JPH03176809A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録媒体に関し、さらに詳しく言うと、電
磁変換特性に優れるとともに、走行性、耐久性か良好で
あり、しかも製造工程中やデツキ内走行時に支持体面の
削れかなく、また製造工程中の搬送トラブルか起こりに
くい磁気記録媒体に関する。
磁変換特性に優れるとともに、走行性、耐久性か良好で
あり、しかも製造工程中やデツキ内走行時に支持体面の
削れかなく、また製造工程中の搬送トラブルか起こりに
くい磁気記録媒体に関する。
[従来の技術と発明が解決しようとする課題]ビデオテ
ープ、オーディオテープ等の磁気記録媒体においては、
電磁変換特性、走行性および耐久性のいずれにも優れる
ことか要求される。
ープ、オーディオテープ等の磁気記録媒体においては、
電磁変換特性、走行性および耐久性のいずれにも優れる
ことか要求される。
そして、この要求を満たすべ〈従来より種々の試みかな
されている。
されている。
たとえば、電磁変換特性、走行性および耐久性を共に向
上させることを目的として、支持体の磁性層形成面の表
面粗さRa (M)を0.03ルm以下とし、磁性層形
成面とは反対側の面の表面粗さRa (B)を0.02
〜0.1 p、mとするとともに、支持体の磁性層形成
面の表面粗さR,(M)と磁性層形成面とは反対側の面
表面粗さR,(B)とが、常に、 Ra (M)<R,(B) なる関係を満たす磁気記録媒体か提案されている(特開
昭60−93626号公報参照)。
上させることを目的として、支持体の磁性層形成面の表
面粗さRa (M)を0.03ルm以下とし、磁性層形
成面とは反対側の面の表面粗さRa (B)を0.02
〜0.1 p、mとするとともに、支持体の磁性層形成
面の表面粗さR,(M)と磁性層形成面とは反対側の面
表面粗さR,(B)とが、常に、 Ra (M)<R,(B) なる関係を満たす磁気記録媒体か提案されている(特開
昭60−93626号公報参照)。
しかしながら、支持体の表面にウネリかあると磁性層に
ウネリか生じて電磁変換特性が低下し、また支持体の磁
性層形成面とは反対側の面に高い突起を設けることによ
って磁性層形成面とは反対側の面を粗くすると、磁気記
録媒体の巻き取り時に、突起が磁性層表面に転写して磁
性表面を粗らしたり、あるいは製造工程内を搬送中に高
い突起部分か削られてしまうことに伴ないドロップアウ
トを招く原因となったり、さらにはデツキ内走行中に高
い突起部分が削り取られてこの部分に含まれているフィ
ラーか支持体表面を傷つけノイズの原因となったりする
等の様々な理由により、支持体の磁性層側表面粗さを単
に小さくしても電磁変換特性か向上するとは限らない。
ウネリか生じて電磁変換特性が低下し、また支持体の磁
性層形成面とは反対側の面に高い突起を設けることによ
って磁性層形成面とは反対側の面を粗くすると、磁気記
録媒体の巻き取り時に、突起が磁性層表面に転写して磁
性表面を粗らしたり、あるいは製造工程内を搬送中に高
い突起部分か削られてしまうことに伴ないドロップアウ
トを招く原因となったり、さらにはデツキ内走行中に高
い突起部分が削り取られてこの部分に含まれているフィ
ラーか支持体表面を傷つけノイズの原因となったりする
等の様々な理由により、支持体の磁性層側表面粗さを単
に小さくしても電磁変換特性か向上するとは限らない。
また、電磁変換特性の向上を図る目的て、前記とは逆に
、支持体の磁性層形成面の表面粗さを磁性層形成面とは
反対側の面の表面粗さよりも大きくしてなる磁気記録媒
体も提案されている(特開昭57−150130号公報
参照)、。
、支持体の磁性層形成面の表面粗さを磁性層形成面とは
反対側の面の表面粗さよりも大きくしてなる磁気記録媒
体も提案されている(特開昭57−150130号公報
参照)、。
しかしながら、支持体の磁性層形成面とは反対側の面を
極めて平滑にすると、磁性層の塗設工程やカレンター工
程において蛇行したりハリツキを起したりする等して搬
送トラブルを招きやすい。
極めて平滑にすると、磁性層の塗設工程やカレンター工
程において蛇行したりハリツキを起したりする等して搬
送トラブルを招きやすい。
本発明は、前記の事情に基いてなされたものである。
すなわち、本発明の目的は、電磁変換特性に優れるとと
もに、走行性、耐久性が良好であり、しかも製造工程中
やデツキ内走行時に支持体面の削れかなく、また製造工
程中の搬送トラブルが起こりにくい磁気記録媒体を提供
することにある。
もに、走行性、耐久性が良好であり、しかも製造工程中
やデツキ内走行時に支持体面の削れかなく、また製造工
程中の搬送トラブルが起こりにくい磁気記録媒体を提供
することにある。
[前記課題を解決するための手段]
前記課題を解決するための本発明の構成は、非磁性支持
体上に磁性層を有する磁気記録媒体において、前記非磁
性支持体は基材の表裏両面にそれぞれフィルムを積層し
てなり、前記磁性層の表面ウネリ(A)、前記非磁性支
持体における前記基材および前記フィルムの界面ウネリ
(B)、および前記非磁性支持体における前記フィルム
の前記基材とは反対側の面の平均突起高さ(H)が、そ
れぞれ以下の関係、 (A)≦0.022 μm (B)≦0.020 μm 0.01 g m ≦(H)≦0.25μmを満たす
とともに、前記各フィルムの前記基材とは反対側の面に
おける高さがO,O1pLm以上である突起の個数が測
定長1mm当り200個以上であり、前記各フィルムの
前記基材とは反対側の面における高さが0.30 p、
m以上である突起の個数が測定長400mm当り50
0個以下であり、前記非磁性支持体の磁性層形成面とは
反対側の面を形成する前記フィルムの前記基材とは反対
側の面における(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の
比が10以下であることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
体上に磁性層を有する磁気記録媒体において、前記非磁
性支持体は基材の表裏両面にそれぞれフィルムを積層し
てなり、前記磁性層の表面ウネリ(A)、前記非磁性支
持体における前記基材および前記フィルムの界面ウネリ
(B)、および前記非磁性支持体における前記フィルム
の前記基材とは反対側の面の平均突起高さ(H)が、そ
れぞれ以下の関係、 (A)≦0.022 μm (B)≦0.020 μm 0.01 g m ≦(H)≦0.25μmを満たす
とともに、前記各フィルムの前記基材とは反対側の面に
おける高さがO,O1pLm以上である突起の個数が測
定長1mm当り200個以上であり、前記各フィルムの
前記基材とは反対側の面における高さが0.30 p、
m以上である突起の個数が測定長400mm当り50
0個以下であり、前記非磁性支持体の磁性層形成面とは
反対側の面を形成する前記フィルムの前記基材とは反対
側の面における(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の
比が10以下であることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
本発明の磁気記録媒体は、たとえば第1図に示すように
、非磁性支持体1と磁性層2とを有し、非磁性支持体l
は、たとえば第2図に示すように、基材3の表面および
裏面にそれぞれフィルム4a、フィルム4bを積層して
なる。
、非磁性支持体1と磁性層2とを有し、非磁性支持体l
は、たとえば第2図に示すように、基材3の表面および
裏面にそれぞれフィルム4a、フィルム4bを積層して
なる。
以下に本発明の磁気記録媒体についてさらに詳しく説明
する。
する。
非磁性支持体−
たとえば第2図に示すように、非磁性支持体1は、基材
3と、それぞれが突起5を有するフィルム4aおよびフ
ィルム4bを積層してなる。
3と、それぞれが突起5を有するフィルム4aおよびフ
ィルム4bを積層してなる。
本発明においては、非磁性支持体における前記基材およ
び前記フィルムの界面ウネリ(B)が、(B)≦0.0
20 p、 m なる関係を満たずとともに、前記各フィルムの前記基材
とは反対側の面の平均突起高さ(H)が、0.011L
m ≦(H)≦0.25μmなる関係を満たさなけれ
ばならない。
び前記フィルムの界面ウネリ(B)が、(B)≦0.0
20 p、 m なる関係を満たずとともに、前記各フィルムの前記基材
とは反対側の面の平均突起高さ(H)が、0.011L
m ≦(H)≦0.25μmなる関係を満たさなけれ
ばならない。
非磁性支持体における前記基材および前記フィルムの界
面ウネリ(B)を0.020 μm以下、好ましくは0
.048pLm以下、さらに好ましくは0.0]、5
p、m以下とすることにより、磁性層の表面ウネリ(A
)を小さくして電磁変換特性(特にクロマS/N)の向
」二を図るととかてきる。
面ウネリ(B)を0.020 μm以下、好ましくは0
.048pLm以下、さらに好ましくは0.0]、5
p、m以下とすることにより、磁性層の表面ウネリ(A
)を小さくして電磁変換特性(特にクロマS/N)の向
」二を図るととかてきる。
非磁性支持体における前記基材および前記各フィルムの
界面ウネリ(B)を0.020 g m以下にするため
には、たとえば、前記各フィルム中に、平均粒径が0.
