JPH03212819A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
- Publication number
- JPH03212819A JPH03212819A JP2004475A JP447590A JPH03212819A JP H03212819 A JPH03212819 A JP H03212819A JP 2004475 A JP2004475 A JP 2004475A JP 447590 A JP447590 A JP 447590A JP H03212819 A JPH03212819 A JP H03212819A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- baffle plate
- magnetic layer
- oxygen
- heat roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は磁気記録媒体の製造装置に関し、更に詳しくは
、イオンブレーティングや蒸着等のペーパーデイポジシ
ョン法により成膜された磁性薄膜の表面の酸化処理を行
う製造装置に関するものである。
、イオンブレーティングや蒸着等のペーパーデイポジシ
ョン法により成膜された磁性薄膜の表面の酸化処理を行
う製造装置に関するものである。
近年、高密度磁気記録への要求と共に、ウェブ（支持体
）上に強磁性金属材料からなる金属薄膜を真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンブレーティング法等で直接被
着形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体が用いられて
いる。この強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気特性
の点で数々の利点を有しているが、薄膜の磁気記録層は
非常に酸化され易く、更に記録再生時においてはヘッド
との接触走査により剥離、損傷等を生じ易いという欠点
があった。そこで、この欠点を改善すべく前記強磁性金
属薄膜の表面に種々の保護層を設けることが種々提案さ
れている。
）上に強磁性金属材料からなる金属薄膜を真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンブレーティング法等で直接被
着形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体が用いられて
いる。この強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気特性
の点で数々の利点を有しているが、薄膜の磁気記録層は
非常に酸化され易く、更に記録再生時においてはヘッド
との接触走査により剥離、損傷等を生じ易いという欠点
があった。そこで、この欠点を改善すべく前記強磁性金
属薄膜の表面に種々の保護層を設けることが種々提案さ
れている。
従来、例えば蒸着等の成膜方法により支持体であるプラ
スティック基盤上にＦｅ、 Ｎｉ、 Ｃｏ等の強磁性体
金属を単独もしくは合金とした磁気記録層を形成し磁気
記録媒体を製造する方法が汎用されているが、例えば特
開昭５８−２６３１９号、同５９−６３０３１号、特公
平１−２１５３４号公報等に開示されているように形成
された磁気記録層に酸素やオゾンを吹きつけたり或はそ
の雰囲気中に晒したりすることにより、電磁変換特性の
維持や耐久性、耐蝕性の維持を長期にわたって保証しよ
うとする処理が施されていた。
スティック基盤上にＦｅ、 Ｎｉ、 Ｃｏ等の強磁性体
金属を単独もしくは合金とした磁気記録層を形成し磁気
記録媒体を製造する方法が汎用されているが、例えば特
開昭５８−２６３１９号、同５９−６３０３１号、特公
平１−２１５３４号公報等に開示されているように形成
された磁気記録層に酸素やオゾンを吹きつけたり或はそ
の雰囲気中に晒したりすることにより、電磁変換特性の
維持や耐久性、耐蝕性の維持を長期にわたって保証しよ
うとする処理が施されていた。
しかしながら、前記特開昭５９−６３０３１号、特公平
１−２１５３４号公報に開示されたような処理方法では
、成膜後すぐに酸化処理ができるものの、成膜処理条件
により酸化処理条件が制約を受けることが避けられない
ために、極めて処理効率が悪く処理速度を速くすること
が出来ないのが現実であった。また、前記特開昭５８−
２６３１９号に開示された処理方法は、オゾンガス中に
１０分〜６０分もの長い時間晒すような処理工程がある
ために生産性が低く工業的に優れた処理方法ではなかっ
た。
１−２１５３４号公報に開示されたような処理方法では
、成膜後すぐに酸化処理ができるものの、成膜処理条件
により酸化処理条件が制約を受けることが避けられない
ために、極めて処理効率が悪く処理速度を速くすること
が出来ないのが現実であった。また、前記特開昭５８−
２６３１９号に開示された処理方法は、オゾンガス中に
１０分〜６０分もの長い時間晒すような処理工程がある
ために生産性が低く工業的に優れた処理方法ではなかっ
た。
本発明の目的は上記問題点を解消することにあり、電磁
変換特性の維持や耐久性、耐蝕性の維持を長期にわたっ
て保証すべく酸化処理を極めて効率良くできて生産性に
優れた磁気記録媒体の製造装置を提供することにある。
変換特性の維持や耐久性、耐蝕性の維持を長期にわたっ
て保証すべく酸化処理を極めて効率良くできて生産性に
優れた磁気記録媒体の製造装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明に係る上
記目的は、可撓性支持体上に磁性層を形成したのちに該
磁性層を酸化処理する磁気記録媒体の製造装置であって
、密封チャンバー内に既に磁性層の形成された可撓性支
持体が繰出ロールから連続して送り出され、回転自在な
ヒートロールに一定角巻きついて走行された後に巻き取
られるようになされており、前記可撓性支持体が前記ヒ
ートロールに巻きついている領域に沿って該ヒートロー
ル外周面に近接したバッフルプレートが配置され、且つ
前記バッフルプレートの内側に設けられたノズルにより
酸素或はオゾンを前記磁性層に吹きつけるように構成し
たことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置によって達
成される。
記目的は、可撓性支持体上に磁性層を形成したのちに該
磁性層を酸化処理する磁気記録媒体の製造装置であって
、密封チャンバー内に既に磁性層の形成された可撓性支
持体が繰出ロールから連続して送り出され、回転自在な
ヒートロールに一定角巻きついて走行された後に巻き取
られるようになされており、前記可撓性支持体が前記ヒ
ートロールに巻きついている領域に沿って該ヒートロー
ル外周面に近接したバッフルプレートが配置され、且つ
前記バッフルプレートの内側に設けられたノズルにより
酸素或はオゾンを前記磁性層に吹きつけるように構成し
たことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置によって達
成される。
Ｃ実施Ｌｑ様〕
以下、添付図面を参照して本発明の一実施態様を説明す
る。ただし本発明は本実施態様のみに限定されない。
る。ただし本発明は本実施態様のみに限定されない。
第１図に示す本実施態様の製造装置１は、磁気テープＴ
を製造する際の磁性層の酸化処理を行う装置であり、そ
の基本的構成は、密封チャンバーｌＯがヒートロール２
を有する処理室３と該処理室３に隣接した２つのテープ
ロール収納室を有する３室構造であって、その収納室は
送りだしロール２１を収納するロール装填室１日と巻き
取りロール２２を取り出すロール取り出し室１９とが前
記処理室３を挾んで位置した構成である。なお、前記ロ
ール装填室１８及び前記ロール取り出し室１９には処理
前の磁気テープロール及び処理後の磁気テープロールを
出し入れする密封性の高い開閉ドア２６及び２７が取り
つけられている。又、前記磁気テープＴの走行路におけ
る前記ヒートロール２の前方にはテープ走行案内ならび
に予備加熱を行うことのできるプレヒーターロール１４
が配置されており、後方には前記磁気テープＴが巻き取
られる前に適当な温度（１０°〜５０°Ｃ程度）に冷却
することのできる冷却ロール１７が配置されている。
を製造する際の磁性層の酸化処理を行う装置であり、そ
の基本的構成は、密封チャンバーｌＯがヒートロール２
を有する処理室３と該処理室３に隣接した２つのテープ
ロール収納室を有する３室構造であって、その収納室は
送りだしロール２１を収納するロール装填室１日と巻き
取りロール２２を取り出すロール取り出し室１９とが前
記処理室３を挾んで位置した構成である。なお、前記ロ
ール装填室１８及び前記ロール取り出し室１９には処理
前の磁気テープロール及び処理後の磁気テープロールを
出し入れする密封性の高い開閉ドア２６及び２７が取り
つけられている。又、前記磁気テープＴの走行路におけ
る前記ヒートロール２の前方にはテープ走行案内ならび
に予備加熱を行うことのできるプレヒーターロール１４
が配置されており、後方には前記磁気テープＴが巻き取
られる前に適当な温度（１０°〜５０°Ｃ程度）に冷却
することのできる冷却ロール１７が配置されている。
また、その他に前記密封チャンバーｌθ内の気圧やガス
濃度を所望に保つために排気系が設置されており、この
排気系には、当然、オゾンガスの洩れによる問題を回避
するためのオゾン分解装置１６等が設けられている。
濃度を所望に保つために排気系が設置されており、この
排気系には、当然、オゾンガスの洩れによる問題を回避
するためのオゾン分解装置１６等が設けられている。
前記ロール取り出し室１９の気圧は該取り出し室１９室
に空気を送り込むとにより前記処理室３の気圧よりも高
くすることができ、オゾンガスの前記ロール取り出し室
１９への進入を防止し、巻き取り後においてオゾンガス
による過度の酸化を回避することができ安定した品質を
保証することができる。
に空気を送り込むとにより前記処理室３の気圧よりも高
くすることができ、オゾンガスの前記ロール取り出し室
１９への進入を防止し、巻き取り後においてオゾンガス
による過度の酸化を回避することができ安定した品質を
保証することができる。
前記処理室３内へのオゾンガスの供給は、オゾンガス発
生装置（オゾナイザ−）１５にて発生させたオゾンガス
を配管１２を介して噴射ノズル装置８から噴出させてい
る。また、前記処理室３には、前記磁気テープＴが前記
ヒートロール２に巻きついている領域に沿って少なくと
もテープ幅以上の幅を有したパフフルプレート４が設け
られてイル。前記バッフルプレート４と前記ヒートロー
ル外周面との間隔は特に限定するものではないが、例え
ば２１〜３０ｎｍの範囲に設定することができる。
生装置（オゾナイザ−）１５にて発生させたオゾンガス
を配管１２を介して噴射ノズル装置８から噴出させてい
る。また、前記処理室３には、前記磁気テープＴが前記
ヒートロール２に巻きついている領域に沿って少なくと
もテープ幅以上の幅を有したパフフルプレート４が設け
られてイル。前記バッフルプレート４と前記ヒートロー
ル外周面との間隔は特に限定するものではないが、例え
ば２１〜３０ｎｍの範囲に設定することができる。
前記バッフルプレート４の内側には、二つの前記噴射ノ
ズル装置８が適当な間隔をあけて配置されている。この
噴射ノズル装置８の配設位置は、前記バッフルプレート
４の先端部分（磁気テープ走行方向の上流側）と中段部
分に設けである。これは供給したオゾンガスが前記磁気
テープＴに同伴されることを考慮した配置である。
ズル装置８が適当な間隔をあけて配置されている。この
噴射ノズル装置８の配設位置は、前記バッフルプレート
４の先端部分（磁気テープ走行方向の上流側）と中段部
分に設けである。これは供給したオゾンガスが前記磁気
テープＴに同伴されることを考慮した配置である。
前記噴射ノズル装置８は第２図に示すように、前記配管
１２の先端から左右に磁気テープ幅方向にＴ字状に延び
た円筒形の管胴部１１に、前記磁気テープＴに形成され
た磁性層に対向するように複数のノズル９が等間隔に形
成された構造となっている。そして、例えば前記ヒート
ロール２の径が１０００ｍｍで前記バッフルプレート４
の長さが２０００ｒｎＩ１１．磁気テープ幅が３００ｍ
ｍ程度のとき、磁気テープ搬送速度が０．５〜１５ｍ／
ｍｉｎの範囲、オゾン濃度２０〜１５０ｇ／ｓ’の範囲
、オゾン流量１〜１５ｊ！／ｗｉｎ、加熱温度は常温〜
１４０°Ｃの酸化処理の条件のときに、前記磁気テープ
Ｔと前記ノズル９との距離を５ｍｓ＋以下にすると共に
ノズル間隔を５ｍ＋ｍ以下にし、更にノズル径をｌｎｍ
以内にすることにより酸化処理を均一に行うことができ
る。
１２の先端から左右に磁気テープ幅方向にＴ字状に延び
た円筒形の管胴部１１に、前記磁気テープＴに形成され
た磁性層に対向するように複数のノズル９が等間隔に形
成された構造となっている。そして、例えば前記ヒート
ロール２の径が１０００ｍｍで前記バッフルプレート４
の長さが２０００ｒｎＩ１１．磁気テープ幅が３００ｍ
ｍ程度のとき、磁気テープ搬送速度が０．５〜１５ｍ／
ｍｉｎの範囲、オゾン濃度２０〜１５０ｇ／ｓ’の範囲
、オゾン流量１〜１５ｊ！／ｗｉｎ、加熱温度は常温〜
１４０°Ｃの酸化処理の条件のときに、前記磁気テープ
Ｔと前記ノズル９との距離を５ｍｓ＋以下にすると共に
ノズル間隔を５ｍ＋ｍ以下にし、更にノズル径をｌｎｍ
以内にすることにより酸化処理を均一に行うことができ
る。
前記ノズル９から噴出される噴射オゾンガスの噴出方向
は、例えば第３図に示すように磁性層表面に対して垂直
方向よりもテープ走行方向に順方向（θ〉０°）にする
ことが望ましい。これは、噴出方向を１頓方向にするこ
とにより、オゾンガスがテープに同伴して巻き込まれ易
く、また、噴出速度が比較的高くても磁性層に与える衝
撃が小さくて済む。又、前記噴射ノズル装置８が前記バ
ッフルプレート４の中段部分に設置されているのは、先
端部分に於いて供給されたオゾンガスが前記磁気テープ
Ｔに同伴された後に希薄になる前にもう一度供給して、
該ガス濃度の低下を防止してるものである。
は、例えば第３図に示すように磁性層表面に対して垂直
方向よりもテープ走行方向に順方向（θ〉０°）にする
ことが望ましい。これは、噴出方向を１頓方向にするこ
とにより、オゾンガスがテープに同伴して巻き込まれ易
く、また、噴出速度が比較的高くても磁性層に与える衝
撃が小さくて済む。又、前記噴射ノズル装置８が前記バ
ッフルプレート４の中段部分に設置されているのは、先
端部分に於いて供給されたオゾンガスが前記磁気テープ
Ｔに同伴された後に希薄になる前にもう一度供給して、
該ガス濃度の低下を防止してるものである。
このように、前記ノズル９は前記磁気テープＴの幅方向
に対応して複数並んでいるので、オゾン或は酸素の吹き
つけが前記磁性層全面にわたって均一にすることができ
るだけでなく、オゾンガス以外の空気の同伴を抑えるこ
ともでき、又、前記バッフルプレートを前記支持体がヒ
ートロール上に周接される領域に対応してヒートロール
外周面に接近して設置されていることにより、前記ノズ
ル９から供給されたオゾンは前記バッフルプレート４と
ロール外周面との間にある程度閉じ込められた状態とな
り、オゾンガスの供給量が少なくとも高濃度状態を維持
できるので、前記処理室３全体を高いオゾン濃度にする
必要もなく極めて効率の良い酸化処理ができる。更に、
前記ヒートロール２の加熱温度の放熱防止効果も期待す
ることができる。又、従来においては成膜後に前記磁気
テープＴが反り変形を生じるために、その反り変形の修
正処理（カッピング修正工程）が行われていたが、本発
明においては前記ヒートロール２の温度を適宜に調整す
ることにより、酸化処理工程中において同時に反り変形
修正処理を行うことができる効果も奏することができる
。
に対応して複数並んでいるので、オゾン或は酸素の吹き
つけが前記磁性層全面にわたって均一にすることができ
るだけでなく、オゾンガス以外の空気の同伴を抑えるこ
ともでき、又、前記バッフルプレートを前記支持体がヒ
ートロール上に周接される領域に対応してヒートロール
外周面に接近して設置されていることにより、前記ノズ
ル９から供給されたオゾンは前記バッフルプレート４と
ロール外周面との間にある程度閉じ込められた状態とな
り、オゾンガスの供給量が少なくとも高濃度状態を維持
できるので、前記処理室３全体を高いオゾン濃度にする
必要もなく極めて効率の良い酸化処理ができる。更に、
前記ヒートロール２の加熱温度の放熱防止効果も期待す
ることができる。又、従来においては成膜後に前記磁気
テープＴが反り変形を生じるために、その反り変形の修
正処理（カッピング修正工程）が行われていたが、本発
明においては前記ヒートロール２の温度を適宜に調整す
ることにより、酸化処理工程中において同時に反り変形
修正処理を行うことができる効果も奏することができる
。
なお、前記噴射ノズル装置８は第１図に示すように２つ
に限るものではなく、更に多く設置してもよい。また、
酸化処理様のガスはオゾンガスに限らず酸素であっても
よい。
に限るものではなく、更に多く設置してもよい。また、
酸化処理様のガスはオゾンガスに限らず酸素であっても
よい。
前記実施態様においては、前記バッフルプレート４と前
記噴射ノズル装置８とを別々に構成したが、本発明はこ
のような構成に限るものではなく第４図に示すように構
成することもできる。
記噴射ノズル装置８とを別々に構成したが、本発明はこ
のような構成に限るものではなく第４図に示すように構
成することもできる。
第４図に示すバッフルプレート４０は中空の部材にて構
成されており、ヒートロール２．側に対向した面の全面
にわたってノズル４１が多数形成されており、この多数
のノズル４１からオゾンガスを噴出するように構成され
ている。また、前記バッフツブレート４０の内部は例え
ば仕切り板４２によって２部屋に分離されており、この
分離された部屋毎に配管１２が接続されている。前記ノ
ズル４１の開口の大きさに関しては、前記配管１２の接
続位置やガス圧の分布状態等を考慮してその開口位置に
よって大きさを変化させるようにすることもできる。
成されており、ヒートロール２．側に対向した面の全面
にわたってノズル４１が多数形成されており、この多数
のノズル４１からオゾンガスを噴出するように構成され
ている。また、前記バッフツブレート４０の内部は例え
ば仕切り板４２によって２部屋に分離されており、この
分離された部屋毎に配管１２が接続されている。前記ノ
ズル４１の開口の大きさに関しては、前記配管１２の接
続位置やガス圧の分布状態等を考慮してその開口位置に
よって大きさを変化させるようにすることもできる。
本発明においては前記各実施態様におけるノズルの形状
は円形状の開口に限るものではなく、スリット形状であ
ってもよい。
は円形状の開口に限るものではなく、スリット形状であ
ってもよい。
更に、本発明は前記各実施態様のようにバッフルプレー
トを単にヒートロールに対向させただけの構成に限らず
、第５図に示すようにバッフルプレート５０の左右両端
部５１をヒートロール２の半径内方側に張り出した上に
、該左右両端部５１の先端部５２を前記ヒートロール２
の側面に形成した溝２Ｏａ内に入り込むように屈曲させ
た構成にすることができる。又、前記先端部５２の張出
に対応して前記ヒートロール２の側面をへこました構成
を採用することにより、前記バッフルプレート５０によ
って形成される酸化処理ゾーンの閉塞性を極めて高いも
のにすることができる。
トを単にヒートロールに対向させただけの構成に限らず
、第５図に示すようにバッフルプレート５０の左右両端
部５１をヒートロール２の半径内方側に張り出した上に
、該左右両端部５１の先端部５２を前記ヒートロール２
の側面に形成した溝２Ｏａ内に入り込むように屈曲させ
た構成にすることができる。又、前記先端部５２の張出
に対応して前記ヒートロール２の側面をへこました構成
を採用することにより、前記バッフルプレート５０によ
って形成される酸化処理ゾーンの閉塞性を極めて高いも
のにすることができる。
以上述べたように、本発明は可撓性支持体上に磁性層を
形成したのちに該磁性層を酸化処理する磁気記録媒体の
製造装置であって、密封チャンバー内に既に磁性層の形
成された可撓性支持体が繰出ロールから連続して送り出
され、回転自在なヒートロールに一定角巻きついて走行
された後に巻き取られるようになされており、前記可撓
性支持体が前記ヒートロールに巻きついている領域に沿
って該ヒートロールの外周面に近接した位置にバッフル
プレートが配置され、且つ前記バッフルプレートの内側
に設けられた噴射ノズルにより酸素或はオゾンを前記磁
性層に吹きつけるように構成したことを特徴とする磁気
記録媒体の製造装置である。
形成したのちに該磁性層を酸化処理する磁気記録媒体の
製造装置であって、密封チャンバー内に既に磁性層の形
成された可撓性支持体が繰出ロールから連続して送り出
され、回転自在なヒートロールに一定角巻きついて走行
された後に巻き取られるようになされており、前記可撓
性支持体が前記ヒートロールに巻きついている領域に沿
って該ヒートロールの外周面に近接した位置にバッフル
プレートが配置され、且つ前記バッフルプレートの内側
に設けられた噴射ノズルにより酸素或はオゾンを前記磁
性層に吹きつけるように構成したことを特徴とする磁気
記録媒体の製造装置である。
従って、前記バッフルプレートを前記支持体がヒートロ
ール上に周接される領域に対応してヒートロール外周面
に接近して設置されているので、オゾン或は酸素の吹き
つけが前記磁性層全面にわたって均一にすることができ
、また、前記噴射ノズルから供給された前記酸素或はオ
ゾンは前記バッフルプレートとロール外周面との間にあ
る程度閉じ込められ、少ない供給量でも高濃度状態を維
持できるので、密封チャンバー全体を高濃度にする必要
もなく極めて効率の良い酸化処理ができる。
ール上に周接される領域に対応してヒートロール外周面
に接近して設置されているので、オゾン或は酸素の吹き
つけが前記磁性層全面にわたって均一にすることができ
、また、前記噴射ノズルから供給された前記酸素或はオ
ゾンは前記バッフルプレートとロール外周面との間にあ
る程度閉じ込められ、少ない供給量でも高濃度状態を維
持できるので、密封チャンバー全体を高濃度にする必要
もなく極めて効率の良い酸化処理ができる。
更に、前記ヒートロールの加熱温度の放熱防止を行うこ
とができ、また、前記ヒートロールの温度調節により支
持体（Ｗｌ気テープ）の反り変形の修正処理も同時に行
うことができる。
とができ、また、前記ヒートロールの温度調節により支
持体（Ｗｌ気テープ）の反り変形の修正処理も同時に行
うことができる。
第１図は本発明の製造装置の概略図、第２図は本発明に
おける噴射ノズル及びバッフルプレートの概略図、第３
図は噴出ガスの噴出状態を示した概略図、第４図は本発
明の他の実施態様におけるバッフルプレートを示すため
の概略側面図、第５図は他の実施態様におけるバッフル
プレートの横断面の概略図である。 図中符号： ■・・・製造装置、 ２．２０・・・ヒートロール、 ３・・・処理室、 ４．４０．５０・・・バッフルプレート、８・・・噴射
ノズル、 ９．４１・・・ノズル、 １０・・・密封チャンバー １１・・・管胴部、 １２・・・配管、１４・・・
プレヒートロール、 Ｉ５・・・オゾン発生装置、 １６・・・オゾン分解装置、 １７・・・冷却ロール、 １８・・・ロール装填室、 １９・・・ロール取り出し室、 ２０ａ・・・溝、 ２１・・・送りだしロール、２２
・・・巻き取りロール、 ２６．２７・・・開閉ドア、 ４１・・・仕切り板、 ５１・・・両端部、５２・・・
先端部。 第 ２ 図 １ 第 図 第 図 ３ ↓
おける噴射ノズル及びバッフルプレートの概略図、第３
図は噴出ガスの噴出状態を示した概略図、第４図は本発
明の他の実施態様におけるバッフルプレートを示すため
の概略側面図、第５図は他の実施態様におけるバッフル
プレートの横断面の概略図である。 図中符号： ■・・・製造装置、 ２．２０・・・ヒートロール、 ３・・・処理室、 ４．４０．５０・・・バッフルプレート、８・・・噴射
ノズル、 ９．４１・・・ノズル、 １０・・・密封チャンバー １１・・・管胴部、 １２・・・配管、１４・・・
プレヒートロール、 Ｉ５・・・オゾン発生装置、 １６・・・オゾン分解装置、 １７・・・冷却ロール、 １８・・・ロール装填室、 １９・・・ロール取り出し室、 ２０ａ・・・溝、 ２１・・・送りだしロール、２２
・・・巻き取りロール、 ２６．２７・・・開閉ドア、 ４１・・・仕切り板、 ５１・・・両端部、５２・・・
先端部。 第 ２ 図 １ 第 図 第 図 ３ ↓
Claims (1)
- 可撓性支持体上に磁性層を形成したのちに該磁性層を酸
化処理する磁気記録媒体の製造装置であって、密封チャ
ンバー内に既に磁性層の形成された可撓性支持体が繰出
ロールから連続して送り出され、回転自在なヒートロー
ルに一定角巻きついて走行された後に巻き取られるよう
になされており、前記可撓性支持体が前記ヒートロール
に巻きついている領域に沿って該ヒートロール外周面に
近接したバッフルプレートが配置され、且つ前記バッフ
ルプレートの内側に設けられたノズルにより酸素或はオ
ゾンを前記磁性層に吹きつけるように構成したことを特
徴とする磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004475A JPH03212819A (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | 磁気記録媒体の製造装置 |
| US07/641,399 US5123376A (en) | 1990-01-16 | 1991-01-15 | Apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
| EP91100418A EP0441132B1 (en) | 1990-01-16 | 1991-01-15 | Apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
| DE69114529T DE69114529T2 (de) | 1990-01-16 | 1991-01-15 | Gerät zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsträgern. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004475A JPH03212819A (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03212819A true JPH03212819A (ja) | 1991-09-18 |
Family
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