JPH03218686A - ジョセフソン素子 - Google Patents
ジョセフソン素子Info
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- JPH03218686A JPH03218686A JP1116181A JP11618189A JPH03218686A JP H03218686 A JPH03218686 A JP H03218686A JP 1116181 A JP1116181 A JP 1116181A JP 11618189 A JP11618189 A JP 11618189A JP H03218686 A JPH03218686 A JP H03218686A
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- josephson
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- superconducting
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/10—Junction-based devices
- H10N60/12—Josephson-effect devices
- H10N60/124—Josephson-effect devices comprising high-Tc ceramic materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ビスマス系酸化物超伝導体を用い、比較的高
温で動作させることが出来るジョセフソン素子に関する
。
温で動作させることが出来るジョセフソン素子に関する
。
(従来の技術)
ジョセフソン接合は、二つの超伝導層を、極く薄い絶縁
物常伝導層等で隔てて形成したものであり、この接合部
の超伝導一常伝導転移が高速で生ずることから高速演算
素子とじの利用が考えられている。
物常伝導層等で隔てて形成したものであり、この接合部
の超伝導一常伝導転移が高速で生ずることから高速演算
素子とじの利用が考えられている。
このジョセフソン接合の形成方法の代表的な例としでは
、例えば、鉛薄膜を蒸着した後、その表面に掻く薄い酸
化膜(典型的には厚み30人)を形成し、再び鉛薄膜を
蒸着するという様な手法(例えば、日本物理学会編「超
伝導」l47頁参照)が行われている。
、例えば、鉛薄膜を蒸着した後、その表面に掻く薄い酸
化膜(典型的には厚み30人)を形成し、再び鉛薄膜を
蒸着するという様な手法(例えば、日本物理学会編「超
伝導」l47頁参照)が行われている。
一方、高い超伝導転移温度を有する酸化物超伝導体にお
けるジョセフソン効果の測定も幾つかなされている。
けるジョセフソン効果の測定も幾つかなされている。
(発明が解決しようとする問題点))
しかし、上記高い超伝導転移温度のものにおける接合の
形態は、主に点接触型が利用されており、係る接合では
集積度の高い実用に共し得る素子を形成することが出来
ない。
形態は、主に点接触型が利用されており、係る接合では
集積度の高い実用に共し得る素子を形成することが出来
ない。
又、酸化物超伝導体を利用した素子で鉛を用いた素子の
様な面接合型は、鉛の表面酸化膜の様な薄くて均一な厚
さの絶縁層を形成することが難しく、不均一な厚さのも
のでは良好な特性が得られないという欠点があり、更に
は超伝導層と結晶構造の異なる材料を絶縁層に用いると
、超伝導層の結晶性が非常に悪くなり、素子特性が良く
ないという欠点がある。
様な面接合型は、鉛の表面酸化膜の様な薄くて均一な厚
さの絶縁層を形成することが難しく、不均一な厚さのも
のでは良好な特性が得られないという欠点があり、更に
は超伝導層と結晶構造の異なる材料を絶縁層に用いると
、超伝導層の結晶性が非常に悪くなり、素子特性が良く
ないという欠点がある。
従って、本発明の目的は、上記従来の欠点に鑑み、絶縁
層の厚さの不均一性及び超伝導層の結晶性の悪化を解決
し、良好な面接合を有し、優れた特性が得られるジョセ
フソン素子を提供することである。
層の厚さの不均一性及び超伝導層の結晶性の悪化を解決
し、良好な面接合を有し、優れた特性が得られるジョセ
フソン素子を提供することである。
更に本発明の他の目的は、ビスマス系酸化物超伝導体を
用いることにより、とりわけ、大気中での劣化が少なく
、特性の安定性の点で優れたジョセフソン素子を提供す