27tm以下、好ましくは0.01〜1ルmである充填
材粒子を、2重量%以下、好ましくは0.01〜1.0
重量%を含有させれば良い。
界面ウネリ(B)を0.020 g m以下にするため
には、たとえば、前記各フィルム中に、平均粒径が0.
27tm以下、好ましくは0.01〜1ルmである充填
材粒子を、2重量%以下、好ましくは0.01〜1.0
重量%を含有させれば良い。
前記各フィルムの前記基材とは反対側の面(以下、これ
をフィルム表面と称することがある。)、特に非磁性支
持体の磁性層形成面とは反対側の面(以下、これを面■
と称することがある。)の前記フィルム表面の平均突起
高さ(H)を0.01 g m以上とすることにより、
たとえば磁性塗料の塗布工程やカレンダー工程における
蛇行やハリツキの発生を防止して走行性の向上を図るこ
とかてきるとともに、耐久性の向上を図ることかてきる
し、特に非磁性支持体の磁性層形成面(以下、これを面
■と称することがある。)の前記フィルム表面の平均突
起高さ(H)を0.01 g m以上とすることにより
、摺動ノイズの低減を図ることかてきるとともに、たと
えば磁性塗料の塗布工程やカレンダー工程におけるウェ
ブの蛇行を防止して搬送性の向上を図ることかてきる。
をフィルム表面と称することがある。)、特に非磁性支
持体の磁性層形成面とは反対側の面(以下、これを面■
と称することがある。)の前記フィルム表面の平均突起
高さ(H)を0.01 g m以上とすることにより、
たとえば磁性塗料の塗布工程やカレンダー工程における
蛇行やハリツキの発生を防止して走行性の向上を図るこ
とかてきるとともに、耐久性の向上を図ることかてきる
し、特に非磁性支持体の磁性層形成面(以下、これを面
■と称することがある。)の前記フィルム表面の平均突
起高さ(H)を0.01 g m以上とすることにより
、摺動ノイズの低減を図ることかてきるとともに、たと
えば磁性塗料の塗布工程やカレンダー工程におけるウェ
ブの蛇行を防止して搬送性の向上を図ることかてきる。
一方、前記各フィルム表面の平均突起高さ()(>を0
.20Ji、m以下とすることにより、磁性層の表面ウ
ネリ(A)を小さくして電磁変換特性の向上を図ること
がてきる。すなわち、前記各フィルム表面の平均突起高
さ(H)か0.20μmを超えると、結果的に磁性層の
表面ウネリ(A)が大きくなるのて、電磁変換特性の低
下を招くことになる。
.20Ji、m以下とすることにより、磁性層の表面ウ
ネリ(A)を小さくして電磁変換特性の向上を図ること
がてきる。すなわち、前記各フィルム表面の平均突起高
さ(H)か0.20μmを超えると、結果的に磁性層の
表面ウネリ(A)が大きくなるのて、電磁変換特性の低
下を招くことになる。
さらに本発明における非磁性支持体においては、前記各
フィルム表面における高さが0.01 μm以上である
突起の個数か測定長1mm当り200個以上、好ましく
は200個以上2000個以下であり、また前記各フィ
ルム表面における高さが0.30μm以上である突起の
個数が測定長400mm当り500個以下、好ましくは
100個以下であり、非磁性支持体の磁性層形成面とは
反対側の面を形成する前記フィルム表面における(最大
突起高さ)/(平均突起高さ)の比が10以下、好まし
くは5以下であることか必要である。
フィルム表面における高さが0.01 μm以上である
突起の個数か測定長1mm当り200個以上、好ましく
は200個以上2000個以下であり、また前記各フィ
ルム表面における高さが0.30μm以上である突起の
個数が測定長400mm当り500個以下、好ましくは
100個以下であり、非磁性支持体の磁性層形成面とは
反対側の面を形成する前記フィルム表面における(最大
突起高さ)/(平均突起高さ)の比が10以下、好まし
くは5以下であることか必要である。
本発明においては、非磁性支持体の面■を形成する前記
フィルム表面における高さが0.01 μm以上である
突起の個数を、測定長1mm当り200個以上、好まし
くは200個以上2000個以下とすることにより、摺
動ノイズか低く、また搬送性および走行性に優れた磁気
記録媒体を提供することがてきるし、非磁性支持体の面
■を形成する前記フィルム表面における高さが0.01
μm以」二である突起の個数を、測定長1mm当り2
00個以1−1好ましくは200個以上2000個以下
とすることにより、走行性に優れるとともに、たとえば
磁気記録媒体の巻取時に非磁性支持体の磁性層形成面と
は反対側の面にキズのつきにくい磁気記録媒体を提供す
ることかてきる。
フィルム表面における高さが0.01 μm以上である
突起の個数を、測定長1mm当り200個以上、好まし
くは200個以上2000個以下とすることにより、摺
動ノイズか低く、また搬送性および走行性に優れた磁気
記録媒体を提供することがてきるし、非磁性支持体の面
■を形成する前記フィルム表面における高さが0.01
μm以」二である突起の個数を、測定長1mm当り2
00個以1−1好ましくは200個以上2000個以下
とすることにより、走行性に優れるとともに、たとえば
磁気記録媒体の巻取時に非磁性支持体の磁性層形成面と
は反対側の面にキズのつきにくい磁気記録媒体を提供す
ることかてきる。
また、前記各フィルム表面における高さが0.30μm
以上である突起の個数を測定長400mm当り500個
以下、好ましくは100個以下とすることにより、磁性
層の表面ウネリ(A)を小さくして電磁変換特性の向上
を図ることかできる。
以上である突起の個数を測定長400mm当り500個
以下、好ましくは100個以下とすることにより、磁性
層の表面ウネリ(A)を小さくして電磁変換特性の向上
を図ることかできる。
さらに、前記面Iを形成する前記フィルム表面における
(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の比をlO以下、
好ましくは7以下とすることにより、磁性層の表面ウネ
リ(A)か増大するのを防止して電磁変換特性の向上を
図ることがてきるとともに、たとえば磁気記録媒体の巻
取時に非磁性支持体の磁性層形成面とは反対側の面にキ
ズかつきにくく、しかも磁性塗料の塗布工程やカレンタ
ー工程において、突起か削れにくくてドロップアウトの
発生しにくい磁気記録媒体を提供することかてきる。
(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の比をlO以下、
好ましくは7以下とすることにより、磁性層の表面ウネ
リ(A)か増大するのを防止して電磁変換特性の向上を
図ることがてきるとともに、たとえば磁気記録媒体の巻
取時に非磁性支持体の磁性層形成面とは反対側の面にキ
ズかつきにくく、しかも磁性塗料の塗布工程やカレンタ
ー工程において、突起か削れにくくてドロップアウトの
発生しにくい磁気記録媒体を提供することかてきる。
前記各フィルム表面における前記の突起は、たとえば、
前記各フィルムに、平均粒径が0.05〜2pLm、好
ましくは0.05〜Iμmの範囲でその粒径かてきるだ
け均一であるとともにてきるたけ球状に近い形状の粒子
を0.1〜lO重量%、好ましくは0.1〜5重量%の
割合で含有させ、かつ前記各フィルムの平均膜厚を0.
