JPH03214422A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に非磁性
支持体上に磁性層を形成して成る磁気記録媒体の製造方
法に関する。

〔従来の技術〕

従来、オーディオテープ、ビデオテープ等の磁気テープ
、及びフロノピイディスク等の磁気ディスク等といった
磁気記録媒体の一般的な製造方法としては、通常の製品
よりも幅広の非磁性支持体上に磁性塗布液を塗布して磁
性層を形成し、配向処理等を行い磁性層を乾燥させた後
、前記磁性層の表面平滑化処理を行ってテープ原反を作
製し、その後、裁断工程において前記テープ原反を所定
のテープ幅或いは所定の形状に裁断して製造されている
． 前記表面平滑化処理は、前記磁性層表面の艶出し、平滑
化、充填密度の向上あるいは塗布厚みの均一化等のため
に行われており、特に前記磁性層表面の平滑化は、磁気
記録媒体の再生出力向上やテープノイズの減少に対して
有効である。

更に、近年に至り、磁気記録媒体の記憶容量を高めるこ
とが強く要望されており、磁気記録媒体の単位面積当た
りの情報記録密度を高める必要がある。

そこで、前記情報記録密度を高めるためには、情報の記
録及び再生を行う磁気ヘノドから発生する書き込み磁束
を微小な面積に集中させる必要があるので、…Ｉ記侑気
ヘノトは小型化され、発生磁束蟹が滅少させられる。従
って、■−記のように滅せられた磁束で磁性層の磁化の
力向を反転するためには、前記磁性層の体積の減少、す
なわち萌記るｎ性層の厚みを滅少させなければ完全な磁
化反転を行うことができないので、前記磁気記録媒体の
磁性層を薄層化することが必要となってきている。

また、上記の如き粉末るｄ性材料を有機ハインダ中に分
散せしめた磁性塗布液を非磁性支持体上に塗布、乾燥さ
せる塗布型の磁気記録媒体に対して、抗磁力しや残留磁
束密度Ｂ，が大きく磁性層の厚みを極めて薄《すること
ができ、非磁性支持体上に強磁性金属材料からなる金属
薄膜を真空蒸着法等によって直接被着形成した強磁性金
属薄膜型の磁気記録媒体が使用され始めている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、磁気記録媒体の再生出力向上やテープノ
イズの減少に対して有効な前記磁性層表面の平滑性は、
該磁性層が形成される前記非磁性支持体表面の平滑性と
密接な関係に有るので、平滑な磁性層表面を得る為には
表面平滑性の良い非磁性支持体を用いる必要があり、特
に上記の如く薄層化された磁性層表面ほど前記非磁性支
持体表面の平滑性の影響を受け易い． 従って、良好な磁気特性を有する磁気記録媒体を得る為
には、表面平滑性の良好な非磁性支持体を用いる必要が
あるが、このような非磁性支持体材料は高価であり、製
造コストが高くなるという問題がある． そこで、本発明の目的は上記課題を解消することにあり
、表面平滑性の良くない安価な非磁性支持体表面の上に
も、再生出力が高くテープノイズが低い表面平滑性の良
好な磁性層を薄層形成できる製造コストの安価な磁気記
録媒体の製造方法を提供することである。

