒドロキシル−3,
7ージメチル−9−(2,6,6−トリメチルシ
クロヘキセン−1−イル)−2,7−ノナジエン
−−4−イン、1−メトキシ−3,7−ジメチル
−6−ヒドロキシル−9−(2,6,6−トリメ
チルシクロヘキセン−1−イル)−2,7−ノナ
ジエン−4−イン、1−メトキシ−3,7−ジメ
チル−7−ヒドロキシル−9−(2,6,6−ト
リメチルシクロヘキセン−1−イル)−2,8−
ノナジエン−4−イン、デヒドロネロリドール
(3,7,11−トリメチル−6,10−ドデカジエ
ン−1−イン−3−オール)、3,7,11−トリ
メチル−1−ドデカイン−3−オール、デヒドロ
イソフイトール(3,7,11,15−テトラメチル
−1−ヘキサデカイン−3−オール)などであ
る。特に本発明はデヒドロリナロール、デヒドロ
ネロリドール又はデヒドロイソフイトールを部分
水素添加して対応するリナロール、ネロリドー
ル、イソフイトールを製造する場合に好ましく適
用される。 本発明の方法は溶媒の存在下又は不存在下に室
温で、加温下に又は冷却下において、大気圧下に
又は加圧下に行なうことができる。なお、本発明
方法は水素雰囲気中の減圧下においても適用でき
るが、外部からの空気の流入などの危険を伴なう
ものであるから、通常はその適用をよしとしな
い。溶媒としてはベンゼンなどの芳香族炭化水
素、n−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、ジクロ
ルメタンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系化合物、アセトンなど
のケトン化合物などが用いられるが、一般には原
料である三重結合を有する化合物をよく溶解する
ものが適当である。 以下に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 デヒドロリナロール93.6g、n−ヘキサン100
ml、鉛で被毒した5%パラジウム−炭酸カルシウ
ム(日本エンゲハルト社製)0.023g及びトリフ
エニルホスフイン0.047gを内容積300mlの電磁式
撹拌装置付オートクレーブに仕込み、反応温度40
℃、水素圧4.0Kg/cm2で3時間撹拌した。反応終
了液のG,L,C、の分析によると、デヒドロリ
ナロールは検出されず、生成物としてリナロール
が98%、ジヒドロリナロールが2%の割合で得ら
れた。 実施例 2 デヒドロイソフイトール60g、n−ヘキサン
100ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウ
ム触媒0.06g及びトリフエニルホスフイン0.012
gを実施例1におけると同一の反応装置に仕込
み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で4時間30
分撹拌した。反応終了液を実施例1と同様にして
分析すると、デヒドロイソフイトールは検出され
ず、生成物としてイソフイトールが97.8%、ジヒ
ドロイソフイトールが2.2%の割合で得られた。 実施例 3〜6 デヒドロリナロール93.6g、n−ヘキサン100
ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウム触
媒0.023g及び表1に記した有機リン化合物9.36
mgを実施例1におけると同一の反応装置に仕込
み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で表1に記
した時間撹拌した。反応終了液を実施例1と同様
にして分析すると、デヒドロリナロールの転化率
及び生成物であるリナロールとジヒドロリナロー
ルの割合は表1のとおりであつた。
【表】
実施例 7
デヒドロネロリドール127.89g、n−ヘキサン
120ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウ
ム触媒0.064g及びトリフエニルホスフアイト
0.0088gを実施例1におけると同一の反応装置に
仕込み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で4.25
時間撹拌した。反応終了液を実施例1と同様にし
て分析すると、デヒドロネロリドールの転化率は
99.59%であり、生成物としてネロリドールが
98.39%、ジヒドロネロリドールが1.61%の割合
で得られた。
120ml、実施例1で使用したのと同一のパラジウ
ム触媒0.064g及びトリフエニルホスフアイト
0.0088gを実施例1におけると同一の反応装置に
仕込み、反応温度40℃、水素圧4.0Kg/cm2で4.25
時間撹拌した。反応終了液を実施例1と同様にし
て分析すると、デヒドロネロリドールの転化率は
99.59%であり、生成物としてネロリドールが
98.39%、ジヒドロネロリドールが1.61%の割合
で得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 三重結合を有する化合物にパラジウム系触媒
及び3価の有機リン化合物の存在下水素添加し、
三重結合を選択的に二重結合にすることを特徴と
する三重結合の部分水素添加方法。 2 3価の有機リン化合物がホスフインである特
許請求の範囲第1項記載の三重結合の部分水素添
加方法。 3 ホスフインがトリn−ブチルホスフイン、ト
リシクロヘキシルホスフイン、トリフエニルホス
フイン又はトリベンジルホスフインである特許請
求の範囲第2項記載の三重結合の部分水素添加方
法。 4 3価の有機リン化合物が亜リン酸エステルで
ある特許請求の範囲第1項記載の三重結合の部分
水素添加方法。 5 亜リン酸エステルがトリエチルホスフアイ
ト、トリn−ブチルホスフアイト、ジエチルヘキ
シルホスフアイト、トリイソデシルホスフアイ
ト、トリセチルホスフアイト、トリシクロヘキシ
ルホスフアイト、トリフエニルホスフアイト又は
トリベンジルホスフアイトである特許請求の範囲
第4項記載の三重結合の部分水素添加方法。 6 三重結合を有する化合物がデヒドロリナロー
ルである特許請求の範囲第1〜5項記載の三重結
合の部分水素添加方法。 7 三重結合を有する化合物がデヒドロネロリド
ールである特許請求の範囲第1〜5項記載の三重
結合の部分水素添加方法。 8 三重結合を有する化合物がデヒドロイソフイ
トールである特許請求の範囲第1〜5項記載の三
重結合の部分水素添加方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57189578A JPS5978126A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 三重結合の部分水素添加方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57189578A JPS5978126A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 三重結合の部分水素添加方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978126A JPS5978126A (ja) | 1984-05-04 |
| JPH0316928B2 true JPH0316928B2 (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=16243671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57189578A Granted JPS5978126A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 三重結合の部分水素添加方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978126A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62149635A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-03 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法 |
| GB8808831D0 (en) * | 1988-04-14 | 1988-05-18 | Shell Int Research | Process for preparation of alkanediols |
| KR102159414B1 (ko) * | 2012-06-22 | 2020-09-24 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 새로운 촉매시스템 |
| EP3976570A1 (en) * | 2019-05-27 | 2022-04-06 | DSM IP Assets B.V. | Selective hydrogenation of alkynes to alkenes in the presence of a phosphorus compound and an organic sulphur compound |
-
1982
- 1982-10-27 JP JP57189578A patent/JPS5978126A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5978126A (ja) | 1984-05-04 |
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