01〜Iμm、好ましくは0.01〜0.5μmの範囲
にすればよい。ここて、この突起を有する層は、前記の
粒子がポリマーてくるまれていれば、必ずしも膜を形成
するものである必要はなく、たとえば網目状てあっても
良い。
前記各フィルムに、平均粒径が0.05〜2pLm、好
ましくは0.05〜Iμmの範囲でその粒径かてきるだ
け均一であるとともにてきるたけ球状に近い形状の粒子
を0.1〜lO重量%、好ましくは0.1〜5重量%の
割合で含有させ、かつ前記各フィルムの平均膜厚を0.
01〜Iμm、好ましくは0.01〜0.5μmの範囲
にすればよい。ここて、この突起を有する層は、前記の
粒子がポリマーてくるまれていれば、必ずしも膜を形成
するものである必要はなく、たとえば網目状てあっても
良い。
このような特長を有する非磁性支持体において、基材の
形成材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
トおよびポリエチレン2.6−ナフタレート等のポリエ
ステル類:ポリプロピレン等のポリオレフィン類;セル
ローストリアセテートおよびセルロースダイアセテート
等のセルロース誘導体;ならびにポリカーボネート、芳
香族ポリアミド、ポリイミドなどのプラスチックを挙げ
ることかてきる。ざらにCu、 AM、1 Znなどの金属、ガラス、いわゆるニューセラミック(
例えば窒化ホウ素、炭化ケイ素等)等の各種セラミック
なども使用することができる。
形成材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
トおよびポリエチレン2.6−ナフタレート等のポリエ
ステル類:ポリプロピレン等のポリオレフィン類;セル
ローストリアセテートおよびセルロースダイアセテート
等のセルロース誘導体;ならびにポリカーボネート、芳
香族ポリアミド、ポリイミドなどのプラスチックを挙げ
ることかてきる。ざらにCu、 AM、1 Znなどの金属、ガラス、いわゆるニューセラミック(
例えば窒化ホウ素、炭化ケイ素等)等の各種セラミック
なども使用することができる。
前記基材の厚みは、通常、3〜150 p、m、好まし
くは4〜100ルmである。
くは4〜100ルmである。
また、前記フィルムの形成材料としては、たとえばポリ
エチレンテレフタレートおよびポリエチレン−2,6−
ナフタレート等のポリエステル類;ポリプロピレン等の
ポリオレフィン類:セルローストリアセテートおよびセ
ルロースダイアセテート等のセルロース誘導体;ならび
にポリカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリイミドな
どのプラスチックを挙げることかてきる。
エチレンテレフタレートおよびポリエチレン−2,6−
ナフタレート等のポリエステル類;ポリプロピレン等の
ポリオレフィン類:セルローストリアセテートおよびセ
ルロースダイアセテート等のセルロース誘導体;ならび
にポリカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリイミドな
どのプラスチックを挙げることかてきる。
なお、本発明において、前記基材および/または前記フ
ィルムは、たとえばカーボンブラック等の遮光材を含有
していても良い。前記基材および/または前記フィルム
か遮光材を含有していると、電磁変換特性の向上を図る
ことかてきる。このような遮光材の含有率は、通常、0
.1〜5重量%である。
ィルムは、たとえばカーボンブラック等の遮光材を含有
していても良い。前記基材および/または前記フィルム
か遮光材を含有していると、電磁変換特性の向上を図る
ことかてきる。このような遮光材の含有率は、通常、0
.1〜5重量%である。
2
非磁性支持体は、前記基材と前記フィルムとを、たとえ
ば、前記基材の形成材料かプラスチッつてあれば、共押
し出しにより、また前記基材の形成材料か金属、セラミ
ツつてあれば、前記基材上に前記フィルムの原料を塗布
して積層することにより製造することができる。
ば、前記基材の形成材料かプラスチッつてあれば、共押
し出しにより、また前記基材の形成材料か金属、セラミ
ツつてあれば、前記基材上に前記フィルムの原料を塗布
して積層することにより製造することができる。
非磁性支持体の形態については、基材と各磁性層形成面
の表面ウネリが前記の範囲にあるとともに磁性層形成面
とは反対側の面に前述の突起を有していれば特に制限は
なく、テープ状、シート状、カート状、ディスク状、ド
ラム状等いずれてあってもよい。
の表面ウネリが前記の範囲にあるとともに磁性層形成面
とは反対側の面に前述の突起を有していれば特に制限は
なく、テープ状、シート状、カート状、ディスク状、ド
ラム状等いずれてあってもよい。
非磁性支持体の厚みはテープ状あるいはシート状の場合
には、通常、4〜150ILm、好ましくは5〜110
0ILである。また、ディスク状、カート状の場合には
、通常、30〜1100pである。さらにドラム状の場
合には円筒状とする等、使用するレコーダーに対応させ
た形態とすることかできる。
には、通常、4〜150ILm、好ましくは5〜110
0ILである。また、ディスク状、カート状の場合には
、通常、30〜1100pである。さらにドラム状の場
合には円筒状とする等、使用するレコーダーに対応させ
た形態とすることかできる。
非磁性支持体における磁性層形成面とは反対側の面には
、磁気記録媒体の走行性の向上、帯電防止および転写防
止などを目的として、所望によりバックコート層を設け
てもよい。たたし、本発明においては、バックコート層
を設けなくても良好な電磁変換特性、走行性および耐久
性か得られるのて、通常はバックコート層を設ける必要
はない。
、磁気記録媒体の走行性の向上、帯電防止および転写防
止などを目的として、所望によりバックコート層を設け
てもよい。たたし、本発明においては、バックコート層
を設けなくても良好な電磁変換特性、走行性および耐久
性か得られるのて、通常はバックコート層を設ける必要
はない。
また、非磁性支持体における前記磁性層形成面には、磁
性層と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、
中間層(例えば接着剤層)を設けることもてきる。
性層と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、
中間層(例えば接着剤層)を設けることもてきる。
一一磁性層
前記非磁性支持体上に、直接にあるいは適当な中間層を
介して形成される磁性層は、強磁性粉末を結合剤中に分
散して形成される。
介して形成される磁性層は、強磁性粉末を結合剤中に分
散して形成される。
そして、本発明においては、磁性層の表面ウネリ(A)
が0.022 g m以下、好ましくは0.020μm
以下、さらに好ましくは0.01.8 μm以下である
ことか必要である。
が0.022 g m以下、好ましくは0.020μm
以下、さらに好ましくは0.01.8 μm以下である
ことか必要である。
磁性層の表面ウネリ(A)を0.022 μm以下にす
ることにより、電磁変換特性(特にクロマS/N)の向
上を図ることかてきる。
ることにより、電磁変換特性(特にクロマS/N)の向
上を図ることかてきる。
磁性層の表面ウネリ(A)を0.022 p、、 m以
下にするためには、たとえば、磁性層を形成する磁性塗
料を前記非磁性支持体上に塗布した後、たとえばスーパ
ーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処理を行な
ったり、粒径の小さい強磁性粉末を用いたりすれば良い
。また、たとえば、前記結合剤に官能基を有する樹脂を
用いたり、加圧ニダー等の剪断力の高い装置を使用たり
して強磁性粉末の分散性の向上を図ることによっても、
磁性層の表面ウネリ(A)を0.022 g m以下に
することかできる。
下にするためには、たとえば、磁性層を形成する磁性塗
料を前記非磁性支持体上に塗布した後、たとえばスーパ
ーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処理を行な
ったり、粒径の小さい強磁性粉末を用いたりすれば良い
。また、たとえば、前記結合剤に官能基を有する樹脂を
用いたり、加圧ニダー等の剪断力の高い装置を使用たり
して強磁性粉末の分散性の向上を図ることによっても、
磁性層の表面ウネリ(A)を0.022 g m以下に
することかできる。
次いて、磁性層を形成する強磁性粉末および結合剤等に
ついて説明する。
ついて説明する。
一強磁性粉末
前記強磁性粉末としては、たとえばCO含有γFe2O
+粉末、Go含有Fe1O4粉末、CO含有FedX(
4/3 < x < 3/2 )粉末等の酸化鉄磁性粉
;Fe粉5 末、Ni粉末、GO粒粉末FeN粉末、Ba−フェライ
ト粉末、Fe−Ajj合金粉末、Fe−Ni合金粉末、
FeA、u−Ni合金粉末、Fe −1j−P合金粉末
、 FeNi−3i−/lj合金粉末、 Fe−Ni−
3i−AM−Mn合金粉末、N1−Go合金粉末、Fe
−Mn−Zn合金粉末、Fe−Ni−Zn合金粉末、F
e−Go−Ni−Cr合金粉末、Fe−Go−Ni−P
合金粉末、Go−Ni合金粉末およびGo−P合金粉末
等の強磁性合金粉末などが挙げられる。