〔課題を解決するだめの手段〕

本発明の上記目的は、非磁性支持体上に該非磁性支持体
よりも表面の平滑化処理をし易い高分子樹脂或いは該高
分子樹脂と非磁性の粒子を主成分とするダミー層を形成
し、該ダミー層の表面を平滑化処理した後に、前記ダミ
ー層上に磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法により達成される． 尚、上記の如き表面の平滑化処理をし易い高分子樹脂と
は、加熱しながら加圧ローラによって加圧をする際にヅ
性変形が可能となる軟化温度が低い高分子樹脂（ｌ５０
゜Ｃ以下）、又は加圧ロールによる加圧力が低い高分子
樹脂のことであり、一般に前記非磁性支持体として使用
されているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等よ
りも表面の平滑化処理をし易い高分子樹脂が好ましく、
本発明のダミー層に使用する前記高分子樹脂としては、
例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれ
らの混合物を使用することができる。熱可塑性樹脂とし
ては軟化温度が１５０゜Ｃ以下、平均分子量が１０００
０〜３０００００、重合度が約５０〜２０００程度のも
ので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体
、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メ
タクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリ
ル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー
、ナイロンーシリコン系樹脂、ニトロセルロースーボリ
アミド樹脂、ボリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリ
口ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重
合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースダイアセテート、セルローストリアセテート、セル
ロースブロビオフ一ト、ニトロセルロース、エチルセル
ロース、メチルセルロース、プロビルセルロース、メチ
ルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ア
セチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、
ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エ
ステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可
塑性樹脂及びこれらの混合物等を使用することができる
。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無
限人のものとなる．又、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に溶融しないものが好ましい。具体
的には例えばフェノル樹脂、フェノキン樹脂、エボキン
樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキノド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹
脂、エボキシ−ボリアミド樹脂、ニトロセルロースメラ
ミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルボリ
オールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール
／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポ
リアミン樹脂、ボリイミン樹脂及びこれらの混合物等で
ある． これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に官能基としてカルホン酸、スルフィ
ン酸、スルフェン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホスホ
ン、ホスフィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エステ
ル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基、アミノ
酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸ま
たは燐酸エステル類、アルキルヘタイン型等の両性類基
、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エボキシ
基、等また、水酸基、アルコシル基、チオール基、ハロ
ゲン基、シリル基、シロキサン基を通常１種以上６種以
内含み、各々の官能基は樹脂ｌｇあたりｌ　ＸＩＯ−’
ｅｑ−Ｉ　ＸＩＯ−”ｅｑ含む事が好ましい。

又、前記非磁性の粒子としては、例えば、カーポンプラ
ンク、α−アルミナ、Ｔ−アルミナ、αｒ−アルミナ、
溶融アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム
、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ
石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネ
ント、ケイ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化タングステ
ン、チタンカーバイト、クオーツ、トリポリ、ケイソウ
土、Ｖロマイト等を一種あるいは複数種組み合わせて用
いることができる。更に、これらの粒子の大きさは、大
きすぎると磁性層を塗布する面の表面性を悪くする一方
、小さずぎると前記ダミー層の補強効果がさほど期待で
きないので、その平均粒径が０．Ｏｌ〜２μ一の粒子が
望ましい。又、該粒子の混入割合としては、前記ダミー
層を構成する樹脂に対して重量で７０％以下とすること
が望ましい。

更に、前記ダミー層の形成手段としては、ロールコート
、グラビアコート、エクストルージョンヘンド及びドク
ターブレード方式等種々の塗布形式により形成すること
ができる。

〔実施態様〕

以下、本発明に基づく磁気記録媒体の製造方法の一実施
態様を添付図面に基づいて詳細に説明する． 第１図は本発明の製造方法に基づく磁気記録媒体の製造
工程を示す概略図である． 繰出口−ルｌから送り出された支持体２は、第２図の（
ａ）に示す様に、比較的表面性の悪い非磁性支持体であ
る．そこで、該支持体２の表面に第１塗布ヘッド３によ
って表面の平滑化処理をし易い高分子樹脂からなるダミ
ー層１１を厚さ１〜４μｍ程度に塗布した後、乾燥ゾー
ン５にて該ダミー層１１を乾燥固化する．前記第１塗布
ヘノド３には、前記高分子樹脂を連続的にかつ一定の流
量で送液する給液系４が連通しており、前記支持体上に
前記高分子樹脂を均一な塗布厚みで塗布する．この時、
前記ダミー層１１の表面は第２図の（＋））に示す様に
、比較的表面性の悪いままである． 次に、前記ダミー層ｌ１を塗布された支持体２の表面を
一対のカレンダーロール６ａ，６ｂによってカレンダー
処理する。この時、前記カレンダーロール６ａ，６ｂは
約８０゜Ｃ程度に加熱されると共に、約１５０〜４００
　ｋｇｗ／ｃｍの加圧力で、前記支持体２を加圧ニノブ
ずる。ずると、前記ダミ−Ｒｉｌｌを構成している高分
子樹脂は、軟化温度が１５０゜Ｃ以下という比較的表面
の平滑化処理をし易い高分子樹脂を主成分としているの
で、第２図の（Ｃｌに示す様に、前記支持体２の表面６
こ塗布されたダミー層１１の表面は平滑化処理されて良
好な表面性を有することができる。

そして、ｉｉＩ記支持体２の表面に第２塗布ヘノ１′７
によって磁性塗布液を塗布し、乾燥ヅーン９にて乾燥固
化して磁性層ｌ２を形成する。ｉク記第２塗布へ，ト７
には、前記磁性塗布液を連続的にかつ一定の流量で送液
する給液系８が連通しており、前記支持体上に前記磁性
塗布液を均一な塗布厚みで塗布する。