ることである。
用いることにより、とりわけ、大気中での劣化が少なく
、特性の安定性の点で優れたジョセフソン素子を提供す
ることである。
(問題点を解決する為の手段)
上記目的は以下の本発明によって達成される。
即ち、本発明は、基体面に、第1の超伝導層、接合層(
トンネル障壁膜)及び第2の超伝導層を順次積層してな
るジョセフソン素子において、上記第1及び第2の超伝
導層が、ビスマス銅含有酸化物超伝導体からなり、且つ
上記接合層が、ビスマス含有酸化物からなることを特徴
とするジョセフソン素子である。
トンネル障壁膜)及び第2の超伝導層を順次積層してな
るジョセフソン素子において、上記第1及び第2の超伝
導層が、ビスマス銅含有酸化物超伝導体からなり、且つ
上記接合層が、ビスマス含有酸化物からなることを特徴
とするジョセフソン素子である。
(作 用)
基板上に第1の酸化物超伝導層、接合層及び第2の酸化
物超伝導層を、順次積層してなるジョセフソン素子にお
いて、上記第1及び第2の酸化物超伝導層として、層状
複合ペロブスカイト構造を有するビスマス銅含有酸化物
超伝導体を用い、且つ接合層として、同様の層状複合ペ
ロブス力イト構造を有するビスマス層状化合物を用いる
ことによって、結晶性の良いジョセフソン素子を作成し
、且つ薄《均一な接合層を形成し、良好な特性を有する
ジョセフソン素子の提供を可能にした。
物超伝導層を、順次積層してなるジョセフソン素子にお
いて、上記第1及び第2の酸化物超伝導層として、層状
複合ペロブスカイト構造を有するビスマス銅含有酸化物
超伝導体を用い、且つ接合層として、同様の層状複合ペ
ロブス力イト構造を有するビスマス層状化合物を用いる
ことによって、結晶性の良いジョセフソン素子を作成し
、且つ薄《均一な接合層を形成し、良好な特性を有する
ジョセフソン素子の提供を可能にした。
更には、ビスマス銅含有酸化物超伝導体を用いているの
で、液体窒素温度以上で十分に作動し、耐湿性や耐熱性
等の点でとりわけ優れれたジョセフソン素子の提供を可
能にした。
で、液体窒素温度以上で十分に作動し、耐湿性や耐熱性
等の点でとりわけ優れれたジョセフソン素子の提供を可
能にした。
(好ましい実施態様)
本発明において、第1及び第2の酸化物超伝導層は、ビ
スマス銅含有酸化物超伝導体から形成されるが、好まし
く用いることの出来るビスマス銅含有酸化物超伝導体と
しては、その組成式が、周期律表のIa、Ila、II
Ia及びIVb族からなる元素群より選ばれた少なくと
も1種以上の元素をAとし、I b.IVa%Va,V
la及びVIIIa族がらなる元素群より選ばれた少な
くとも1種以上の元素をBとし、希土類元素より選ばれ
た少なくとも1種以上の元素をCとするとき、一般式(
r){ fBi+−bCb) 202} (Cu+−
aBa) z+nA3+no +12+anl −11
(O≦b<1、0≦a<1、−1<n≦10,x>0)
で表わされ、又、その結晶構造としては、{ (Bib
−bCb) 202} ”層(0≦b<1)(7)間に
酸素欠損ベロブスカイト層が位置する様な層状構造を有
するものが挙げられる。
スマス銅含有酸化物超伝導体から形成されるが、好まし
く用いることの出来るビスマス銅含有酸化物超伝導体と
しては、その組成式が、周期律表のIa、Ila、II
Ia及びIVb族からなる元素群より選ばれた少なくと
も1種以上の元素をAとし、I b.IVa%Va,V
la及びVIIIa族がらなる元素群より選ばれた少な
くとも1種以上の元素をBとし、希土類元素より選ばれ
た少なくとも1種以上の元素をCとするとき、一般式(
r){ fBi+−bCb) 202} (Cu+−
aBa) z+nA3+no +12+anl −11
(O≦b<1、0≦a<1、−1<n≦10,x>0)
で表わされ、又、その結晶構造としては、{ (Bib
−bCb) 202} ”層(0≦b<1)(7)間に
酸素欠損ベロブスカイト層が位置する様な層状構造を有
するものが挙げられる。
上記一般式(I)のなかでも、とりわけBit (Sr
. Cal scu20x ( 7≦X≦9)の組成式
で表されるものが好ましい。
. Cal scu20x ( 7≦X≦9)の組成式
で表されるものが好ましい。
更に本発明において、接合層はビスマス層状化合物から
形成されるが、ここで用いるビスマス層状化合物の好ま
しものは、その組成式が一般式(II) (0≦b<1,O≦a<1,1≦n≦5、Cは希土類よ
り選ばれた少なくとも1種以上の元素であり、BはCa