+粉末、Go含有Fe1O4粉末、CO含有FedX(
4/3 < x < 3/2 )粉末等の酸化鉄磁性粉
;Fe粉5 末、Ni粉末、GO粒粉末FeN粉末、Ba−フェライ
ト粉末、Fe−Ajj合金粉末、Fe−Ni合金粉末、
FeA、u−Ni合金粉末、Fe −1j−P合金粉末
、 FeNi−3i−/lj合金粉末、 Fe−Ni−
3i−AM−Mn合金粉末、N1−Go合金粉末、Fe
−Mn−Zn合金粉末、Fe−Ni−Zn合金粉末、F
e−Go−Ni−Cr合金粉末、Fe−Go−Ni−P
合金粉末、Go−Ni合金粉末およびGo−P合金粉末
等の強磁性合金粉末などが挙げられる。
これらの中ても、好ましいのはCO含有γFe2O,粉
末、Fe粉末、FeN粉末である。
末、Fe粉末、FeN粉末である。
前記強磁性粉末の形状は針状であるのか好ましいが、球
状、楕円体状あるいは板状などの形状てあっても良い。
状、楕円体状あるいは板状などの形状てあっても良い。
前記強磁性粉末の比表面積(BET法による)は、通常
、25m2/g以上、好ましくは30〜80m2/gで
ある。
、25m2/g以上、好ましくは30〜80m2/gで
ある。
前記強磁性粉末の保磁力は、500〜2,000エルス
テツド、好ましくは600〜1..700エルステツド
である。
テツド、好ましくは600〜1..700エルステツド
である。
6
また強磁性粉末の平均長軸長は、通常、0.1〜0.4
ルm、特に0.15〜0.30弘mである。この平均長
軸長が0.1pm未満であると、良好な分散性を得るこ
とが困難になることがある。一方、0.4 用mを超え
ると、電磁変換特性の低下を招くことかある。
ルm、特に0.15〜0.30弘mである。この平均長
軸長が0.1pm未満であると、良好な分散性を得るこ
とが困難になることがある。一方、0.4 用mを超え
ると、電磁変換特性の低下を招くことかある。
一結合剤、その他の成分
前記結合剤(バインダー)としては、−殻内に言うと、
平均分子量が約10,000〜200.000の範囲内
にある樹脂を用いることがてきる。
平均分子量が約10,000〜200.000の範囲内
にある樹脂を用いることがてきる。
具体的には、たとえばウレタンポリマー、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体(例゛セルロースアセテートブチレート、セルロース
ダイアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセ
ルロース等)、スチレンブタジェン共重合体、ポリエス
テル樹脂、各種の合成ゴム系バインダーフェノール樹脂
、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、シリコーン
樹脂、アクリル系反応樹脂、高分子量ポリエステル樹脂
とイソシアネートプレポリマーとの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコールと高分子量ジ
オール化合物との混合物およびこれらの混合物などが挙
げられる。
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体(例゛セルロースアセテートブチレート、セルロース
ダイアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセ
ルロース等)、スチレンブタジェン共重合体、ポリエス
テル樹脂、各種の合成ゴム系バインダーフェノール樹脂
、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、シリコーン
樹脂、アクリル系反応樹脂、高分子量ポリエステル樹脂
とイソシアネートプレポリマーとの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコールと高分子量ジ
オール化合物との混合物およびこれらの混合物などが挙
げられる。
本発明においては、これらの樹脂とともにあるいは単独
で陰性官能基を有する樹脂を好適に用いることもできる
。
で陰性官能基を有する樹脂を好適に用いることもできる
。
この陰性官能基を有する樹脂としては、−3o3M’、
−0302M’ (たたし、式中、Mlは水素原子、アルカリ金属であり
、M2およびM3は、それぞれ水素原子アルカリ金属お
よびアルキル基のいずれかである。またM2とM3とは
、互いに異なっていても良いし、同してあっても良い。
−0302M’ (たたし、式中、Mlは水素原子、アルカリ金属であり
、M2およびM3は、それぞれ水素原子アルカリ金属お
よびアルキル基のいずれかである。またM2とM3とは
、互いに異なっていても良いし、同してあっても良い。
)
などが挙げられる。
前記陰性官能基を有する樹脂は、たとえば、塩化ビニル
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などの樹
脂を変性して、前記陰性官能基を導入することにより得
ることかてきる。
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などの樹
脂を変性して、前記陰性官能基を導入することにより得
ることかてきる。
前記陰性官能基を有する樹脂における陰性官能基量は、
0.01〜10.0m g / gであるのか望ましい
。
0.01〜10.0m g / gであるのか望ましい
。
この陰性官能基量か前記範囲にあると、強磁性粉末の分
散性か向上し、その結果、磁気記録媒体の出力が大きく
なり、走行安定性も向上する。
散性か向上し、その結果、磁気記録媒体の出力が大きく
なり、走行安定性も向上する。
逆に前記範囲を外れると、これらの効果か充分に奏され
ないことかある。
ないことかある。
前記陰性官能基を有する樹脂を用いる場合、その配合量
は、前記強磁性粉末100重量部に対して、通常、2〜
50重量部、好ましくは 5〜40重量部である。
は、前記強磁性粉末100重量部に対して、通常、2〜
50重量部、好ましくは 5〜40重量部である。
この配合割合が2重量部未満であると、前記陰性官能基
を有する樹脂を配合した場合に奏される 9 べき所期の効果か充分に奏されないことかある。
を有する樹脂を配合した場合に奏される 9 べき所期の効果か充分に奏されないことかある。
50重量部より多くすると、摺動ノイズやヘット白濁の
劣化を招くことかある。
劣化を招くことかある。
本発明においては、前記陰性官能基を有する樹脂ととも
にポリイソシアナート系硬化剤を併用することにより、
磁性層の耐久性の向上を図ることもてきる。
にポリイソシアナート系硬化剤を併用することにより、
磁性層の耐久性の向上を図ることもてきる。
このポリイソシアナート系硬化剤としては、たとえばト
リレンジイソシアナート、ジフェニルメタノジイソシア
ナート、ヘキサンジイソシアナート等の2官能インシア
ナー1〜、コロネートしく商品名:日本ポリウレタン工
業■製)、デスモジュールしく商品名;バイエル社製)
等の3官能イソシアナート、または両末端にイソシアナ
ート基を含有するウレタンプレポリマーなどの従来から
硬化剤として使用されているものや、また硬化剤として
使用可能であるポリイソシアナートであるものをいずれ
も使用することかてきる。
リレンジイソシアナート、ジフェニルメタノジイソシア
ナート、ヘキサンジイソシアナート等の2官能インシア
ナー1〜、コロネートしく商品名:日本ポリウレタン工
業■製)、デスモジュールしく商品名;バイエル社製)
等の3官能イソシアナート、または両末端にイソシアナ
ート基を含有するウレタンプレポリマーなどの従来から
硬化剤として使用されているものや、また硬化剤として
使用可能であるポリイソシアナートであるものをいずれ
も使用することかてきる。
前記硬化剤の使用量は、通常、全結合剤量の5〜80重
量部である。
量部である。
0
本発明ては、前記各種の結合剤の外に任意成分である分
散剤として、たとえばレシチン、リン酸エステル、脂肪
酸、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪酸アミ
ド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ
コハク酸、スルホコハク酸エステル、公知の界面活性剤
等およびこれらの塩、陰性有機基(例えば−COOH、
−PO,H)重合体分散剤の塩などを用いることができ
る。
散剤として、たとえばレシチン、リン酸エステル、脂肪
酸、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪酸アミ
ド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ
コハク酸、スルホコハク酸エステル、公知の界面活性剤
等およびこれらの塩、陰性有機基(例えば−COOH、
−PO,H)重合体分散剤の塩などを用いることができ
る。
これらは一種単独で使用しても良いし、二種以上を組み
合せて使用しても良い。
合せて使用しても良い。
また、本発明ては、任意成分である可塑剤として脂肪酸
エステルを用いることかできる。この脂肪酸エステルと
しては、たとえばオレイルオレート、オレイルステアレ