ここで、前記磁性層ｌ２は、良好な表面性を有する前記
ダミー層１１の表面上に塗布されるので、前記支持体２
が比較的表面性の悪い非磁性支持体であっても、該磁性
層ｌ２の表面は第２図の（ｄｌに示す様に良好な表面性
を有することができる．そして、前記乾燥ゾーン９にて
乾燥された支持体２は巻き取り口ールｌＯに巻き取られ
て、磁性層のカレンダー処理工程等の次工程に送られる
。

従って、表面性が比較的良《ない安価な非磁性支持体上
にも、再生出力が高《テープノイズが低い表面平滑性の
良好な磁性層を薄層形成できる。

また、前記ダミー層１１を構成する比較的表面の平滑化
処理をし易い高分子樹脂にα−Ａ１．０３等の非磁性粒
子を添加することにより、前記ダミ層１１の表面平滑化
処理時の樹脂の欠落といった欠陥発生に対する膜強度の
向上及び該ダミー層樹脂の前記カレンダーロールへの付
着防止が可能となる． 更に、従来は表面が平滑な非磁性支持体を用いていたの
で、記録再生装置内における磁気テープの走行性を改善
するためにバノクコート層を設けて支持体の反磁性層表
面を粗面化処理し、摩擦抵抗を下げなければならなかっ
た。しかしながら、本発明の塗布方法によれば表面の表
面性が比較的良くない非磁性支持体上に磁性層を形成す
ることができるので、表面の粗い非磁性支持体を用いれ
ば、該支持体の反磁性層表面は始めから粗く、粗面化処
理する必要がない。

尚、上記実施Ｂ欅においては、前記ダミー層Ｉｔがエク
ストルージョンヘノドによって塗布されているが、本発
明はこれに限定されるものではなく、ロールコート、グ
ラビアコート等の他の塗布手段を用いることができる。

また、前記磁性層Ｉ２もエクストルージョンヘッドによ
って塗布されているが、他の塗布手段を用いることがで
きることは勿論であり、例えば強磁性金属材料からなる
金属薄膜を真空蒸着法等によって直接被着形成する強磁
性金属薄膜型の磁気記録媒体についても応用できる．又
、前記磁性層が多層構造に構成することができることは
勿論である． 更に、磁気記録媒体の製造工程も上記実施態様の製造工
程に限るものではな《、例えば上記実施態様における磁
性層の塗布工程と乾燥工程の間にオリエンテーション（
磁界配向処理）を行っても良い． 〔発明の効果〕 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に
該非磁性支持体よりも表面の平滑化処理をし易い高分子
樹脂或いは咳高分子樹脂と非磁性の粒子を主成分とする
ダミー層を形成し、該ダミー層の表面を平滑化処理した
後に、前記ダミー層上に磁性層を形成するので、前記非
磁性支持体が比較的表面性の悪い支持体であっても、該
非磁性支持体上に形成される磁性層の表面は良好な表面
性を有することができる。

従って、表面平滑性の良《ない安価な非磁性支持体表面
の上にも、再生出力が高くテープノイズが低い表面平滑
性の良好な磁性層を薄層形成できる製造コストの安価な
磁気記録媒体の製造方法を提供できる． 〔実施例〕 以下、本発明の一実施例により本発明の新規な効果をよ
り明蹟にする． 迫五１日負色 下記第１表及び第２表に示す組成成分の磁性塗布ｌ＆を
ボールミルに入れて１０．５時間混合分散して磁性塗布
液Ａ，Ｂを調製した。こうして得られた磁性塗布液Ａ，
Ｈの平衡粘度を測定したところ、剪断速度がｌ　Ｘ　Ｉ
Ｏ’ｓｅｃ−　’においてはそれぞれ０．２５ｐｏｉｓ
ｅ及び０．３０ｐｏｉｓｅを示した。