, Na%K %Ba%Sr, Pb及びPrより選ば
れた少なくとも1種以上の元素であり、且つAはNb,
Ta, Fe, Sn及びGaより選ばれた少なくと
も1種以上の元素である。)と表わされるもの、又はそ
の組成式が一般式(I[[) fli.sr2Lncu20, (LnはY及びランタノイド元素より選ばれる少なくと
も1種以上の元素であり、7≦y≦9である)で表され
るものが挙げられ、接合層として用いるビスマス層状化
合物は、絶縁体、常伝導体又は前記ビスマス銅含有酸化
物超伝導体より臨界電流が小さいか、又は臨界温度の低
い化合物が用いられる。
形成されるが、ここで用いるビスマス層状化合物の好ま
しものは、その組成式が一般式(II) (0≦b<1,O≦a<1,1≦n≦5、Cは希土類よ
り選ばれた少なくとも1種以上の元素であり、BはCa
, Na%K %Ba%Sr, Pb及びPrより選ば
れた少なくとも1種以上の元素であり、且つAはNb,
Ta, Fe, Sn及びGaより選ばれた少なくと
も1種以上の元素である。)と表わされるもの、又はそ
の組成式が一般式(I[[) fli.sr2Lncu20, (LnはY及びランタノイド元素より選ばれる少なくと
も1種以上の元素であり、7≦y≦9である)で表され
るものが挙げられ、接合層として用いるビスマス層状化
合物は、絶縁体、常伝導体又は前記ビスマス銅含有酸化
物超伝導体より臨界電流が小さいか、又は臨界温度の低
い化合物が用いられる。
上記一般式(II)及び(ffl)の中でもとりわけB
iJisO+z (II
−i1Bi*PbFE!Tit. ssn+. @Oy
(7≦y≦91 [−2]Naa5B14. sT
l40y ( I[ −3
)BiaSrxYCazOy (7≦y≦91(III
−2)は、本発明において特に好ましく用いられる。
iJisO+z (II
−i1Bi*PbFE!Tit. ssn+. @Oy
(7≦y≦91 [−2]Naa5B14. sT
l40y ( I[ −3
)BiaSrxYCazOy (7≦y≦91(III
−2)は、本発明において特に好ましく用いられる。
以上例示したビスマス銅含有酸化物超伝導体及びビスマ
ス層状化合物は、その結晶構造が互いに類似している。
ス層状化合物は、その結晶構造が互いに類似している。
即ち、本発明のジョセフソン素子において、第1及び第
2の超伝導層として用いる前記一般式(I)のビスマス
銅含有酸化物超伝導体は、Xm回折結果より斜方品であ
り、その格子定数はa=5.4人、b=27.0人(=
5xa)、C=30.8人であることがわかり、又、接
合層として用いる前記一般式(II)及び(III)の
ビスマス層状化合物も斜方晶であり、その格子定数はa
=5.5人、b=5.4人及びc=30.2人であるこ
とがわかる。
2の超伝導層として用いる前記一般式(I)のビスマス
銅含有酸化物超伝導体は、Xm回折結果より斜方品であ
り、その格子定数はa=5.4人、b=27.0人(=
5xa)、C=30.8人であることがわかり、又、接
合層として用いる前記一般式(II)及び(III)の
ビスマス層状化合物も斜方晶であり、その格子定数はa
=5.5人、b=5.4人及びc=30.2人であるこ
とがわかる。
この様な結晶構造を有する超伝導層と接合層とを用いて
ジョセフソン素子を作成した場合、両者の格子定数が類
似している為に、材料同士のミスフィットが生ぜず、良
好な特性のジョセフソン素子が得られることになる。
ジョセフソン素子を作成した場合、両者の格子定数が類
似している為に、材料同士のミスフィットが生ぜず、良
好な特性のジョセフソン素子が得られることになる。
尚、ここで良好な特性とはミリ波応答及び磁気応答等の
特性を意味している。これらの結晶構造は層状複合ベロ
ブス力イト構造であり、成膜制御により容易に行うこと
が出来、均一で薄い層を所望により形成しることが出来
る。
特性を意味している。これらの結晶構造は層状複合ベロ
ブス力イト構造であり、成膜制御により容易に行うこと
が出来、均一で薄い層を所望により形成しることが出来
る。
上記結晶構造の材料により得られる良好なジョセフソン
効果は、第1及び第2の超伝導層及び接合層のいずれも
が、類似した格子定数を有しているとき十分に発揮され
る。
効果は、第1及び第2の超伝導層及び接合層のいずれも
が、類似した格子定数を有しているとき十分に発揮され
る。
本発明の構成によるジョセフソン素子の電流・電圧特性
を常法に従い測定すると、第6図に示した様な特性を示