ート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレエート
、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチルミ
リステート、オクチルミリステート、オクチルパルミテ
ート、アミルステアレート、アミルパルミテート、ステ
アリルステアレート、ラウリルオレート、オクチルオレ
ート、イソブチルオレート、エチルオレート、イントリ
デシルオレート、ブトキシエチルパルミテート、ブトキ
シエチルステアレート、2−エチルへキシルステアレー
ト、2−エチルヘキシルミリステート、エチルステアレ
ート、2−エチルへキシルパルミテート、イソプロピル
パルミテート、イソプロピルミリステート、イソオクチ
ルパルミテート、イソオクチルミリステート、ブチルラ
ウレート、セチル−2−エチルへキサレート、ジオレイ
ルアジペート、ジエチルアジペート、ジイソブチルアジ
ペート、ジイソデシルアジベートなどが挙げられる。こ
れらの中ても、特に好ましいのはブチルステアレート、
ブチルパルミテート、ブトキシエチルパルミテート、ブ
トキシエチルステアレート、イソオクチルパルミテート
、イソオクチルミリステートである。
エステルを用いることかできる。この脂肪酸エステルと
しては、たとえばオレイルオレート、オレイルステアレ
ート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレエート
、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチルミ
リステート、オクチルミリステート、オクチルパルミテ
ート、アミルステアレート、アミルパルミテート、ステ
アリルステアレート、ラウリルオレート、オクチルオレ
ート、イソブチルオレート、エチルオレート、イントリ
デシルオレート、ブトキシエチルパルミテート、ブトキ
シエチルステアレート、2−エチルへキシルステアレー
ト、2−エチルヘキシルミリステート、エチルステアレ
ート、2−エチルへキシルパルミテート、イソプロピル
パルミテート、イソプロピルミリステート、イソオクチ
ルパルミテート、イソオクチルミリステート、ブチルラ
ウレート、セチル−2−エチルへキサレート、ジオレイ
ルアジペート、ジエチルアジペート、ジイソブチルアジ
ペート、ジイソデシルアジベートなどが挙げられる。こ
れらの中ても、特に好ましいのはブチルステアレート、
ブチルパルミテート、ブトキシエチルパルミテート、ブ
トキシエチルステアレート、イソオクチルパルミテート
、イソオクチルミリステートである。
前記種々の脂肪酸エステルは一種単独て使用しても良い
し、二種以上を混合して使用しても良い。
し、二種以上を混合して使用しても良い。
このようにレシチン等の分散剤や脂肪酸エステル等の可
塑剤の添加量を少なくすると、特に高温高湿下における
磁気記録媒体の走行耐久性を向上させることができる。
塑剤の添加量を少なくすると、特に高温高湿下における
磁気記録媒体の走行耐久性を向上させることができる。
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、潤滑剤を含有
していてもよい。
していてもよい。
潤滑剤としては、たとえば脂肪酸、シリコーン系潤滑剤
、脂肪酸変性シリコーン系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、流
動パラフィン、スクワラン、カーボンブラック、クラフ
ァイト、カーボンブラックグラフトポリマー、二硫化モ
リブデン、二硫化タングステンなどが挙げられる。
、脂肪酸変性シリコーン系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、流
動パラフィン、スクワラン、カーボンブラック、クラフ
ァイト、カーボンブラックグラフトポリマー、二硫化モ
リブデン、二硫化タングステンなどが挙げられる。
これらは一種単独て使用しても良いし、二種以−ヒを組
み合わせて使用しても良い。
み合わせて使用しても良い。
本発明においては前記潤滑剤の中でも、脂肪酸を好適に
用いることかできる。
用いることかできる。
前記脂肪酸としては、たとえばカプロン酸、カプリル酸
、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リルン酸、リノ
ール酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、クルタル酸、アジピン酸、
ピメリン 3 酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ドデカンジ
カルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げられる。
、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リルン酸、リノ
ール酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、クルタル酸、アジピン酸、
ピメリン 3 酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ドデカンジ
カルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げられる。
これらの中ても、特に好ましいのはミリスチン酸、オレ
イン酸、ステアリン酸である。
イン酸、ステアリン酸である。
前記潤滑剤の配合割合は、前記強磁性粉末100重量部
に対して、通常、20重量部以下、好ましくは10重量
部以下である。この配合割合が20重量部を超えると、
ブルーミンクやブリードアウトが生し易くなることがあ
る。
に対して、通常、20重量部以下、好ましくは10重量
部以下である。この配合割合が20重量部を超えると、
ブルーミンクやブリードアウトが生し易くなることがあ
る。
本発明においては、磁性層か平均粒径10〜100mp
のカーボンブラックを含有していても良い。
のカーボンブラックを含有していても良い。
磁性層か平均粒径10〜100mJj、、好ましくは2
0〜30mPのカーボンブラックを含有することにより
、本発明の磁気記録媒体における向上した電磁変換特性
の低下を招かないて走行耐久性をさらに向上させること
かてきる。たたし、カーボンブラックの平均粒径が10
mJi未満であると、走行耐久性に劣ることがある。一
方、カーボンブラック 4 の平均粒径か100mkを超えると、添加量を多くした
場合に電磁変換特性の低下を招くことかある。
0〜30mPのカーボンブラックを含有することにより
、本発明の磁気記録媒体における向上した電磁変換特性
の低下を招かないて走行耐久性をさらに向上させること
かてきる。たたし、カーボンブラックの平均粒径が10
mJi未満であると、走行耐久性に劣ることがある。一
方、カーボンブラック 4 の平均粒径か100mkを超えると、添加量を多くした
場合に電磁変換特性の低下を招くことかある。
また、前記の効果を充分に奏するための前記カーボンブ
ラックの配合割合は、前記強磁性粉末100重量部に対
して0〜5重量部、好ましくは0〜3重量部である。た
だし、磁性層を複数設ける場合の下層については、この
限りではない。
ラックの配合割合は、前記強磁性粉末100重量部に対
して0〜5重量部、好ましくは0〜3重量部である。た
だし、磁性層を複数設ける場合の下層については、この
限りではない。
磁性層は、前記の種々の成分の他にさらに研磨剤、帯電
防止剤を含有していてもよい。
防止剤を含有していてもよい。
なお、前記帯電防止剤あるいは前述の分散剤等は、単独
の作用のみを有するものてはなく、たとえば、−の化合
物が潤滑剤および帯電防止剤として作用する場合かある
。
の作用のみを有するものてはなく、たとえば、−の化合
物が潤滑剤および帯電防止剤として作用する場合かある
。
したかって、この発明における前述の分類は主な作用を
示したものであり、分類された化合物の作用が分類に示
す作用によって限定されるものではない。
示したものであり、分類された化合物の作用が分類に示
す作用によって限定されるものではない。
また、本発明においては、たとえば特性の異なる複数の
磁性層を積層することにより、磁性層を多層構成とする
こともてきる。
磁性層を積層することにより、磁性層を多層構成とする
こともてきる。
磁気記録媒体の製造方法−一
本発明の磁気記録媒体は、−殻内に言うと、前記強磁性
粉末、たとえば陰性官能基を有する塩化ビニル系樹脂な
どの結合剤およびその他の磁性層形成成分を溶媒に混線
分散して磁性塗料を調製した後、この磁性塗料を前記非
磁性支持体上に塗布し、および乾燥することにより製造
することがてきる。
粉末、たとえば陰性官能基を有する塩化ビニル系樹脂な
どの結合剤およびその他の磁性層形成成分を溶媒に混線
分散して磁性塗料を調製した後、この磁性塗料を前記非
磁性支持体上に塗布し、および乾燥することにより製造
することがてきる。
磁性層形成成分の混練・分散に使用する溶媒としては、
たとえばアセトン、メチルエチルケトン(MEK) 、
メチルイソツチルケトン(MIBK)およびシクロヘキ
サノン等のケトン系:メタノール、エタノール、プロパ