第　　１　　表 組成 ｒ　−Ｆｅ２０，，　ｔｊ〕未　　　　　　　　　１０
０重量部（　Ｓ　．Ｅｔ値：　３５ｒｒｒ／　ｇ　）・
二ｌ・ロセルロース　　　　　　　　ｌｏ　重Ｍ　部・
ポリイソシア不一ト ・カーボンブラノク （平均粒径＝２０ｍμｍ） ８重量部 ２重量部 ・メチルエチルケトン ３００重量部 第 ２ 表 組成 ニトロセルロース １０重量部 ポリイソシアネート ８重量部 ・Ｃｒ．０３ ２重量部 ・ステアリン酸　　　　　　　　　　　１重量部・ステ
アリン酸ブチル　　　　　　　　ｌ重量部・メチルエチ
ルケトン　　　　　　　３００重量部久ま二１１蚕血 次に、下記第３表及び第４表に示す組成成分のダミー層
塗布液をボールミルに入れてＩＯ．５時間混合分散して
ダミー層塗布液Ａ．Ｂを調製した。こうして得られたダ
ミーＮ塗布液Ａ，Ｂの平衡粘度を測定したところ、剪断
速度がｌ　Ｘ　１０’ｓｅｃ−　’においてはそれぞれ
０．２４ｐｏｉｓｅ及び０．３２ｐｏｉｓｅを示し第 ３ 表 組成 ・ニトロセルロース ５０ 重量部 ・ポリイソシアネート ・メチルエチルケトン ８重量部 ３００重量部 第 ４ 表 組成 ・α一Ａ　Ｎ　ｚ　Ｏ　ｘ ・ニトロセルロース １０重量部 ４０重量部 ・ポリイソシア不一ト　　　　　　　　８重量部・メチ
ルエチルケトン　　　　　　　３００重量部（実施例１
） 搬送達度：２００ｍ／分で走行させた厚さ：　１１．７
μｍ１幅＝３００論、表面粗さ：Ｏ．ｔＳμｍのポリエ
チレンテレフタレート支持体上に、上記実施態様に記載
した磁気記録媒体の製造工程に基づいて上記ダミー層塗
布液Ａを塗布、乾燥して乾燥厚み３，３μｍのダミー層
を形成した後に上記磁性塗布液Ａを乾燥厚みが４．２μ
ｍとなる様に塗布して磁性層を形成した． 但し、前記ダミー層の塗布に用いた塗布へ・ンドは特開
昭６０−２３８１７９号公報に開示したエクストルージ
ゴン型塗布ヘッドと同しものであり、塗布ヘ７ｒ部分の
概略構成はスロット幅二〇．６ｍ、ポケット部分の径：
２０閣、ドクターエッジ表面の曲率半径：ｌ５閣、ドク
ターエノジ表面の有効長さ二６一、パックエッジ表面の
有効長さ：７．５ｍ，塗布幅：２５０■となる樺にした
．また、前記ダミー層の乾燥固化は８０゜Ｃの垂直空気
流乾燥により行うと共に、前記ダミー層のカレンダー処
理は直径＝２５０閣、表面相さ：　０．０１μｍのハー
ドクロムメッキロールを２本用いてカレンダー線圧：　
２００　ｋｇｗ　／ｃｍ、カレンダー温度８０℃で行っ
た． 更に、前記磁性層の塗布に用いた塗布ヘッドも特開昭６
０−２３８１７９号公報に開示したエクストルジョン型
塗布へ冫ドと同しものであり、塗布へンド部分の概略構
成はスロノト幅＝０．６閣、ボケノト部分の径：　２０
ｍｍ、ドクターエノジ表面の曲率半径：　ＩＯ＋μｍ、
トクターエノジ表面の有効長さ；５閤、バックエノジ表
面の有効長さ：　７　．　５　ＩＩｌｍ、塗布幅：２５
０画となる様にした。また、前記磁性層の乾燥固化も前
記ダミー層の乾燥固化と同様に行い、該磁性層のカレン
ダー処理は一旦、巻き取りロールに巻き取った後に、前
記ダミー層のカレンダー処理と同様に行った。

この様にして得られた磁気記録媒体における磁性層の表
面ネＨさを測定した。その結果を第５表に示した。

（実施例２） 」一記実施例ｌにおけるダミー層塗布液八の代わりに、
非磁性粒子を添加したダミー層塗布液Ｂを用いた以外は
上記実施例１と同条件で磁気記録媒体を作成し、この磁
気記録媒体における磁性層の表面粗さを測定した。その
結果を第５表に示した．（実施例３） 搬送速度：２００ｍ／分で走行させた厚さ：　１１．７
μｍ、輻：　　３００ｍｓ、表面粗さ：０．１５μｍの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、上記実施態様
に記載した磁気記録媒体の製造工程に基づいて上記ダミ
ー層塗布液Ａを塗布、乾燥して乾燥厚み３．３μｍのダ
ミー層を形成した後に、上記磁性塗布液八を乾燥厚みが
３．５　μｒｎの下層、上記磁性塗布液Ｂを乾燥厚みが
０．７　μｍの上層となる様に重層塗布して二層構造の
磁性層を形成した。