し、ある一定以上の電圧に達する迄は電流量は殆ど変化
せず、又、電圧をある一定値以下に減少させた場合には
、電流が急激に変化するという、優れたジョセフソン効
果を発揮することがわかる。
を常法に従い測定すると、第6図に示した様な特性を示
し、ある一定以上の電圧に達する迄は電流量は殆ど変化
せず、又、電圧をある一定値以下に減少させた場合には
、電流が急激に変化するという、優れたジョセフソン効
果を発揮することがわかる。
尚、本発明のジョセフソン素子は常法に従い作製するこ
とが出来る。即ち、組成制御の可能なスパッタリング法
、蒸着法の他、CVD法によっても行うことが出来る。
とが出来る。即ち、組成制御の可能なスパッタリング法
、蒸着法の他、CVD法によっても行うことが出来る。
又、本発明のジョセフソン素子の第1及び第2の超伝導
層の層厚は2,000人乃至s.ooo人とされ、接合
層の層厚は10乃至500人とされるのが好ましい。こ
れらが積層される基体としては、例えば、MgO(10
0)単結晶やSrTiOa単結晶等が好ましく用いられ
る。
層の層厚は2,000人乃至s.ooo人とされ、接合
層の層厚は10乃至500人とされるのが好ましい。こ
れらが積層される基体としては、例えば、MgO(10
0)単結晶やSrTiOa単結晶等が好ましく用いられ
る。
(実施例)
次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
実施例l
第1図示の様なジョセフソン接合を次の様に形成した(
図で1はMgO基板、2は第1の超伝導層であるビスマ
ス銅含有酸化物超伝導体のスパッタ膜、3はビスマス層
状化合物膜、4は第2の超伝導層であるビスマス銅含有
酸化物超伝導体のスパッタ膜、5は電極である)。
図で1はMgO基板、2は第1の超伝導層であるビスマ
ス銅含有酸化物超伝導体のスパッタ膜、3はビスマス層
状化合物膜、4は第2の超伝導層であるビスマス銅含有
酸化物超伝導体のスパッタ膜、5は電極である)。
先ず、MgO基板1上にビスマスl1ストロンチウム1
、カルシウムl及び銅2の組成によりなる焼結体をター
ゲットとして用い、高周波マグネ?ロンスパッタ法で3
,000人の厚さに第1の超伝導層2形成した(第2図
)。プラズマ発光分光法によりその膜の組成を分析した
ところ、ビスマス2、ストロウチウム1.48、カルシ
ウム1.50及び銅2.0の組成であった。基板温度は
700℃とし、アルゴンと酸素との混合ガスで、ガス圧
は5 X 1 0−2Torrとし、酸素分圧は5 X
1 0−”Torrとした。
、カルシウムl及び銅2の組成によりなる焼結体をター
ゲットとして用い、高周波マグネ?ロンスパッタ法で3
,000人の厚さに第1の超伝導層2形成した(第2図
)。プラズマ発光分光法によりその膜の組成を分析した
ところ、ビスマス2、ストロウチウム1.48、カルシ
ウム1.50及び銅2.0の組成であった。基板温度は
700℃とし、アルゴンと酸素との混合ガスで、ガス圧
は5 X 1 0−2Torrとし、酸素分圧は5 X
1 0−”Torrとした。
上記第1の超伝導層2を形成後、熱処理(条件は酸素1
気圧中で840℃、6hr)を行い、その後毎分3℃の
速度で徐冷した。
気圧中で840℃、6hr)を行い、その後毎分3℃の
速度で徐冷した。
次にこのビスマス銅含有酸化物超伝導層2上に第3図示
の様にビスマス層状化合物(BiJiaO+■)からな
る接合層3を形成した。成膜方法はイオンビーム蒸着法
により、ビスマス原子を含む原料物質としてBit’s
を、チタン原子を含む原料物質として金属チタンを使用
した。基板温度を200℃とし、酸素ガスを導入し(9
乃至10ml27sec.)、チタン成分を加速電圧2
KV及びイオン化電流100mAとしてイオン化及び加
速した。
の様にビスマス層状化合物(BiJiaO+■)からな
る接合層3を形成した。成膜方法はイオンビーム蒸着法
により、ビスマス原子を含む原料物質としてBit’s
を、チタン原子を含む原料物質として金属チタンを使用
した。基板温度を200℃とし、酸素ガスを導入し(9
乃至10ml27sec.)、チタン成分を加速電圧2
KV及びイオン化電流100mAとしてイオン化及び加
速した。
方、ビスマス原子を含む原料物質から発生した蒸発物質
は抵抗加熱法で蒸着した。
は抵抗加熱法で蒸着した。
ビスマス及びチタン成分の蒸着速度は2乃至3人/se
c.であり、得られたBIJlaO+i薄膜3の厚さは