ツールおよびフタノール等のアルコール系:酢酸メチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸プロピル
およびエチレングリコールモノアセテート等のエステル
系;ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−エト
キシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系:ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳
香族炭化水素、メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ンおよびジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素など
を使用することかてきる。
たとえばアセトン、メチルエチルケトン(MEK) 、
メチルイソツチルケトン(MIBK)およびシクロヘキ
サノン等のケトン系:メタノール、エタノール、プロパ
ツールおよびフタノール等のアルコール系:酢酸メチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸プロピル
およびエチレングリコールモノアセテート等のエステル
系;ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−エト
キシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系:ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳
香族炭化水素、メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ンおよびジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素など
を使用することかてきる。
磁性層形成成分の組成混線にあたっては、前記強磁性粉
末およびその他の磁性塗料成分を、同時にまたは個々に
順次混練機に投入する。たとえば、まず分散剤を含む溶
液中に前記強磁性粉末を加え、所定時間混練した後、残
りの各成分を加えて、さらに混練を続けて磁性塗料とす
る。
末およびその他の磁性塗料成分を、同時にまたは個々に
順次混練機に投入する。たとえば、まず分散剤を含む溶
液中に前記強磁性粉末を加え、所定時間混練した後、残
りの各成分を加えて、さらに混練を続けて磁性塗料とす
る。
混線分散にあたっては、各種の混線機を使用することか
てきる。この混線機としては、たとえば二本ロールミル
、三本ロールミル、加圧ニダー、連続ニーダ−、オーブ
ンニーダ−、ボールミル、ペブルミル、サイトグライン
ダーSqegvariアトライター、高速インペラー分
散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー
ニーダ−1高速ミキサー、ホモジナイザー、趙音 7 液分散機などが挙げられる。
てきる。この混線機としては、たとえば二本ロールミル
、三本ロールミル、加圧ニダー、連続ニーダ−、オーブ
ンニーダ−、ボールミル、ペブルミル、サイトグライン
ダーSqegvariアトライター、高速インペラー分
散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー
ニーダ−1高速ミキサー、ホモジナイザー、趙音 7 液分散機などが挙げられる。
磁性塗料の塗布に利用することのてきる塗布方法として
は、たとえばグラビアロールコーティング、マイヤーバ
ーコーティング、ドクターブレードコーチインク、リバ
ースロールコーティング、デイツプコーチインク、エア
ーナイフコーチインク、カレンダーコーチインク、スキ
ーズコーチインク、キスコーティング、エクストルージ
ョンコーチインクおよびファンティンコーティングなど
が挙げられる。
は、たとえばグラビアロールコーティング、マイヤーバ
ーコーティング、ドクターブレードコーチインク、リバ
ースロールコーティング、デイツプコーチインク、エア
ーナイフコーチインク、カレンダーコーチインク、スキ
ーズコーチインク、キスコーティング、エクストルージ
ョンコーチインクおよびファンティンコーティングなど
が挙げられる。
このようにして塗布された前記磁性層の厚みは乾燥厚て
、通常、0.1〜10pLm、好ましくは0.5〜5.
cmである。
、通常、0.1〜10pLm、好ましくは0.5〜5.
cmである。
こうして、磁性層形成成分を塗布した後、未乾燥の状態
て、必要により磁場配向処理を行ない、さらに、たとえ
ばスーパーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処
理を行なう。
て、必要により磁場配向処理を行ない、さらに、たとえ
ばスーパーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処
理を行なう。
次いて、所望の形状に裁断することにより、磁気記録媒
体を得ることかできる。
体を得ることかできる。
本発明の磁気記録媒体は、たとえば長尺状に裁 8
断することにより、ビデオテープ、オーディオテープ等
の磁気テープとして、あるいは円盤状に裁断することに
より、フロッピーディスク等として使用することかてき
る。さらに、通常の磁気記録媒体と同様に、カート状、
円筒状などの形態ても使用することかてきる。
の磁気テープとして、あるいは円盤状に裁断することに
より、フロッピーディスク等として使用することかてき
る。さらに、通常の磁気記録媒体と同様に、カート状、
円筒状などの形態ても使用することかてきる。
[実施例]
次に、本発明の実施例および比較例を示し、本発明につ
いてさらに具体的に説明する。なお、以下に記載する実
施例および比較例において、「部」は「重量部」を表わ
すものとする。
いてさらに具体的に説明する。なお、以下に記載する実
施例および比較例において、「部」は「重量部」を表わ
すものとする。
(実施例1)
以下に示す組成の磁性層組成物をサンドミルを用いて3
時間混合分散することにより分散液とした後、この分散
液にポリイソシアネート化合物5部を添加して混合し、
磁性塗料を調製した。
時間混合分散することにより分散液とした後、この分散
液にポリイソシアネート化合物5部を添加して混合し、
磁性塗料を調製した。
砿七l寝皮麹
Go含含有−F0203強磁性微粉末 100部[保
磁力(He ) 9000eコ 5in2 0.64部A文t
o:+ 0.057部スルホン酸カリ
ウム含有 塩化ビニル共重合体 15部熱可塑性ポ
リウレタン柵脂 7部ステアリン酸
1部ブチルステアレート
】部メチルエチルケトン 125部
トルエン 125部カーボン
ブラック 5部(平均粒径20m
p−) 得られた磁性塗料を、厚みか14pmであるポリエチレ
ンテレフタレート製基材の表裏両面にそれぞれ厚みか0
.2μmであるポリエチレンテレフタレートフィルムを
積層してなり、第1表に示す性状の非磁性支持体」二に
、乾燥厚か4.07hmになるように塗布した。
磁力(He ) 9000eコ 5in2 0.64部A文t
o:+ 0.057部スルホン酸カリ
ウム含有 塩化ビニル共重合体 15部熱可塑性ポ
リウレタン柵脂 7部ステアリン酸
1部ブチルステアレート
】部メチルエチルケトン 125部
トルエン 125部カーボン
ブラック 5部(平均粒径20m
p−) 得られた磁性塗料を、厚みか14pmであるポリエチレ
ンテレフタレート製基材の表裏両面にそれぞれ厚みか0
.2μmであるポリエチレンテレフタレートフィルムを
積層してなり、第1表に示す性状の非磁性支持体」二に
、乾燥厚か4.07hmになるように塗布した。
次いて、加熱下に溶剤を除去した後、スーパーカレンダ
ーにかけて、温度60〜800C1圧力100〜300
kg/c+e2の条件て表面平滑化処理を行なって磁性
層の表面ウネリ(A)を0.0101h mとし、所定
の幅に裁断してビデオテープを作製した。
ーにかけて、温度60〜800C1圧力100〜300
kg/c+e2の条件て表面平滑化処理を行なって磁性
層の表面ウネリ(A)を0.0101h mとし、所定
の幅に裁断してビデオテープを作製した。
このビデオテープにつき、非磁性支持体および磁性層の
性状ならびに諸特性を測定した。
性状ならびに諸特性を測定した。
結果を第1表および第2表に示す。
なお、種々の性状および特性は次のようにして測定した
。
。
(a)磁性層の表面ウネリ(A)、非磁性支持体におけ
る基材およびフィルムの界面ウネリ(B): タリーステップ表面粗さ計(ティ ラーホツソン社製)を使用し、以下 の測定条件でろ液中心線平均ウネリ な求めた。
る基材およびフィルムの界面ウネリ(B): タリーステップ表面粗さ計(ティ ラーホツソン社製)を使用し、以下 の測定条件でろ液中心線平均ウネリ な求めた。
測定長:1mm
触針速度:0.1■■/秒
1
カットオフ:2Hz
(b)非磁性支持体の各フィルム表面における突起個数
および突起高さ: タリーステップ表面粗さ計(ティ ラーホツソン社製)により表面粗さ 曲線を求め、この曲線をピークとし て認識されるもの(ピークカウント 値を超える突起)について、平均線 からの高さを測定し、0.010 μm以上のものおよ