但し、前記ダミー層の塗布に用いた塗布へノドは上記実
施例ｌに用いたものと同様であり、カレンダー処理も同
様に行った． 更に、前記磁性層の重層塗布に用いた塗布ヘノドは特開
昭６３−８８０８０号公報に開示したエクス］・ルジョ
ン型塗布ヘノドと同しものであり、塗布ヘノド部分の概
略構成は下層用スロノト幅：０．６ｍｍ、上層用スロッ
ト幅＋０．５ｍ、下層用ポケット部分の径：２０−、上
層用ポケノト部分の径：１５ｍ、第１ドクターエッジ表
面の曲率半径：１５■、第２ドクターエノジ表面の曲率
半径：２０ｍ、第１ドクターエ，ジ表面の有効長さ：５
閣、第２ドクターエノジ表面の有効長さ：６μｍ，塗布
輻：２５０ｍとなる様にした。また、前記磁性層の乾燥
固化も前記ダミー層の乾燥固化と同様に行い、該磁性層
のカレンダー処理は一旦、巻き取りロールに巻き取った
後に、前記ダミー層のカレンダー処理と同様に行った。

この様にして得られた磁気記録媒体における磁性層の表
面粗さを測定した．その結果を第５表に示した． （比較例ｌ） 搬送速度：２００ｍ／分で走行させた厚さ：　１１．７
ｇｍ、幅：　　３００ｗａ、表面相さ：０．１５μｍの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、上記磁性塗布
液Ａを乾燥厚みが４．２　μｍとなる様に塗布して磁性
層を形成した。

但し、前記磁性層の塗布に用いた塗布ヘノドは上記実施
例ｌで磁性層を塗布したエクストルージョン型塗布ヘノ
トと同じものであり、前記磁性層の乾燥固化も上記実施
例１における磁性層の乾燥固化と同様に行い、該磁性層
のカレンダー処理も上記実施例ｌにおける磁性層のカレ
ンダー処理と同様に行った． この様にして得られた磁気記録媒体における磁性層の表
面粗さを測定した。その結果を第５表に示した． （比較例２） 搬送速度：２００ｍ／分で走行させた厚さ：Ｉ１．７ｐ
ｍ、幅：　　３００ｍ、表面粗さ：０．１５μｍのポリ
エチレンテレフタレート支持体上に、上記磁性塗布液Ａ
を乾燥厚みが３．５μｍの下層、上記磁性塗布液Ｂを乾
燥厚みが０．７μｍの上層となる様に重層塗布して二層
構造の磁性層を形成した．但し、前記磁性層の重層塗布
に用いた塗布へ・７ドは上記実施例３に使用したものと
同様であり、前記磁性層の乾燥固化も上記実施例３にお
ける磁性層の乾燥固化と同様に行い、該磁性層のカレン
ダー処理も上記実施例３における磁性層のカレンダー処
理七同欅に行った． この様にして得られた磁気記録媒体における磁性層の表
面粗さを測定した．その結果を第５表に示した。

第 ５ 表 上記第５表から明らかな様に、本発明に基づく塗布方法
により得られた磁気記録媒体は、同条件で得られた比較
例の磁気記録媒体に比べて磁性層表面が平滑になってい
ることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法に基づく磁気記録媒体の製造
工程の一実施態様を示す概略図、第２図は本発明の製造
方法に基づく磁気記録媒体の製造過程における状態を示
す拡大断面図である。 （図中の符号） ｌ一繰出口−ル　　　　　２　−支持体３　一第１塗布
ヘッド　　　４一給液系５　乾燥ゾーン ６ａ，６ｂ　　カレンダーロール ７　第２塗布ヘノド　　　８一給液系

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）非磁性支持体上に該非磁性支持体よりも表面の平滑
   化処理をし易い高分子樹脂或いは該高分子樹脂と非磁性
   の粒子を主成分とするダミー層を形成し、該ダミー層の
   表面を平滑化処理した後に、前記ダミー層上に磁性層を
   形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ２）前記ダミー層が熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
   型樹脂の内の少なくとも一種の樹脂から成る請求項１に
   記載の磁気記録媒体の製造方法。 ３）前記ダミー層内の非磁性の粒子が平均粒径０．０１
   〜２μｍの粒子から成る請求項１に記載の磁気記録媒体
   の製造方法。 ４）前記ダミー層が熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
   型樹脂の内の少なくとも一種の樹脂から成ると共に、該
   ダミー層内の非磁性の粒子が平均粒径０．０１〜２μｍ
   の粒子から成る請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方
   法。