JPH04152183A - 記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な記録装置に関し、詳しくは、表面が特定
性状を示す記録体のその表面に、選択的に又は選択的か
つ可逆的に、加熱温度（加熱エネルギー量）に応じた後
退接触角を示す領域が形成されるようにし、この領域（
潜像）に顕色材を含有する記録剤を供給して顕像化せし
め、これを普通紙等に転写するようにした記録方式に有
用な装置に関する。

〔従来の技術〕

表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水（湿し水）なし平版印刷版を用いたオフセット印
刷方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は
原版からの製版工程及び刷版（印刷版）からの印刷工程
を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の
装置の小型化は勢い困難なものとなっている。

例えば、比較的小型化されている事務用オフセット製版
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。

このようなオフセット印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも。

繰返し使用が可能な（可逆性を有する）記録方法ないし
装置が提案されるようになってきている。その幾つかを
あげれば次のとおりである。

（１）水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、ｌｉ水性部のみに水性現像剤を付着させ
て紙などに転写する（特公昭４０−１８９９２号、特公
昭４０−１８９９３号、特公昭４４−９５１２号、特開
昭６３−２６４３９２号などの公報）。

（２）フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する［例えばｒ高分子論文集」第３７
巻４号、２８７頁（１９８０）］。

（３）内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する（特公昭５４−４１９０２号
公報）。

前記（１）の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。即ち、一つの原版（光導電体）で
繰り返し使用が可能となる。だが、この方式は電子写真
プロセスを基本としているため帯電→露光→現像→転写
→除電という長いプロセスを必要とし、装置の小型化や
コストの低減、メンテナンスフリー化が困難であるとい
った欠点をもっている。

前記（２）の方式によれば、紫外線と可視光との照射を
選択的にかえることによって親水性、疎水性を自由かつ
可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応時
間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠ける
といった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達し
ていないのが実情である。

更に、前記（３）の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまねかれ得ないといった不
都合がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、加熱状態でかつ接触材料（Ｂ）と接触
させた場合に後退接触角が低くなる表面を有する部材（
記録体（Ａ））のその表面に、容易な手段で選択的に又
は選択的かつ可逆的に、所望パターン領域（潜像）を形
成させ、これを顕像化せしめ普通紙等へ転写させる記録
装置を提供するものである。

本発明の他の目的は、所望パターン領域の形成、消去、
顕像化、転写等すべての工程において、保存性並びに安
定性にすぐれた記録体（Ａ）が使用されることによって
、可逆的に複数回の前記工程が行ないうる記録装置を提
供するものである。

本発明の更に他の目的は、小型化、低コスト化、メンテ
ナンスフリー化が可能で、しかも短時間で多数枚の鮮明
な画像が得られる新規な記録装置を提供するものである
。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の記録装置は、下記記録体（Ａ）を下記接触材料
（Ｂ）と接触させた状態で選択的に加熱することにより
又は記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接触
材料（Ｂ）と接触させることにより記録体（Ａ）の表面
に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域を形成せ
しめる接触材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に供給する手
段と、記録体（Ａ）の表面を加熱する手段と、該潜像領
域を顕像化させる記録剤付与手段と、可視像を記録紙等
に転写する手段と、記録体（Ａ）の帯電防止手段とを設
けてなることを特徴としている。

（Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。

（Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
発生する固体。

かかる本発明装置では、記録剤として例えば液状インク
のごときものを用いるようにすれば、接触材料（Ｂ）の
供給手段を省略することができ、また、接触材料（Ｂ）
として液状インクのごときものを用いるようにすれば潜
像形成と同時に顕像化されるため記録剤付与手段を省略
することができる。

なお、これら本発明装置においては、前記潜像が形成さ
れた記録体（Ａ）の表面を、接触材料（Ｂ）の不存在下
で加熱することによって潜像の消去が行なえ、可逆的に
画像形成がなし得るものである。

本発明者らは、前記従来の技術に記述したごとき欠陥を
解消し、新規な記録方式について多くの研究・検討を行
なった。その結果、液体に接した状態で加熱されると冷
却後においてもその後退接触角が低くなり、かつ、液体
不存在下の加熱により後退接触角が高くなるという機能
を表面に有する部材が記録体として有用であることを見
いだした。そして、このような機能を有する記録体（Ａ
）はその表面が（１）疎水基の表面自己配向機能をもつ
有機化合物を含む部材、又は（２）疎水基をもつ有機化
合物であって疎水基を表面に配向した部材であることも
併せて確めた（特願平２−４３５９９号公報）。

（１）にいう″表面自己配向機能”とは、ある化合物を
支持体上に形成した固体又は成る化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側（
自由表面側）に向いて配向する性質があることを意味す
る。このことは、（２）においても同様にいえることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい現象をもっている。これは、固−気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現象で
ある。また、この現象は疎水基の分子長が長くなるほど
その傾向がみられるが、これは分子長が長くなるほど加
熱における分子の運動性が上がるためである。

更に具体的には、末端に疎水基を有する（即ち表面エネ
ルギーを低くする）分子であると、空気側（自由表面側
）を向いて表面配向しやすい、同様に→ＣＨ，＋−０を
含む直鎖状分子では−４：ＣＨ，ＣＨ，（の部分が平面
構造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい、また、
−＋ｏ＋−，を含む分子も一＋ｏ＋−の部分が平面構造
をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。殊に、弗素
などの電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝
集性が高く、分子鎖どうしが配向しやすい。

これらの検討結果をまとめると、より好ましくは、自己
凝集性の高い分子を含んだり平面構造をもつ分子を含み
、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分子、或いは、そ
うした直鎖状分子を含む化合物は表面自己配向機能が高
い化合物といえる。