30人の層状の膜となっていた。
c.であり、得られたBIJlaO+i薄膜3の厚さは
30人の層状の膜となっていた。
この上に再度高周波マグネトロンスバッタ法により、ビ
スマス銅含有酸化物超伝導体からなる第2の超伝導層4
を形成した(第4図)。成膜速度は5人/sec.とじ
、この層4については一層目の膜2の様な熱処理は行わ
なかった。この膜4の膜厚は2,400人であった。
スマス銅含有酸化物超伝導体からなる第2の超伝導層4
を形成した(第4図)。成膜速度は5人/sec.とじ
、この層4については一層目の膜2の様な熱処理は行わ
なかった。この膜4の膜厚は2,400人であった。
次にアルゴンイオンシリングにより、膜の一部を除去し
、第5図示の様な状態とし、続いて金を真空蒸着して電
極5を形成し、第1図に示した本発明のジョセフソン素
子を形成した。この素子の臨界温度を測定したところ1
05Kであった。
、第5図示の様な状態とし、続いて金を真空蒸着して電
極5を形成し、第1図に示した本発明のジョセフソン素
子を形成した。この素子の臨界温度を測定したところ1
05Kであった。
このジョセフソン素子の電流一電圧(I−V)特性を四
端子法により60Kで測定した。その結果、第6図に示
す様な特性が得られ、良好な接合が形成されているのが
わかった。
端子法により60Kで測定した。その結果、第6図に示
す様な特性が得られ、良好な接合が形成されているのが
わかった。
実施例2
ビスマス銅含有酸化物超伝導層からなる第1の超伝導層
2及び第2の超伝導層4をスパッタ法で形成する時に使
用するターゲット材を、ビスマス0.9、鉛0.1、ス
トロンチウム1、カルシウム1及び銅2の組成のものを
用いた以外は、実施例1と同様にして、本発明のジョセ
フソン素子を形成した。プラズマ発光分光法により成膜
後の層2及び4の組成を分析したところ、ビスマス2、
鉛l、ストロンチウム3、カルシウム2及び銅5の組成
比であった。又、この素子の臨界温度は92Kであり、
60KにおいてI−V特性の測定を行ったところ、実施
例lとほぼ同様の結果が得られた。
2及び第2の超伝導層4をスパッタ法で形成する時に使
用するターゲット材を、ビスマス0.9、鉛0.1、ス
トロンチウム1、カルシウム1及び銅2の組成のものを
用いた以外は、実施例1と同様にして、本発明のジョセ
フソン素子を形成した。プラズマ発光分光法により成膜
後の層2及び4の組成を分析したところ、ビスマス2、
鉛l、ストロンチウム3、カルシウム2及び銅5の組成
比であった。又、この素子の臨界温度は92Kであり、
60KにおいてI−V特性の測定を行ったところ、実施
例lとほぼ同様の結果が得られた。
実施例3
ビスマス銅含有酸化物超伝導体からなる第1及び第2の
超伝導層2及び4をスパッタ法で形成する時に使用する
ターゲット材を、ビスマス1、ストロンチウム1、カル
シウム1、銅1.8及びチタン0.2の組成のものを用
いた以外は実施例1?同様にして本発明のジョセフソン
素子を形成した。成膜後、層2及び4の組成をプラズマ
発光法により分析したところ、ビスマス1、ストロンチ
ウム1.5、カルシウム1.5、銅1.5及びチタン0
.5の組成比であった。又、この素子の臨界温度は60
Kであった。
超伝導層2及び4をスパッタ法で形成する時に使用する
ターゲット材を、ビスマス1、ストロンチウム1、カル
シウム1、銅1.8及びチタン0.2の組成のものを用
いた以外は実施例1?同様にして本発明のジョセフソン
素子を形成した。成膜後、層2及び4の組成をプラズマ
発光法により分析したところ、ビスマス1、ストロンチ
ウム1.5、カルシウム1.5、銅1.5及びチタン0
.5の組成比であった。又、この素子の臨界温度は60
Kであった。
20Kにおいてこの素子のI−V特性の測定を行ったと
ころ、実施例1とほぼ同様の結果が得られた。
ころ、実施例1とほぼ同様の結果が得られた。
実施例4
ビスマス銅含有酸化物超伝導体からなる第1及び第2の
超伝導層2及び4は実施例lと同様に、接合層3として
のビスマス層状化合物として、Nao. sBi4.
sTj+o■を用いた。成膜方法は実施例1と同様にイ
オンビーム蒸着法により行った。原料物質はナトリウム
、チタン及びBiassを使用した。基板温度は600
℃に加熱し、酸素ガスを10乃至2 0 m 12 /
min.の割合導入しながら、前記の組成比で蒸着した
。
超伝導層2及び4は実施例lと同様に、接合層3として
のビスマス層状化合物として、Nao. sBi4.