び0.30μm以上の突起 の個数を、以下の条件て測定した。
および突起高さ: タリーステップ表面粗さ計(ティ ラーホツソン社製)により表面粗さ 曲線を求め、この曲線をピークとし て認識されるもの(ピークカウント 値を超える突起)について、平均線 からの高さを測定し、0.010 μm以上のものおよ
び0.30μm以上の突起 の個数を、以下の条件て測定した。
測定長:1mm
カットオフ:0.33Hz
(バイパスフィルター)
ピークカウント値+ 0.005 μmなお、OJO4
m以上の高さの突起 は頻度か小さいので、上記測定を 400回繰り返して個数を求めた。
m以上の高さの突起 は頻度か小さいので、上記測定を 400回繰り返して個数を求めた。
(c)クロマS/N 。
カラービデオノイズメーター(シ
2
バック社製、’925D/IJ )を用い、日本ビクタ
ー社製r HR−57000J型デツキによりリファレ
ンステープに対す る値(dB)を求めた。
ー社製r HR−57000J型デツキによりリファレ
ンステープに対す る値(dB)を求めた。
各信号の周波数は次の通りである。
クロv−3/N : fi29KHz
(d)走行性:
日本ビクター社製rHR−350口0」型デツキを用い
、温度40℃、湿度80%の条件下でテープの全長繰り
返し走 行を100時間行ない、エツジダメー ジについいて次の3段階に評価し た。
、温度40℃、湿度80%の条件下でテープの全長繰り
返し走 行を100時間行ない、エツジダメー ジについいて次の3段階に評価し た。
○:エッジダメージの発生
なし。
△、テープの一部にエツジダ
メークか発生。
×:テープの全長にわたって
エツジダメージが発生。
(e)耐久性:
日本ビクター社製r HR−37000,型デツキを用
いて、ビデオテープを先 頭から5分間、400回繰り返して 走行させ、走行後における裏面のキ ズな観察するとともにR/F出力の 低下を測定することにより評価し た。
いて、ビデオテープを先 頭から5分間、400回繰り返して 走行させ、走行後における裏面のキ ズな観察するとともにR/F出力の 低下を測定することにより評価し た。
なお、R/F出力の低下は400
回繰り返し走行前後の100%ホワイ
ト信号における再生時の出力を比較
することにより測定した。
また、走行後における裏面のキズ
は目視観察を行なって次の4段階に
評価した。
A:裏面キズか殆ど見られな
い。
B:少量の裏面キズか見られ
る。
C:裏面全体にキズか見られ
る。
D=再生画像中、肉眼でノイズ
か認識できる。
(f)搬送性:
カレンダリングの際、ライレス
ビート100m/分て搬送させたとき
の搬送の状態を目視(巾+60++w )により次の3
段階に評価した。
段階に評価した。
○:蛇行が全く見られない
(0,5mm以下)。
△:蛇行かやや見られるが、問
題のないレベル
(0,5
×
3 on) 。
:蛇行の巾か31を超える。
(g)摺動ノイズ;
(イ)テープを走行させずに再生を行
ない、システムノイズをスペクトラ
5
ムアナライザて測定した。
(ロ)サンプルテープを1分間ずつ10回再生を行ない
、摺動ノイズをスペ クトラムアナライザて測定した。
、摺動ノイズをスペ クトラムアナライザて測定した。
(ハ) BMH7付近のノイズレベルについてシステム
ノイズを基準(OdB) として10バスのノイズの値を平均値 として読み取った。
ノイズを基準(OdB) として10バスのノイズの値を平均値 として読み取った。
なお、測定条件は次の通りてあっ
た。温度20°C1湿度10%、
使用デツキ:
日本ビクター社製rHR−37000゜(実施例2〜2
3、比較例1〜21) 前記実施例1において、非磁性支持体および/または磁
性層の性状を第1表に示すように代えたほかは、前記実
施例1と同様にしてビデオテープを作製し、得られたビ
デオテープの緒特性を測定した。
3、比較例1〜21) 前記実施例1において、非磁性支持体および/または磁
性層の性状を第1表に示すように代えたほかは、前記実
施例1と同様にしてビデオテープを作製し、得られたビ
デオテープの緒特性を測定した。
結果を第1表および第2表に示す。
6
なお、実施例20および実施例2Iにおいては、前記実
施例1における磁性層組成物中のカーボンブラックの配
合量を5重量部から1重量部に変えて使用した。
施例1における磁性層組成物中のカーボンブラックの配
合量を5重量部から1重量部に変えて使用した。
また、実施例20においては、前記実施例1の非磁性支
持体を構成するポリエチレンテレフフタレート製基材に
代えて、カーボンブラックを1重量%含有する基材を使
用し、実施例21においては、前記実施例1の非磁性支
持体を構成するポリエチレンテレフフタレート製基材に
代えて、それぞれが厚み5層mのポリエチレンテレフフ
タレートフィルムを、上層、中間層および中間層の3層
に積層してなるとともに、中間層がカーボンブラックを
2重量%含有してなる基材を使用した。
持体を構成するポリエチレンテレフフタレート製基材に
代えて、カーボンブラックを1重量%含有する基材を使
用し、実施例21においては、前記実施例1の非磁性支
持体を構成するポリエチレンテレフフタレート製基材に
代えて、それぞれが厚み5層mのポリエチレンテレフフ
タレートフィルムを、上層、中間層および中間層の3層
に積層してなるとともに、中間層がカーボンブラックを
2重量%含有してなる基材を使用した。
(来貢、以下余白)
(評価)
実施例および比較例の結果から、次のことが確認された
。
。
■磁性層の表面ウネリ(A)が、0.022 g mを
超えると、クロマS/Nが急激に低下する(第3図参照
)。
超えると、クロマS/Nが急激に低下する(第3図参照
)。
■非磁性支持体における基材およびフィルムの界面ウネ
リ(B)が0.020 Pmを超えると、磁性層の表面
ウネリ(A)が0.022 p、 mを超えてしまう(
第4図参照)6 ■非磁性支持体の画工を形成するフィルム表面における
平均突起高さ(H)が0.20ルmを超えると、磁性層
の表面ウネリ(A)か0.0224 mを超えてしまう
(第5図参照)。
リ(B)が0.020 Pmを超えると、磁性層の表面
ウネリ(A)が0.022 p、 mを超えてしまう(
第4図参照)6 ■非磁性支持体の画工を形成するフィルム表面における
平均突起高さ(H)が0.20ルmを超えると、磁性層
の表面ウネリ(A)か0.0224 mを超えてしまう
(第5図参照)。
■非磁性支持体の画工を形成するフィルム表面において
、(最大突起高さ)/(平均突起高さ)がlOを超える
と、磁性層の表面ウネリ(A)が0.022 g mを
超えてしまう(第6図参照)。
、(最大突起高さ)/(平均突起高さ)がlOを超える
と、磁性層の表面ウネリ(A)が0.022 g mを
超えてしまう(第6図参照)。
■非磁性支持体の面Iを形成するフィルム表面において
、0.01 p、 m以上の突起個数が測定長8 1mm当り200個未満であると、磁気記録媒体の繰返
し走行後における裏面キズが発生し易くなる(第7図参
照)。
、0.01 p、 m以上の突起個数が測定長8 1mm当り200個未満であると、磁気記録媒体の繰返
し走行後における裏面キズが発生し易くなる(第7図参
照)。
■非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面において
、0.:lOμm以上の突起個数が測定長400mm当
り500個を超えると、磁性層の表面ウネリ(A)か0
.022用mを超えてしまう(第8図参照)。
、0.:lOμm以上の突起個数が測定長400mm当
り500個を超えると、磁性層の表面ウネリ(A)か0
.022用mを超えてしまう(第8図参照)。
■非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面における
平均突起高さ(H)か0.20μmを超えると、磁性層
の表面ウネリ(A)か0.022 g mを超えてしま
う(第9図参照)。
平均突起高さ(H)か0.20μmを超えると、磁性層
の表面ウネリ(A)か0.022 g mを超えてしま
う(第9図参照)。
■非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面において
、0.30 g m以上の突起個数か測定長400mm
当り500個を超えると、磁性層の表面ウネリ(A)が
0.022kmを超えてしまう(第1O図参照)。
、0.30 g m以上の突起個数か測定長400mm
当り500個を超えると、磁性層の表面ウネリ(A)が
0.022kmを超えてしまう(第1O図参照)。
■非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面において
、0.01p、m以上の突起個数が測定長1mm当り2
00個未満であると、摺動ノイズか急 9 激に増大する(第11図参照)。
、0.01p、m以上の突起個数が測定長1mm当り2
00個未満であると、摺動ノイズか急 9 激に増大する(第11図参照)。
[発明の効果]
本発明によれば、特定の界面ウネリおよび突起を有する
特定の積層体からなる非磁性支持体と、特定の表面ウネ
リな有する磁性層とを有するので、電磁変換特性が向上
しているとともに、走行性、耐久性に優れ、しかも製造
工程中やデツキ内走行時に支持体面の削れかなく、また
製造工程中の搬送トラブルが起こりにくい等の種々の利
点を有する磁気記録媒体を提供することができる。
特定の積層体からなる非磁性支持体と、特定の表面ウネ
リな有する磁性層とを有するので、電磁変換特性が向上
しているとともに、走行性、耐久性に優れ、しかも製造
工程中やデツキ内走行時に支持体面の削れかなく、また
製造工程中の搬送トラブルが起こりにくい等の種々の利
点を有する磁気記録媒体を提供することができる。
第1図は本発明の磁気記録媒体を模式的に示す説明図、
第2図は本発明における非磁性支持体を模式的に示す説
明図、第3図は磁性層の表面ウネリ(A)とクロマS/
Nとの関係を示すグラフ、第4図は非磁性支持体におけ
る基材およびフィルムの界面ウネリ(B)と磁性層の表
面ウネリ(A)との関係を示すグラフ、第5図は非磁性
支持体の画工を形成するフィルム表面における平均突起
高さ(H)と磁性層の表面ウネリ(A)との関係を示す
グラフ、第6図は非磁性支持体の画工を形成するフィル
ム表面における(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の
比と磁性層の表面ウネリ(A)および耐久性試験におけ
る裏面キズの程度との関係を示すグラフ、第7図は非磁
性支持体の面■を形成するフィルム表面における高さが
0、Olルm以上の突起個数と耐久性試験における裏面
キズの程度との関係を示すグラフ、第8図は非磁性支持
体の画工を形成するフィルム表面における高さがOo−
30pL以上の突起個数と磁性層の表面ウネリ(A)と
の関係を示すグラフ、第9図は非磁性支持体の面■を形
成するフィルム表面における平均突起高さ(H)と磁性
層の表面ウネリ(A)との関係を示すグラフ、第10図
は非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面における
高さが0.30μm以上の突起個数と磁性層の表面ウネ
リ(A)との関係を示すグラフ、第11図は非磁性支持
体の面■を形成するフィルム表面における高さが0.旧
μm以上の突起個数と摺動ノイズとの関係を示すグラフ
である。 1・・・非磁性支持体、 2・・・磁性層、 ・・基材、 4a、 4b ・ ・フィルム、5 突起 く の 品べ碧;≦癖 )短烟七にハと◇ 詔閣中Q略泪や神ご
第2図は本発明における非磁性支持体を模式的に示す説
明図、第3図は磁性層の表面ウネリ(A)とクロマS/
Nとの関係を示すグラフ、第4図は非磁性支持体におけ
る基材およびフィルムの界面ウネリ(B)と磁性層の表
面ウネリ(A)との関係を示すグラフ、第5図は非磁性
支持体の画工を形成するフィルム表面における平均突起
高さ(H)と磁性層の表面ウネリ(A)との関係を示す
グラフ、第6図は非磁性支持体の画工を形成するフィル
ム表面における(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の
比と磁性層の表面ウネリ(A)および耐久性試験におけ
る裏面キズの程度との関係を示すグラフ、第7図は非磁
性支持体の面■を形成するフィルム表面における高さが
0、Olルm以上の突起個数と耐久性試験における裏面
キズの程度との関係を示すグラフ、第8図は非磁性支持
体の画工を形成するフィルム表面における高さがOo−
30pL以上の突起個数と磁性層の表面ウネリ(A)と
の関係を示すグラフ、第9図は非磁性支持体の面■を形
成するフィルム表面における平均突起高さ(H)と磁性
層の表面ウネリ(A)との関係を示すグラフ、第10図
は非磁性支持体の面■を形成するフィルム表面における
高さが0.30μm以上の突起個数と磁性層の表面ウネ
リ(A)との関係を示すグラフ、第11図は非磁性支持
体の面■を形成するフィルム表面における高さが0.旧
μm以上の突起個数と摺動ノイズとの関係を示すグラフ
である。 1・・・非磁性支持体、 2・・・磁性層、 ・・基材、 4a、 4b ・ ・フィルム、5 突起 く の 品べ碧;≦癖 )短烟七にハと◇ 詔閣中Q略泪や神ご
Claims (1)
- (1)非磁性支持体上に磁性層を有する磁気記録媒体に
おいて、前記非磁性支持体は基材の表裏両面にそれぞれ
フィルムを積層してなり、前記磁性層の表面ウネリ(A
)、前記非磁性支持体における前記基材および前記フィ
ルムの界面ウネリ(B)、および前記非磁性支持体にお
ける前記フィルムの前記基材とは反対側の面の平均突起
高さ(H)が、それぞれ以下の関係、 (A)≦0.022μm (B)≦0.020μm 0.01μm≦(H)≦0.25μm を満たすとともに、前記各フィルムの前記基材とは反対
側の面における高さが0.01μm以上である突起の個
数が測定長1mm当り200個以上であり、前記各フィ
ルムの前記基材とは反対側の面における高さが0.30
μm以上である突起の個数が測定長400mm当り50
0個以下であり、前記非磁性支持体の磁性層形成面とは
反対側の面を形成する前記フィルムの前記基材とは反対
側の面における(最大突起高さ)/(平均突起高さ)の
比が10以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1315003A JP2831754B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 磁気記録媒体 |
| US07/619,890 US5116658A (en) | 1989-12-04 | 1990-11-29 | Magnetic recording medium |
| EP19900313081 EP0431858A3 (en) | 1989-12-04 | 1990-12-03 | Magnetic recording medium |
| KR1019900019854A KR910013082A (ko) | 1989-12-04 | 1990-12-04 | 자기 기록 매체(磁氣記錄媒體) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1315003A JP2831754B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03176809A true JPH03176809A (ja) | 1991-07-31 |
| JP2831754B2 JP2831754B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=18060245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1315003A Expired - Fee Related JP2831754B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2831754B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0668449A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US7227717B1 (en) * | 2001-06-18 | 2007-06-05 | Seagate Technology Llc | Asymmetric disk surface properties in one head disk drives |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202451A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | 東レ株式会社 | 易接着性ポリエチレンテレフタレ−トフイルム |
-
1989
- 1989-12-04 JP JP1315003A patent/JP2831754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202451A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | 東レ株式会社 | 易接着性ポリエチレンテレフタレ−トフイルム |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0668449A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US7227717B1 (en) * | 2001-06-18 | 2007-06-05 | Seagate Technology Llc | Asymmetric disk surface properties in one head disk drives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2831754B2 (ja) | 1998-12-02 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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