これまでの記述から明らかなように、表面自己配向状態
と後退接触角とは関連があり、また、後退接触角と液体
何者性との間にも関係がある。即ち、固体表面での液体
の付着は、液体の固体表面での主にタッキングによって
生じる。このタッキングはいわば液体が固体表面を滑べ
る時の一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本
発明でいう“後退接触角”θｒには、 （但し、　γ　：真空中の固体の表面張力γｓａ：固−
液界面張力 πｅ：平衡表面張力 γ、：摩擦張力 γＳ：吸着層のない固体の表面張力である）といった関
係式が成立つ（斉藤、北端ら「日本接着協会誌ＪＶｏＬ
２２、Ｔｈ１２．１９８６）。

従って、θｒの値が低くなるときγ、値は大きくなる。

即ち、液体は固体面を滑べりにくくなり、その結果、液
体は固体面に付着するようになる。

これら相互の関連から推察しうるように、液体付着性は
後退接触角θｒがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角ｏｒは表面自己配向機能を表面に有する部材の
付加により定められる。それ故、本発明装置においては
、記録体（Ａ）はその表面に所望パターン領域の形成及
び／又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表
面自己配向機能を表面に有する部材が選択されねばなら
ばい。

本発明装置で用いられる記録体（Ａ）は、既述のとおり
、「加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角
θｒが低下する表面」を有するものである。

記録体（Ａ）はその表面が上記のような性状を有してさ
えいれば、形状等は任意である。従って、記録体（Ａ）
はベルト状（エンドレスベルト状を含む）であっても、
適当な円筒状支持体や成形体上に表面が上記のような性
状を有する別の塗工膜などが設けられていてもかまわな
い、成形体自体であってもかまわないが、その表面は上
記のような性状を有していることが必要である。

この記録体（Ａ）は、接触材料（Ｂ）の種類によっては
潜像領域における液体付着性部分が親油性又は親水性の
いずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イン
ク、水性インク、電子写真用液体現像剤などのいずれも
が必要に応じて使いわけられる。

ここで、′加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角θｒが低下する表面を形成する″部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第１図に示す。第１図（ａ）は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖りと疎水基Ｒと
は結合基Ｊにて結合している。

第１図（ｂ）は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料Ｎの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎水
基を有する化合物Ｏを形成した部材である。第１図（Ｃ
）は、第１図（ｂ）であげた疎水基を有する有機化合物
Ｏのみからなる部材の例である。

第１図（ｄ）は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主鎖りと前記分子を結合基Ｊによりつなぎ、末端に疎
水基Ｒをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分子鎖Ｎ
が中間にある化合物である。

なお、第１図（ａ）　（ｄ）の例においては、高分子化
合物の主鎖りは直線状でも網かけ構造でもよい。

第１図（ｂ）の例においては、累積ＬＢ膜のように、疎
水基含有化合物Ｏの上にさらに疎水基含有化合物０が積
層されていてもよい。第１図（ｃ）の例においては、主
鎖（Ｌ）をもつことなく又は有機・無機材料（Ｍ）など
に結合することなく、疎水基含有化合物Ｏのみによる構
造である。

前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−ＣＨ
，や−ＣＦ３．−ＣＦ２Ｈ１−ＣＦＨ２、−Ｃ（ＣＦ−
）ａ、−Ｃ（ＣＨ，）１などによっており、より好まし
くは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利で
ある。中でも、前記疎水基としては、−Ｆ及び／又は−
ＣＱが１つ以上ある置換アルキル基（−ＣＦ、　ＣＦ２
ＣＦＣＦ、　ＣＦ２のよＣＱ うなものでもよい）或いは無置換のアルキル基であって
、炭素数４以上のものが望ましい、弗素置換、塩素置換
のいずれのものも用いれるが、弗素置換のものの方が効
果的である。これらの材料においては、アルキル基炭素
数と機能との関係では、炭素数が３以下であると、本発
明の記録装置に適する機能が低くなってしまう。

この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。

まず、上記化合物により形成された記録体（Ａ）の表面
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は液体反撥性を有する
（疎水基は表面エネルギーが小さいため）。この状態で
、記録体（Ａ）の表面が接触材料（Ｂ）に接して加熱を
受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発となり、
かつ、接触材料（Ｂ）との相互作用を受けて、記録体（
Ａ）の表面の少なくとも一部の配向（整列）状態が別の
状態（即ち、別の配向状態又は配向が乱れた状態）にか
わり、冷却後もその別の状態を維持するためと思われる
。

なお、記録体（Ａ）の表面に接触材料（Ｂ）が接した状
態のもとで加熱することは、接触材料（Ｂ）の形態いか
んにより、記録体（Ａ）の表面が加熱された状態のもと
に液体を接触させることになる。

この加熱前は、疎水基が表面に整列（配向）しているた
め、記録体（Ａ）の表面の表面エネルギーは極めて少な
い。

ところが、前記の接触材料（Ｂ）が接した状態のもので
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角θｒは、液体の種類にかかられす、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角θｒは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大することになる。

更に、記録体（Ａ）の表面が別の状態（元の配向状態と
は異なる「別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」）
で接触材料（Ｂ）の不存在下に加熱を受けると、接触材
料（Ｂ）との相互作用が生じないため、元の整列（配向
）状態にもどると思われる。

従って、接触材料（Ｂ）の存在は単なる記録体（Ａ）の
表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記録
体（Ａ）の表面の化合物との何らかの相互作用をおこす
ものであり、この相互作用があって、はじめて別の状態
（別の配向状態又は配向が乱れた状態）への変化がおこ
ると思われる。

前記のとおり、記録体（Ａ）の表面を形成する部材（化
合物）の疎水基として、アルキル基又は弗素あるいは塩
素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル基
の炭素数が４以上であるのが望ましいのは、記録体（Ａ
）の表面にアルキル基がある程度整列（配向）シ、シか
も加熱時に活溌な分子運動をするのに必要な数によるも
のと思われる。

また、接触材料（Ｂ）が記録体（Ａ）の表面とともに加
熱を受けた時、記録体（Ａ）表面の分子中に接触材料（
Ｂ）の分子がとりこまれることも考えられる。

さらに、アルキル基中に電気陰性度の高いフッ素や塩素
があると、液体特に極性液体との相互作用が大きくなる
ため、水素のみのアルキル基を含有する化合物よりも大
きな付着性変化が得られる。