sTj+o■を用いた。成膜方法は実施例1と同様にイ
オンビーム蒸着法により行った。原料物質はナトリウム
、チタン及びBiassを使用した。基板温度は600
℃に加熱し、酸素ガスを10乃至2 0 m 12 /
min.の割合導入しながら、前記の組成比で蒸着した
。
蒸着速度は夫々0.5乃至3人/see.とじ、膜厚は
30人であった。
30人であった。
他は実施例1と同様にして、本発明のジョセフソン素子
を形成した。この素子の臨界温度及びI−V特性共に実
施例1と同様の結果であった。
を形成した。この素子の臨界温度及びI−V特性共に実
施例1と同様の結果であった。
実施例5
第1図示の様なジョセフソン接合を次の様に形成した。
図で1はMgO基板、2は第1の超伝導層、3は接合層
、4は第2の超伝導層、5は電極である。
、4は第2の超伝導層、5は電極である。
先ず、MgO基板上に第1の超伝導層2としてビスマス
銅含有酸化物超伝導体を、ビスマス1、ストロンチウム
1、カルシウム1及び銅2の組成によりなる焼結体をタ
ーゲットとして用い、高周波マグネトロンスパッタ法で
3,000人の厚さに形成した(第2図)。プラズマ発
光分光法により、その膜2の組成を分析したところ、B
lgSr+. 4Jlcal. gocut. aaL
の組成比であった。基板温度は700℃とし、アルゴン
と酸素との混合ガス中で成膜し、ガス圧は5 X 1
0−2Torrとし、酸素分圧は5 X 1 0−”T
orrとした。この膜2を形成後、熱処理(条件は酸素
1気圧中で840℃、6 hrs. )を行い、その後
毎分3℃の速度で徐冷した。
銅含有酸化物超伝導体を、ビスマス1、ストロンチウム
1、カルシウム1及び銅2の組成によりなる焼結体をタ
ーゲットとして用い、高周波マグネトロンスパッタ法で
3,000人の厚さに形成した(第2図)。プラズマ発
光分光法により、その膜2の組成を分析したところ、B
lgSr+. 4Jlcal. gocut. aaL
の組成比であった。基板温度は700℃とし、アルゴン
と酸素との混合ガス中で成膜し、ガス圧は5 X 1
0−2Torrとし、酸素分圧は5 X 1 0−”T
orrとした。この膜2を形成後、熱処理(条件は酸素
1気圧中で840℃、6 hrs. )を行い、その後
毎分3℃の速度で徐冷した。
次にこの第1の超伝導層2上に第3図示の様に接合層(
BiaSrzYCuzOyl 3を形成した。成膜方
法はイオンビーム蒸着法により、ビスマス原子及びスト
ロンチウム原子を含む原料物質としてBi2ss及びS
rOを、イットリウム及び銅原子を含む原料物質として
イットリウム及び銅を使用した。基板温度を200℃と
し、酸素ガスを導入し(9乃至1 0mI2/sec.
) 、イットリウム及び銅成分を加速電圧2KV及びイ
オン化電流100mAとしてイオン化及び加速した。一
方、ビスマス原子及びストロンチウム原子を含む原料物
質から発生した蒸発物質は抵抗加熱法で蒸着した。
BiaSrzYCuzOyl 3を形成した。成膜方
法はイオンビーム蒸着法により、ビスマス原子及びスト
ロンチウム原子を含む原料物質としてBi2ss及びS
rOを、イットリウム及び銅原子を含む原料物質として
イットリウム及び銅を使用した。基板温度を200℃と
し、酸素ガスを導入し(9乃至1 0mI2/sec.
) 、イットリウム及び銅成分を加速電圧2KV及びイ
オン化電流100mAとしてイオン化及び加速した。一
方、ビスマス原子及びストロンチウム原子を含む原料物
質から発生した蒸発物質は抵抗加熱法で蒸着した。
蒸着速度は1乃至2人/sec.であり、得られたBi
zSrzYCuzOy薄膜3の厚さは30人となってい
た。
zSrzYCuzOy薄膜3の厚さは30人となってい
た。
この上に再度高周波マグネトロンスパッタ法により、第
2の超伝導層4としてビスマス銅含有酸化物超伝導層を
形成した(第4図)。成膜速度は5人/sec.とじ、
この層4については第1の超伝導層2の様な熱処理は行
わなかった。膜厚は2,400人であった。
2の超伝導層4としてビスマス銅含有酸化物超伝導層を
形成した(第4図)。成膜速度は5人/sec.とじ、
この層4については第1の超伝導層2の様な熱処理は行
わなかった。膜厚は2,400人であった。
次にアルゴンイオンシリングにより、膜の一部を除去し
、第5図示の様な状態とし、続いて金を真空蒸着して電
極5を形成し、第1図に示した本発明の素子を形成した
。この素子の臨界温度を測定したところ80Kであった
。
、第5図示の様な状態とし、続いて金を真空蒸着して電
極5を形成し、第1図に示した本発明の素子を形成した
。この素子の臨界温度を測定したところ80Kであった
。
このジョセフソン素子の電流一電圧特性な四端子法によ
り60Kで測定した。その結果、第6図に示す様な特性
が得られ、良好な接合が形成されているのがわかった。
り60Kで測定した。その結果、第6図に示す様な特性
が得られ、良好な接合が形成されているのがわかった。
実施例6
第1及び第2の超伝導層としてのビスマス銅含有酸化物
超伝導層は、実施例1と同様に、接合層としてのビスマ
ス層状化合物として、BizPbFeTi+. sSn
+. 80?を用いた。成膜方法は実施例1と同様にイ
オンビーム蒸着法により行った。
超伝導層は、実施例1と同様に、接合層としてのビスマ
ス層状化合物として、BizPbFeTi+. sSn
+. 80?を用いた。成膜方法は実施例1と同様にイ
オンビーム蒸着法により行った。
原料物質は鉛、鉄、チタン、錫及びBizOaを使用し
た。基板温度は600℃に加熱し、酸素ガスを10乃至
2 0 m (2 / min.の割合導入しながら、
前記の組成比で蒸着した。
た。基板温度は600℃に加熱し、酸素ガスを10乃至
2 0 m (2 / min.の割合導入しながら、
前記の組成比で蒸着した。
蒸着速度は夫々0,5乃至3人/sec.とし、膜厚は
30人であった。
30人であった。
他は実施例1と同様にして、本発明のジョセフソン素子
を形成した。この素子の臨界温度及びI−V特性共に実
施例1と同様の結果であった。
を形成した。この素子の臨界温度及びI−V特性共に実
施例1と同様の結果であった。
(発明の効果)
以上の如き本発明によれば、基板上に第1の酸化物超伝
導層、接合層及び第2の酸化物超伝導層を、順次積層し
てなるジョセフソン素子において、上記第1及び第2の
酸化物超伝導層として、層状複合ベロブスカイト構造を
有するビスマス銅含有酸化物超伝導体を用い、且つ接合