また、フッ素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強
いため、表面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギ
ーが低いため、地肌よごれ防止の点ですぐれている。

更にまた、記録体（Ａ）の表面は液体反撥性を有するが
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、本発明者
らの検討では、５Ｑｄｙｎ／ｃｍ以下であることが本発
明装置による記録方式として望ましいことをも確めてい
る。これ以上の高い値では記録剤に対して記録体（Ａ）
の表面が、時として、ぬれてしまい、地肌よごれをおこ
すおそれがある。

ここで、記録体（Ａ）の表面を形成する化合物の詳細を
述べる。まず、第１図（ａ）及び（ｄ）のタイプについ
てビニル系高分子側鎖にアルキル基（フッ素及び／又は
塩素のものも含む）を有する化合物などが考えられる。

具体的には、式（１）（ＩＩ）（ｍ）（ＩＶ）（Ｖ）（
ＶＩ）及び（■） ＲニーＨ，−ＣＨ，、−Ｃ，Ｈ，、−ＣＦ□又は−Ｃ，
Ｆ。

Ｒｆ：Ｃ，以上のアルキル基又はフッ素若しくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは、分子顔中に−ｇ
２＋ａ、　Ｈ儲、＋ｎ又は−〇−をもつ疎水基（Ｑ≧４
） ｎ′：１以上の整数 をモノマーとした重合体があげられる。

その他のポリマーとしては、式（■）（■）及び（Ｘ）
に示したごときものがあげられる。

ＲニーＨ，−ＣＨ，、−Ｃ，Ｈ，、−ＣＦ、又は−Ｃ，
Ｆ。

Ｒｆ：Ｃ４以上のアルキル基又はフッ素もしくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中ニ（ｃ
Ｆ、＋−ａ、−＋ＣＨｚ　）　ａ　又バーｏ−ヲ含む疎
水基（Ｑ≧４） ｎ：１０以上の整数 これら具体例でＲｆをより詳しくいえば下記（１）から
（２０）までのものを例示することができる。

（１）−ＣＨ，ＣＦ、ＣＨＦＣＦ３ （６）　−ＣＨ，（ＣＦ、）、。Ｈ （７）　−＋ＣＦｌ）ｒｏ−ＣＦＩＣＦＩ（８）−＋Ｃ
ＨＪ７ＮＨ−ＣＦ、ＣＦ３（９）　−＋ＣＦ、升ＣＦ。

（１０）　（ＣＨ，）、。Ｃ，Ｆ□。

（１３）　−ＣＭ、ＮＨ３０，Ｃ，Ｆ□７（１４）　−
４ｃＦ２＋ｐ （１５）　Ｃ−８−ＣＨ２ＣＨ，−（ＣＦ、）、ＣＦ（
ＣＦ、）２（１６）　−ＣＨ，ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３（１
７）　−ＣＨ２ＣＨ，ＣＨ２ＣＨ，Ｆ（１ｇ）　−ＣＨ
，（ＣＦよ）、ＣＦ□（１９）　−ＣＨ２（ＣＦ２）、
ＣＦ。

（２０）　（ＣＨ２）、ＣＦ３ これらの化合物のうちでも、特に、下記（Ｘ［）の材料
の使用が望ましい。

〔但し、Ｒ１：水素、−ＣｎＨ２ｎ＋１又は−ｃｎＦｚ
ｎ＋、（ｎ＝１又は２以上の整数） Ｒ”　ニー＋ＣＨ２＋−（ｐ≧１の整数）又は−（ＣＨ
２＋−Ｎ　（Ｒ’　）Ｓｏ□−ｑ （Ｒ３は＝ＣＨ（□又は−Ｃ，Ｈいｑ≧１の整数）ｍ：
６以上の整数 である。〕 従って、本発明における記録体（Ａ）表面の部材の最も
好ましい具体的化合物としては などが挙げられる。

さらに、これら式（１）（ＩＩ　）（ＩＩＩ）（ｒＶ）
（Ｖ）（Ｖｌ）（■）及び（ＸＩ）のモノマーどうしく
２種以上のモノマーの共重合体）の他に、他のモノマー
例えばエチレン、塩化ビニル、スチレン、ブタジェン、
イソプレン、クロロプレン、ビニルアルキルエーテル。

酢酸ビニル、ビニルアルコールなどとの共重合体も上記
化合物として適する。

また１式（ＸＩ）のモノマーと官能基を有する重合性モ
ノマー例えば ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃｏｏ　（ＣＨ２）、　０ＨＣＨ
，＝Ｃ（ＣＨ，）ＣＯＯＣＨ，ＣＨ（ＯＨ）Ｃ）ｌ。

ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ，ＣＨ（ＯＨ）Ｃ，Ｆ工。

などの１種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基
を多数導入するか、式（Ｘ［）のモノマーと官能基を有
する重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、官
能基を多数含んだ共重合物どうしを架橋試薬をもちいて
架橋することにより製造した架橋性重合体も材料として
すぐれている。架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、
ジアルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジカルボン酸、
ジカルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエ
ポキシド、ビスアジリジン、ジイソシアネートなどがあ
げられる。このようにして得られた架橋重合物の一例を
下記に示す。

上記の式において、Ａブロックは前記の熱的性質の変化
をもたらすアルキル基であり、一方、Ｂブロックは鎖状
ポリマーどうしを架橋している（架橋試薬としてジイソ
シアネートを用いて架橋したもの）部位である。

架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。

なお、上記七ツマ−から重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。

次に、第１図（ｂ）に示した化合物について述べる。

ココでは、式（ＸＩ）、（ｘｍ）及び（ＸＩＶＨ：示す
材料Ｒ，−〇〇〇Ｈ−（ＸＩＩ） Ｒ，−ＯＨ・・・（ｘｍ） Ｒｔ−＋ＣＨｚ　ｈ　Ｓ　ｉＸ　　　　　　　　・・・
（Ｘ　■）（Ｒｆ：炭素数４以上のアルキル基又はフッ
素又は塩素置換のアルキル基を含有した基、もしくは１
分子鎖中に＋ＣＦ、＋−處、−＋ＣＨ２）ＩＩ又は−〇
−を含む疎水基（Ａ≧４）） ｎ：１以上の整数 Ｘ：塩素、メトキシ基又はエトキシ基）等をガラス、金
、鋼などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフタレートなどの有機材料表面に物理吸着
又は化学結合した材料（表面エネルギーが約５０ｄｙｎ
／ｃｍ以下であるのが好ましい）であることが望ましい
。

式（ＸＩ）（Ｘｆｆｌ）及び（ｘｒｖ）の具体例として
はＣＦ、云ＣＦ、汁Ｃ０ＯＨ。

ＣＦ、（ＣＦ、＋ｒＣＯＯＨ。

ＣＦ、（ＣＦ、汁（ＣＨ，汁○Ｈ２ Ｈ（ＣＦ２后Ｃ０ＯＨ。

Ｈ（ＣＦ、后ＣＨ，ＯＨ。

Ｆ（ＣＦ、誉ＣＨ，ＣＨ，−５ｉ（ＣＨ３）ＩＣＩ２１
ＣＦ、Ｃｌ２（ＣＦ、）ＣＦ（ＣＦ２）、Ｃ０ＯＨ。

ＣＦ、（ＣＦ、）、（ＣＨ，）、ＳｉＣちなどがあげら
れる。

第１図（ｃ）に示す化合物としては式（Ｘ　ＩＩ　）、
式（ｘｍ）や式（ｘ■）の材料のみの構造体があげられ
る。

続いて、上記化合物を用いた記録体（Ａ）について述べ
る。

記録体（Ａ）の構成としては、先に触れたとおり、■前
記の表面部材そのもので形成したもの、■支持体（好ま
しくは耐熱性支持体）上に前記の表面部材を形成したも
の、とに大別される。■の態様は上記化合物（表面部材
）そのものをフィルム状あるいは板状、あるいは、円柱
状に成形したものである。この際、フィルム状の場合は
、フィルムの厚さは１−〜５ｍｍが望ましし１゜ ■の態様においては、上記化合物がある程度支持体内部
へ侵入していてもかまわない。記録体（Ａ）自体の膜厚
は３０人〜１−一が望ましい。ただし、熱伝導性の点で
は１００人〜１０ｐｓ、耐摩耗性の点では１０゜〜ｌｌ
ｌ１１がすぐれている。支持体の耐熱温度としては、５
０℃〜３００℃が望ましい。

支持体の形状は、ベルト状（エンドレスベルト状を含む
）、板状、ドラム状いずれでもよく、装置の使用用途に
応じて選定する。特に、ドラム状のものは装置における
寸法精度を出せる点ですぐれている。エンドレスベルト
状のものは装置の小型化に有利である。板状のものは、
記録紙サイズに応じてその大きさを決めればよい。

さらに、上記化合物（記録体（Ａ）の表面形成材料）と
他の部材、例えば疎水性ポリマー、疎水性無機材料との
混合物を支持体上に形成すると、印字における地肌よご
れ防止の点ですぐれている。また。

熱伝導性を上げるためには、金属粉を上記化合物に混入
するとよい。更に、支持体と上記化合物との密着性を向
上するためにプライマー層を支持体と化合物間にもうけ
ることもできる。耐熱性支持体と°しては、ポリイミド
、ポリエステルなどの樹脂フィルムやガラスやＮｉ、　
ＡＱ、　Ｃｕ、　Ｃｒ、　Ｐｔなどの金属や金属酸化物
等が好ましい、これら支持体は平滑でも粗面や多孔質で
あってもよい。

次に、接触材料（Ｂ）について説明する６接触材料（Ｂ
）は、先に記載したとおりであるが、端的にいえば、当
初から液体あるいは蒸気であるか、又は、記録体（Ａ）
にいう後退接触角θｒの低下開始温度以下で結果的に液
体を生じさせる固体である。ここでの蒸気は、記録体（
Ａ）の表面又は表面近傍で、少なくともその一部が凝縮
して液体を生ゼしぬ、その液体が記録体（Ａ）の表面を
濡らすことができるものであれば充分である。一方、こ
こでの固体は、前記後退接触角ｏｒの低下開始温度以下
で液体となるか、液体を発生させるか、又は、蒸気を発
生させるものである。固体から発生された蒸気は記録体
（Ａ）の表面又はその近傍で凝縮して液体を生じさせる
ことは前記の場合と同様である。

これら接触材料（Ｂ）をより具体的にいえば次のとおり
である。

即ち、接触材料（Ｂ）の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、ｎ−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン等の直
鎖状炭化水素、シクロヘキサン等の環式状炭化水素、輸
−キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無極
性液体があげられる。また、これらの混合体でもよいし
、各種分散液や液状インクも使用できる。さらに望まし
くは極性液体の方がよりすぐれている。

接触材料（Ｂ）の他の一つである蒸気としては水蒸気の
外に、接触材料（Ｂ）の液体の蒸気であれば使用できる
が、特にエタノール蒸気や諺−キシレン蒸気などの有機
化合物の蒸気（噴霧状態のものを含む）があげられる。

この有機化合物蒸気の温度は記録体（Ａ）の表面を形筬
する化合物の融点或いは軟化点以下である必要がある。

接触材料（Ｂ）の他のもう一つである固体としては、高
級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲル（ポリア
クリルアミドゲル、ポリビニルアルコールゲル）、シリ
カゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげられる。

なお、後述するところからより明らかになるが、接触材
料（Ｂ）として、前記液状インクのごとき″顕色剤を含
有した”記録剤を用いた場合には、潜像形成と同時に顕
像化が行なわれることになり、実用上極めて有利である
。

続いて、加熱手段について説明する。

潜像形成のための加熱手段としてはヒーターサーマルヘ
ッドなどによる接触加熱の他に、電磁波（レーザー光源
、赤外線ランプなどの発光源からの光線をレンズで集光
する）による非接触加熱がある。

第２図（、）は基板１上に記録体（Ａ）の表面を構成す
る前記化合物の膜２が形成され、この膜面に接触材料（
Ｂ）のうちの例えば液体３が存在している状態を示して
いる。この状態において、膜２を加熱すると、膜２表面
は後退接触角θｒが低下して著しい濡れを示し、液体付
着性を有してしまうのが認められる。更に、この液体付
着性を有する膜２を空気中、真空中又は不活性ガス雰囲
気中で再び加熱する（第２図（ｂ））と膜２表面は後退
接触角θｒが高まってゆき再び液体反撥性を示すのが認
められる。

このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先にあげた特公昭５４−４１９０２号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では記録
材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形の
メモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズム上
大きく相違したものとなっている。すなわち、本発明で
は、接触材料（Ｂ）の存在なしでは、記録体（Ａ）表面
には状態変化がおこりえない。また、特公昭５４−４１
９０２号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆
性を得ることはできない。

第３図（ａ）のごとく、画像情報に応じて液体３の接触
下でＷＡ２に熱を加える（第３図（ｂ−１）及び（ｂ−
２）のように、液体不存在のものに膜２に画像情報に応
じて熱を加えた状態のもとで液体と接触させても同様で
ある）と、加熱部分の膜２の表面が液体付着性化される
０図中、４はヒーター、３１は液体供給口、４１は赤外
線ランプ、５はレンズ、６はシャツターを表わしている
。

第３図（ａ）は膜２の加熱は基板ｌを通して行なってい
る例であるが、第３図（ｂ−１）（ｂ−２）に示した例
は、直接膜２に加熱がなされている例である。

この膜２の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶液の接触角の変動の一例を第４図に示した。第４図
において、Ｑは前進接触角、Δは後退接触角を表わして
いる。

一般に、後退接触角が９０”以上の高い値の場合、その
表面は液体反撥性を示し、９０°以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。

接触材料（Ｂ）に接した状態での記録体（Ａ）表面の加
熱温度としては、５０℃〜２５０℃の範囲が望ましく、
さらに望ましくは８０℃〜１５０℃である。加熱時間は
、０．１−秒−１秒程度で望ましくは０．５飄秒〜２璽
秒である。

加熱のタイミングとしては、■記録体（Ａ）表面を加熱
した後、冷めないうちに接触材料（Ｂ）に接触させる。

■記録体（Ａ）表面に接触材料（Ｂ）を接触させた状態
のもとに記録体（Ａ）表面を加熱させる。

のいずれかでもよい。

一方、潜像消去の場合には、接触材料（Ｂ）の不存在下
で記録体（Ａ）表面を５０〜３００℃、望ましくは１０
０〜１８０℃に加熱すればよい、加熱時間はｌｉｔ秒〜
１０秒程度で好ましくは１０履秒〜１秒である。

続いて、記録体（Ａ）表面に実際に画像情報の記録を行
なう手段についてより詳細に説明する。

一つは、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録
体（Ａ）の表面を加熱し、記録体（Ａ）の表面に液体付
着領域を形成（潜像形成）し、その後、この潜像部に記
録剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ
（現像）、この後、記録紙等に記録体（Ａ）表面の記録
剤を転写する方法である（間接記録方法）、さらに、上
記の方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録
剤を接触させる手段を行えば、記録体（Ａ）を印刷版と
して用いた印刷方法となる。他の一つは、上記の方法に
おいて、記録剤を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜
像を形成した記録体（Ａ）の表面を加熱し潜像を消去す
ることにより、記録体（Ａ）が再生可能な記録方法とな
る。第５図（ａ）、（ｂ）に間接記録方法（印刷法）、
記録体の可逆的な記録方法（繰り返し記録方法）の代表
的なプロセスを示す。

次に、記録体（ム）をはじめ、記録装置の構成について
述べる。

記録体（Ａ）は、既述のとおり、加熱状態でかつ液体と
接触させた場合に後退接触角が低下する表面（前記と同
様便宜上「膜２」又は「記録体（Ａ）表面」を記すこと
がある）を有しているものであれば、その形態にとられ
れない。従って、記録体（Ａ）の支持基板は、剛体円筒
形状であっても、柔軟性を有するフィルム形状であって
もかまわない、剛体円筒形状記録体（円筒状剛体の表面
に膜２が形成されたもの）は、記録体（＾）を稼働する
際位置ずれ等が生じにくいため制御性に優れているので
、望ましくは剛体円筒形状の記録体（Ａ）が良い、この
ような記録体（Ａ）の作製は膜２を基板上に成膜する方
法や、成形体そのもので作成する方法がよい、特に、前
記成形体（Ａ）は一般に機械強度が弱いため基板上に成
膜する方法が望ましい、なお、成形体そのもので記録体
（Ａ）をつくる場合においても、その表面には膜２が形
成されていなければならないことはいうまでもない。

記録体（Ａ）の支持基板に樹脂を用いた場合、このもの
は熱の良導体とはいいがたく、基板側から加熱を施すよ
うなタイプのものでは、記録体（Ａ）表面が加熱され液
体付着性を有するまでにはある程度の時間を要する。そ
こで、熱の良導体を基板の全体に又は基板１上の部分に
用いることが考えられてよい。

第６図（ａ）は例えば金属のような熱の良導体を基板（
金属基板１１）としてその上に有機薄膜１２を蒸着し、
更にその上に、膜２を形成するようにすれば、垂直方向
の熱伝導速度が向上する。ここでの有機薄膜１２として
はポリイミド、ポリエステル、フタロシアニンなどが例
示できる。印字ドツトが比較的大きくてよい場合にはこ
の構成で十分であるが、面方向への熱拡散により液体付
着性を有する部分が拡大するため一層の高密度印字を目
的とする場合には適さない、第６図（ｂ）は、そのため
、基板１上に熱の良導体部分を区切って設けることによ
り面方向への熱拡散を防ぎ液体付着性を有する部分２ａ
の微小化を図ったものである。第６図（ｂ）において、
ｌｌａは微小された金属膜を表わしている。

続いて、加熱による潜像形成手段について述べる。上記
したごとく、加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッ
ドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごと
き電磁波による非接触加熱源が望ましい。

これらの具体例として、液体と接した状態で記録体（Ａ
）表面を加熱する手段を述べる。なお、便宜上、基体１
上に１１１２が形成されているタイプの記録体（Ａ）を
例にとって説明を進めることにする。

まず、あらかじめ記録体７表面に液体３を接しておき、
その接した状態で基体１側又は液体３側から加熱を行う
手段（第７図（、）及び（ｂ））や、初めに記録体（Ａ
）表面側から加熱を行い直ちに液体３を記録体加熱部（
記録体（Ａ）表面）に接触させる手段（第７図（Ｃ）及
び（ｄ））の採られるのが望ましい。

液体３の供給手段としては、記録体（Ａ）下部に皿を設
は液体を満たし記録体７が皿中の液体３に常に接するよ
うにし、加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置する構成が
最も簡単な構成となる１皿の替わりに、液体を含ませた
スポンジ状多孔質体３４を用いても良い、光や電子線に
よる潜像形成手段も上記構成と基本的に同様である。

第７図において、４２はレーザー光源、４３はサーマル
ヘッドである。このようにして、記録体（Ａ）表面には
潜像（Ｓ）が形成される。

上記手段により画像信号に応じて選択的に付与された液
体付着性領域に記録剤（例えばインク液）を付着させる
手段としては、記録剤３ａを充填した皿を潜像形成手段
配置位置に対して記録体（Ａ）の進行方向に配置し常に
記録体（Ａ）表面に接しておく構成が最も簡単である（
第８図及び第９図）。なお、第９図に示すごとく、潜像
形成に用いる液体を記録剤３ａと兼用すると一つの皿で
構成でき、潜像形成とその顕像化とを一体化できるため
、装置を小型化できる。

潜像形成及び現像（顕像化）後１例えば記録体（Ａ）上
の記録剤３ａは記録紙等６１と直接接する手段を設ける
ことで記録紙等の毛管作用により、記録紙等６１へ画像
状の記録剤３ａは転写される（転写手段）。

転写を行う位置は、現像後であれば、記録体（Ａ）のど
の位置でもかまわないが、現像後、直ちに転写が行われ
る位置が望ましい、転写後、潜像消去を行わず現像を繰
り返えせば、この装置は印刷装置となる。第１０図は上
記印刷装置の例を示しており、６２は転写ローラである
。一つの画像情報の印刷が終了すれば、記録体（Ａ）を
交換することで又は潜像消去を行なうことで、別の画像
情報の記録・印刷が可能となる。

また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の不存在下で、
即ち、空気中、真空中又は不活性ガス中で記録体（Ａ）
表面を加熱することにより潜像（Ｓ）を消去すれば、記
録体（Ａ）は繰返し使用可能な記録装置となる（第１１
図）。なお、潜像消去のための加熱源としては、ヒータ
ーやサーマルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤
外線ランプ４１′のごとき電磁波による非接触加熱源が
望ましい、加熱は潜像部のみ行っても良いが、記録体（
Ａ）全面に行っても良い、むしろ、全面加熱の方が装置
構成を簡単にできるため、より望ましい、なお、潜像消
去手段は、消去のための加熱を行ったのち、再び、潜像
形成を行うまでの時間の間に記録体（Ａ）表面が実質的
に冷却する位置に設ける。潜像消去に必要な加熱温度は
既述のとおりであるが、当該記録体（Ａ）表面の材料に
より異なるものの、記録体（Ａ）表面の材料の後退接触
角が低くなる開始温度以上で分解点以下の温度が望まし
い。

記録紙等（被転写体）としては、透明又は不透明樹脂フ
ィルム、普通紙、インクジェット記録用紙。

タイプ用紙などが適当である。

次に記録剤について述べる。

本発明装置において記録体（Ａ）表面上に可視画像を得
るには、記録剤として筆記用インク、インクジェット記
録用インク、印刷インク、電子写真用トナー等の従来の
印字記録方式に用いられてきた記録剤の中から、本発明
装置に適合するものを選択し使用することができる。

より具体的な例を挙げると、例えば水性インクとしては
、水、湿潤剤、染料を主体とする水溶性インク又は水、
顔料、分散用高分子化合物、湿潤剤を主体とした水性顔
料分散インク、顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョン・インク等が用いられる。水
性インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。

エタノール、メタノール、プロパツール等の一価アルコ
ール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類
；エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、テトラエチレングリコール七ツ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル
、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価ア
ルコールのエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ε−カプロラクタ
ム等の複素環式化合物；モノエタノールアミン、ジェタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のアミン類等
。

水溶性染料としては、カラー・インデックスにおいて酸
性染料、直接染料、塩基性染料、反応性染料、食用染料
に分類される染料が用いられる。

代表的な染料の例としては、 Ｃ，１，アシッド・イエロー１７，２３，４２，４４，
７９，１４２Ｃ，１，アシッド・レッド１，８，１３，
１４，１ｇ、２６，２７，３５゜３７．４２，５２，８
２，８７，８９，９２，９７゜１０６．１１１，１１４
，１１５，１３４，１８６゜２４９．２５４，２８９ Ｃ，１，アシッド・ブルー９．２９，４５，９２，２４
９，８９０Ｃ，１，アシッド・ブラック１，２，７，２
４，２６，９４Ｃ，１，フード・イエロー３，４ Ｃ，１，フード・レッド７．９．１４ Ｃ，１，フード・ブラック２ Ｃ，１，ダイレクト・イエロー１，１２，２４，２６，
３３，４４，５０゜１４２．１４４，８６５ Ｃ，１，ダイレクト・レッド１，４，９，１３，１７，
２０，２８，３１゜３９．８０，８１，８３，８９，２
２５゜Ｃ，１，ダイレクト・オレンジ２６，２９，６２
，１０２Ｃ，１，ダイレクト・ブルー１，２，６，１５
，２２，２５，７１，７６゜７９．８６，８７，９０，
９８，１６３゜１６５．２０２ Ｃ，１，ダイレクト・ブラック１９，２２，３２，３８
，５１，５６゜７１．７４，７５，７７．１５４，１６
８Ｃ，１，ベーシック・イエロー１，２，１１，１３，
１４，１５，１９゜２１．２３，２４，２５，２８，２
９゜３２．３６，４０，４１，４５，４９゜５１．５３
，６３，６５，６７．７０゜７３．７７．８７，９１ Ｃ，１，ベーシック・レッド２，１２，１３，１４，１
５，１ｇ、２２゜２３．２４，２７，２９，３５，３６
，３８゜３９．４６，４９，５１，５２，５４，５９゜
６８．６９，７０，７３，７８，８２，１０２゜１０４
．１０９，１１２ Ｃ，１，ベーシック・ブルー１，３，５，７，９，２１
，２２，２６，３５゜４１．４５，４７，５４，６２，
６５，６６゜６７．６９，７５，７７．７８，８９，９
２゜９３．１０５，１１７，１２０，１２２゜１２４．
１２９，１３７，１４１，１４７゜ベーシック・ブラッ
ク２，８ 等を挙げることができる。

顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック、アゾ
メチンアゾ系、カーボン・ブラック等が挙げられ、無機
顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、紺
青、カドミウムレッド、クロムイエロー、金属粉が挙げ
られる。

顔料分散用化合物として、ポリアクリルアミド、ポリア
クリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンアク
リル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイン
酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶性
ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級アンモニウム
やアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化合
物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等の
蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム類
、サポニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
ス、等のセルロース誘導体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、セラミック等の天然高分子化合物、等が挙げられ
る。

油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を有機液体化合物に溶解したものや、顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。

油性染料の代表的な例としては、 Ｃ，１，ソルベント・イエロー１，２，３，４，５，６
，７，８，９゜１０．１１，１２，１４，１６，１７゜
２６．２７，２９，３０，３９，４０゜４６．４９，５
０，５１，５６，６１゜８０　、８６　、８７　、８９
　、９６Ｃ，１，ソルベント・オレンジ１２，２３，３
１，４３，５１，６１Ｃ，１，ソルベント・レッド１，
２，３，１６，１７，１８，１９，２０゜２２．２４，
２５，２６，４０，５２，５９゜６０．６３，６７．６
８，１２１ Ｃ，１，ソルベント・バイオレット７．１６．１７Ｃ，
１，ソルベント・ブルー２．６，１１，１５，２０，３
０，３１，３２゜３５．３６，５５．５ｇ、７１．７２ Ｃ，１，ソルベント・ブラウン２，１０，１５，２１．
２２Ｃ，１，ソルベント・ブラック３，１０，１１，１
２．１３等が挙げられる。

また、染料を溶解したり、顔料を分散するための油性ベ
ースとしては、ｎ−オクタン、ｎ−デカン、ミネラネス
ピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類；ジブチルエーテル、ジブチル
エーテル、アニソール、フェネトール、ジベンジルエー
テル等のエーテル類：メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコ
ール類等を例示することができる。

油性インクにおいても先に例示した顔料を用いることが
できる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、塩ビニル系共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセルロ
ース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエ
ステル、ポリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂、
ロジン、セラミック、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。

ところで、本発明装置においては、第１Ｏ図及び第１１
図に示したように、記録体（Ａ）表面に形成された可視
像は普通紙のごとき記録紙等６１へ転写されるようにな
っている。この転写操作が行なわれた際、時として、記
録体（Ａ）表面は記録紙等６１との接触などにより帯電
し、しかも、その帯電量は不均一な分布をしていること
がある。このような帯電が生じるとその静電気力により
、記録体（Ａ）表面に画像信号に応じて付着したインク
（記録剤）３ａは引力又は反発力を受は記録体（Ａ）表
面を若干動く場合があり、その結果、画質のみだれが生
じるようになる。

本発明装置ではこうした不測の事態の生じるのを未然に
防ぐため、記録体（Ａ）の帯電防止手段が設けられてい
る。もっとも記録体（Ａ）自体を帯電しに＜＜シておく
ことも考えられない訳ではないが、実際には、その記録
体（Ａ）の使用材料の面からなかなか困雛である。そこ
で１本発明装置においては、記録体（Ａ）表面に発生し
た電荷を素早く除去することによって、実質的に画質に
影響を与える帯電を防止するという手法が採用されてい
る。

表面電位を素早く除去する方法として、第一は、接地さ
れた導電性部材を記録体（Ａ）に接触することで電荷を
導電性部材を通して逃す方法である。

第二の方法は、記録体（Ａ）に接する記録剤を導電性に
し、かつ、接地しておく方法である。第三の方法は、接
地された導電性部材を記録体（Ａ）表面に近接して非接
触状態で配置する方法である。第四の方法は、記録体（
Ａ）の支持基板の少なくとも一部を導電性にしこの部分
を接地する方法である。

第一の方法に用いる導電性部材は、記録体表面を摩耗さ
せないため、なるべく柔わかい部材の使用が望ましい。

導電性のものとして、金属や導電性ゴムや導電性プラス
チックなどが望ましく、形状は薄い板状や繊維をたばね
たブラシ状のもの或いはローラー状のものが良い、この
部材を配置する位置は、記録体（Ａ）の任意の位置で良
いが潜像形成直前がより良い、また、配置する箇所は複
数でも良い、また、接触する部分は、記録体（Ａ）のす
くなくても一部でよい。第二の方法において、インク液
などの記録剤を導電性にするには、水性インクの場合は
、有機又は無機塩等を添加する方法が最も簡単である。

油性インクの場合は、金属等の導電性微粒子を添加する
方法などがある。

第１２図（ａ）は第一の手段としてローラー状導電性部
材５２を用いた例である。第１２図（ｂ）は第一の手段
として導電性ブラシ５３を用い、第二の手段として例え
ば板状の導電性部材５４を用い、これらの手段を組み合
わせた例である。第１３図は円弧をなした板状導電性部
材５５を記録体７になるべく近接（両者の間隔は１０趨
から数識層まで程度の範囲が望ましい）させた例である
。

第１４図は記録体基板（Ａ）の支持を導電性部材によっ
て形成した例である。但し、第１４図に示した手段では
表面層である膜２の厚さは、トンネル効果を期待してい
ることから、かなり薄いものである必要がある。

かくして、本発明装置の使用によれば、記録体（Ａ）表
面の電荷は速やかに除去され、良質の転写画像が得られ
るようになる。

〔実施例〕

実施例１ 膜材料（記録体（Ａ）の表面層材料）は、パーフルオロ
メチルメタクリレート（大阪有機化学社製、ビスコート
１７ＦＭ）をモノマーとし、１，１．１−　トリクロロ
エタン中で溶液重合にて作成した。この材料を精製した
後、フレオン１１３にて溶解し、この溶液をポリイミド
フィルム上にキャストした。これを記録体（Ａ）として
、φ１００厘膳のドラム上に巻きつけ第９図の構成にて
記録装置を作成した。サーマルヘッドは８ｄｏｔ／鵬■
ピツチの熱素子を持つものを用いた。さらに、第１２図
（ｂ）のごとく、約２０−のステンレス繊維を束ねた接
地されたブラシ状導電性部材を記録体（Ａ）に接して配
置した。この装置により画像記録を行ったところ、導電
性部材がない場合に認められた画像上のドツトの乱れが
全く生じなかった。

実施例２ 記録体（Ａ）、潜像形成手段及び記録剤付着手段は実施
例１と同じである。インク液には黒色直接染料を溶解し
、水酸化ナトリウムにてＰＨを１１に調節した水性イン
クを用いた。このインクを第１２図（ｂ）のごとく接地
して画像記録を行ったところ。

接地しない場合に比べ、記録体（Ａ）の表面の帯電量は
極めて小さく　（−３０Ｖ／ｃｄ）、良好な画像が得ら
れた。

実施例３ 記録体（Ａ）、潜像形成手段及び記録剤付着手段は実施
例１と同じである。インク液は、酸性黒色染料を溶解し
、水酸化ナトリウムにてＰＨを１１に調節した水性イン
クを用いた。接地された円弧状の導電性板材（鋼製）を
第１３図のごとく約０，５ｖ＋＋の間隔をおいて配置し
た。この部材がない場合記録体（Ａ）表面の帯電量は−
ＩＫＶ／ｃｄ程度有ったが、この部材により帯電量は一
１００Ｖ／（ｊ程度に小さくなり画質が改善された。

実施例４ 膜２材料は、パーフルオロメチルメタクリレート（大阪
有機化学社製、ビスコート１７ＦＭ）をモノマ−とし、
１，１．１−トリクロロエタン中で溶液重合して作成し
た。この材料を精製した後、フレオン１１３にて溶解し
、この溶液をニッケル製のシームレスベルト上にキャス
トした。これを記録体（Ａ）として、第９図の構成にて
記録装置を作成した。サーマルヘッドは８ｄｏｔ／■■
ピツチの熱素子を持つものを用いた。さらに、第１４図
のごとく、ニッケル製のシームレスベルトを接地した。

この装置により画像記録を行ったところ、基板が導電性
部材でない場合に認められた画像上のドツトの乱れが少
なくなった。

〔発明の効果〕

本発明の装置によれば、簡単な操作でしかも可逆的に所
望の画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四側
の図である。 第２図及び第３図は本発明方法を基本的に説明するため
の図である。 第４図は本発明に係る記録体（Ａ）表面に液体を接触さ
せた状態で記録体（Ａ）表面を加熱した場合、その記録
体（Ａ）表面にみられる後退接触角θｒの変化を表わし
た図である。 第５図は本発明装置の二つの態様を示したものである。 第６図、第７図、第８図、第９図、第１０図、第１１図
、第１２図、第１３図及び第１４図は本発明装置の実施
の様子を表わした図である。 １・・・基板 ２・・・膜 ３・・・液体 ４・・・ヒーター ５２．５３，５４，５５・・・導電性部材特許出願人　
株式会社　リ　　コ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記記録体（Ａ）の表面を下記接触材料（Ｂ）と
   接触させた状態で選択的に加熱することにより又は記録
   体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接触材料（Ｂ
   ）と接触させることにより記録体（Ａ）の表面に加熱温
   度に応じた後退接触角を示す潜像領域を形成せしめる接
   触材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に供給する手段と、記
   録体（Ａ）の表面を加熱する手段と、該潜像領域を顕像
   化させる記録剤付与手段と、可視像を記録紙等に転写す
   る手段と、記録体（Ａ）の帯電防止手段とを設けてなる
   ことを特徴とする記録装置。 （Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
   角が低下する表面を有する記録体。 （Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
   低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
   発生する固体。
2. （２）前記接触材料として記録剤を用いることにより接
   触材料（Ｂ）の供給手段と記録剤付与手段とを１つもの
   とした請求項１に記載の記録装置。
3. （３）前記帯電防止手段は記録体（Ａ）表面に導電性部
   材を接触させ、かつ、その導電性部材を接地させてなる
   請求項１又は２に記載の記録装置。
4. （４）前記帯電防止手段は記録体（Ａ）表面に帯電性部
   材を近接させ、かつ、その導電性部材を接地させてなる
   請求項１又は２に記載の記録装置。
5. （５）前記帯電防止手段は記録体（Ａ）の支持基板の少
   なくとも一部を導電性とし、かつ、その導電性部分を接
   地させてなる請求項１又は２に記載の記録装置。
6. （６）前記帯電防止手段は前記記録剤を接地させてなる
   請求項１又は２に記載の記録装置。