層として、同様の層状複合ベロブスカイト構造を有する
ビスマス層状化合物を用いることによって、結晶性の良
いジョセフソン素子を作成し、且つ薄く均一な接合層を
形成し、良好な特性を有するジョセフソン素子が提供さ
れる。
導層、接合層及び第2の酸化物超伝導層を、順次積層し
てなるジョセフソン素子において、上記第1及び第2の
酸化物超伝導層として、層状複合ベロブスカイト構造を
有するビスマス銅含有酸化物超伝導体を用い、且つ接合
層として、同様の層状複合ベロブスカイト構造を有する
ビスマス層状化合物を用いることによって、結晶性の良
いジョセフソン素子を作成し、且つ薄く均一な接合層を
形成し、良好な特性を有するジョセフソン素子が提供さ
れる。
更には、ビスマス銅含有酸化物超伝導体を用いているの
で、液体窒素温度以上で十分に作動し、耐湿性や耐熱性
等の点でとりわけ優れれたジョセフソン素子が提供され
る。
で、液体窒素温度以上で十分に作動し、耐湿性や耐熱性
等の点でとりわけ優れれたジョセフソン素子が提供され
る。
第1図は、本発明のジョセフソン素子の一例を示す図。
第2図は、基板上に第1の超伝導層としてビスマス銅含
有酸化物超伝導層を形成した状態を示す図。 第3図は、第1の超伝導層上に接合層としてビスマス含
有酸化物を形成した状態を示す図。 第4図は接合層上に更に第2の超伝導層としてビスマス
銅含有酸化物超伝導層を形成した状態を示す図。 第5図は電極形成の為、積層膜の一部を除去した状態を
示す図。 第6図は本発明により得られたジョセフソン素子の電流
一電圧特性を示す図。 1・・・・・・MgO基板 2・・・・・・第1の超伝導層 3・・・・・・接合層 4・・・・・・第2の超伝導層 5・・・・・・電極
有酸化物超伝導層を形成した状態を示す図。 第3図は、第1の超伝導層上に接合層としてビスマス含
有酸化物を形成した状態を示す図。 第4図は接合層上に更に第2の超伝導層としてビスマス
銅含有酸化物超伝導層を形成した状態を示す図。 第5図は電極形成の為、積層膜の一部を除去した状態を
示す図。 第6図は本発明により得られたジョセフソン素子の電流
一電圧特性を示す図。 1・・・・・・MgO基板 2・・・・・・第1の超伝導層 3・・・・・・接合層 4・・・・・・第2の超伝導層 5・・・・・・電極
Claims (3)
- (1)基体面に、第1の超伝導層、接合層及び第2の超
伝導層を順次積層してなるジョセフソン素子において、
上記第1及び第2の超伝導層が、ビスマス銅含有酸化物
超伝導体からなり、且つ上記接合層が、ビスマス含有酸
化物からなることを特徴とするジョセフソン素子。 - (2)第1及び第2の超伝導層が、周期律表の I a、
IIa、IIIa及びIVb族からなる元素群より選ばれた少
なくとも1種以上の元素をAとし、 I b、IVa、Va
、VIa及びVIIIa族からなる元素群より選ばれた少なく
とも1種以上の元素をBとし、且つ希土類元素より選ば
れた少なくとも1種以上の元素をCとするとき、 {(Bi_1_−_bC_b)_2O_2}(Cu_1
_−_aB_a)_2_+_nA_3_+_nO_(_
1_2_+_3_n_)_−_xで表わされ、0≦b<
1、0≦a<1、−1<n≦10及びx>0であるビス
マス銅含有酸化物超伝導体からなり、且つ接合層が、希
土類元素より選ばれた1種以上の元素をCとし、Ca、
Na、K、Ba、Sr、Pb及びPrより選ばれた1種
以上の元素をBとし、且つNb、Ta、Fe、Sn及び
Gaより選ばれた1種以上の元素をAとするとき、 {(Bi_1_−_bC_b)_2O_2}^2^+{
(Bi_1_−_aB_a)_2(Ti_1_−_aA
_a)_3O_1_0}_n^2^−で表わされ、0≦
b<1、0≦a<1及び1≦n≦5であるビスマス含有
酸化物からなる請求項1に記載のジョセフソン素子。 - (3)第1及び第2の超伝導層が、周期律表の I a、
IIa、IIIa及びIVb族からなる元素群より選ばれた少
なくとも1種以上の元素をAとし、 I b、IVa、Va
、VIa及びVIIIa族からなる元素群より選ばれた少なく
とも1種以上の元素をBとし、且つ希土類元素より選ば
れた少なくとも1種以上の元素をCとするとき、 {(Bi_1_−_bC_b)_2O_2}(Cu_1
_−_aB_a)_2_+_nA_3_+_nO_(_
1_2_+_3_n_)_−_xで表わされ、0≦b<
1、0≦a<1、−1<n≦10及びx>0であるビス
マス銅含有酸化物超伝導体からなり、且つ接合層が、Y
及びランタノイド元素より選ばれた1種以上の元素をL
nとするとき、 Bi_2Sr_2LnCu_3O_y で表わされ、7≦y≦9であるビスマス含有酸化物から
なる請求項1に記載のジョセフソン素子。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11264788 | 1988-05-11 | ||
| JP2856889 | 1989-02-09 | ||
| JP1-28568 | 1989-02-09 | ||
| JP63-112647 | 1989-02-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03218686A true JPH03218686A (ja) | 1991-09-26 |
| JP2740260B2 JP2740260B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=26366698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1116181A Expired - Fee Related JP2740260B2 (ja) | 1988-05-11 | 1989-05-11 | ジョセフソン素子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0342038B1 (ja) |
| JP (1) | JP2740260B2 (ja) |
| DE (1) | DE68923325T2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5047390A (en) * | 1988-10-03 | 1991-09-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Josephson devices and process for manufacturing the same |
| EP0372951B1 (en) * | 1988-12-09 | 1996-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Superconductive electromagnetic wave mixer, and apparatus incorporating same |
| US5151409A (en) * | 1989-01-27 | 1992-09-29 | Hitachi, Ltd. | Superconducting composition comprising ln-th-cu-o, wherein ln is pr, nd, pm, sm, eu, gd, er or mixtures thereof |
| JP2790494B2 (ja) * | 1989-10-13 | 1998-08-27 | 松下電器産業株式会社 | 超伝導素子 |
| JPH03259576A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ジョセフソン接合 |
| KR910019273A (ko) * | 1990-04-07 | 1991-11-30 | 서주인 | 조셉슨 소자 및 그 제조방법 |
| EP0468868B1 (en) * | 1990-07-19 | 1996-02-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Superconducting device having a layered structure composed of oxide superconductor thin film and insulator thin film and method for manufacturing the same |
| CA2078540A1 (en) * | 1991-09-17 | 1993-03-18 | So Tanaka | Superconducting thin film formed of oxide superconductor material, superconducting device utilizing the superconducting thin film |
| DE69718718T2 (de) * | 1996-07-09 | 2003-08-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Supraleitendes Tunnel-Sperrschichtelement und supraleitende Vorrichtung |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6386730A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-04-18 | モンサント・ヨ−ロツプ・ソシエテ・アノニム | 重合体の接合方法 |
| JPS63170658A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-14 | Canon Inc | 電子写真用トナ− |
| JPH0221677A (ja) * | 1988-07-08 | 1990-01-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 超伝導体のトンネル接合 |
| JPH0350122A (ja) * | 1988-04-08 | 1991-03-04 | Toshiba Corp | 絶縁性組成物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2626715B1 (fr) * | 1988-02-02 | 1990-05-18 | Thomson Csf | Dispositif en couches minces de materiau supraconducteur et procede de realisation |
-
1989
- 1989-05-11 DE DE68923325T patent/DE68923325T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-11 EP EP89304790A patent/EP0342038B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-11 JP JP1116181A patent/JP2740260B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6386730A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-04-18 | モンサント・ヨ−ロツプ・ソシエテ・アノニム | 重合体の接合方法 |
| JPS63170658A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-14 | Canon Inc | 電子写真用トナ− |
| JPH0350122A (ja) * | 1988-04-08 | 1991-03-04 | Toshiba Corp | 絶縁性組成物 |
| JPH0221677A (ja) * | 1988-07-08 | 1990-01-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 超伝導体のトンネル接合 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68923325D1 (de) | 1995-08-10 |
| EP0342038B1 (en) | 1995-07-05 |
| EP0342038A3 (en) | 1990-01-10 |
| EP0342038A2 (en) | 1989-11-15 |
| JP2740260B2 (ja) | 1998-04-15 |
| DE68923325T2 (de) | 1995-11-23 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |