JPH0322392B2 - - Google Patents
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- JPH0322392B2 JPH0322392B2 JP57048669A JP4866982A JPH0322392B2 JP H0322392 B2 JPH0322392 B2 JP H0322392B2 JP 57048669 A JP57048669 A JP 57048669A JP 4866982 A JP4866982 A JP 4866982A JP H0322392 B2 JPH0322392 B2 JP H0322392B2
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は経口投与用セフアロスポリン化合物に
関する。更に詳しくは、本発明は一般式（） 〔式中、R1は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基またはアシルオキシ基を
有していてもよい低級アルキル基を示し、R2は
低級アルキル基または低級アルコキシメチル基を
示し、Ｙは式【式】基（式中、R3は 水素原子またはメチル基を示し、R4は低級アル
キル基、低級アルキル基を有していてもよい低級
シクロアルキル基、低級アルコキシ基または低級
アルキル基を有していてもよい低級シクロアルコ
キシ基を示す。）を示す。但し、R1が低級アルキ
ル基を表わす場合には、R4は低級アルキル基を
有していてもよい低級シクロアルキル基または低
級アルキル基を有していてもよい低級シクロアル
コキシ基を示す。〕 を有するセフアロスポリン化合物（シン異性体）
およびその薬学的に許容し得る塩、その製法並び
にその化合物を有効成分として含有する経口投与
用細菌感染治療剤に関する。 前記一般式（）において好適にはR1は例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル
のような炭素数１乃至３個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルキル基、例えばシアノメチル、
２−シアノエチル、２−シアノプロピル、３−シ
アノプロピルのような炭素数１乃至３個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のシアノ置換アルキル
基；例えば２−フルオロエチル、２，２，２−ト
リフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３−
フルオロプロピル、１−メチル−２−フルオロエ
チル基、１，３−ジフルオロ−２−プロピルのよ
うな炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分
枝鎖状のフルオロ置換アルキル基；例えば２−オ
キソプロピル、３−オキソブチル、１−メチル−
２−オキソプロピルのような炭素数３乃至４個を
有する直鎖状若しくは分枝鎖状のオキソ置換アル
キル基；例えば２−ヒドロキシエチル、２−ヒド
ロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピルのよう
な炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のヒドロキシ置換アルキル基または例えば２
−アセトキシエチル、２−アセトキシプロピル、
３−アセトキシプロピル、２−プロピオニルオキ
シエチル、２−ラウロイルオキシエチル、２−パ
ルミトイルオキシエチル、２−ベンゾイルオキシ
エチル、２−ｐ−メチルベンゾイルオキシエチ
ル、２−ｐ−メトキシベンゾイルオキシエチル、
２−ｐ−フルオロベンゾイルオキシエチルのよう
な炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のアシルオキシ置換アルキル基を示し、R2
は例えばメトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−
プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ｎ−
ブトキシメチル、イソブトキシメチル、sec−ブ
トキシメチル、tert−ブトキシメチルのような炭
素数１乃至４個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状
のアルコキシ置換メチル基を示し、Ｙにおける
R3は水素原子またはメチル基を示し、R4は例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチルのような炭素数１乃至４個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、例えばシ
クロペンチル、１−メチルシクロペンチル、シク
ロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、ビシクロ〔２，２，２〕オクタン−１
−イルのような置換基として低級アルキル基を有
していてもよい炭素数５乃至８個を有するシクロ
アルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソ
ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、１
−エチルプロポキシ、３，３−ジメチルブトキシ
のような炭素数１乃至６個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルコキシ基または例えばシクロペ
ンチルオキシ、１−メチルシクロペンチルオキ
シ、シクロヘキシルオキシ、１−メチルシクロヘ
キシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、ビシクロ
〔２，２，２〕オクタン−１−イルオキシのよう
な置換基として低級アルキル基を有していてもよ
い炭素数５乃至８個を有するシクロアルコキシ基
を示す。但し、R1が上記のアルキル基を表わす
場合には、R4は上記のシクロアルキル基または
シクロアルコキシ基を示す。 前記一般式（）で表わされる特に好適な化合
物としては、R1がメチル基、エチル基、シアノ
メチル基、２−シアノエチル基、２−フルオロエ
チル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２
−フルオロプロピル基、３−フルオロプロピル
基、１−メチル−２−フルオロエチル基、１，３
−ジフルオロ−２−プロピル基、２−オキソプロ
ピル基、３−オキソブチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロ
キシプロピル基、２−アセトキシエチル基、３−
アセトキシプロピル基、２−プロピオニルオキシ
エチル基、２−ラウロイルオキシエチル基、２−
パルミトイルオキシエチル基または２−ベンゾイ
ルオキシエチル基であり、R2がメチル基または
メトキシメチル基であり、Ｙが式−CH2OCOC
（CH3）3基、式【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基であり、但し、R1が メチル基またはエチル基を表わす場合には、Ｙが
式【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基を示すものをあげる ことができる。 本発明のセフアロスポリン化合物（）として
は、以下に例示する化合物があげられる。 (1) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (2) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シア
ノメトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (3) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
シアノエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−
メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキ
シレート (4) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (5) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
フルオロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (6) １−（エトキシカルボニルオキシエチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (7) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，
２，２−トリフルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (8) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (9) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
フルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (10) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (11) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−
フルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (12) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (13) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（１，３−ジフルオロ−２−プロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (14) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プ
ロピルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レート (15) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−オキソプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (16) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−オキソプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (17) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−オキソブチルオキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (18) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−オキソブチルオキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (19) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ヒドロキシエトキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (20) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−アセトキシエトキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (21) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−プロピオニルオキシエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (22) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ラウロイルオキシエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (23) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−パルミトイルオキシエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (24) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (25) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (26) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ベンゾイルオキシエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (27) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−ヒドロキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (28) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−アセトキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (29) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−ヒドロキシプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (30) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ヒドロキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (31) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (32) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエ
チルオキシアミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (33) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエ
チルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (34) ビシクロ〔２，２，２〕オクタン−１−カ
ルボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フル
オロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (35) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (36) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (37) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (38) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (39) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (40) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (41) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (42) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (43) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (44) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (45) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (46) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (47) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (48) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (49) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (50) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (51) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−２−シアノ
メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート (52) １−メチルシクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (53) １−メチルシクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (54) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (55) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (56) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート (57) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (58) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (59) １−（１−メチル−１−シクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキ
シイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート (60) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (61) １−（１−メチル−１−シクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキ
シイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート (62) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (63) １−（１−メチル−１−シクロペンタンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル−（Ｚ）−２−メトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (64) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (65) １−（１−メチル−１−シクロペンタンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−エトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (66) シクロヘキサンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (67) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (68) シクロヘキサンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (69) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (70) シクロペンタンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (71) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (72) シクロペンタンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (73) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (74) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (75) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (76) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (77) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (78) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−フルオロ−１−メチルエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート (79) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−
１−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (80) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (81) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (82) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−
１−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (83) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオ
ロ−１−メチルエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (84) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチルエ
トキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート (85) １−（プロピルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (86) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１
−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (87) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１
−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート 本発明に係る前記一般式（）を有する化合物
は新規化合物であり、消化管からの吸収がよく、
且つ生体内で速かに４位のエステル部分が分解し
てカルボン酸型になるため、カルボン酸型化合物
の高い血中濃度を得ることができ、したがつて経
口投与によつて黄色ブドウ状球菌、枯草菌などの
グラム陽性菌および大腸菌、赤痢菌、肺炎桿菌、
変形菌、緑膿菌などのグラム陰性菌等の病原菌に
よる細菌感染症の治療に対して極めて顕著な効果
を有する広範囲抗生物質である。カルボン酸型化
合物も新規な化合物であり、その抗菌活性は後述
するように極めてすぐれた活性を有する。 ペニシリン系、セフアロスポリン系抗生物質に
は、多くの優れた効果を有する化合物がみられる
が、消化管からの吸収のよいものは極めて少な
く、そのために実用化されないまゝ開発を断念さ
れた化合物も少くない。殊にセフアロスポリン系
抗生物質においてはセフアレキシンあるいはその
類似体のように限られた構造を有する化合物のみ
が実用に供されているにすぎない。例えば注射用
セフアロスポリン剤として汎用されているセフア
ロチン、セフアゾリン、セフメタゾール等を経口
投与した場合の尿中回収率はいづれも投与量の５
％前後で、消化管からの吸収は極めて悪いことが
知られている。その理由はセフアロスポリンの４
位のカルボキシル基の解離度が大きく（pKa値が
小さく）酸性が強いためである。 そこでペニシリンの３位およびセフアロスポリ
ンの４位のカルボキシル基をエステル化すること
によつて、消化管からの吸収を改善しようとする
試みがなされており、ペニシリン系化合物につい
ては一，二実用化されているものがあるが、セフ
アロスポリン系化合物についてはみられない。 例えばセフアマンドールのアセトキシメチルエ
ステルに関してザ・ジヤーナル・オブ・アンチバ
イオチツクス，32巻，11号，1155頁（1979年）に
報告されているが、それによると、エステル化に
よつて水に難溶性になるため吸収は改善されな
い、従つてプロピレングリコールのような有機溶
媒の溶液として投与することによつてのみ吸収が
ある程度改善されることが記述されている。また
一方、水に溶けやすいエステルとしてジヤーナ
ル・オブ・メデイシナルケミストリー，22巻，
657頁（1979年）に研究結果が報告されているが、
この場合は化学的に不安定なため、吸収はよくな
らなかつたと記述されている。 本発明者は、長年に亘つてセフアロスポリン化
合物の化学的修飾による消化管からの吸収の改
善、経口投与による血中濃度の増大について研究
を重ねたが、それらの性質は、化合物の構造全体
に関連し、構造の一部分に変化があれば同じよう
な化学的修飾例えばエステル化を行なつても、そ
の消化管からの吸収は全く予測し得ないことを知
つた。本発明は、そのような研究の結果なされた
ものである。 即ち、本発明の化合物と一見構造が類似してい
る下記公知化合物のピバロイルオキシメチルエス
テルを合成し、経口投与による尿中回収率を試験
したところ、必ずしも良い結果は得られず、この
系統の化合物に関しては３位の置換基が極めて重
要な役割を果していることを見出した。 【表】 【表】 本発明に係る前記一般式（）を有する化合物
は、以下に述べる方法、すなわち (a) エステル化された７−アミノ−３−アルコキ
シメチルセフアロスポリン（）のアシル化法 (b) 化合物（）に対応するカルボン酸（′）、
またはそのアミノ基および水酸基が保護された
化合物（）のエステル化法および脱保護化法 あるいは (c) ７位のアシル基を他のアシル基から化学反応
によつて所望のアシル基に誘導する方法 によつて製造することができる。 上記の方法は具体的には次のように実施され
る。 (a)法は一般式 （式中、R2およびＹは前述したものと同意義
を有す。）で示される化合物を、一般式 （式中、R6はアミノ基または保護されたアミ
ノ基を、R5は前述したR1と同意義を有する基ま
たは保護された水酸基を有している低級アルキル
基を示す。）で示されるカルボン酸またはその反
応性誘導体と反応させ、一般式 （式中、R2，R5，R6およびＹは前述したもの
と同意義を有する。）を有する化合物を製造し、
R6が保護されたアミノ基、R5が保護された水酸
基を有する低級アルキル基である場合にはその保
護基を除去することによつて目的化合物（）が
製造される。 上記式中、R6が保護されたアミノ基である場
合のアミノ基の保護基としては、容易に除去され
てアミノ基に復元されるものが好ましく、それ自
体公知の保護基例えば酸処理で除去しうるトリチ
ル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、
２−エトキシカルボニル−１−メチルビニル基、
還元的に除去しうる２，２，２−トリクロルエト
キシカルボニル基、アルカリ処理で除去できる２
−メチルスルホニルエチルオキシカルボニル基、
チオ尿素処理で除去しうるクロルアセチル基など
が使用される。 また、R5が保護された水酸基を有する低級ア
ルキル基である場合の水酸基の保護基としては、
容易に除去されて水酸基に還元されるものが好ま
しく、それ自体公知の保護基例えば酸処理で除去
しうるトリチル基、ジクロルアセチル基、テトラ
ヒドロピラニル基などが使用される。 本方法はアシル化工程と必要な場合には脱保護
工程との２工程よりなる。 アシル化工程において式（）を有する化合物
は遊離のまゝあるいはその反応性誘導体として使
用されるが、遊離のまゝ使用する場合には適当な
縮合剤を用いる。縮合剤としてはジシクロヘキシ
ルカルボジイミドのようなジ置換カルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾール、チオニルジイミ
ダゾールのようなイミダゾライド、Ｎ−エトキシ
カルボニル−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキ
ノリン或いはジメチルホルムアミドとオキシ塩化
リン、塩化チオニルなどから調製されるビルスマ
イヤー試薬などがあげられる。式（）を有する
化合物の反応性誘導体としては、酸ハライド、酸
無水物、混合酸無水物、活性エステル、活性アミ
ド、酸アジド等があげられる。混合酸無水物とし
ては炭酸モノメチルエステルや炭酸モノイソブチ
ルエステルなどの炭酸モノ低級アルキルエステル
との混合無水物や、ピバリン酸やトリクロル酢酸
などの低級アルカン酸との混合酸無水物が使用さ
れ、活性エステルとしてはｐ−ニトロフエニルエ
ステル、ペンクロルフエニルエステル、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシベ
ンズトリアゾールエステルなどがあげられる。 本工程は通常溶媒中で行なうのが好ましく、使
用される溶媒は本反応に悪影響を与えないもので
あれば限定なく、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸
エチル、クロロホルム、ジクロルメタン、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシドなどの不活性有機溶媒或いは水との混合
溶媒などが使用される。使用される反応性誘導体
の種類によつては必要に応じ塩基を存在させるこ
とがある。塩基の例としてはアルカリ金属化合物
例えば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなど、脂肪族、芳香
族、含窒素複素環塩基例えばトリエチルアミン、
ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、Ｎ−メチ
ルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、ピリジ
ン、コリジン、ルチジンがあげられる。反応温度
に特に限定はないが通常反応は室温又は冷却下で
行なわれる。反応に要する時間は主としてアシル
化方法の種類、反応温度等によつても異なるが通
常数十分乃至数十時間である。反応終了後、式
（）を有する化合物は常法によつて反応混合物
から採取される。例えば反応溶媒が水混和性の場
合には一旦減圧で留去した後水不混和性溶媒に代
え、溶媒が水不混和性の場合はそのまゝ酸および
塩基で洗い、乾燥した後溶媒を留去することによ
つて得られる。必要に応じ常法例えば各種クロマ
トグラフイー等によつて精製することもできる。 脱保護工程は先に述べたように、各保護基の特
性に基いて常法によつてそれらの保護基を除去
し、粗生成物を精製して式（）を有する目的化
合物を得ることができる。 また、(b)法は一般式 （式中、R2，R5およびR6は前述したものと同
意義を有する）を有するカルボン酸化合物または
その反応性誘導体を、一般式 （式中、R3およびR4は前記と同意義を有し、
Ｘは塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示
す。）を有する化合物と反応させ前記式（）を
有する化合物を得て、更にR5およびR6が保護さ
れた基である場合には(a)法と同様にして脱保護す
ることによつて目的化合物（）が製造される。 本反応において、式（）を有する化合物を縮
合に有利な反応性誘導体として使用してもよい。
式（）を有する化合物のカルボン酸部分の反応
性誘導体としては、例えばナトリウム、カリウム
のような金属との塩、トリエチルアミンのような
有機アミンとの塩、酸クロライド、酸ブロマイド
のような酸ハライド、酸無水物、炭酸エチル、炭
酸イソブチルのような炭酸エステルとの混合酸無
水物等があげられる。反応は適当な溶媒中で行な
うのが好ましく、そのような溶媒としては本反応
に悪影響をおよぼさないもの例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルトリアミドホスフエー
ト、アセトニトリル等あるいは他の不活性有機溶
媒との混合溶媒があげられる。反応は通常室温ま
たは冷却下に行なうのが好ましい。反応に要する
時間は通常数分乃至数時間である。反応終了後、
反応混合物を水不混和性溶媒で希釈し、重硫酸カ
リウム水溶液および塩基水溶液で洗い、乾燥後溶
媒を留去することによつて本反応の目的化合物を
得ることができる。このものは更に常法例えば各
種クロマトグラフイーにより精製することができ
る。アミノ基および水酸基が保護されている場合
には、前記式（）を有する化合物の脱保護と同
様にしてアミノ基および水酸基に変換される。 また、(c)法は一般式 （式中、Ｚは塩素、臭素のようなハロゲン原子
またはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニ
ルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基若しくはベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トル
エンスルホニルオキシのようなアリールスルホニ
ルオキシ基を示し、R1，R2およびＹは前記と同
意義を有する。）で表わされる化合物をチオ尿素
と反応させることによつても前記式（）を有す
る化合物を製造することができる。 本方法は、α−ハロ若しくはα−スルホニルオ
キシケト化合物とチオ尿素とによる環形成反応で
あり、適当な溶媒中で両者を接触させることによ
つて遂行される。使用される溶媒は本反応に悪影
響を与えないものであれば限定はないが、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル等の溶解性の高いものが好ましい。反応
を完結させるためには塩基の存在が好ましく重炭
酸ナトリウム、重炭酸カリウム等を使用するのが
好ましい。反応温度に特に限定はないが通常は室
温程度で充分反応は進行する。反応に要する時間
は反応条件にもよるが通常数十乃至数時間であ
る。反応終了後、一般式（）を有する化合物は
常法によつて反応混合物から採取される。例えば
反応終了後減圧下に反応混合物を濃縮し、残渣を
適当な有機溶媒に溶かし水洗し、乾燥した後溶媒
を留去することによつて得られる。このものは常
法例えば各種クロマトグラフイーによつて精製す
ることができる。 以上の製造法によつて得られる前記一般式
（）を有する本発明の化合物は、前記のごとく
消化管からの吸収がよく、カルボン酸型化合物の
高い血中濃度を与えるので経口投与が可能であ
り、製薬的常法によつて例えばデンプン、乳糖、
白糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、ポリ
エチレングリコール等の賦形剤、例えばアラビア
ゴム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の結合剤、例えばステアリ
ン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤、例えばカ
ルボキシメチルセルロースカルシウム等の崩壊剤
などと混合してカプセル剤、粉剤、顆粒剤、錠剤
等経口投与剤を製造することができる。その投与
量は、年令、体重、症状等によつても異なるが、
成人に対し１日約0.2乃至５ｇ、好ましくは0.5乃
至３ｇであり、３乃至４回に分けて与えることが
できる。 また、前記一般式（）を有する化合物を使用
するに当つて、遊離の型のみでなく薬学的に許容
しうる酸付加塩例えば、塩酸、硫酸、硝酸のよう
な無機酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、マ
ロン酸などのような有機酸の酸付加塩としても使
用される。 本発明の化合物を経口投与すると、前述の如
く、腸管より容易に吸収され、生体内で加水分解
されて対応するカルボン酸（′） （式中、R1およびR2は前記と同意義を示す。）
またはその塩になる。化合物（′）のグラム陽
性菌および陰性菌に対する抗菌活性（最小発育阻
止濃度、μｇ／ml）は下記の例のごとく極めて顕
著なものである。 【表】 リチジス
また本発明の化合物および前述の類縁化合物
（化合物１，２および３）をマウスに経口投与し
た時の尿中回収率（対応するカルボン酸の量）は
夫々次の通りである。 尿中回収率（％） 実施例３の化合物 62 化合物１ 15 化合物２ ８ 化合物３ 14 上記のように本発明はセフアロスポリンの３位
の置換基R2およびオキシム部分の置換基R1を選
択、特定することによつて経口剤としての消化管
吸収が極めて良くなる点に特長がある。 次に参考例および実施例をあげて前記一般式
（）を有する本発明の化合物の製造方法を具体
的に説明するが、本発明はこれによつて限定され
るものではない。なお、本発明の化合物のオキシ
ム部分の異性体はすべてシン型である。 〔参考例 １〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩
の製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
酢酸100mgをジメチルホルムアミド0.15mlと塩
化メチレン７mlに溶解し、室温で撹拌下Ｎ−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール29mgを加え、30分
撹拌する。次いでジシクロヘキシルカーボジイ
ミド（DCC）44mgを室温下に加え、１時間撹
拌する。この反応液にジフエニルメチル ７−
アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート塩酸塩99mg及びジエチル
アニリン33mgと共に塩化メチレン２mlに溶解し
た溶液を室温下で加え、１時間撹拌した。析出
した不溶物を過し、液を減圧濃縮した。こ
れを10ｇのシリカゲルを用い、溶媒系シクロヘ
キサン−酢酸エチル（１：１）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミ
ノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート156mgを得た。 NMR−スペクトル（CDCl3，δppn）： 3.16（3H，ｓ，OCH3） 3.45（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.24（2H，ｓ，【式】） 4.6〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.85〜5.1（1H，ｍ，【式】） 4.97（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.2Hz） 5.86（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.2，9.8Hz） 6.62（1H，ｓ，CHφ2） 6.89（1H，ｓ，チアゾールＨ） 7.1〜7.6（17H，トリチル、及びNH） (2) 上記ジフエニルメチルエステル体287mgをテ
トラヒドロフラン４ml及び60％ギ酸４mlに溶解
し、50℃に撹拌下１時間加温した後減圧濃縮す
る。これを酢酸エチル100mlに溶解し、中性リ
ン酸緩衝液（PH6.8）で洗浄後、硫酸ナトリウ
ムで脱水し減圧濃縮する。これを15ｇのシリカ
ゲルを用い、酢酸エチル−シクロヘキサン
350／150でカラムクロマトグラフイー処理を行
いジフエニルメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオ
ロエトキシ）イミノアセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート134mgを得る。このうち127mgを塩化メチレ
ン1.5mlに溶解し、氷冷下、トリフルオロ酢酸
0.15ml、アニソール0.3mlを加え、室温下、１
時間静置する。これを減圧濃縮して過剰のトリ
フルオロ酢酸を除去し、エーテル50mlを加えて
目的物を沈澱させた。生じた固体を取し、エ
ーテルで洗浄後乾燥して表記化合物103mgを無
色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO，δppn）： 3.18（3H，ｓ，OCH3） 3.48（2H，ｓ，２位のCH2） 4.0〜4.4（4H，【式】及び 【式】） 4.52（1H，ｍ，【式】） 5.0（1H，ｍ，【式】） 5.09（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.0Hz） 5.69（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.0及び8.2
Hz） 6.76（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.8〜9.2（3H，−COOH、及びNH2） 9.58（1H，ｄ，７位のNHCO−，Ｊ＝8.2
Hz） 〔参考例 ２〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−
４−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イ
ミノ酢酸200mg、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール62mg、ジシクロヘキシルカーボジイミド
94mg、及びジフエニルメチル ７−アミノ−３
−メチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト160mgを用いて、上記参考例１と同様に反応
及び後処理を行うことにより、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキ
シ）イミノアセトアミド〕−３−メチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート303mgを得た。 NMR−スペクトル（CDCl3，δppn）： 2.08（3H，ｓ，３−メチル） 3.07（1H，ｄ，２位−Ｈ，Ｊ＝17Hz） 3.43（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝17Hz） 4.23（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−） 4.65（1H，ｍ，【式】） 4.94（1H，ｍ，【式】） 4.93（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.7Hz） 5.76（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.7，9.0Hz） 6.68（ｓ，チアゾールのＨ） 6.80（ｓ，CH−φ2） 6.9〜7.5（27H，ｍ，フエニル及びNH×
２） (2) 上記ジフエニルメチルエステル体303mgをテ
トラヒドロフラン（THF）４ml及び60％ギ酸
４mlに溶解し、50℃に撹拌下、１時間加温した
後減圧濃縮する。これを酢酸エチル100mlに溶
解し、中性リン酸緩衝液（PH6.8）で洗浄後、
硫酸ナトリウム（Na2SO4）で脱水後減圧濃縮
する。これを15ｇのシリカゲルを用い酢酸エチ
ル−シクロヘキサン（80：20）でカラムクロマ
トグラフイー処理を行いジフエニルメチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノア
セトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート154mgを得る。 これを塩化メチレン2.5mlに溶解し、氷冷下、
トリフルオロ酢酸0.2mlを加えて、室温下１時
間静置する。減圧濃縮して、過剰のトリフルオ
ロ酢酸を除去しエーテル50mlを加えて目的物を
沈澱させた。生じた固体を取し、エーテルで
洗浄後乾燥して表記化合物99mgを無色無定形粉
末として得た。 NMR−スペクトル（d6−DMSO，δppn）： 2.01（3H，ｓ，３位のMe） 3.23（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.60（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.9〜4.4（2H，ｍ，−OCH2−） 4.55（1H，ｍ，【式】） 5.05（1H，ｍ，【式】） 5.05（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.6Hz） 5.65（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.6，8.0Hz） 6.80（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 8.0〜9.3（3H，br，ｓ NH2とCOOH） 9.58（1H，ｄ，NH，Ｊ＝8.0Hz） 〔参考例 ３〕 ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ酢
酸の製法 (1) エチル ２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ
アセテート1.9ｇをジメチルホルムアミド40ml
に溶解し、２−フルオロエチルメタンスルホネ
ート2.0ｇ、無水炭酸カリウム1.0ｇ及び18−ク
ラウン−６−エーテル100mgを加えて70〜75℃
で6.5時間撹拌する。反応液を氷水にあけ酢酸
エチル300mlで抽出し、順次、水、食塩水で洗
浄後、Na2SO4で脱水した。溶媒を減圧で留去
後、100ｇのシリカゲルを用い、溶媒ｎ−ヘキ
サン−酢酸エチル（300：100）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、エチル ２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−（２−フルオロエトキシ）イミノアセテート
1.6ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.32（3H，ｔ，−CH3） 4.1〜4.4（2H，Ｏ−CH2−） 4.35（2H，ｑ，−OCH2−） 4.65（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｍ，【式】） 6.50（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.0〜7.5（16H，トリチル及びNH） (2) 上記エステル1.6ｇをメタノール20mlに溶解
し50℃に加温し、撹拌下10％水酸化ナトリウム
（NaOH）水溶液を少量ずつ加えてゆく。必要
とした10％NaOH水は全量2.6mlであつた。50
℃で４時間撹拌後、冷却し、析出したカルボン
酸のナトリウム塩を取する。これを酢酸エチ
ル300mlに懸濁し、10％硫酸水素カリウム
（KHSO4）水150mlを加えて、懸濁がなくなる
まで振とうする。酢酸エチル層を分離し、食塩
（NaCl）水で洗浄後、Na2SO4で脱水、次いで
減圧濃縮し、表記化合物を白色固体粉末として
1.145ｇ得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO，δppn）： 3.7−4.4（3H，【式】） 4.9（1H，ｍ，【式】） 6.53（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.0−7.5（15H，トリチル） 8.53（1H，ｓ，−NH−） 〔参考例 ４〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸の
製法 (1) ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイ
ミノアセテート３ｇをジメチルホルムアミド15
mlに溶解し炭酸カリウム426mgおよびクロルア
セトニトリル0.39mlを加え50℃で６時間撹拌し
た。さらに炭酸カリウム426mgとクロルアセト
ニトリル0.39mlを追加し15時間同温で撹拌後酢
酸エチル100mlを加え、順次、水、1N−塩酸、
食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マ
グネシウム上で脱水し減圧濃縮後100ｇのシリ
カゲルを用いクロロホルムでカラムクロマトグ
ラフイー処理しｔ−ブチル ２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
シアノメトキシイミノアセテート2.8ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.57（9H，ｓ，ｔ−Bu） 4.79（2H，ｓ，CH2CN） 6.58（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.95（1H，ｓ，NH） 7.28（15H，ｓ，トリチル基Ｈ） (2) 上記ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメ
トキシイミノアセテート2.8ｇを塩化メチレン
30mlに溶解しトリフルオロ酢酸15mlを加え室温
で４時間撹拌後減圧濃縮しトリフルオロ酢酸を
除去した。これを少量の酢酸エチルに溶解し飽
和炭酸水素ナトリウム水を加えて撹拌し水層を
PH7.〜7.5とした。析出した結晶を取し少量
の酢酸エチルおよび水で洗浄後、1N−塩酸中
に懸濁し30分撹拌した。結晶を取し水洗後よ
く乾燥して表記化合物1.98ｇを得た。 〔参考例 ５〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸
340mgとトリエチルアミン0.1mlを塩化メチレン
３mlに溶解し−30℃に冷却して塩化オキザリル
0.06mlを加え冷却浴を氷浴として５分撹拌し
た。これにジメチルホルムアミドを１滴加えさ
らに５分撹拌して減圧濃縮し２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
シアノメトキシイミノアセチルクロリドを得
た。一方、ジフエニルメチル ７−アミノ−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート塩酸塩325mgをジエチルアニリン216
mgと共に乾燥した塩化メチレン３mlに溶解し−
30℃に冷却した。これに前記の２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−シアノメトキシイミノアセチルクロリドを塩
化メチレン３mlに溶解して加え15分間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮後、酢酸エチル50mlに溶
解し、順次、水、１−Ｎ塩酸、中性リン酸緩衝
液（PH6.8）で洗浄液、酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウム上で脱水し減圧濃縮した。これ
を30ｇのシリカゲルを用い溶媒系クロロホルム
−酢酸エチル（３：１）でカラムクロマトグラ
フイー処理し、ジフエニルメチル ７−〔２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート303mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 3.15（3H，ｓ，OCＨ 3） 3.44（2H，ｓ，CH22位） 4.19（2H，ｓ，【式】） 4.77（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 4.96（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.81（1H，dd，Ｊ＝5.5および９Hz７位） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.84（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 6.9〜7.6（27H，ｍ，フエニルおよびNH×
２） (2) ジフエニルメチル ７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シ
アノメトキシイミノアセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート100mgをメタノール10ml、ギ酸５mlの混合
液に溶解し50℃に加温して30分撹拌し減圧濃縮
した。 これを酢酸エチル50mlに溶解し、中性リン酸
緩衝液（PH6.8）で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウム上で脱水し減圧濃縮した。これを10ｇのシ
リカゲルを用い酢酸エチルでカラムクロマトグ
ラフイー処理しジフエニルメチル ７−〔２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−シアノメトキシイミノアセタミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レート50mgを得た。 これをアニソール１ml中氷冷下トリフルオロ
酢酸0.5mlを加え、室温として１時間静置した。
減圧濃縮して過剰のトリフルオロ酢酸を除去し
エーテル30mlを加えて目的物を沈澱させた。 生じた固体を取し、エーテルで洗浄後乾燥
して表記化合物26mgを無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（アセトン−d6＋D2O
δppn）： 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.59（2H，ｓ，CH22位） 4.31（2H，ｓ，【式】） 4.97（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 5.19（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ６位） 5.89（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ７位） 6.99（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 〔参考例 ６〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）
酢酸の製法 (1) ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイ
ミノアセテート2.48ｇを15mlのテトラヒドロフ
ランに溶解した。この溶液にアクリロニトリル
2.65ｇと触媒量のナトリウムメトキシドを加
え、1.5時間加熱還流後、減圧で濃縮した。残
留物を塩基性アルミナカラムクロマト〔展開剤
ベンゼン−ベンゼン：酢酸エチル（９：１）〕
により、精製し目的物2.5ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.56（9H，ｓ） 2.71（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 6.46（1H，ｓ） 6.92（1H，ｓ） 7.26（15H，ｓ） (2) (1)で得られたｔ−ブチル ２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（２−シアノエトキシイミノ）アセテート2.5ｇ
にトリフルオロ酢酸５mlを加え、室温で３時間
撹拌後さらにトリフルオロ酢酸２mlを加え、室
温で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、酢
酸エチルを加え水洗、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物に少量の酢酸エチ
ルを加え、沈澱を取し目的物の沈澱1.3ｇを
得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 2.68（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz） 4.19（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz） 6.41（1H，ｓ） 7.22（16H，ｓ） 〔参考例 ７〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）酢酸132mgにジメチルホルムアミド
（DMF）0.3mlとジクロロメタン２mlを加えた
懸濁液に56.5mgのDCCと37mgの１−ヒドロキシ
−1H−ベンゾトリアゾールを室温で加え35分
撹拌した。この反応液に40.8mgのジエチルアニ
リンと113mgのジフエニルメチル ７−アミノ
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート塩酸塩の1.5mlジクロロメタン
溶液を加え、室温で３時間撹拌した。反応液を
減圧濃縮後、ベンゼンを加え過し、母液を減
圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマト（展開剤
ヘキサン：酢酸エチル７：３から３：７へ順次
展開）により精製し、ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート103mgを得た。 (2) 上記(1)により得られたジフエニルメチルエス
テル103mg，５mlのギ酸と５mlのメタノールの
溶液を50〜60℃の油浴上で20分間加熱撹拌後減
圧濃縮した。この濃縮物に酢酸エチルを加え、
氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後水
洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過後
シリカゲルカラムクロマト（展開剤〔酢酸エチ
ル：ヘキサン（６：１）〕で精製し、ジフエニ
ルメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート25mgを得
た。 (3) (2)で得られたエステル25mgをジクロロメタン
１mlとトリフルオロ酢酸0.2mlに溶解し室温下
30分撹拌後、減圧濃縮した。濃縮物をエーテル
により粉末とし過、エーテルで洗浄し、目的
とするカルボン酸のトリフルオロ酢酸塩の白色
粉末16.5mgを得た。ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.67（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz） 3.17（3H，ｓ） 3.52（2H，ｓ） 4.21（2H，ｓ） 4.44（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz） 5.70〜6.30（3H，ｍ） 6.72（1H，ｓ） 6.90（1H，ｓ） 7.30（10H，ｓ） 8.06（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz） カルボン酸トリフルオロ酢酸塩 NMRスペクトル（CD3OD，δppn）： 2.93（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 3.28（3H，ｓ） 3.55（2H，ｓ） 4.28（2H，ｓ） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 5.09（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 5.77（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 7.05（1H，ｓ） 〔参考例 ８〕 ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフル
オロ−２−プロピルオキシイミノ）アセテート
の製法 2.43ｇのｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキ
シイミノアセテートと1.74ｇの１，３−ジフルオ
ロ−２−プロピル メタンスルホネートの混合物
に室温で１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕
−ウンデセン−７（DBU）2.0ｇを加え70℃の油
浴上で１時間加熱撹拌した。反応物を冷却後酢酸
エチルに溶解し、希塩酸で洗浄後水洗炭酸ナトリ
ウム水溶液で洗浄、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマト
〔展開剤ヘキサン：酢酸エチル（３：１）〕で精製
し目的物270mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.53（9H，ｓ） 4.17〜5.25（5H，ｍ） 6.47（1H，ｓ） 6.94（1H，ｓ） 7.27（15H，ｓ） 〔参考例 ９〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プ
ロピルオキシイミノ）酢酸の製法 ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオ
ロ−２−プロピルオキシイミノ）アセテート270
mgをトリオルオロ酢酸1.2mlに溶解し室温で２時
間撹拌した。反応後減圧濃縮し酢酸エチルに溶解
し水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。
濃縮物をローバーカラム〔メルク社製 RP−８
サイズＢ、展開剤：メタノール：水（８：２）〕
で精製し、目的のカルボン酸126mgを得た。 〔参考例 10〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プロ
ピルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸
トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−
プロピルオキシイミノ）酢酸162mgにトリエチ
ルアミン32.4mgとジクロロメタン４mlを加え溶
解しDMFを１滴加えた後−30℃でオキザリル
クロリド56μを加え５分撹拌し減圧濃縮し酸
クロリドを得た。この酸クロリドを２mlのジク
ロロメタンに溶解後、この溶液をジフエニルメ
チル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート塩酸塩132mg
とジエチルアニリン96mgのジクロロメタン２ml
溶液に−20℃で加え、同温度20分撹拌した。反
応物を減圧濃縮後酢酸エチルに溶解し、希塩酸
洗浄、水洗、リン酸緩衝液（PH6.86）で洗浄、
飽和食塩水洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
（展開剤：酢酸エチル：ヘキサン ３：７から
１：１へ順次展開）で精製し、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ
−２−プロピルオキシイミノ）アセトアミド−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート60mgを得た。 (2) (1)で得られたカルボン酸エステル50mgをメタ
ノール2.5mlとギ酸2.5mlに溶解し、50℃の油浴
上で加熱撹拌後減圧濃縮した。濃縮物を酢酸エ
チルに溶解後氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄水洗後飽和食塩水で洗浄し無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧濃縮後シリカゲルカ
ラムクロマト〔展開剤：酢酸エチル：ヘキサン
（６：１）〕で精製しジフエニルメチル ７−
〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プロピ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト28mgを得た。 (3) (2)で得られたカルボン酸エステル28mgをジク
ロロメタン１mlに溶解しトリフルオロ酢酸0.2
mlを加え、室温で30分撹拌した後減圧濃縮し、
エーテルで粉末にし取しエーテルで洗浄し目
的物のトリフルオロ酢酸塩の白色粉末17mgを得
た。 NMRスペクトル（CD3OD，δppn）： 3.33（3H，ｓ） 3.57（2H，ｓ） 4.32（2H，ｓ） 4.21〜5.25（6H，ｍ） 5.80（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 7.04（1H，ｓ） 〔参考例 11〕 ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸ギ
酸塩の製法 (1) ジメチルホルムアミド128mgを氷冷し、オキ
シ塩化リン243mgを加え、40℃で１時間撹拌し
た。真空ポンプで１時間乾燥後、酢酸エチル４
mlを加え、次いで、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，
２−トリフルオロエトキシイミノ）酢酸880mg
を室温で加えた。10分撹拌後、この溶液を、ジ
フエニルメチル ７−アミノ−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート塩
酸塩692mg及びＮ，Ｎ−ジエチルアニリン500mg
の塩化メチレン（７ml）溶液に−20℃で加え、
同温で30分撹拌した。減圧濃縮後、酢酸エチル
を加え、５％塩酸、次いで食塩水で洗浄、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。こ
れを、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フイーで精製した。展開溶媒：酢酸エチル−シ
クロヘキサン（１：２）、収量236mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 3.20（3H，ｓ，OMe） 3.51（2H，ｓ，Ｓ−CH2） 4.24（2H，ｓ，【式】） 4.63（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，−ＣＨ 2CF3） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.79（1H，dd，Ｊ＝9.0Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環） 6.93（1H，ｓ，−ＣＨφ2） 7.2〜7.5（27H，ｍ，−CHφ2，−Cφ3，
TrNH，CONＨ） (2) ジフエニルメチル ７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（２，２，２−トリフルオロエトキシイミノ）
アセタミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート236mgを、１，２
−ジクロルエタン２ml及びアニソール0.5mlに
とかし、トリフルオロ酢酸２mlを室温で加え、
35分撹拌した。減圧濃縮後、ジイソプロピルエ
ーテルを加えて粉末とし、取した。この粉末
を、メタノール１ml及びギ酸１mlにとかし、55
〜60℃で、25分撹拌した。減圧濃縮後、ジイソ
プロピルエーテルを加えて粉末とし、目的化合
物を取した。収量122mg。 IRスペクトル（νNujol nax）：1740cm-1 （β−ラクタム） NMRスペクトル（アセトン−d6，δppn）： 3.27（3H，ｓ，OMe） 3.59（2H，ｓ，Ｓ−CH2） 4.31（2H，ｓ，【式】） 4.69（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2−） 5.20（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.91（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７−Ｈ） 6.98（1H，ｓ，チアゾール環） 8.10（1H，ｓ，ＨCO2H） 〔参考例 12〕 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔２−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）エトキシ〕イミノ酢
酸エチルの製法 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−シン−ヒドロキシイミノ酢酸2.0ｇと２
−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イルオキシ
エタノール2.0ｇとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド20ml中、無水炭酸カリウム2.0ｇと60〜65℃
で6.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチルでうす
め、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−酢
酸エチル（20：１）を溶媒系とするシリカゲル・
カラムクロマトに付して、粘稠液体の表題化合物
1.6ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz エステルCH2C
Ｈ3） 1.3−2.0（6H，ｍ，テトラヒドロフラン環、 Ｃ−（CH2）3−Ｃ） 3.3〜4.7（9H，OCH2，Ｏ−CH−Ｏ） 6.54（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.95（1H，brs，NH） 7.34（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 同様にして２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−シン〔３−（テトラヒドロ−
4H−ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕
イミノ酢酸エチルを得た。 (2) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔２−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）エトキシ〕イミノ酢
酸の製法 上記(1)で得られるエチルエステル2.0ｇのテト
ラヒドロフラン15mlとメタノール15ml溶液に1N
水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、35℃、15時
間撹拌する。テトラヒドロフランおよびメタノー
ルを留去し、析出する無色結晶の表題化合物のナ
トリウム塩を取し、酢酸エチル、水で洗浄す
る。液の水層を酢酸エチルで洗浄した後、取
した結晶と合せ、これに酢酸エチルを加えてお
き、撹拌しながら3N塩酸でPH2.5にして、酢酸エ
チル層を分離する。抽出した酢酸エチル層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると、粉末状の表題化合物1.56ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.2−1.8（6H，ｍ，テトラヒドロフラン環 Ｃ−（CH2）3−Ｃ） 3.2−4.4（6H，ｍ，−OCH2−Ｃ） 4.65（1H，brs，【式】） 6.48（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.27（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.2付近（1H，brs，NH） 同様にして２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−シン〔３−（テトラヒドロ−
4H−ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕
イミノ酢酸を得た。 〔参考例 13〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−３
−セフエム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩の製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）酢酸150mgと、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール45mgを、塩化メチレン3.5ml
に懸濁し、ジシクロヘキシルカルボジイミド61
mgを加え、室温で１時間撹拌した。これに、ジ
フエニルメチル ７−アミノ−３−メチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート116mgを加
え、更に2.5時間撹拌した。減圧濃縮後、酢酸
エチルを加えて不溶物を別した。液を減圧
濃縮後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフイーで精製した。展開溶媒：酢酸エチル−
シクロヘキサン（１：２）、収量190mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.10（3H，ｓ，【式】） 3.28（2H，ABq，Ｊ＝17.0Hz，Ｓ−CH2） 4.62（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.81（1H，dd，Ｊ＝9.0Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 6.77（1H，ｓ，チアゾール環） 6.87（1H，ｓ，CHφ2） 7.20（10H，ｓ，CHφ 2） 7.27（15H，ｓ，Ｃφ 3） 8.37（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，CONＨ） (2) 前記(1)で得られたジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエ
トキシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート190mgを、
メタノール１mlとギ酸１mlにとかし、55℃で25
分撹拌した。減圧濃縮後、酢酸エチルにとか
し、３％炭酸水素ナトリウム水溶液次いで、食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
イーで精製した。展開溶媒；酢酸エチル−シク
ロヘキサン（３：１）、収量55mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.10（3H，ｓ，【式】） 3.27（2H，ｓ，Ｓ−ＣＨ 2） 4.49（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 5.00（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.7〜6.0（3H，ｍ，７−Ｈ，Ｈ 2N） 6.76（1H，ｓ，チアゾール環） 6.88（1H，ｓ，CHφ2） 7.29（10H，ｓ，CHφ 2） 7.94（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，CONＨ） (3) 前記(2)で得られたジフエニルメチル７−〔２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−
２−（２，２，２−トリフルオロエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート55mgを塩化メチレン
１mlにとかし、トリフルオロ酢酸１mlを加え、
室温で25分撹拌した。減圧濃縮後、エチルエー
テルを加えて粉末とし、取した。収量34mg。 NMRスペクトル（重アセトン、δppn）： 2.13（3H，ｓ，【式】） 3.47（2H，ABq，Ｊ＝18.0Hz，Ｓ−CH2） 4.70（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 5.12（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.79（1H，dd，Ｊ＝8.5Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 7.08（1H，ｓ，チアゾール環） 7.38（2H，ブロードｓ，H2N） 8.69（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，CONH） 〔参考例 14〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシ
イミノ）酢酸ナトリウム塩の製法 (1) ３−クロロ−１−プロパノール75ｇをエチレ
ングリコール400mlに溶解しフツ化カリウム90
ｇを加えて浴温200〜230℃に加熱し沸点120〜
133℃の留分を集めて３−フルオロ−１−プロ
パノール45.4ｇを得た。３−フルオロ−１−プ
ロパノール６ｇを塩化メチレン60ml中トリエチ
ルアミン10.7mlと共に溶解し−20℃で塩化メタ
ンスルホニル8.8ｇを滴下し30分撹拌し、さら
に室温として30分撹拌した。反応液を減圧濃縮
し酢酸エチル100mlを加え、順次水、食塩水、
飽和硫酸水素カリウム水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で脱水後減圧濃縮し３−フルオロプロ
ピル−１−メタンスルホネートを10.5ｇ得た。 NMRスペクトル（重アセトン δppn） 2.13（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz， −ＣＨ 2CH2F） 3.06（3H，ｓ，CH3） 4.33（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.53（2H，d.t，Ｊ＝4.6および６Hz，ＣＨ
2F） (2) メチル ２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ
アセテート２ｇをジメチルスルホキシド15mlに
溶解し、３−フルオロプロピル−１−メタンス
ルホネート1.06ｇ、無水炭酸カリウム467mg、
18−クラウン−６−エーテル100mgを加え60℃
で参考例３の如く反応し処理した。これをシリ
カゲル100ｇを用いｎ−ヘキサン−酢酸エチル
（３：１）でカラムクロマトグラフイー処理し
メチル ２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピ
ルオキシイミノ）アセテート1.01ｇを得た。 NMRスペクトル（CCl4，δppn） 2.02（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz ＣＨ 2CH2F） 3.73（3H，ｓ，CH3） 4.15（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.37（2H，d.t.J＝47および６Hz，−ＣＨ 2F） 6.55（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.75（1H，ｓ，NH） 7.16（15H，ｓ，トリチル） (3) 上記の如くして得た化合物1.01ｇをテトラヒ
ドロフラン10mlに溶解しメタノール2.5mlおよ
び95％水酸化ナトリウム224mgを水５mlに溶解
して加え55℃で１時間撹拌した。 反応液を減圧濃縮すると結晶が析出した。こ
れに水30mlを加えて撹拌し取した。さらに水
洗後エーテルで洗い乾燥して表記化合物911mg
を得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO δppn） 1.88（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz， ＣＨ 2CH2F） 3.95（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.48（2H，d.t，Ｊ＝46および６Hz，−ＣＨ
2F） 6.53（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） ７〜7.6（16H，ｍ、トリチルおよびNH） 〔参考例 15〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸 トリフルオロ
酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）酢酸200mgを塩化メチレン１ml中で
トリエチルアミン0.068ml、塩化オキザリル
0.043mlおよびジメチルホルムアミド１滴を用
い参考例５と同様にして酸塩化物とした。 これを同様にしてジフエニルメチル ７−ア
ミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート 塩酸塩182mgと塩化メチ
レン５ml中ジエチルアニリン150mgの存在下に
反応させ、抽出、濃縮した。 こうして得た混合物を30ｇのシリカゲルを用
いｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１：１）でカラ
ムクロマトグラフイー処理し、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオ
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート
104mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz， OCH2 CH 2CH2F） 3.18（3H，ｓ，OCH3） 3.48（2H，ｓ，CH2，２位） 4.20（2H，ｓ，CH2，
【式】） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，−ＯCH
2CH2CH2F） 4.51（2H，d.t.，Ｊ＝46および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 4.97（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.87（1H，d.d，Ｊ＝９および５Hz，７位） 6.69（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.90（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 6.8〜7.7（27H，ｍ，トリチル、ジフエニル
メチ ルのフエニル性Ｈおよび
NH×２） (2) 上記の如くして得た化合物104mgをメタノー
ル1.5ml、テトラヒドロフラン1.5ml、ギ酸１ml
の混液に溶解し50〜55℃で30分撹拌後、減圧濃
縮し５ｇのシリカゲルを用い酢酸エチルでカラ
ムクロマトグラフイー処理して、ジフエニルメ
チル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート55mg
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 2.24（2H，d.quintet，Ｊ＝27および６Hz， OCH2CＨ 2CH2F） 3.21（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，CH22位） 4.26（2H，ｓ，CH2） 4.50（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.52（2H，d.t.，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.6〜6.1（2H，br，NH2） 5.89（1H，d.d，Ｊ＝９および５Hz，７位） 6.95（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.17（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 7.34（10H，ｓ，ジフエニルメチルのフエ
ニル性 Ｈ） 7.90（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，７位NH） (3) 上記のごとくして得た化合物55mgを塩化メチ
レン１mlに溶解し、氷冷下アニソール0.5mlお
よびトリフルオロ酢酸0.3mlを加え冷却浴をは
ずして室温に一時間静置した。反応液は減圧濃
縮しジイソプロピルエーテルを加えて固化し、
これを取してジイソプロピルエーテルでよく
洗浄後乾燥して表記化合物32mgを無色粉末とし
て得た。 NMRスペクトル（重アセトン、δppn）： 2.23（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz， OCH2 CH 2CH2F） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.60（2H，ｓ，CH22位） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.32（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.57（2H，d.t，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.0〜6.0（4H，br，NH2およびCOOH×
２） 5.24（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.92（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５および９Hz、７
位） 7.05（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 8.68（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，NH ７位） 〔実施例 １〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，
２，２−トリフルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレートの製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）酢酸260mgと、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール78mgを、塩化メチレン５mlに
懸濁し、ジシクロヘキシルカルボジイミド105
mgを加え、室温で45分撹拌した。これに、ピバ
ロイルオキシメチル ７−アミノ−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト ｐ−トルエンスルホン酸塩297mg及びＮ，
Ｎ−ジエチルアニリン83mgの塩化メチレン（１
ml）溶液を加え、室温で2.5時間撹拌した。減
圧濃縮後、少量の酢酸エチルを加え、不溶物を
別後、液を、５％塩酸、次いで食塩水で洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリ
カゲルを用いたカラムクロマトグラフイーで精
製した。展開溶媒、酢酸エチル−シクロヘキサ
ン（２：３）、収量49mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.30（3H，ｓ，OMe） 3.50（2H，ｓ，【式】） 4.27（2H，ｓ，【式】） 4.57（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2−） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６−Ｈ） 5.7〜6.0（3H，ｍ，７−Ｈ，
【式】） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環） 7.0〜7.4（16H，ｍ，Ｃφ 3，CONＨ） (2) 前記(1)で得られたピバロイルオキシメチル
７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート49mgを、メタノール0.5mlと、ギ酸0.5mlに
とかし、55℃で25分撹拌した。減圧濃縮後、酢
酸エチルにとかし、３％炭酸水素ナトリウム水
溶液、次いで、食塩水で洗浄した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、シリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフイーで精製した。展開溶媒、
酢酸エチル−シクロヘキサン（４：１）。 IRスペクトル（νKBr nax）： 1790cm-1（β−ラクタム） NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.31（3H，ｓ，OMe） 3.54（2H，ｓ，Ｓ−ＣＨ 2） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.56（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2）： 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.6〜6.1（5H，ｍ，７−Ｈ，NH2，
【式】） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環） 7.65（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，CONＨ） 元素分析値：C22H26N5O8S2F3として 計算値：Ｃ 43.34，Ｈ 4.30，Ｎ 11.49，
Ｓ 10.52， Ｆ 9.35 分析値：Ｃ 43.34，Ｈ 4.49，Ｎ 11.17，
Ｓ 10.25， Ｆ 9.21 〔実施例２〕〔実施例１〕の化合物の別途合成法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸 ギ酸塩90mg
を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２mlに懸濁
し、ジシクロヘキシルアミン60mgを加え、０℃で
ヨードメチルピバレート89mgを加えた。０℃で１
時間撹拌後、酢酸エチルを加えて不溶物を別
し、液を食塩水、次いで、硫酸水素カリウム水
溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフイ
ーで精製した。収量47mg。 〔実施例 ３〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−
メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキ
シレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシイミ
ノ）酢酸200mgをジメチルホルムアミド0.3ml及
び塩化メチレン12mlに溶解し、室温で撹拌下Ｎ
−ヒドロキシベンゾトリアゾール71mgを加え、
30分撹拌する。次いでジシクロヘキシルカーボ
ジイミド94mgを室温下に加え、１時間撹拌す
る。この反応液にピバロイルオキシメチル ７
−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート ｐ−トルエンスルホ
ン酸塩245mgをジエチルアニリン69mgと塩化メ
チレン３mlに溶解した溶液を室温下で加え、１
時間撹拌した。析出した不溶物を過し、液
を減圧濃縮した。これを15ｇのシリカゲルを用
い、溶媒系シクロヘキサン−酢酸エチル
（325：175）でカラムクロマトグラフイー処理
し、ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）
−２−（２−フルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート233mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.22（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.30（3H，ｓ，−OCH3） 3.51（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.23（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−） 4.67（1H，ｍ，【式】） 5.00（1H，ｍ，【式】） 4.96（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝５Hz） 5.8〜6.1（3H，７位のＨ及び
【式】） 6.66（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.3〜7.7（17H，トリチル，NH、及びアミ
ドNH） (2) 上記のごとくして得たピバロイルオキシメチ
ル ７〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキ
シ）イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート507
mgをTHF6ml及び60％ギ酸６mlに溶解し、55〜
60℃に加温して１時間撹拌し、減圧濃縮した。
残渣を酢酸エチル200mlに溶解し、中性リン酸
緩衝液（PH6.8）で洗浄後無水硫酸ナトリウム
で脱水後減圧濃縮する。これを25ｇのシリカゲ
ルを用いｎ−ヘキサン−酢酸エチル（20：80）
でカラムクロマトグラフイー処理を行つた。精
製された目的物を酢酸エチル1.3mlに溶解し、
この溶液をｎ−ヘキサン13ml中へ撹拌下ゆつく
り滴下し、析出した固体を取後乾燥して表記
化合物134mgを無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，tBu） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.55（2H，ｓ，２位 CH2） 4.22（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2−） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.83（2H，ｓ，【式】） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.92（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8，10Hz） 6.79（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.58（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ５〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−
３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジエチ
ルアニリンの存在下に、１−メチル−１−シクロ
ヘキサンカルボニルオキシメチルヨーダイドを実
施例２と同様に反応させて表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.3（10H，ｍ，−（CH2）5−） 2.11（3H，ｓ，３位−CH3） 3.14（1H，ｄ，２位Ｈ，Ｊ＝18.0Hz） 3.54（1H，ｄ，２位Ｈ，Ｊ＝18.0Hz） 4.21（2H，ｓ，−OCH2−） 4.70（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｍ，【式】） 4.98（1H，ｄ，６位Ｈ，Ｊ＝5.0Hz） 5.80（1H，ｑ，７位Ｈ，Ｊ＝5.0，4.4Hz） 5.84（2H，ｓ） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.65（1H，ｄ，７位のNH，Ｊ＝10.0Hz） 〔実施例 ６〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジエチ
ルアニリンの存在下、１−ブロモエチル シクロ
ヘキサンカルボキシレートを実施例２と同様に作
用させ、生成物をカラムクロマトグラフイー処理
して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 0.8〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基の
Ｈ，および【式】） 2.12（3H，ｓ，３位のCH3） 3.15（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.55（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 4.21（2H，ｓ，OCH2−） 4.70（1H，ｍ，【式】） 5.0（1H，ｍ，【式】） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.6Hz） 5.4〜6.0（2H，br.s，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5，
【式】） 7.68（1H，ｄ，７位のNH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ４〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート
の製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下、１−メチル−１
−シクロヘキサンカルボニルオキシメチルヨーダ
イドを実施例２と同様に作用させ、表記化合物を
得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.3（10H，ｍ，−（CH2）5−） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.55（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.82（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−Ｏ−） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.92（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8および 10Hz） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.59（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ５〕 １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下に、１−ブロモエ
チル シクロペンタンカルボキシレートを実施例
２の如く作用させ、生成物をシクロヘキサン−酢
酸エチル（１：５）を溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー処理して表記化合物を得
た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.0〜2.3（11H，ｍ，CH2×４，CH3） 2.3〜3.1（1H，ｍ，CH） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.56（2H，ｓ，２位のCH2） 4.22（2H，ｓ，【式】） 4.28（2H，ｓ，Ｏ−CH2） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.91（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8および10
Hz） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，
【式】Ｊ＝6.5Hz） 7.59（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ６〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノ
メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート
の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸
170mgを乾燥した塩化メチレン２mlに、トリエ
チルアミン0.05mlと共に加えて溶解し−10℃に
冷却した。これに塩化オキザリル0.03mlおよび
ジメチルホルムアミド１滴を加えて５分間撹拌
し減圧濃縮した。一方、ピバロイルオキシメチ
ル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート ｐ−トルエン
スルホン酸塩193mgをジエチルアニリン108mgと
共に塩化メチレン２mlに溶解し−10℃に冷却し
撹拌した。この溶液に前記の反応物を塩化メチ
レン２mlに溶解して加え10分間撹拌し、反応液
を減圧濃縮した。これを酢酸エチル60mlに溶解
し水で２回、１−Ｎ塩酸で２回、食塩水で１回
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、減
圧濃縮した。 これを50ｇのシリカゲルを用い溶媒系クロロ
ホルム−酢酸エチル（３：１）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、ピバロイルオキシメチル
７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート180mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.21（9H，ｓ，tBu） 3.29（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.27（2H，ｓ，【式】） 4.83（2H，ｓ，Ｏ−ＣＨ 2CN） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ６位） 5.5〜6.05（3H，ｍ，７位，およびCH2） 6.63（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.9〜7.6（17H，トリチル，NHおよび アミドNH） (2) 上記のごとくして得たピバロイルオキシメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミ
ノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート180mgを50％
メタノールとギ酸20mlに溶解し55〜60℃に加温
して20分間撹拌し減圧濃縮した。これをメタノ
ール１mlに溶解しエーテル10mlおよびイソプロ
ピルエーテル50mlを加えて沈澱させ、生じた固
体を取し、イソプロピルエーテルでよく洗浄
後乾燥して表記化合物82.2mgを無色無定形粉末
として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.25（9H，ｓ，tBu） 3.33（3H，ｓ，OCH3） 3.57（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.29（2H，ｓ，【式】） 4.85（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 5.04（1H，ｄ，６位Ｊ＝5.5Hz） 5.5〜6.7（5H，ｍ，７位，CH2およびNH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 8.18（1H，ｄ，NH ７位，Ｊ＝９Hz） 〔実施例 ７〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シ
アノエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）酢酸120mgにトリエチルアミン26mgとジク
ロルメタン２mlを加え溶液とし、これにジメチ
ルホルムアミド（DMF）を１滴加えた後−25
℃に冷却し、オキザリルクロリド44μを加え
同温度５分撹拌した。反応物を減圧濃縮し酸ク
ロリドを得た。得られた酸クロリドを ジクロ
ルメタン２mlに溶解し ピバロイルオキシメチ
ル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート ｐ−トルエン
スルホン酸塩133ｇとジエチルアニリン75mgの
ジクロロメタン２mlの溶液に−10℃で加え30
分間撹拌した。反応物を減圧濃縮後酢酸エチル
に溶解し希塩酸で洗浄後水洗、リン酸緩衝液
（PH6.86）で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥
し減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲル
カラムクロマト（展開剤；酢酸エチル−ヘキサ
ン１：１から１：２に順次展開）で精製し、75
mgのピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）
−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレートを得た。 (2) (1)で得られたトリチルアミノ体75mgにメタノ
ール2.5mlとギ酸2.5mlを加え50〜60℃の油浴上
で20分加熱、撹拌した後減圧濃縮した。濃縮物
を酢酸エチルに溶解し氷冷した炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄後水洗、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラム
クロマト〔展開剤；酢酸エチル−ヘキサン
（７：１）〕で精製し、目的のエステル41mgを得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ） 2.75（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 3.30（3H，ｓ） 3.57（2H，ｓ） 4.28（2H，ｓ） 4.39（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 5.05（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 5.84（2H，ｓ） 5.60〜6.30（3H，ｍ） 6.70（1H，ｓ） 8.15（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 〔実施例 ８〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、１−ヨードエチル シ
クロペンチルカーボネートを実施例２と同様に作
用させ、反応生成物を酢酸エチルを用いシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー処理して表記化合物
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.3〜2.1（11H，ｍ，−（CH2）4−CH3CH） 2.72（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−CH2 CH2 CN） 3.32（3H，ｓ，−OCＨ 3） 3.53（2H，ｓ，２位−CH2 −） 4.33（2H，ｓ，３位−CH2 −） 4.41（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−ＯCH
2CH2CN） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.0〜5.9（3H，ｍ，−NH2，
【式】） 5.95，5.97（合計1H，ｄ，ｄ，×２，Ｊ＝
5.0Hz 9.0Hz，７位ＣＨ） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.8，6.9（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝６Hz，
ＣＨCH3） 8.05，8.10（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９Hz， ７位NH） 〔実施例 ９〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシ
イミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、ヨードメチル １−メ
チル−１−シクロヘキサンカルボキシレートを実
施例２と同様に作用させ、反応生成物を酢酸エチ
ルを用いシリカゲルカラムクロマトグラフイー処
理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.18（3H，ｓ，−CH3） 0.9〜2.2（10H，ｍ，−（CH2）5−） 2.73（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−OCH2 CH
2CN） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，２位 −CH2−） 4.30（2H，ｓ，３位 −CH2−） 4.42（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−ＯCH
2CH2CN） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６位 −CH） 5.73（2H，br.s，−NH2） 5.88（2H，ｓ，−ＯCH2 Ｏ−） 5.96（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.0，9.0Hz，７位
−CH） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 8.00（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，−NH ７位） 〔実施例 10〕 １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、１−ヨードエチル エ
チルカーボネードを実施例２と同様に作用させ、
反応生成物を酢酸エチルを用いシリカゲルカラム
クロマトグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−CH2 CH3 ） 1.58（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz，−CHCH3 ） 2.73（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，−OCH2 CH2 CN） 3.57（2H，ｓ，２位 −CH2−） 4.24（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，−CH2 CH3） 4.31（2H，br.s，３位−CH2−） 4.40（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−Ｏ−CH
2CH2CN） 5.05（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz ６位） 5.4〜６ （2H，br. −NH2） 5.99（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.0，9.0Hz） 6.88（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.9および7.0（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝６Hz，
ＣHCH3） 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，７位−NH） 〔実施例 11〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒ
ドロキシエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレートの製法 (1) Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド0.160mlと三
塩化ホスホリル0.180ml混合物を40〜45℃で１
時間撹拌後、30分間真空乾燥する。残留液に酢
酸エチル１mlを加え、これに２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−シン
〔２−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イル
オキシ）エトキシ〕イミノ酢酸1.08ｇの酢酸エ
チル５ml溶液を加え室温で５分間撹拌する。こ
のカルボン酸活性化物の酢酸エチル溶液を、７
−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルのｐ
−トルエンスルホン酸塩1.06ｇとＮ，Ｎ−ジエ
チルアニリン0.8mlのジクロルメタン10ml溶液
に−20℃で加える。混合物を０〜５℃で40分間
撹拌後、反応液を酢酸エチルでうすめ、水、重
硫酸カリウム水溶液、重曹水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留物を酢酸エチル−クロロホルム（１：
３）を溶媒系とするシリカゲル・カラムクロマ
トに付して、粉末状の化合物0.96ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.2〜1.7（6H，ｍ，ピラン環−Ｃ−（ＣＨ 2）
3−Ｃ−） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，ｓ，phCＨ 2） 3.6〜4.0（4H，ｍ，ピラン環−OCH2−お
よび ＝Ｎ−OCH2CＨ 2O−） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.3〜4.7（3H，ｍ，ピラン環
【式】） および＝Ｎ−OCＨ 2−
Ｃ） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.86（2H，ｓ，エステルCH2） 5.7〜6.0（1H，ｍ，７位Ｈ） 6.74（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.95（1H，ｓ，NH） 7.30（15H，ｓ，フエニル基プロトン） (2) 前記(1)で得られた化合物0.4ｇのテトラヒド
ロフラン６ml溶液に50％ギ酸水溶液５mlを加
え、50℃、45分間撹拌する。酢酸エチルを加
え、重曹水によりPH５にした後、酢酸エチル層
を分離し、水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−
メタノール（10：１）を溶媒系とするシリカゲ
ル・カラムクロマトに付して粉末状の化合物
0.27ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53および3.78（いずれもbrs，２位H2およ
び ＝Ｎ−OCH2C
Ｈ2O） 4.28（4H，brs，３位CH2および＝Ｎ−OC
Ｈ2−） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.82（4H，ｍ，エステルCH2，７位Ｈ） 6.46（2H，brs，Ｎ−Ｈ） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 8.54（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 12〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ア
セトキシエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (1) 実施例14の(1)で得た７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−シン−〔２
−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イルオキ
シ）エトキシ〕イミノアセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチル2.52ｇのテトラヒドロ
フラン40ml溶液に濃塩酸１mlを加え、室温で
1.5時間放置する。反応液に酢酸エチルを加え、
重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−
メタノール（40：１）を溶媒系とするシリカゲ
ル・カラムクロマトに付して、粉末状の化合物
1.8ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 3.26（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，brs，２位H2） 3.6〜3.9（2H，ｍ，＝Ｎ−OCH2CＨ 2O） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 4.1〜4.5（2H，ｍ，＝Ｎ−Ｏ−ＣＨ 2−） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.6〜5.95（1H，ｍ，７位Ｈ） 6.64（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.28（16H，brs，フエニル基プロトンおよ
びNH） 7.88（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） (2) 上記(1)で得られるヒドロキシエトキシイミノ
誘導体0.5ｇのジクロルメタン５ml溶液に氷冷
下Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン0.4mlついで塩化
アセチル0.2mlを加え、０〜５℃で16時間放置
する。反応液をジクロルメタンでうすめ、重硫
酸カリ水溶液、重曹水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留
物を室温で一夜放置すると副生するジアセチル
誘導体は目的とするモノアセチル誘導体に変換
する。このものをクロロホルム−酢酸エチル
（４：１）を溶媒系とするシリカゲル・カラム
クロマトに付して、粉末状の化合物370mgを得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.99（3H，ｓ，COCH3） 3.29（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位Ｈ） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.38（4H，ｓ，オキシム位 ＣＨ 2−ＣＨ 2） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，エステルCH2） 5.85（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.8Hz，７位Ｈ） 6.67（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.00（1H，brs，NH） 7.27（16H，ｍ，フエニルプロトンおよび アミドNH） (3) 上記(2)で得られるアセトキシエトキシイミノ
誘導体370mgのテトラヒドロフラン５mlと50％
ギ酸水溶液を45〜50℃で３時間撹拌する。反応
液を酢酸エチルでうすめ、重硫酸カリ水溶液、
重曹水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去する。残留物をクロロホル
ム−メタノール（40：１）を溶媒系とするシリ
カゲル・カラムクロマトに付して粉末状の表題
化合物235mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 2.00（3H，ｓ，COCH3） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs，２位H2） 4.28（2H，ｓ，３位CH2） 4.34（4H，ｓ，オキシム位ＣＨ 2−ＣＨ 2） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.94（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７位
Ｈ） 6.13（2H，brs，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.63（1H，brd，Ｊ＝8.5Hz，アミドＮ−Ｈ） 〔実施例 13〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−プ
ロピオニルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例15の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体0.32ｇのジクロルメタン３ml溶液
に氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン200μ、
ついで塩化プロピオニル90μを加えた後、反
応溶液を室温で一夜放置する。反応液を酢酸エ
チルでうすめ、重硫酸カリ水溶液、重曹水で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。残留物をクロロホルム−酢酸エチル
を溶媒系とするシリカゲル・カラムクロマトに
付して粉末状の化合物0.25ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.01（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位
COCH2CＨ 3） 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.29（2H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位COC
Ｈ2CH3） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.29（2H，ｓ，３位CH2） 4.41（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステル ＣＨ 2） 5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.67（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.28（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.2〜7.4（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるプロピオニルオキシエトキ
シイミノ誘導体0.25ｇを実施例15の(3)と同様の
操作により脱トリチル化して、粉末状の表題化
合物0.13ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.05（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位
COCH2CＨ 3） 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 1.99（2H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位COC
Ｈ2CH3） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs，２位H2） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.33（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，エステルCH2） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.43（2H，brs，NH2） 6.75（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.73（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 14〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ラ
ウロイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例14の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化ラウロイルでアシル化して粉末状の化合
物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（21H，ｍ，ラウロイルＣＨ 3−（Ｃ
Ｈ2）9−） 1.27（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.4（2H，ｍ，ラウロイル COCＨ 2
−） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.42（2H，brs，２位H2） 4.29（2H，ｓ，３位CH2） 4.42（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.00（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，エステルCH2） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.30（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.1〜7.3（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるラウロイルオキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作によ
り脱トリチル化して、粉末状の表題化合物を得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（21H，ｍ，ラウロイルＣＨ 3−（Ｃ
Ｈ2）9−） 1.28（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.5（2H，ｍ，ラウロイルCOCＨ 2） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 4.40（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，エステルCH2） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.83（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 15〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−パ
ルミトイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例14の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化パルミトイルでアシル化して粉末状の化
合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（29H，ｍ，パルミトイルＣＨ 3（Ｃ
Ｈ2）13） 1.26（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.4（2H，ｍ，パルミトイルCOCＨ 2） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.38（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.96（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.81（2H，ｓ，エステルCH2） 5.83（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.61（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.24（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.1〜7.3（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるパルミトイルオキシエトキ
シイミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作に
より脱トリチル化して、粉末状の表題化合物を
得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（29H，ｍ，パルミトイルCH3
（CH2）13） 1.25（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.5（1H，ｍ，パルミトイルCOCＨ 2） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs.2位H2） 4.34（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.34（2H，brs，NH2） 6.75（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.68（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 16〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ベ
ンゾイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例15の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化ベンゾイルでアシル化して粉末状の化合
物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 3.22（5H，ｓ，OCH3，２位H2） 4.11（2H，ABq，Δδ＝0.32ppm，Ｊ＝14
Hz， ３位H2） 4.4〜4.8（4H，ｍ，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.85（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 5.81（2H，ｓ，エステルCH2） 6.65（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.27（15H，ｓ，トリフエニルメチルプロ
トン） 6.9〜7.5および7.8〜8.1（7H，ｍ，
C6H5CO，NH） (2) 上記(1)で得られるベンゾイルオキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作によ
り脱トリチル化して、粉末状の化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.32（2H，brs，２位H2） 4.17（2H，ABq，Δδ＝0.30ppm，Ｊ＝14
Hz） 4.4〜4.7（4H，ｍ，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.94（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.88（2H，ｓ，エステルCH2） 5.90（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 5.96（2H，brs，NH2） 6.84（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.2〜8.1（6H，ｍ，C6H5CO，アミドNH） 〔実施例 17〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−ヒ
ドロキシプロピルオキシ）イミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔３−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕イ
ミノ酢酸と７−アミノ−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイルオキ
シメチルのｐ−トルエンスルホン酸塩とを実施
例14の(1)と同様の操作により縮合させ、粉末状
の化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 1.2〜1.9（8H，ｍ，４個のＣ−ＣＨ 2−Ｃ） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.41（2H，ｓ，２位H2） 3.1〜3.8（6H，ｍ，３個のＯ−ＣＨ 2−Ｃ） 4.25（2H，ｓ，３位CH2） 4.46（1H，brs，イミノ位【式】） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，エステル位CH2） 5.92（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.56（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.20（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.73（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） (2) 前記(1)で得られる化合物を実施例14の(2)と同
様の操作により脱トリチル化および脱テトラヒ
ドロピラニル化を行ない、粉末状の表題化合物
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 1.5〜2.0（2H，ｍ，Ｃ−ＣＨ 2−Ｃ） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，brs，２位H2） 3.2〜3.8（4H，ｍ，２個のＯ−CH2−Ｃ） 4.26（2H，brs，３位CH2） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステル位CH2） 5.85（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 9.47（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 18〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フ
ルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）酢酸ナトリウム塩511mgを塩化メチ
レン５mlにけん濁し、−50℃に冷却し塩化オキ
ザリル0.105mlに加えて撹拌した。冷却浴を氷
浴とした後、ジメチルホルムアミドを１滴加え
ると発泡し、固体は一度溶解し再びゼラチン状
に固化した。10分後減圧濃縮乾燥し、再び５ml
の塩化メチレンを加え、これを、ピバロイルオ
キシメチル ７−アミノ−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート ｐ−
トルエンスルホン酸塩530mgとジエチルアニリ
ン0.35mlを塩化メチレン５mlに溶解した溶液に
−10℃で加え15分間撹拌した。これを実施例３
と同様に抽出後、シリカゲル30ｇを用い、ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル（１：１）でカラムクロ
マトグラフイー処理してピバロイルオキシメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト370mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tBu） 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz Ｏ−CH2CＨ 2CH2F） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.28（2H，ｓ，【式】） 4.39（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.50（2H，ｄ，ｔ，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.6〜6.1（3H，ｍ，CH2および７位） 6.60（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.7〜7.5（17H，ｍ，トリチルおよびNH×
２） (2) 上記の如くして得た化合物150mgを50％メタ
ノール水３mlに溶解し55℃で30分間撹拌し、減
圧濃縮した。これを10ｇのシリカゲルを用い酢
酸エチルでカラムクロマトグラフイー処理後、
酢酸エチル15mlに溶解しｎ−ペンタン150ml中
に滴下して固化し取乾燥して表記化合物61mg
を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tBu） 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz OCH2CＨ 2CH2F） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.33（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.51（2H，d.t，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.6〜6.2（5H，ｍ，CH2，NH2および７位） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.71（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，NH7位） 〔実施例 19〕 １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸にジメチルアセトアミド中、ジエチルアニリン
の存在下に １−ブロモエチル シクロペンタン
カルボキシレートを実施例２の如く作用させ、生
成物を酢酸エチルを溶媒としてシリカゲルカラム
クロマトグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） １〜2.3（11H，ｍ，ＣH2 ×４，ＣH3 ） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH2CH3 ） 2.3〜3.1（1H，ｍ，CH） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.57（2H，ｓ，CH22位） 4.20（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz ＣH2 CH3） 4.35（2H，ｓ，【式】） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.2〜5.9（2H，br，NH2） 5.92および5.96（合計1H，ｄ，ｄ×２，Ｊ
＝５ および９Hz，７位） 6.83（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5
Hz， 【式】） 8.5および8.55（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９
Hz， ７位NH） 〔実施例 20〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸にジメチルアセトアミド中、ジエチルアニリン
の存在下１−ブロモエチル シクロヘキサンカル
ボキシレートを実施２と同様に作用させ、反応生
成物を酢酸エチルを用いシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 0.9〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基のＨ および【式】） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.52（2H，ｓ，CH2 ２位） 3.99（3H，ｓ，Ｎ−OCＨ 3） 4.25（2H，ｓ，【式】） 5.06（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.5〜6.1（3H，ｍ，７位およびNH2） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.11および7.02（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5
Hz，【式】） 8.20および8.25（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９
Hz， ７位NH） 〔実施例 21〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチルヨーダイドとを実施例２と同様に反応
させて表記化合物を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.56（3H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，エステル−CH
（CH3）−） 1.5〜2.0（8H，ｍ，−（CH2）4−） 3.30（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.01（3H，ｓ，Ｎ−OCH3） 4.31（2H，ｓ，３位CH2） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.05付近（1H，ｍ，【式】） 5.75（2H，brs，NH2） 5.97（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.64（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.80と7.88（合せて1H，いずれもｑ，Ｊ＝
5.5Hz， エステル−ＣＨ
（CH3）−） 8.05（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 22〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチル−１−シクロヘキサンカルボニル
オキシメチルヨーダイドとを実施例２と同様に反
応させて表題化合物を無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.2（10H，ｍ，−（CH2）5−） 3.29（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.03（3H，ｓ，Ｎ−OCH3） 4.31（2H，brs，３位CH2） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.72（2H，brs，NH2） 5.87（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.98（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位
Ｈ） 6.68（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 8.05（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 23〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４−
カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メチル−３−セフエム−４−カルボン酸と１−
メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオキシメ
チルヨーダイドとを実施例２と同様に反応させて
表題化合物を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.15（3H，ｓ，【式】） 1.0〜2.2（13H，ｍ，−（CH2）5−および Ｎ−OCH2CＨ 3） 2.11（3H，ｓ，３位CH3） 3.34（2H，ABq，Δδ＝0.35ppm，Ｊ＝18
Hz， ２位H2） 4.25（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCH2 CH3） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位
Ｈ） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 29〕 １−メチル−１−シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチル−１−シクロペンタンカルボニル
オキシメチルヨーダイドとを実施例２と同様に反
応させて表題化合物を無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.26（3H，ｓ，【式】） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCH2CＨ 3） 1.1〜2.3（8H，ｍ，−（CH2）4−） 3.29（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.20（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCＨ 2CH3） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.95（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz） 6.82（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 24〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ナトリウム塩880mg及びジ
メチルアセトアミド（DMA）15mlの懸だく液
に、−10℃に冷却下１−（シクロペンチルオキシカ
ルボニルオキシ）エチルヨーダイド（50％純度）
3.2ｇのDMA2ml溶液を加え、１時間撹拌する。
反応液に酢酸エチル300mlを加え、1Nリン酸緩衝
液で洗浄後、水で洗浄する。溶媒を減圧で留去
し、残留物をシリカゲルクロマトを行ない、酢酸
エチルエステルを用いて目的物913mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.55（ｄ，3H，【式】） 1.4〜1.9（ｍ，8T，シクロペンチル基の−
（CH2）4−） 3.30（ｓ，3H，−OCＨ 3） 3.50（ｓ，2H，【式】） 4.20（ｓ，2H，【式】） 4.30（ｓ，2H，【式】） 4.70（ｍ，1H，【式】） 5.05（ｍ，1H，【式】） 5.00（ｄ，1H，Ｊ＝５Hz，【式】） 5.70（br.s，2H，NH2） 5.90（ｑ，1H，Ｊ＝5.0Hz，Ｊ＝10.0Hz） 6.76（ｓ，1H，【式】） 6.87（ｍ，1H，【式】） 7.55（ｄ，1H，Ｊ＝10Hz，アミドプロト
ン） 〔実施例 25〕 １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート 実施例２と同様の方法により７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）エチルヨーダイドとから表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.0〜2.0（13H，ｍ，シクロヘキサン環プロ
トンおよびＣ−CH3） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，br.s，２位プロトン） 4.2〜5.0（7H，ｍ，【式】３位 CH2および FCH2CH2O） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.8Hz，７位プロト
ン） 6.20（2H，br.s，NH2） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.85（1H，ｍ，【式】） 7.90（1H，２つのｄ，Ｊ＝８Hz，アミドプ
ロ トン） 〔実施例 26〕 １−メチル−１−シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート 実施例２と同様の方法により７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチルシクロペンタンカルボニルオキシ
メチルヨーダイドとから表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.25（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.2〜2.3（8H，ｍ，シクロペンタン環プロ
トン） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，br.s，２位プロトン） 4.1−5.0（6H，ｍ，３位CH2および
FCH2CH2O） 5.0（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位プロトン） 6.80（2H，ｓ，NH2） 6.83（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位プ
ロトン） 6.76（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.67（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドプロト
ン） 〔実施例 27〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下に、１−ブロモエ
チル シクロヘキサンカルボキシレートを実施例
２と同様に作用させ、生成物をカラムクロマトグ
ラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 0.9〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基のＨ
および【式】） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.52（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2−） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝5.4Hz，６位のＨ） 5.4−6.0（2H，br.s，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，
【式】） 7.59（1H，ｄ，Ｊ＝10Hz，CONＨ−）
関する。更に詳しくは、本発明は一般式（） 〔式中、R1は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基またはアシルオキシ基を
有していてもよい低級アルキル基を示し、R2は
低級アルキル基または低級アルコキシメチル基を
示し、Ｙは式【式】基（式中、R3は 水素原子またはメチル基を示し、R4は低級アル
キル基、低級アルキル基を有していてもよい低級
シクロアルキル基、低級アルコキシ基または低級
アルキル基を有していてもよい低級シクロアルコ
キシ基を示す。）を示す。但し、R1が低級アルキ
ル基を表わす場合には、R4は低級アルキル基を
有していてもよい低級シクロアルキル基または低
級アルキル基を有していてもよい低級シクロアル
コキシ基を示す。〕 を有するセフアロスポリン化合物（シン異性体）
およびその薬学的に許容し得る塩、その製法並び
にその化合物を有効成分として含有する経口投与
用細菌感染治療剤に関する。 前記一般式（）において好適にはR1は例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル
のような炭素数１乃至３個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルキル基、例えばシアノメチル、
２−シアノエチル、２−シアノプロピル、３−シ
アノプロピルのような炭素数１乃至３個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のシアノ置換アルキル
基；例えば２−フルオロエチル、２，２，２−ト
リフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３−
フルオロプロピル、１−メチル−２−フルオロエ
チル基、１，３−ジフルオロ−２−プロピルのよ
うな炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分
枝鎖状のフルオロ置換アルキル基；例えば２−オ
キソプロピル、３−オキソブチル、１−メチル−
２−オキソプロピルのような炭素数３乃至４個を
有する直鎖状若しくは分枝鎖状のオキソ置換アル
キル基；例えば２−ヒドロキシエチル、２−ヒド
ロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピルのよう
な炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のヒドロキシ置換アルキル基または例えば２
−アセトキシエチル、２−アセトキシプロピル、
３−アセトキシプロピル、２−プロピオニルオキ
シエチル、２−ラウロイルオキシエチル、２−パ
ルミトイルオキシエチル、２−ベンゾイルオキシ
エチル、２−ｐ−メチルベンゾイルオキシエチ
ル、２−ｐ−メトキシベンゾイルオキシエチル、
２−ｐ−フルオロベンゾイルオキシエチルのよう
な炭素数２乃至３個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のアシルオキシ置換アルキル基を示し、R2
は例えばメトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−
プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ｎ−
ブトキシメチル、イソブトキシメチル、sec−ブ
トキシメチル、tert−ブトキシメチルのような炭
素数１乃至４個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状
のアルコキシ置換メチル基を示し、Ｙにおける
R3は水素原子またはメチル基を示し、R4は例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチルのような炭素数１乃至４個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、例えばシ
クロペンチル、１−メチルシクロペンチル、シク
ロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、ビシクロ〔２，２，２〕オクタン−１
−イルのような置換基として低級アルキル基を有
していてもよい炭素数５乃至８個を有するシクロ
アルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソ
ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、１
−エチルプロポキシ、３，３−ジメチルブトキシ
のような炭素数１乃至６個を有する直鎖状若しく
は分枝鎖状のアルコキシ基または例えばシクロペ
ンチルオキシ、１−メチルシクロペンチルオキ
シ、シクロヘキシルオキシ、１−メチルシクロヘ
キシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、ビシクロ
〔２，２，２〕オクタン−１−イルオキシのよう
な置換基として低級アルキル基を有していてもよ
い炭素数５乃至８個を有するシクロアルコキシ基
を示す。但し、R1が上記のアルキル基を表わす
場合には、R4は上記のシクロアルキル基または
シクロアルコキシ基を示す。 前記一般式（）で表わされる特に好適な化合
物としては、R1がメチル基、エチル基、シアノ
メチル基、２−シアノエチル基、２−フルオロエ
チル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２
−フルオロプロピル基、３−フルオロプロピル
基、１−メチル−２−フルオロエチル基、１，３
−ジフルオロ−２−プロピル基、２−オキソプロ
ピル基、３−オキソブチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロ
キシプロピル基、２−アセトキシエチル基、３−
アセトキシプロピル基、２−プロピオニルオキシ
エチル基、２−ラウロイルオキシエチル基、２−
パルミトイルオキシエチル基または２−ベンゾイ
ルオキシエチル基であり、R2がメチル基または
メトキシメチル基であり、Ｙが式−CH2OCOC
（CH3）3基、式【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基であり、但し、R1が メチル基またはエチル基を表わす場合には、Ｙが
式【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基を示すものをあげる ことができる。 本発明のセフアロスポリン化合物（）として
は、以下に例示する化合物があげられる。 (1) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (2) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シア
ノメトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (3) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
シアノエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−
メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキ
シレート (4) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (5) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
フルオロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (6) １−（エトキシカルボニルオキシエチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (7) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，
２，２−トリフルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (8) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (9) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−
フルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (10) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (11) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−
フルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (12) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (13) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（１，３−ジフルオロ−２−プロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (14) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プ
ロピルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レート (15) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−オキソプロピルオキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (16) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−オキソプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (17) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−オキソブチルオキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (18) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−オキソブチルオキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (19) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ヒドロキシエトキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (20) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−アセトキシエトキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート (21) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−プロピオニルオキシエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (22) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ラウロイルオキシエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (23) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−パルミトイルオキシエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート (24) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (25) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (26) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ベンゾイルオキシエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (27) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−ヒドロキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (28) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３
−アセトキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (29) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−ヒドロキシプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (30) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−ヒドロキシプロピルオキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (31) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (32) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエ
チルオキシアミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (33) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエ
チルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (34) ビシクロ〔２，２，２〕オクタン−１−カ
ルボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フル
オロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (35) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (36) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (37) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (38) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (39) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (40) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート (41) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (42) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (43) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (44) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (45) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート (46) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (47) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (48) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (49) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (50) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (51) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−２−シアノ
メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート (52) １−メチルシクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (53) １−メチルシクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (54) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (55) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (56) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート (57) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート (58) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (59) １−（１−メチル−１−シクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキ
シイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート (60) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (61) １−（１−メチル−１−シクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキ
シイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート (62) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (63) １−（１−メチル−１−シクロペンタンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル−（Ｚ）−２−メトキシ
イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート (64) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート (65) １−（１−メチル−１−シクロペンタンカ
ルボニルオキシ）エチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−エトキシイ
ミノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート (66) シクロヘキサンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (67) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (68) シクロヘキサンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (69) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (70) シクロペンタンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (71) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (72) シクロペンタンカルボニルオキシメチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (73) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート (74) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (75) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (76) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒドロキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (77) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−アセトキシ
エトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト (78) ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２
−フルオロ−１−メチルエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート (79) １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−
１−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (80) １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (81) １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (82) １−メチル−１−シクロペンタンカルボニ
ルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−
１−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート (83) １−ビシクロ〔２，２，２〕オクタンカル
ボニルオキシメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオ
ロ−１−メチルエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート (84) １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル
７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチルエ
トキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート (85) １−（プロピルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１−メチ
ルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート (86) １−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１
−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (87) １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシ）エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロ−１
−メチルエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート 本発明に係る前記一般式（）を有する化合物
は新規化合物であり、消化管からの吸収がよく、
且つ生体内で速かに４位のエステル部分が分解し
てカルボン酸型になるため、カルボン酸型化合物
の高い血中濃度を得ることができ、したがつて経
口投与によつて黄色ブドウ状球菌、枯草菌などの
グラム陽性菌および大腸菌、赤痢菌、肺炎桿菌、
変形菌、緑膿菌などのグラム陰性菌等の病原菌に
よる細菌感染症の治療に対して極めて顕著な効果
を有する広範囲抗生物質である。カルボン酸型化
合物も新規な化合物であり、その抗菌活性は後述
するように極めてすぐれた活性を有する。 ペニシリン系、セフアロスポリン系抗生物質に
は、多くの優れた効果を有する化合物がみられる
が、消化管からの吸収のよいものは極めて少な
く、そのために実用化されないまゝ開発を断念さ
れた化合物も少くない。殊にセフアロスポリン系
抗生物質においてはセフアレキシンあるいはその
類似体のように限られた構造を有する化合物のみ
が実用に供されているにすぎない。例えば注射用
セフアロスポリン剤として汎用されているセフア
ロチン、セフアゾリン、セフメタゾール等を経口
投与した場合の尿中回収率はいづれも投与量の５
％前後で、消化管からの吸収は極めて悪いことが
知られている。その理由はセフアロスポリンの４
位のカルボキシル基の解離度が大きく（pKa値が
小さく）酸性が強いためである。 そこでペニシリンの３位およびセフアロスポリ
ンの４位のカルボキシル基をエステル化すること
によつて、消化管からの吸収を改善しようとする
試みがなされており、ペニシリン系化合物につい
ては一，二実用化されているものがあるが、セフ
アロスポリン系化合物についてはみられない。 例えばセフアマンドールのアセトキシメチルエ
ステルに関してザ・ジヤーナル・オブ・アンチバ
イオチツクス，32巻，11号，1155頁（1979年）に
報告されているが、それによると、エステル化に
よつて水に難溶性になるため吸収は改善されな
い、従つてプロピレングリコールのような有機溶
媒の溶液として投与することによつてのみ吸収が
ある程度改善されることが記述されている。また
一方、水に溶けやすいエステルとしてジヤーナ
ル・オブ・メデイシナルケミストリー，22巻，
657頁（1979年）に研究結果が報告されているが、
この場合は化学的に不安定なため、吸収はよくな
らなかつたと記述されている。 本発明者は、長年に亘つてセフアロスポリン化
合物の化学的修飾による消化管からの吸収の改
善、経口投与による血中濃度の増大について研究
を重ねたが、それらの性質は、化合物の構造全体
に関連し、構造の一部分に変化があれば同じよう
な化学的修飾例えばエステル化を行なつても、そ
の消化管からの吸収は全く予測し得ないことを知
つた。本発明は、そのような研究の結果なされた
ものである。 即ち、本発明の化合物と一見構造が類似してい
る下記公知化合物のピバロイルオキシメチルエス
テルを合成し、経口投与による尿中回収率を試験
したところ、必ずしも良い結果は得られず、この
系統の化合物に関しては３位の置換基が極めて重
要な役割を果していることを見出した。 【表】 【表】 本発明に係る前記一般式（）を有する化合物
は、以下に述べる方法、すなわち (a) エステル化された７−アミノ−３−アルコキ
シメチルセフアロスポリン（）のアシル化法 (b) 化合物（）に対応するカルボン酸（′）、
またはそのアミノ基および水酸基が保護された
化合物（）のエステル化法および脱保護化法 あるいは (c) ７位のアシル基を他のアシル基から化学反応
によつて所望のアシル基に誘導する方法 によつて製造することができる。 上記の方法は具体的には次のように実施され
る。 (a)法は一般式 （式中、R2およびＹは前述したものと同意義
を有す。）で示される化合物を、一般式 （式中、R6はアミノ基または保護されたアミ
ノ基を、R5は前述したR1と同意義を有する基ま
たは保護された水酸基を有している低級アルキル
基を示す。）で示されるカルボン酸またはその反
応性誘導体と反応させ、一般式 （式中、R2，R5，R6およびＹは前述したもの
と同意義を有する。）を有する化合物を製造し、
R6が保護されたアミノ基、R5が保護された水酸
基を有する低級アルキル基である場合にはその保
護基を除去することによつて目的化合物（）が
製造される。 上記式中、R6が保護されたアミノ基である場
合のアミノ基の保護基としては、容易に除去され
てアミノ基に復元されるものが好ましく、それ自
体公知の保護基例えば酸処理で除去しうるトリチ
ル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、
２−エトキシカルボニル−１−メチルビニル基、
還元的に除去しうる２，２，２−トリクロルエト
キシカルボニル基、アルカリ処理で除去できる２
−メチルスルホニルエチルオキシカルボニル基、
チオ尿素処理で除去しうるクロルアセチル基など
が使用される。 また、R5が保護された水酸基を有する低級ア
ルキル基である場合の水酸基の保護基としては、
容易に除去されて水酸基に還元されるものが好ま
しく、それ自体公知の保護基例えば酸処理で除去
しうるトリチル基、ジクロルアセチル基、テトラ
ヒドロピラニル基などが使用される。 本方法はアシル化工程と必要な場合には脱保護
工程との２工程よりなる。 アシル化工程において式（）を有する化合物
は遊離のまゝあるいはその反応性誘導体として使
用されるが、遊離のまゝ使用する場合には適当な
縮合剤を用いる。縮合剤としてはジシクロヘキシ
ルカルボジイミドのようなジ置換カルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾール、チオニルジイミ
ダゾールのようなイミダゾライド、Ｎ−エトキシ
カルボニル−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキ
ノリン或いはジメチルホルムアミドとオキシ塩化
リン、塩化チオニルなどから調製されるビルスマ
イヤー試薬などがあげられる。式（）を有する
化合物の反応性誘導体としては、酸ハライド、酸
無水物、混合酸無水物、活性エステル、活性アミ
ド、酸アジド等があげられる。混合酸無水物とし
ては炭酸モノメチルエステルや炭酸モノイソブチ
ルエステルなどの炭酸モノ低級アルキルエステル
との混合無水物や、ピバリン酸やトリクロル酢酸
などの低級アルカン酸との混合酸無水物が使用さ
れ、活性エステルとしてはｐ−ニトロフエニルエ
ステル、ペンクロルフエニルエステル、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシベ
ンズトリアゾールエステルなどがあげられる。 本工程は通常溶媒中で行なうのが好ましく、使
用される溶媒は本反応に悪影響を与えないもので
あれば限定なく、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸
エチル、クロロホルム、ジクロルメタン、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシドなどの不活性有機溶媒或いは水との混合
溶媒などが使用される。使用される反応性誘導体
の種類によつては必要に応じ塩基を存在させるこ
とがある。塩基の例としてはアルカリ金属化合物
例えば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなど、脂肪族、芳香
族、含窒素複素環塩基例えばトリエチルアミン、
ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、Ｎ−メチ
ルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、ピリジ
ン、コリジン、ルチジンがあげられる。反応温度
に特に限定はないが通常反応は室温又は冷却下で
行なわれる。反応に要する時間は主としてアシル
化方法の種類、反応温度等によつても異なるが通
常数十分乃至数十時間である。反応終了後、式
（）を有する化合物は常法によつて反応混合物
から採取される。例えば反応溶媒が水混和性の場
合には一旦減圧で留去した後水不混和性溶媒に代
え、溶媒が水不混和性の場合はそのまゝ酸および
塩基で洗い、乾燥した後溶媒を留去することによ
つて得られる。必要に応じ常法例えば各種クロマ
トグラフイー等によつて精製することもできる。 脱保護工程は先に述べたように、各保護基の特
性に基いて常法によつてそれらの保護基を除去
し、粗生成物を精製して式（）を有する目的化
合物を得ることができる。 また、(b)法は一般式 （式中、R2，R5およびR6は前述したものと同
意義を有する）を有するカルボン酸化合物または
その反応性誘導体を、一般式 （式中、R3およびR4は前記と同意義を有し、
Ｘは塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示
す。）を有する化合物と反応させ前記式（）を
有する化合物を得て、更にR5およびR6が保護さ
れた基である場合には(a)法と同様にして脱保護す
ることによつて目的化合物（）が製造される。 本反応において、式（）を有する化合物を縮
合に有利な反応性誘導体として使用してもよい。
式（）を有する化合物のカルボン酸部分の反応
性誘導体としては、例えばナトリウム、カリウム
のような金属との塩、トリエチルアミンのような
有機アミンとの塩、酸クロライド、酸ブロマイド
のような酸ハライド、酸無水物、炭酸エチル、炭
酸イソブチルのような炭酸エステルとの混合酸無
水物等があげられる。反応は適当な溶媒中で行な
うのが好ましく、そのような溶媒としては本反応
に悪影響をおよぼさないもの例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルトリアミドホスフエー
ト、アセトニトリル等あるいは他の不活性有機溶
媒との混合溶媒があげられる。反応は通常室温ま
たは冷却下に行なうのが好ましい。反応に要する
時間は通常数分乃至数時間である。反応終了後、
反応混合物を水不混和性溶媒で希釈し、重硫酸カ
リウム水溶液および塩基水溶液で洗い、乾燥後溶
媒を留去することによつて本反応の目的化合物を
得ることができる。このものは更に常法例えば各
種クロマトグラフイーにより精製することができ
る。アミノ基および水酸基が保護されている場合
には、前記式（）を有する化合物の脱保護と同
様にしてアミノ基および水酸基に変換される。 また、(c)法は一般式 （式中、Ｚは塩素、臭素のようなハロゲン原子
またはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニ
ルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基若しくはベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トル
エンスルホニルオキシのようなアリールスルホニ
ルオキシ基を示し、R1，R2およびＹは前記と同
意義を有する。）で表わされる化合物をチオ尿素
と反応させることによつても前記式（）を有す
る化合物を製造することができる。 本方法は、α−ハロ若しくはα−スルホニルオ
キシケト化合物とチオ尿素とによる環形成反応で
あり、適当な溶媒中で両者を接触させることによ
つて遂行される。使用される溶媒は本反応に悪影
響を与えないものであれば限定はないが、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル等の溶解性の高いものが好ましい。反応
を完結させるためには塩基の存在が好ましく重炭
酸ナトリウム、重炭酸カリウム等を使用するのが
好ましい。反応温度に特に限定はないが通常は室
温程度で充分反応は進行する。反応に要する時間
は反応条件にもよるが通常数十乃至数時間であ
る。反応終了後、一般式（）を有する化合物は
常法によつて反応混合物から採取される。例えば
反応終了後減圧下に反応混合物を濃縮し、残渣を
適当な有機溶媒に溶かし水洗し、乾燥した後溶媒
を留去することによつて得られる。このものは常
法例えば各種クロマトグラフイーによつて精製す
ることができる。 以上の製造法によつて得られる前記一般式
（）を有する本発明の化合物は、前記のごとく
消化管からの吸収がよく、カルボン酸型化合物の
高い血中濃度を与えるので経口投与が可能であ
り、製薬的常法によつて例えばデンプン、乳糖、
白糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、ポリ
エチレングリコール等の賦形剤、例えばアラビア
ゴム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の結合剤、例えばステアリ
ン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤、例えばカ
ルボキシメチルセルロースカルシウム等の崩壊剤
などと混合してカプセル剤、粉剤、顆粒剤、錠剤
等経口投与剤を製造することができる。その投与
量は、年令、体重、症状等によつても異なるが、
成人に対し１日約0.2乃至５ｇ、好ましくは0.5乃
至３ｇであり、３乃至４回に分けて与えることが
できる。 また、前記一般式（）を有する化合物を使用
するに当つて、遊離の型のみでなく薬学的に許容
しうる酸付加塩例えば、塩酸、硫酸、硝酸のよう
な無機酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、マ
ロン酸などのような有機酸の酸付加塩としても使
用される。 本発明の化合物を経口投与すると、前述の如
く、腸管より容易に吸収され、生体内で加水分解
されて対応するカルボン酸（′） （式中、R1およびR2は前記と同意義を示す。）
またはその塩になる。化合物（′）のグラム陽
性菌および陰性菌に対する抗菌活性（最小発育阻
止濃度、μｇ／ml）は下記の例のごとく極めて顕
著なものである。 【表】 リチジス
また本発明の化合物および前述の類縁化合物
（化合物１，２および３）をマウスに経口投与し
た時の尿中回収率（対応するカルボン酸の量）は
夫々次の通りである。 尿中回収率（％） 実施例３の化合物 62 化合物１ 15 化合物２ ８ 化合物３ 14 上記のように本発明はセフアロスポリンの３位
の置換基R2およびオキシム部分の置換基R1を選
択、特定することによつて経口剤としての消化管
吸収が極めて良くなる点に特長がある。 次に参考例および実施例をあげて前記一般式
（）を有する本発明の化合物の製造方法を具体
的に説明するが、本発明はこれによつて限定され
るものではない。なお、本発明の化合物のオキシ
ム部分の異性体はすべてシン型である。 〔参考例 １〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩
の製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
酢酸100mgをジメチルホルムアミド0.15mlと塩
化メチレン７mlに溶解し、室温で撹拌下Ｎ−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール29mgを加え、30分
撹拌する。次いでジシクロヘキシルカーボジイ
ミド（DCC）44mgを室温下に加え、１時間撹
拌する。この反応液にジフエニルメチル ７−
アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート塩酸塩99mg及びジエチル
アニリン33mgと共に塩化メチレン２mlに溶解し
た溶液を室温下で加え、１時間撹拌した。析出
した不溶物を過し、液を減圧濃縮した。こ
れを10ｇのシリカゲルを用い、溶媒系シクロヘ
キサン−酢酸エチル（１：１）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミ
ノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート156mgを得た。 NMR−スペクトル（CDCl3，δppn）： 3.16（3H，ｓ，OCH3） 3.45（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.24（2H，ｓ，【式】） 4.6〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.85〜5.1（1H，ｍ，【式】） 4.97（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.2Hz） 5.86（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.2，9.8Hz） 6.62（1H，ｓ，CHφ2） 6.89（1H，ｓ，チアゾールＨ） 7.1〜7.6（17H，トリチル、及びNH） (2) 上記ジフエニルメチルエステル体287mgをテ
トラヒドロフラン４ml及び60％ギ酸４mlに溶解
し、50℃に撹拌下１時間加温した後減圧濃縮す
る。これを酢酸エチル100mlに溶解し、中性リ
ン酸緩衝液（PH6.8）で洗浄後、硫酸ナトリウ
ムで脱水し減圧濃縮する。これを15ｇのシリカ
ゲルを用い、酢酸エチル−シクロヘキサン
350／150でカラムクロマトグラフイー処理を行
いジフエニルメチル ７−〔２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオ
ロエトキシ）イミノアセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート134mgを得る。このうち127mgを塩化メチレ
ン1.5mlに溶解し、氷冷下、トリフルオロ酢酸
0.15ml、アニソール0.3mlを加え、室温下、１
時間静置する。これを減圧濃縮して過剰のトリ
フルオロ酢酸を除去し、エーテル50mlを加えて
目的物を沈澱させた。生じた固体を取し、エ
ーテルで洗浄後乾燥して表記化合物103mgを無
色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO，δppn）： 3.18（3H，ｓ，OCH3） 3.48（2H，ｓ，２位のCH2） 4.0〜4.4（4H，【式】及び 【式】） 4.52（1H，ｍ，【式】） 5.0（1H，ｍ，【式】） 5.09（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.0Hz） 5.69（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.0及び8.2
Hz） 6.76（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.8〜9.2（3H，−COOH、及びNH2） 9.58（1H，ｄ，７位のNHCO−，Ｊ＝8.2
Hz） 〔参考例 ２〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−
４−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イ
ミノ酢酸200mg、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール62mg、ジシクロヘキシルカーボジイミド
94mg、及びジフエニルメチル ７−アミノ−３
−メチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト160mgを用いて、上記参考例１と同様に反応
及び後処理を行うことにより、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキ
シ）イミノアセトアミド〕−３−メチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート303mgを得た。 NMR−スペクトル（CDCl3，δppn）： 2.08（3H，ｓ，３−メチル） 3.07（1H，ｄ，２位−Ｈ，Ｊ＝17Hz） 3.43（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝17Hz） 4.23（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−） 4.65（1H，ｍ，【式】） 4.94（1H，ｍ，【式】） 4.93（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.7Hz） 5.76（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.7，9.0Hz） 6.68（ｓ，チアゾールのＨ） 6.80（ｓ，CH−φ2） 6.9〜7.5（27H，ｍ，フエニル及びNH×
２） (2) 上記ジフエニルメチルエステル体303mgをテ
トラヒドロフラン（THF）４ml及び60％ギ酸
４mlに溶解し、50℃に撹拌下、１時間加温した
後減圧濃縮する。これを酢酸エチル100mlに溶
解し、中性リン酸緩衝液（PH6.8）で洗浄後、
硫酸ナトリウム（Na2SO4）で脱水後減圧濃縮
する。これを15ｇのシリカゲルを用い酢酸エチ
ル−シクロヘキサン（80：20）でカラムクロマ
トグラフイー処理を行いジフエニルメチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノア
セトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート154mgを得る。 これを塩化メチレン2.5mlに溶解し、氷冷下、
トリフルオロ酢酸0.2mlを加えて、室温下１時
間静置する。減圧濃縮して、過剰のトリフルオ
ロ酢酸を除去しエーテル50mlを加えて目的物を
沈澱させた。生じた固体を取し、エーテルで
洗浄後乾燥して表記化合物99mgを無色無定形粉
末として得た。 NMR−スペクトル（d6−DMSO，δppn）： 2.01（3H，ｓ，３位のMe） 3.23（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.60（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.9〜4.4（2H，ｍ，−OCH2−） 4.55（1H，ｍ，【式】） 5.05（1H，ｍ，【式】） 5.05（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝4.6Hz） 5.65（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝4.6，8.0Hz） 6.80（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 8.0〜9.3（3H，br，ｓ NH2とCOOH） 9.58（1H，ｄ，NH，Ｊ＝8.0Hz） 〔参考例 ３〕 ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシ）イミノ酢
酸の製法 (1) エチル ２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ
アセテート1.9ｇをジメチルホルムアミド40ml
に溶解し、２−フルオロエチルメタンスルホネ
ート2.0ｇ、無水炭酸カリウム1.0ｇ及び18−ク
ラウン−６−エーテル100mgを加えて70〜75℃
で6.5時間撹拌する。反応液を氷水にあけ酢酸
エチル300mlで抽出し、順次、水、食塩水で洗
浄後、Na2SO4で脱水した。溶媒を減圧で留去
後、100ｇのシリカゲルを用い、溶媒ｎ−ヘキ
サン−酢酸エチル（300：100）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、エチル ２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−（２−フルオロエトキシ）イミノアセテート
1.6ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.32（3H，ｔ，−CH3） 4.1〜4.4（2H，Ｏ−CH2−） 4.35（2H，ｑ，−OCH2−） 4.65（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｍ，【式】） 6.50（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.0〜7.5（16H，トリチル及びNH） (2) 上記エステル1.6ｇをメタノール20mlに溶解
し50℃に加温し、撹拌下10％水酸化ナトリウム
（NaOH）水溶液を少量ずつ加えてゆく。必要
とした10％NaOH水は全量2.6mlであつた。50
℃で４時間撹拌後、冷却し、析出したカルボン
酸のナトリウム塩を取する。これを酢酸エチ
ル300mlに懸濁し、10％硫酸水素カリウム
（KHSO4）水150mlを加えて、懸濁がなくなる
まで振とうする。酢酸エチル層を分離し、食塩
（NaCl）水で洗浄後、Na2SO4で脱水、次いで
減圧濃縮し、表記化合物を白色固体粉末として
1.145ｇ得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO，δppn）： 3.7−4.4（3H，【式】） 4.9（1H，ｍ，【式】） 6.53（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.0−7.5（15H，トリチル） 8.53（1H，ｓ，−NH−） 〔参考例 ４〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸の
製法 (1) ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイ
ミノアセテート３ｇをジメチルホルムアミド15
mlに溶解し炭酸カリウム426mgおよびクロルア
セトニトリル0.39mlを加え50℃で６時間撹拌し
た。さらに炭酸カリウム426mgとクロルアセト
ニトリル0.39mlを追加し15時間同温で撹拌後酢
酸エチル100mlを加え、順次、水、1N−塩酸、
食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マ
グネシウム上で脱水し減圧濃縮後100ｇのシリ
カゲルを用いクロロホルムでカラムクロマトグ
ラフイー処理しｔ−ブチル ２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
シアノメトキシイミノアセテート2.8ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.57（9H，ｓ，ｔ−Bu） 4.79（2H，ｓ，CH2CN） 6.58（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.95（1H，ｓ，NH） 7.28（15H，ｓ，トリチル基Ｈ） (2) 上記ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメ
トキシイミノアセテート2.8ｇを塩化メチレン
30mlに溶解しトリフルオロ酢酸15mlを加え室温
で４時間撹拌後減圧濃縮しトリフルオロ酢酸を
除去した。これを少量の酢酸エチルに溶解し飽
和炭酸水素ナトリウム水を加えて撹拌し水層を
PH7.〜7.5とした。析出した結晶を取し少量
の酢酸エチルおよび水で洗浄後、1N−塩酸中
に懸濁し30分撹拌した。結晶を取し水洗後よ
く乾燥して表記化合物1.98ｇを得た。 〔参考例 ５〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボン酸 トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸
340mgとトリエチルアミン0.1mlを塩化メチレン
３mlに溶解し−30℃に冷却して塩化オキザリル
0.06mlを加え冷却浴を氷浴として５分撹拌し
た。これにジメチルホルムアミドを１滴加えさ
らに５分撹拌して減圧濃縮し２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
シアノメトキシイミノアセチルクロリドを得
た。一方、ジフエニルメチル ７−アミノ−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート塩酸塩325mgをジエチルアニリン216
mgと共に乾燥した塩化メチレン３mlに溶解し−
30℃に冷却した。これに前記の２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−シアノメトキシイミノアセチルクロリドを塩
化メチレン３mlに溶解して加え15分間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮後、酢酸エチル50mlに溶
解し、順次、水、１−Ｎ塩酸、中性リン酸緩衝
液（PH6.8）で洗浄液、酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウム上で脱水し減圧濃縮した。これ
を30ｇのシリカゲルを用い溶媒系クロロホルム
−酢酸エチル（３：１）でカラムクロマトグラ
フイー処理し、ジフエニルメチル ７−〔２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート303mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 3.15（3H，ｓ，OCＨ 3） 3.44（2H，ｓ，CH22位） 4.19（2H，ｓ，【式】） 4.77（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 4.96（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.81（1H，dd，Ｊ＝5.5および９Hz７位） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.84（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 6.9〜7.6（27H，ｍ，フエニルおよびNH×
２） (2) ジフエニルメチル ７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シ
アノメトキシイミノアセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート100mgをメタノール10ml、ギ酸５mlの混合
液に溶解し50℃に加温して30分撹拌し減圧濃縮
した。 これを酢酸エチル50mlに溶解し、中性リン酸
緩衝液（PH6.8）で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウム上で脱水し減圧濃縮した。これを10ｇのシ
リカゲルを用い酢酸エチルでカラムクロマトグ
ラフイー処理しジフエニルメチル ７−〔２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２
−シアノメトキシイミノアセタミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レート50mgを得た。 これをアニソール１ml中氷冷下トリフルオロ
酢酸0.5mlを加え、室温として１時間静置した。
減圧濃縮して過剰のトリフルオロ酢酸を除去し
エーテル30mlを加えて目的物を沈澱させた。 生じた固体を取し、エーテルで洗浄後乾燥
して表記化合物26mgを無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（アセトン−d6＋D2O
δppn）： 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.59（2H，ｓ，CH22位） 4.31（2H，ｓ，【式】） 4.97（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 5.19（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ６位） 5.89（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ７位） 6.99（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 〔参考例 ６〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）
酢酸の製法 (1) ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイ
ミノアセテート2.48ｇを15mlのテトラヒドロフ
ランに溶解した。この溶液にアクリロニトリル
2.65ｇと触媒量のナトリウムメトキシドを加
え、1.5時間加熱還流後、減圧で濃縮した。残
留物を塩基性アルミナカラムクロマト〔展開剤
ベンゼン−ベンゼン：酢酸エチル（９：１）〕
により、精製し目的物2.5ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.56（9H，ｓ） 2.71（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 6.46（1H，ｓ） 6.92（1H，ｓ） 7.26（15H，ｓ） (2) (1)で得られたｔ−ブチル ２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（２−シアノエトキシイミノ）アセテート2.5ｇ
にトリフルオロ酢酸５mlを加え、室温で３時間
撹拌後さらにトリフルオロ酢酸２mlを加え、室
温で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、酢
酸エチルを加え水洗、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物に少量の酢酸エチ
ルを加え、沈澱を取し目的物の沈澱1.3ｇを
得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 2.68（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz） 4.19（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz） 6.41（1H，ｓ） 7.22（16H，ｓ） 〔参考例 ７〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）ア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）酢酸132mgにジメチルホルムアミド
（DMF）0.3mlとジクロロメタン２mlを加えた
懸濁液に56.5mgのDCCと37mgの１−ヒドロキシ
−1H−ベンゾトリアゾールを室温で加え35分
撹拌した。この反応液に40.8mgのジエチルアニ
リンと113mgのジフエニルメチル ７−アミノ
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレート塩酸塩の1.5mlジクロロメタン
溶液を加え、室温で３時間撹拌した。反応液を
減圧濃縮後、ベンゼンを加え過し、母液を減
圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマト（展開剤
ヘキサン：酢酸エチル７：３から３：７へ順次
展開）により精製し、ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート103mgを得た。 (2) 上記(1)により得られたジフエニルメチルエス
テル103mg，５mlのギ酸と５mlのメタノールの
溶液を50〜60℃の油浴上で20分間加熱撹拌後減
圧濃縮した。この濃縮物に酢酸エチルを加え、
氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後水
洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過後
シリカゲルカラムクロマト（展開剤〔酢酸エチ
ル：ヘキサン（６：１）〕で精製し、ジフエニ
ルメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート25mgを得
た。 (3) (2)で得られたエステル25mgをジクロロメタン
１mlとトリフルオロ酢酸0.2mlに溶解し室温下
30分撹拌後、減圧濃縮した。濃縮物をエーテル
により粉末とし過、エーテルで洗浄し、目的
とするカルボン酸のトリフルオロ酢酸塩の白色
粉末16.5mgを得た。ジフエニルメチル ７−
〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.67（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz） 3.17（3H，ｓ） 3.52（2H，ｓ） 4.21（2H，ｓ） 4.44（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz） 5.70〜6.30（3H，ｍ） 6.72（1H，ｓ） 6.90（1H，ｓ） 7.30（10H，ｓ） 8.06（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz） カルボン酸トリフルオロ酢酸塩 NMRスペクトル（CD3OD，δppn）： 2.93（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 3.28（3H，ｓ） 3.55（2H，ｓ） 4.28（2H，ｓ） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 5.09（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 5.77（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 7.05（1H，ｓ） 〔参考例 ８〕 ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフル
オロ−２−プロピルオキシイミノ）アセテート
の製法 2.43ｇのｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキ
シイミノアセテートと1.74ｇの１，３−ジフルオ
ロ−２−プロピル メタンスルホネートの混合物
に室温で１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕
−ウンデセン−７（DBU）2.0ｇを加え70℃の油
浴上で１時間加熱撹拌した。反応物を冷却後酢酸
エチルに溶解し、希塩酸で洗浄後水洗炭酸ナトリ
ウム水溶液で洗浄、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧濃縮後シリカゲルカラムクロマト
〔展開剤ヘキサン：酢酸エチル（３：１）〕で精製
し目的物270mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.53（9H，ｓ） 4.17〜5.25（5H，ｍ） 6.47（1H，ｓ） 6.94（1H，ｓ） 7.27（15H，ｓ） 〔参考例 ９〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プ
ロピルオキシイミノ）酢酸の製法 ｔ−ブチル ２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオ
ロ−２−プロピルオキシイミノ）アセテート270
mgをトリオルオロ酢酸1.2mlに溶解し室温で２時
間撹拌した。反応後減圧濃縮し酢酸エチルに溶解
し水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。
濃縮物をローバーカラム〔メルク社製 RP−８
サイズＢ、展開剤：メタノール：水（８：２）〕
で精製し、目的のカルボン酸126mgを得た。 〔参考例 10〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プロ
ピルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸
トリフルオロ酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−
プロピルオキシイミノ）酢酸162mgにトリエチ
ルアミン32.4mgとジクロロメタン４mlを加え溶
解しDMFを１滴加えた後−30℃でオキザリル
クロリド56μを加え５分撹拌し減圧濃縮し酸
クロリドを得た。この酸クロリドを２mlのジク
ロロメタンに溶解後、この溶液をジフエニルメ
チル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート塩酸塩132mg
とジエチルアニリン96mgのジクロロメタン２ml
溶液に−20℃で加え、同温度20分撹拌した。反
応物を減圧濃縮後酢酸エチルに溶解し、希塩酸
洗浄、水洗、リン酸緩衝液（PH6.86）で洗浄、
飽和食塩水洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
（展開剤：酢酸エチル：ヘキサン ３：７から
１：１へ順次展開）で精製し、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ
−２−プロピルオキシイミノ）アセトアミド−
３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カル
ボキシレート60mgを得た。 (2) (1)で得られたカルボン酸エステル50mgをメタ
ノール2.5mlとギ酸2.5mlに溶解し、50℃の油浴
上で加熱撹拌後減圧濃縮した。濃縮物を酢酸エ
チルに溶解後氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄水洗後飽和食塩水で洗浄し無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧濃縮後シリカゲルカ
ラムクロマト〔展開剤：酢酸エチル：ヘキサン
（６：１）〕で精製しジフエニルメチル ７−
〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（１，３−ジフルオロ−２−プロピ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト28mgを得た。 (3) (2)で得られたカルボン酸エステル28mgをジク
ロロメタン１mlに溶解しトリフルオロ酢酸0.2
mlを加え、室温で30分撹拌した後減圧濃縮し、
エーテルで粉末にし取しエーテルで洗浄し目
的物のトリフルオロ酢酸塩の白色粉末17mgを得
た。 NMRスペクトル（CD3OD，δppn）： 3.33（3H，ｓ） 3.57（2H，ｓ） 4.32（2H，ｓ） 4.21〜5.25（6H，ｍ） 5.80（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 7.04（1H，ｓ） 〔参考例 11〕 ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸ギ
酸塩の製法 (1) ジメチルホルムアミド128mgを氷冷し、オキ
シ塩化リン243mgを加え、40℃で１時間撹拌し
た。真空ポンプで１時間乾燥後、酢酸エチル４
mlを加え、次いで、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，
２−トリフルオロエトキシイミノ）酢酸880mg
を室温で加えた。10分撹拌後、この溶液を、ジ
フエニルメチル ７−アミノ−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート塩
酸塩692mg及びＮ，Ｎ−ジエチルアニリン500mg
の塩化メチレン（７ml）溶液に−20℃で加え、
同温で30分撹拌した。減圧濃縮後、酢酸エチル
を加え、５％塩酸、次いで食塩水で洗浄、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。こ
れを、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フイーで精製した。展開溶媒：酢酸エチル−シ
クロヘキサン（１：２）、収量236mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 3.20（3H，ｓ，OMe） 3.51（2H，ｓ，Ｓ−CH2） 4.24（2H，ｓ，【式】） 4.63（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，−ＣＨ 2CF3） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.79（1H，dd，Ｊ＝9.0Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環） 6.93（1H，ｓ，−ＣＨφ2） 7.2〜7.5（27H，ｍ，−CHφ2，−Cφ3，
TrNH，CONＨ） (2) ジフエニルメチル ７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−
（２，２，２−トリフルオロエトキシイミノ）
アセタミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレート236mgを、１，２
−ジクロルエタン２ml及びアニソール0.5mlに
とかし、トリフルオロ酢酸２mlを室温で加え、
35分撹拌した。減圧濃縮後、ジイソプロピルエ
ーテルを加えて粉末とし、取した。この粉末
を、メタノール１ml及びギ酸１mlにとかし、55
〜60℃で、25分撹拌した。減圧濃縮後、ジイソ
プロピルエーテルを加えて粉末とし、目的化合
物を取した。収量122mg。 IRスペクトル（νNujol nax）：1740cm-1 （β−ラクタム） NMRスペクトル（アセトン−d6，δppn）： 3.27（3H，ｓ，OMe） 3.59（2H，ｓ，Ｓ−CH2） 4.31（2H，ｓ，【式】） 4.69（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2−） 5.20（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.91（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，７−Ｈ） 6.98（1H，ｓ，チアゾール環） 8.10（1H，ｓ，ＨCO2H） 〔参考例 12〕 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔２−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）エトキシ〕イミノ酢
酸エチルの製法 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−シン−ヒドロキシイミノ酢酸2.0ｇと２
−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イルオキシ
エタノール2.0ｇとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド20ml中、無水炭酸カリウム2.0ｇと60〜65℃
で6.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチルでうす
め、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−酢
酸エチル（20：１）を溶媒系とするシリカゲル・
カラムクロマトに付して、粘稠液体の表題化合物
1.6ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz エステルCH2C
Ｈ3） 1.3−2.0（6H，ｍ，テトラヒドロフラン環、 Ｃ−（CH2）3−Ｃ） 3.3〜4.7（9H，OCH2，Ｏ−CH−Ｏ） 6.54（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.95（1H，brs，NH） 7.34（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 同様にして２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−シン〔３−（テトラヒドロ−
4H−ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕
イミノ酢酸エチルを得た。 (2) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔２−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）エトキシ〕イミノ酢
酸の製法 上記(1)で得られるエチルエステル2.0ｇのテト
ラヒドロフラン15mlとメタノール15ml溶液に1N
水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、35℃、15時
間撹拌する。テトラヒドロフランおよびメタノー
ルを留去し、析出する無色結晶の表題化合物のナ
トリウム塩を取し、酢酸エチル、水で洗浄す
る。液の水層を酢酸エチルで洗浄した後、取
した結晶と合せ、これに酢酸エチルを加えてお
き、撹拌しながら3N塩酸でPH2.5にして、酢酸エ
チル層を分離する。抽出した酢酸エチル層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると、粉末状の表題化合物1.56ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.2−1.8（6H，ｍ，テトラヒドロフラン環 Ｃ−（CH2）3−Ｃ） 3.2−4.4（6H，ｍ，−OCH2−Ｃ） 4.65（1H，brs，【式】） 6.48（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.27（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.2付近（1H，brs，NH） 同様にして２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−シン〔３−（テトラヒドロ−
4H−ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕
イミノ酢酸を得た。 〔参考例 13〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−３
−セフエム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩の製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）酢酸150mgと、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール45mgを、塩化メチレン3.5ml
に懸濁し、ジシクロヘキシルカルボジイミド61
mgを加え、室温で１時間撹拌した。これに、ジ
フエニルメチル ７−アミノ−３−メチル−３
−セフエム−４−カルボキシレート116mgを加
え、更に2.5時間撹拌した。減圧濃縮後、酢酸
エチルを加えて不溶物を別した。液を減圧
濃縮後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフイーで精製した。展開溶媒：酢酸エチル−
シクロヘキサン（１：２）、収量190mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.10（3H，ｓ，【式】） 3.28（2H，ABq，Ｊ＝17.0Hz，Ｓ−CH2） 4.62（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.81（1H，dd，Ｊ＝9.0Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 6.77（1H，ｓ，チアゾール環） 6.87（1H，ｓ，CHφ2） 7.20（10H，ｓ，CHφ 2） 7.27（15H，ｓ，Ｃφ 3） 8.37（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，CONＨ） (2) 前記(1)で得られたジフエニルメチル ７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエ
トキシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート190mgを、
メタノール１mlとギ酸１mlにとかし、55℃で25
分撹拌した。減圧濃縮後、酢酸エチルにとか
し、３％炭酸水素ナトリウム水溶液次いで、食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
イーで精製した。展開溶媒；酢酸エチル−シク
ロヘキサン（３：１）、収量55mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.10（3H，ｓ，【式】） 3.27（2H，ｓ，Ｓ−ＣＨ 2） 4.49（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 5.00（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.7〜6.0（3H，ｍ，７−Ｈ，Ｈ 2N） 6.76（1H，ｓ，チアゾール環） 6.88（1H，ｓ，CHφ2） 7.29（10H，ｓ，CHφ 2） 7.94（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz，CONＨ） (3) 前記(2)で得られたジフエニルメチル７−〔２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−
２−（２，２，２−トリフルオロエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート55mgを塩化メチレン
１mlにとかし、トリフルオロ酢酸１mlを加え、
室温で25分撹拌した。減圧濃縮後、エチルエー
テルを加えて粉末とし、取した。収量34mg。 NMRスペクトル（重アセトン、δppn）： 2.13（3H，ｓ，【式】） 3.47（2H，ABq，Ｊ＝18.0Hz，Ｓ−CH2） 4.70（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CH 2CF3） 5.12（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.79（1H，dd，Ｊ＝8.5Hz，5.0Hz，７−Ｈ） 7.08（1H，ｓ，チアゾール環） 7.38（2H，ブロードｓ，H2N） 8.69（1H，ｄ，Ｊ＝8.5Hz，CONH） 〔参考例 14〕 ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシ
イミノ）酢酸ナトリウム塩の製法 (1) ３−クロロ−１−プロパノール75ｇをエチレ
ングリコール400mlに溶解しフツ化カリウム90
ｇを加えて浴温200〜230℃に加熱し沸点120〜
133℃の留分を集めて３−フルオロ−１−プロ
パノール45.4ｇを得た。３−フルオロ−１−プ
ロパノール６ｇを塩化メチレン60ml中トリエチ
ルアミン10.7mlと共に溶解し−20℃で塩化メタ
ンスルホニル8.8ｇを滴下し30分撹拌し、さら
に室温として30分撹拌した。反応液を減圧濃縮
し酢酸エチル100mlを加え、順次水、食塩水、
飽和硫酸水素カリウム水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で脱水後減圧濃縮し３−フルオロプロ
ピル−１−メタンスルホネートを10.5ｇ得た。 NMRスペクトル（重アセトン δppn） 2.13（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz， −ＣＨ 2CH2F） 3.06（3H，ｓ，CH3） 4.33（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.53（2H，d.t，Ｊ＝4.6および６Hz，ＣＨ
2F） (2) メチル ２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ
アセテート２ｇをジメチルスルホキシド15mlに
溶解し、３−フルオロプロピル−１−メタンス
ルホネート1.06ｇ、無水炭酸カリウム467mg、
18−クラウン−６−エーテル100mgを加え60℃
で参考例３の如く反応し処理した。これをシリ
カゲル100ｇを用いｎ−ヘキサン−酢酸エチル
（３：１）でカラムクロマトグラフイー処理し
メチル ２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピ
ルオキシイミノ）アセテート1.01ｇを得た。 NMRスペクトル（CCl4，δppn） 2.02（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz ＣＨ 2CH2F） 3.73（3H，ｓ，CH3） 4.15（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.37（2H，d.t.J＝47および６Hz，−ＣＨ 2F） 6.55（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.75（1H，ｓ，NH） 7.16（15H，ｓ，トリチル） (3) 上記の如くして得た化合物1.01ｇをテトラヒ
ドロフラン10mlに溶解しメタノール2.5mlおよ
び95％水酸化ナトリウム224mgを水５mlに溶解
して加え55℃で１時間撹拌した。 反応液を減圧濃縮すると結晶が析出した。こ
れに水30mlを加えて撹拌し取した。さらに水
洗後エーテルで洗い乾燥して表記化合物911mg
を得た。 NMRスペクトル（d6−DMSO δppn） 1.88（2H，d.quintet，Ｊ＝25および６Hz， ＣＨ 2CH2F） 3.95（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.48（2H，d.t，Ｊ＝46および６Hz，−ＣＨ
2F） 6.53（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） ７〜7.6（16H，ｍ、トリチルおよびNH） 〔参考例 15〕 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸 トリフルオロ
酢酸塩の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）酢酸200mgを塩化メチレン１ml中で
トリエチルアミン0.068ml、塩化オキザリル
0.043mlおよびジメチルホルムアミド１滴を用
い参考例５と同様にして酸塩化物とした。 これを同様にしてジフエニルメチル ７−ア
ミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレート 塩酸塩182mgと塩化メチ
レン５ml中ジエチルアニリン150mgの存在下に
反応させ、抽出、濃縮した。 こうして得た混合物を30ｇのシリカゲルを用
いｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１：１）でカラ
ムクロマトグラフイー処理し、ジフエニルメチ
ル ７−〔２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオ
キシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメ
チル−３−セフエム−４−カルボキシレート
104mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz， OCH2 CH 2CH2F） 3.18（3H，ｓ，OCH3） 3.48（2H，ｓ，CH2，２位） 4.20（2H，ｓ，CH2，
【式】） 4.38（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，−ＯCH
2CH2CH2F） 4.51（2H，d.t.，Ｊ＝46および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 4.97（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.87（1H，d.d，Ｊ＝９および５Hz，７位） 6.69（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.90（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 6.8〜7.7（27H，ｍ，トリチル、ジフエニル
メチ ルのフエニル性Ｈおよび
NH×２） (2) 上記の如くして得た化合物104mgをメタノー
ル1.5ml、テトラヒドロフラン1.5ml、ギ酸１ml
の混液に溶解し50〜55℃で30分撹拌後、減圧濃
縮し５ｇのシリカゲルを用い酢酸エチルでカラ
ムクロマトグラフイー処理して、ジフエニルメ
チル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート55mg
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 2.24（2H，d.quintet，Ｊ＝27および６Hz， OCH2CＨ 2CH2F） 3.21（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，CH22位） 4.26（2H，ｓ，CH2） 4.50（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.52（2H，d.t.，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.6〜6.1（2H，br，NH2） 5.89（1H，d.d，Ｊ＝９および５Hz，７位） 6.95（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.17（1H，ｓ，ジフエニルメチルのＨ） 7.34（10H，ｓ，ジフエニルメチルのフエ
ニル性 Ｈ） 7.90（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，７位NH） (3) 上記のごとくして得た化合物55mgを塩化メチ
レン１mlに溶解し、氷冷下アニソール0.5mlお
よびトリフルオロ酢酸0.3mlを加え冷却浴をは
ずして室温に一時間静置した。反応液は減圧濃
縮しジイソプロピルエーテルを加えて固化し、
これを取してジイソプロピルエーテルでよく
洗浄後乾燥して表記化合物32mgを無色粉末とし
て得た。 NMRスペクトル（重アセトン、δppn）： 2.23（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz， OCH2 CH 2CH2F） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.60（2H，ｓ，CH22位） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.32（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.57（2H，d.t，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.0〜6.0（4H，br，NH2およびCOOH×
２） 5.24（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.92（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５および９Hz、７
位） 7.05（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 8.68（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，NH ７位） 〔実施例 １〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２，
２，２−トリフルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレートの製法 (1) ２−（トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシイミノ）酢酸260mgと、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール78mgを、塩化メチレン５mlに
懸濁し、ジシクロヘキシルカルボジイミド105
mgを加え、室温で45分撹拌した。これに、ピバ
ロイルオキシメチル ７−アミノ−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト ｐ−トルエンスルホン酸塩297mg及びＮ，
Ｎ−ジエチルアニリン83mgの塩化メチレン（１
ml）溶液を加え、室温で2.5時間撹拌した。減
圧濃縮後、少量の酢酸エチルを加え、不溶物を
別後、液を、５％塩酸、次いで食塩水で洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリ
カゲルを用いたカラムクロマトグラフイーで精
製した。展開溶媒、酢酸エチル−シクロヘキサ
ン（２：３）、収量49mg。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.30（3H，ｓ，OMe） 3.50（2H，ｓ，【式】） 4.27（2H，ｓ，【式】） 4.57（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2−） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６−Ｈ） 5.7〜6.0（3H，ｍ，７−Ｈ，
【式】） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環） 7.0〜7.4（16H，ｍ，Ｃφ 3，CONＨ） (2) 前記(1)で得られたピバロイルオキシメチル
７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メト
キシメチル−３−セフエム−４−カルボキシレ
ート49mgを、メタノール0.5mlと、ギ酸0.5mlに
とかし、55℃で25分撹拌した。減圧濃縮後、酢
酸エチルにとかし、３％炭酸水素ナトリウム水
溶液、次いで、食塩水で洗浄した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、シリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフイーで精製した。展開溶媒、
酢酸エチル−シクロヘキサン（４：１）。 IRスペクトル（νKBr nax）： 1790cm-1（β−ラクタム） NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.31（3H，ｓ，OMe） 3.54（2H，ｓ，Ｓ−ＣＨ 2） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.56（2H，ｑ，Ｊ＝8.0Hz，CF3CＨ 2）： 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６−Ｈ） 5.6〜6.1（5H，ｍ，７−Ｈ，NH2，
【式】） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環） 7.65（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，CONＨ） 元素分析値：C22H26N5O8S2F3として 計算値：Ｃ 43.34，Ｈ 4.30，Ｎ 11.49，
Ｓ 10.52， Ｆ 9.35 分析値：Ｃ 43.34，Ｈ 4.49，Ｎ 11.17，
Ｓ 10.25， Ｆ 9.21 〔実施例２〕〔実施例１〕の化合物の別途合成法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２，２，２−トリフルオロエトキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸 ギ酸塩90mg
を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２mlに懸濁
し、ジシクロヘキシルアミン60mgを加え、０℃で
ヨードメチルピバレート89mgを加えた。０℃で１
時間撹拌後、酢酸エチルを加えて不溶物を別
し、液を食塩水、次いで、硫酸水素カリウム水
溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフイ
ーで精製した。収量47mg。 〔実施例 ３〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−
メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキ
シレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキシイミ
ノ）酢酸200mgをジメチルホルムアミド0.3ml及
び塩化メチレン12mlに溶解し、室温で撹拌下Ｎ
−ヒドロキシベンゾトリアゾール71mgを加え、
30分撹拌する。次いでジシクロヘキシルカーボ
ジイミド94mgを室温下に加え、１時間撹拌す
る。この反応液にピバロイルオキシメチル ７
−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート ｐ−トルエンスルホ
ン酸塩245mgをジエチルアニリン69mgと塩化メ
チレン３mlに溶解した溶液を室温下で加え、１
時間撹拌した。析出した不溶物を過し、液
を減圧濃縮した。これを15ｇのシリカゲルを用
い、溶媒系シクロヘキサン−酢酸エチル
（325：175）でカラムクロマトグラフイー処理
し、ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）
−２−（２−フルオロエトキシイミノ）アセト
アミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボキシレート233mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.22（9H，ｓ，ｔ−Bu） 3.30（3H，ｓ，−OCH3） 3.51（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.23（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−） 4.67（1H，ｍ，【式】） 5.00（1H，ｍ，【式】） 4.96（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝５Hz） 5.8〜6.1（3H，７位のＨ及び
【式】） 6.66（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.3〜7.7（17H，トリチル，NH、及びアミ
ドNH） (2) 上記のごとくして得たピバロイルオキシメチ
ル ７〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエトキ
シ）イミノアセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート507
mgをTHF6ml及び60％ギ酸６mlに溶解し、55〜
60℃に加温して１時間撹拌し、減圧濃縮した。
残渣を酢酸エチル200mlに溶解し、中性リン酸
緩衝液（PH6.8）で洗浄後無水硫酸ナトリウム
で脱水後減圧濃縮する。これを25ｇのシリカゲ
ルを用いｎ−ヘキサン−酢酸エチル（20：80）
でカラムクロマトグラフイー処理を行つた。精
製された目的物を酢酸エチル1.3mlに溶解し、
この溶液をｎ−ヘキサン13ml中へ撹拌下ゆつく
り滴下し、析出した固体を取後乾燥して表記
化合物134mgを無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.23（9H，ｓ，tBu） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.55（2H，ｓ，２位 CH2） 4.22（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2−） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.83（2H，ｓ，【式】） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.92（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8，10Hz） 6.79（1H，ｓ，チアゾールのＨ） 7.58（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ５〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メチル−
３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジエチ
ルアニリンの存在下に、１−メチル−１−シクロ
ヘキサンカルボニルオキシメチルヨーダイドを実
施例２と同様に反応させて表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.3（10H，ｍ，−（CH2）5−） 2.11（3H，ｓ，３位−CH3） 3.14（1H，ｄ，２位Ｈ，Ｊ＝18.0Hz） 3.54（1H，ｄ，２位Ｈ，Ｊ＝18.0Hz） 4.21（2H，ｓ，−OCH2−） 4.70（1H，ｍ，【式】） 5.02（1H，ｍ，【式】） 4.98（1H，ｄ，６位Ｈ，Ｊ＝5.0Hz） 5.80（1H，ｑ，７位Ｈ，Ｊ＝5.0，4.4Hz） 5.84（2H，ｓ） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.65（1H，ｄ，７位のNH，Ｊ＝10.0Hz） 〔実施例 ６〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メチル−３−セフ
エム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４
−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジエチ
ルアニリンの存在下、１−ブロモエチル シクロ
ヘキサンカルボキシレートを実施例２と同様に作
用させ、生成物をカラムクロマトグラフイー処理
して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 0.8〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基の
Ｈ，および【式】） 2.12（3H，ｓ，３位のCH3） 3.15（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 3.55（1H，ｄ，２位のＨ，Ｊ＝19Hz） 4.21（2H，ｓ，OCH2−） 4.70（1H，ｍ，【式】） 5.0（1H，ｍ，【式】） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.6Hz） 5.4〜6.0（2H，br.s，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5，
【式】） 7.68（1H，ｄ，７位のNH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ４〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート
の製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下、１−メチル−１
−シクロヘキサンカルボニルオキシメチルヨーダ
イドを実施例２と同様に作用させ、表記化合物を
得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.3（10H，ｍ，−（CH2）5−） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.55（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.82（2H，ｓ，−Ｏ−CH2−Ｏ−） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.92（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8および 10Hz） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.59（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ５〕 １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下に、１−ブロモエ
チル シクロペンタンカルボキシレートを実施例
２の如く作用させ、生成物をシクロヘキサン−酢
酸エチル（１：５）を溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー処理して表記化合物を得
た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.0〜2.3（11H，ｍ，CH2×４，CH3） 2.3〜3.1（1H，ｍ，CH） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.56（2H，ｓ，２位のCH2） 4.22（2H，ｓ，【式】） 4.28（2H，ｓ，Ｏ−CH2） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，６位のＨ，Ｊ＝5.8Hz） 5.72（2H，br.s，NH2） 5.91（1H，ｑ，７位のＨ，Ｊ＝5.8および10
Hz） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，
【式】Ｊ＝6.5Hz） 7.59（1H，ｄ，CONH，Ｊ＝10Hz） 〔実施例 ６〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノ
メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート
の製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ酢酸
170mgを乾燥した塩化メチレン２mlに、トリエ
チルアミン0.05mlと共に加えて溶解し−10℃に
冷却した。これに塩化オキザリル0.03mlおよび
ジメチルホルムアミド１滴を加えて５分間撹拌
し減圧濃縮した。一方、ピバロイルオキシメチ
ル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート ｐ−トルエン
スルホン酸塩193mgをジエチルアニリン108mgと
共に塩化メチレン２mlに溶解し−10℃に冷却し
撹拌した。この溶液に前記の反応物を塩化メチ
レン２mlに溶解して加え10分間撹拌し、反応液
を減圧濃縮した。これを酢酸エチル60mlに溶解
し水で２回、１−Ｎ塩酸で２回、食塩水で１回
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、減
圧濃縮した。 これを50ｇのシリカゲルを用い溶媒系クロロ
ホルム−酢酸エチル（３：１）でカラムクロマ
トグラフイー処理し、ピバロイルオキシメチル
７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミノ
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート180mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.21（9H，ｓ，tBu） 3.29（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.27（2H，ｓ，【式】） 4.83（2H，ｓ，Ｏ−ＣＨ 2CN） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz ６位） 5.5〜6.05（3H，ｍ，７位，およびCH2） 6.63（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.9〜7.6（17H，トリチル，NHおよび アミドNH） (2) 上記のごとくして得たピバロイルオキシメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−シアノメトキシイミ
ノアセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボキシレート180mgを50％
メタノールとギ酸20mlに溶解し55〜60℃に加温
して20分間撹拌し減圧濃縮した。これをメタノ
ール１mlに溶解しエーテル10mlおよびイソプロ
ピルエーテル50mlを加えて沈澱させ、生じた固
体を取し、イソプロピルエーテルでよく洗浄
後乾燥して表記化合物82.2mgを無色無定形粉末
として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.25（9H，ｓ，tBu） 3.33（3H，ｓ，OCH3） 3.57（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.29（2H，ｓ，【式】） 4.85（2H，ｓ，ＣＨ 2CN） 5.04（1H，ｄ，６位Ｊ＝5.5Hz） 5.5〜6.7（5H，ｍ，７位，CH2およびNH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 8.18（1H，ｄ，NH ７位，Ｊ＝９Hz） 〔実施例 ７〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シ
アノエトキシイミノ）アセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）酢酸120mgにトリエチルアミン26mgとジク
ロルメタン２mlを加え溶液とし、これにジメチ
ルホルムアミド（DMF）を１滴加えた後−25
℃に冷却し、オキザリルクロリド44μを加え
同温度５分撹拌した。反応物を減圧濃縮し酸ク
ロリドを得た。得られた酸クロリドを ジクロ
ルメタン２mlに溶解し ピバロイルオキシメチ
ル ７−アミノ−３−メトキシメチル−３−セ
フエム−４−カルボキシレート ｐ−トルエン
スルホン酸塩133ｇとジエチルアニリン75mgの
ジクロロメタン２mlの溶液に−10℃で加え30
分間撹拌した。反応物を減圧濃縮後酢酸エチル
に溶解し希塩酸で洗浄後水洗、リン酸緩衝液
（PH6.86）で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥
し減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲル
カラムクロマト（展開剤；酢酸エチル−ヘキサ
ン１：１から１：２に順次展開）で精製し、75
mgのピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）
−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレートを得た。 (2) (1)で得られたトリチルアミノ体75mgにメタノ
ール2.5mlとギ酸2.5mlを加え50〜60℃の油浴上
で20分加熱、撹拌した後減圧濃縮した。濃縮物
を酢酸エチルに溶解し氷冷した炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄後水洗、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラム
クロマト〔展開剤；酢酸エチル−ヘキサン
（７：１）〕で精製し、目的のエステル41mgを得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ） 2.75（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 3.30（3H，ｓ） 3.57（2H，ｓ） 4.28（2H，ｓ） 4.39（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz） 5.05（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz） 5.84（2H，ｓ） 5.60〜6.30（3H，ｍ） 6.70（1H，ｓ） 8.15（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 〔実施例 ８〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミ
ノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３
−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、１−ヨードエチル シ
クロペンチルカーボネートを実施例２と同様に作
用させ、反応生成物を酢酸エチルを用いシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー処理して表記化合物
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.3〜2.1（11H，ｍ，−（CH2）4−CH3CH） 2.72（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−CH2 CH2 CN） 3.32（3H，ｓ，−OCＨ 3） 3.53（2H，ｓ，２位−CH2 −） 4.33（2H，ｓ，３位−CH2 −） 4.41（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−ＯCH
2CH2CN） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.0〜5.9（3H，ｍ，−NH2，
【式】） 5.95，5.97（合計1H，ｄ，ｄ，×２，Ｊ＝
5.0Hz 9.0Hz，７位ＣＨ） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環Ｈ） 6.8，6.9（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝６Hz，
ＣＨCH3） 8.05，8.10（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９Hz， ７位NH） 〔実施例 ９〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシ
イミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、ヨードメチル １−メ
チル−１−シクロヘキサンカルボキシレートを実
施例２と同様に作用させ、反応生成物を酢酸エチ
ルを用いシリカゲルカラムクロマトグラフイー処
理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.18（3H，ｓ，−CH3） 0.9〜2.2（10H，ｍ，−（CH2）5−） 2.73（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−OCH2 CH
2CN） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，２位 −CH2−） 4.30（2H，ｓ，３位 −CH2−） 4.42（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−ＯCH
2CH2CN） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz，６位 −CH） 5.73（2H，br.s，−NH2） 5.88（2H，ｓ，−ＯCH2 Ｏ−） 5.96（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.0，9.0Hz，７位
−CH） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 8.00（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，−NH ７位） 〔実施例 10〕 １−（エトキシカルボニルオキシ）エチル ７
−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−シアノエトキシイミノ）アセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド中、ジ
エチルアニリンの存在下、１−ヨードエチル エ
チルカーボネードを実施例２と同様に作用させ、
反応生成物を酢酸エチルを用いシリカゲルカラム
クロマトグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−CH2 CH3 ） 1.58（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz，−CHCH3 ） 2.73（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，−OCH2 CH2 CN） 3.57（2H，ｓ，２位 −CH2−） 4.24（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz，−CH2 CH3） 4.31（2H，br.s，３位−CH2−） 4.40（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz，−Ｏ−CH
2CH2CN） 5.05（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz ６位） 5.4〜６ （2H，br. −NH2） 5.99（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.0，9.0Hz） 6.88（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.9および7.0（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝６Hz，
ＣHCH3） 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz，７位−NH） 〔実施例 11〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ヒ
ドロキシエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレートの製法 (1) Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド0.160mlと三
塩化ホスホリル0.180ml混合物を40〜45℃で１
時間撹拌後、30分間真空乾燥する。残留液に酢
酸エチル１mlを加え、これに２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−シン
〔２−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イル
オキシ）エトキシ〕イミノ酢酸1.08ｇの酢酸エ
チル５ml溶液を加え室温で５分間撹拌する。こ
のカルボン酸活性化物の酢酸エチル溶液を、７
−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルのｐ
−トルエンスルホン酸塩1.06ｇとＮ，Ｎ−ジエ
チルアニリン0.8mlのジクロルメタン10ml溶液
に−20℃で加える。混合物を０〜５℃で40分間
撹拌後、反応液を酢酸エチルでうすめ、水、重
硫酸カリウム水溶液、重曹水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留物を酢酸エチル−クロロホルム（１：
３）を溶媒系とするシリカゲル・カラムクロマ
トに付して、粉末状の化合物0.96ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.2〜1.7（6H，ｍ，ピラン環−Ｃ−（ＣＨ 2）
3−Ｃ−） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，ｓ，phCＨ 2） 3.6〜4.0（4H，ｍ，ピラン環−OCH2−お
よび ＝Ｎ−OCH2CＨ 2O−） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.3〜4.7（3H，ｍ，ピラン環
【式】） および＝Ｎ−OCＨ 2−
Ｃ） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.86（2H，ｓ，エステルCH2） 5.7〜6.0（1H，ｍ，７位Ｈ） 6.74（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.95（1H，ｓ，NH） 7.30（15H，ｓ，フエニル基プロトン） (2) 前記(1)で得られた化合物0.4ｇのテトラヒド
ロフラン６ml溶液に50％ギ酸水溶液５mlを加
え、50℃、45分間撹拌する。酢酸エチルを加
え、重曹水によりPH５にした後、酢酸エチル層
を分離し、水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−
メタノール（10：１）を溶媒系とするシリカゲ
ル・カラムクロマトに付して粉末状の化合物
0.27ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53および3.78（いずれもbrs，２位H2およ
び ＝Ｎ−OCH2C
Ｈ2O） 4.28（4H，brs，３位CH2および＝Ｎ−OC
Ｈ2−） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.82（4H，ｍ，エステルCH2，７位Ｈ） 6.46（2H，brs，Ｎ−Ｈ） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 8.54（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 12〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ア
セトキシエトキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボ
キシレート (1) 実施例14の(1)で得た７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−シン−〔２
−（テトラヒドロ−4H−ピラン−２−イルオキ
シ）エトキシ〕イミノアセトアミド〕−３−メ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチル2.52ｇのテトラヒドロ
フラン40ml溶液に濃塩酸１mlを加え、室温で
1.5時間放置する。反応液に酢酸エチルを加え、
重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去する。残留物をクロロホルム−
メタノール（40：１）を溶媒系とするシリカゲ
ル・カラムクロマトに付して、粉末状の化合物
1.8ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 3.26（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，brs，２位H2） 3.6〜3.9（2H，ｍ，＝Ｎ−OCH2CＨ 2O） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 4.1〜4.5（2H，ｍ，＝Ｎ−Ｏ−ＣＨ 2−） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.6〜5.95（1H，ｍ，７位Ｈ） 6.64（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.28（16H，brs，フエニル基プロトンおよ
びNH） 7.88（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） (2) 上記(1)で得られるヒドロキシエトキシイミノ
誘導体0.5ｇのジクロルメタン５ml溶液に氷冷
下Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン0.4mlついで塩化
アセチル0.2mlを加え、０〜５℃で16時間放置
する。反応液をジクロルメタンでうすめ、重硫
酸カリ水溶液、重曹水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留
物を室温で一夜放置すると副生するジアセチル
誘導体は目的とするモノアセチル誘導体に変換
する。このものをクロロホルム−酢酸エチル
（４：１）を溶媒系とするシリカゲル・カラム
クロマトに付して、粉末状の化合物370mgを得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.99（3H，ｓ，COCH3） 3.29（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位Ｈ） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.38（4H，ｓ，オキシム位 ＣＨ 2−ＣＨ 2） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，エステルCH2） 5.85（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.8Hz，７位Ｈ） 6.67（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.00（1H，brs，NH） 7.27（16H，ｍ，フエニルプロトンおよび アミドNH） (3) 上記(2)で得られるアセトキシエトキシイミノ
誘導体370mgのテトラヒドロフラン５mlと50％
ギ酸水溶液を45〜50℃で３時間撹拌する。反応
液を酢酸エチルでうすめ、重硫酸カリ水溶液、
重曹水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去する。残留物をクロロホル
ム−メタノール（40：１）を溶媒系とするシリ
カゲル・カラムクロマトに付して粉末状の表題
化合物235mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 2.00（3H，ｓ，COCH3） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs，２位H2） 4.28（2H，ｓ，３位CH2） 4.34（4H，ｓ，オキシム位ＣＨ 2−ＣＨ 2） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.94（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，8.5Hz，７位
Ｈ） 6.13（2H，brs，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.63（1H，brd，Ｊ＝8.5Hz，アミドＮ−Ｈ） 〔実施例 13〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−プ
ロピオニルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例15の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体0.32ｇのジクロルメタン３ml溶液
に氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン200μ、
ついで塩化プロピオニル90μを加えた後、反
応溶液を室温で一夜放置する。反応液を酢酸エ
チルでうすめ、重硫酸カリ水溶液、重曹水で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。残留物をクロロホルム−酢酸エチル
を溶媒系とするシリカゲル・カラムクロマトに
付して粉末状の化合物0.25ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.01（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位
COCH2CＨ 3） 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 1.29（2H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位COC
Ｈ2CH3） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.29（2H，ｓ，３位CH2） 4.41（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステル ＣＨ 2） 5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.67（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.28（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.2〜7.4（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるプロピオニルオキシエトキ
シイミノ誘導体0.25ｇを実施例15の(3)と同様の
操作により脱トリチル化して、粉末状の表題化
合物0.13ｇを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.05（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位
COCH2CＨ 3） 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 1.99（2H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz，イミノ位COC
Ｈ2CH3） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs，２位H2） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.33（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，エステルCH2） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.43（2H，brs，NH2） 6.75（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.73（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 14〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ラ
ウロイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例14の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化ラウロイルでアシル化して粉末状の化合
物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（21H，ｍ，ラウロイルＣＨ 3−（Ｃ
Ｈ2）9−） 1.27（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.4（2H，ｍ，ラウロイル COCＨ 2
−） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.42（2H，brs，２位H2） 4.29（2H，ｓ，３位CH2） 4.42（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.00（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，エステルCH2） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.30（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.1〜7.3（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるラウロイルオキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作によ
り脱トリチル化して、粉末状の表題化合物を得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（21H，ｍ，ラウロイルＣＨ 3−（Ｃ
Ｈ2）9−） 1.28（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.5（2H，ｍ，ラウロイルCOCＨ 2） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 4.40（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，エステルCH2） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.83（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 15〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−パ
ルミトイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例14の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化パルミトイルでアシル化して粉末状の化
合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（29H，ｍ，パルミトイルＣＨ 3（Ｃ
Ｈ2）13） 1.26（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.4（2H，ｍ，パルミトイルCOCＨ 2） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.27（2H，ｓ，３位CH2） 4.38（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.96（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.81（2H，ｓ，エステルCH2） 5.83（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.61（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.24（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.1〜7.3（2H，NH） (2) 上記(1)で得られるパルミトイルオキシエトキ
シイミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作に
より脱トリチル化して、粉末状の表題化合物を
得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 0.7〜1.8（29H，ｍ，パルミトイルCH3
（CH2）13） 1.25（9H，ｓ，tert−Bu） 2.1〜2.5（1H，ｍ，パルミトイルCOCＨ 2） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，brs.2位H2） 4.34（4H，brs，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステルCH2） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.34（2H，brs，NH2） 6.75（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.68（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 16〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−ベ
ンゾイルオキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) 実施例15の(1)で得られるヒドロキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例16の(1)と同様の操作によ
り塩化ベンゾイルでアシル化して粉末状の化合
物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.23（9H，ｓ，tert−Bu） 3.22（5H，ｓ，OCH3，２位H2） 4.11（2H，ABq，Δδ＝0.32ppm，Ｊ＝14
Hz， ３位H2） 4.4〜4.8（4H，ｍ，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.85（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 5.81（2H，ｓ，エステルCH2） 6.65（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.27（15H，ｓ，トリフエニルメチルプロ
トン） 6.9〜7.5および7.8〜8.1（7H，ｍ，
C6H5CO，NH） (2) 上記(1)で得られるベンゾイルオキシエトキシ
イミノ誘導体を実施例15の(3)と同様の操作によ
り脱トリチル化して、粉末状の化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.32（2H，brs，２位H2） 4.17（2H，ABq，Δδ＝0.30ppm，Ｊ＝14
Hz） 4.4〜4.7（4H，ｍ，イミノ位ＣＨ 2CＨ 2） 4.94（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.88（2H，ｓ，エステルCH2） 5.90（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 5.96（2H，brs，NH2） 6.84（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.2〜8.1（6H，ｍ，C6H5CO，アミドNH） 〔実施例 17〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−ヒ
ドロキシプロピルオキシ）イミノアセトアミ
ド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−４
−カルボキシレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−シン−〔３−（テトラヒドロ−4H−
ピラン−２−イルオキシ）プロピルオキシ〕イ
ミノ酢酸と７−アミノ−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイルオキ
シメチルのｐ−トルエンスルホン酸塩とを実施
例14の(1)と同様の操作により縮合させ、粉末状
の化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.24（9H，ｓ，tert−Bu） 1.2〜1.9（8H，ｍ，４個のＣ−ＣＨ 2−Ｃ） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.41（2H，ｓ，２位H2） 3.1〜3.8（6H，ｍ，３個のＯ−ＣＨ 2−Ｃ） 4.25（2H，ｓ，３位CH2） 4.46（1H，brs，イミノ位【式】） 4.99（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，エステル位CH2） 5.92（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.56（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.20（15H，ｓ，フエニル基プロトン） 7.73（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） (2) 前記(1)で得られる化合物を実施例14の(2)と同
様の操作により脱トリチル化および脱テトラヒ
ドロピラニル化を行ない、粉末状の表題化合物
を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.22（9H，ｓ，tert−Bu） 1.5〜2.0（2H，ｍ，Ｃ−ＣＨ 2−Ｃ） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，brs，２位H2） 3.2〜3.8（4H，ｍ，２個のＯ−CH2−Ｃ） 4.26（2H，brs，３位CH2） 5.02（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.84（2H，ｓ，エステル位CH2） 5.85（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.90（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 9.47（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 18〕 ピバロイルオキシメチル ７−〔２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フ
ルオロプロピルオキシイミノ）アセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 (1) ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピルオキ
シイミノ）酢酸ナトリウム塩511mgを塩化メチ
レン５mlにけん濁し、−50℃に冷却し塩化オキ
ザリル0.105mlに加えて撹拌した。冷却浴を氷
浴とした後、ジメチルホルムアミドを１滴加え
ると発泡し、固体は一度溶解し再びゼラチン状
に固化した。10分後減圧濃縮乾燥し、再び５ml
の塩化メチレンを加え、これを、ピバロイルオ
キシメチル ７−アミノ−３−メトキシメチル
−３−セフエム−４−カルボキシレート ｐ−
トルエンスルホン酸塩530mgとジエチルアニリ
ン0.35mlを塩化メチレン５mlに溶解した溶液に
−10℃で加え15分間撹拌した。これを実施例３
と同様に抽出後、シリカゲル30ｇを用い、ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル（１：１）でカラムクロ
マトグラフイー処理してピバロイルオキシメチ
ル ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（３−フルオロプロピ
ルオキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフエム−４−カルボキシレー
ト370mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tBu） 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz Ｏ−CH2CＨ 2CH2F） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.28（2H，ｓ，【式】） 4.39（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.50（2H，ｄ，ｔ，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 4.98（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.6〜6.1（3H，ｍ，CH2および７位） 6.60（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 6.7〜7.5（17H，ｍ，トリチルおよびNH×
２） (2) 上記の如くして得た化合物150mgを50％メタ
ノール水３mlに溶解し55℃で30分間撹拌し、減
圧濃縮した。これを10ｇのシリカゲルを用い酢
酸エチルでカラムクロマトグラフイー処理後、
酢酸エチル15mlに溶解しｎ−ペンタン150ml中
に滴下して固化し取乾燥して表記化合物61mg
を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 1.23（9H，ｓ，tBu） 2.09（2H，d.quintet，Ｊ＝26および６Hz OCH2CＨ 2CH2F） 3.30（3H，ｓ，OCH3） 3.53（2H，ｓ，CH2 ２位） 4.30（2H，ｓ，【式】） 4.33（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz，OCＨ
2CH2CH2F） 4.51（2H，d.t，Ｊ＝47および６Hz， OCH2CH2CＨ 2F） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，６位） 5.6〜6.2（5H，ｍ，CH2，NH2および７位） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.71（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，NH7位） 〔実施例 19〕 １−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸にジメチルアセトアミド中、ジエチルアニリン
の存在下に １−ブロモエチル シクロペンタン
カルボキシレートを実施例２の如く作用させ、生
成物を酢酸エチルを溶媒としてシリカゲルカラム
クロマトグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） １〜2.3（11H，ｍ，ＣH2 ×４，ＣH3 ） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH2CH3 ） 2.3〜3.1（1H，ｍ，CH） 3.32（3H，ｓ，OCH3） 3.57（2H，ｓ，CH22位） 4.20（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz ＣH2 CH3） 4.35（2H，ｓ，【式】） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.2〜5.9（2H，br，NH2） 5.92および5.96（合計1H，ｄ，ｄ×２，Ｊ
＝５ および９Hz，７位） 6.83（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5
Hz， 【式】） 8.5および8.55（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９
Hz， ７位NH） 〔実施例 20〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕
−３−メトキシメチル−３−セフエム−４−カ
ルボキシレートの製法 ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸にジメチルアセトアミド中、ジエチルアニリン
の存在下１−ブロモエチル シクロヘキサンカル
ボキシレートを実施２と同様に作用させ、反応生
成物を酢酸エチルを用いシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn） 0.9〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基のＨ および【式】） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.52（2H，ｓ，CH2 ２位） 3.99（3H，ｓ，Ｎ−OCＨ 3） 4.25（2H，ｓ，【式】） 5.06（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位） 5.5〜6.1（3H，ｍ，７位およびNH2） 6.71（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.11および7.02（合計1H，ｑ×２，Ｊ＝6.5
Hz，【式】） 8.20および8.25（合計1H，ｄ×２，Ｊ＝９
Hz， ７位NH） 〔実施例 21〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチルヨーダイドとを実施例２と同様に反応
させて表記化合物を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.56（3H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz，エステル−CH
（CH3）−） 1.5〜2.0（8H，ｍ，−（CH2）4−） 3.30（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.50（2H，brs，２位H2） 4.01（3H，ｓ，Ｎ−OCH3） 4.31（2H，ｓ，３位CH2） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，６位Ｈ） 5.05付近（1H，ｍ，【式】） 5.75（2H，brs，NH2） 5.97（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz，７位
Ｈ） 6.64（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.80と7.88（合せて1H，いずれもｑ，Ｊ＝
5.5Hz， エステル−ＣＨ
（CH3）−） 8.05（1H，brd，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 22〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチル−１−シクロヘキサンカルボニル
オキシメチルヨーダイドとを実施例２と同様に反
応させて表題化合物を無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（CDCl3 δppn）： 1.17（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.0〜2.2（10H，ｍ，−（CH2）5−） 3.29（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.03（3H，ｓ，Ｎ−OCH3） 4.31（2H，brs，３位CH2） 5.04（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.72（2H，brs，NH2） 5.87（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.98（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位
Ｈ） 6.68（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 8.05（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 23〕 １−メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メチル−３−セフエム−４−
カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３
−メチル−３−セフエム−４−カルボン酸と１−
メチル−１−シクロヘキサンカルボニルオキシメ
チルヨーダイドとを実施例２と同様に反応させて
表題化合物を無色無定形粉末として得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.15（3H，ｓ，【式】） 1.0〜2.2（13H，ｍ，−（CH2）5−および Ｎ−OCH2CＨ 3） 2.11（3H，ｓ，３位CH3） 3.34（2H，ABq，Δδ＝0.35ppm，Ｊ＝18
Hz， ２位H2） 4.25（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCH2 CH3） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.85（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.86（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位
Ｈ） 6.80（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 29〕 １−メチル−１−シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセ
トアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフエ
ム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチル−１−シクロペンタンカルボニル
オキシメチルヨーダイドとを実施例２と同様に反
応させて表題化合物を無色無定形粉末として得
た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn）： 1.26（3H，ｓ，【式】） 1.33（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCH2CＨ 3） 1.1〜2.3（8H，ｍ，−（CH2）4−） 3.29（3H，ｓ，Ｃ−OCH3） 3.54（2H，brs，２位H2） 4.20（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，Ｎ−OCＨ 2CH3） 4.30（2H，ｓ，３位CH2） 5.03（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位Ｈ） 5.83（2H，ｓ，Ｏ−CH2−Ｏ） 5.95（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz） 6.82（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドNH） 〔実施例 24〕 １−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ナトリウム塩880mg及びジ
メチルアセトアミド（DMA）15mlの懸だく液
に、−10℃に冷却下１−（シクロペンチルオキシカ
ルボニルオキシ）エチルヨーダイド（50％純度）
3.2ｇのDMA2ml溶液を加え、１時間撹拌する。
反応液に酢酸エチル300mlを加え、1Nリン酸緩衝
液で洗浄後、水で洗浄する。溶媒を減圧で留去
し、残留物をシリカゲルクロマトを行ない、酢酸
エチルエステルを用いて目的物913mgを得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.55（ｄ，3H，【式】） 1.4〜1.9（ｍ，8T，シクロペンチル基の−
（CH2）4−） 3.30（ｓ，3H，−OCＨ 3） 3.50（ｓ，2H，【式】） 4.20（ｓ，2H，【式】） 4.30（ｓ，2H，【式】） 4.70（ｍ，1H，【式】） 5.05（ｍ，1H，【式】） 5.00（ｄ，1H，Ｊ＝５Hz，【式】） 5.70（br.s，2H，NH2） 5.90（ｑ，1H，Ｊ＝5.0Hz，Ｊ＝10.0Hz） 6.76（ｓ，1H，【式】） 6.87（ｍ，1H，【式】） 7.55（ｄ，1H，Ｊ＝10Hz，アミドプロト
ン） 〔実施例 25〕 １−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキ
シイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフエム−４−カルボキシレート 実施例２と同様の方法により７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）エチルヨーダイドとから表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.0〜2.0（13H，ｍ，シクロヘキサン環プロ
トンおよびＣ−CH3） 3.28（3H，ｓ，OCH3） 3.51（2H，br.s，２位プロトン） 4.2〜5.0（7H，ｍ，【式】３位 CH2および FCH2CH2O） 5.88（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝5.8Hz，７位プロト
ン） 6.20（2H，br.s，NH2） 6.70（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 6.85（1H，ｍ，【式】） 7.90（1H，２つのｄ，Ｊ＝８Hz，アミドプ
ロ トン） 〔実施例 26〕 １−メチル−１−シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル ７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチル
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−メトキシ
メチル−３−セフエム−４−カルボキシレート 実施例２と同様の方法により７−〔２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−（２−フ
ルオロエチルオキシイミノ）アセトアミド〕−３
−メトキシメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸と１−メチルシクロペンタンカルボニルオキシ
メチルヨーダイドとから表題化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 1.25（3H，ｓ，Ｃ−CH3） 1.2〜2.3（8H，ｍ，シクロペンタン環プロ
トン） 3.27（3H，ｓ，OCH3） 3.50（2H，br.s，２位プロトン） 4.1−5.0（6H，ｍ，３位CH2および
FCH2CH2O） 5.0（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６位プロトン） 6.80（2H，ｓ，NH2） 6.83（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz，７位プ
ロトン） 6.76（1H，ｓ，チアゾール環プロトン） 7.67（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，アミドプロト
ン） 〔実施例 27〕 １−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチ
ル ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイ
ミノ）アセトアミド〕−３−メトキシメチル−
３−セフエム−４−カルボキシレート ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−（Ｚ）−２−（２−フルオロエチルオキシイミノ）
アセトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸にジメチルアセトアミド
中、ジエチルアニリンの存在下に、１−ブロモエ
チル シクロヘキサンカルボキシレートを実施例
２と同様に作用させ、生成物をカラムクロマトグ
ラフイー処理して表記化合物を得た。 NMRスペクトル（CDCl3，δppn） 0.9〜2.9（14H，ｍ，シクロヘキシル基のＨ
および【式】） 3.31（3H，ｓ，OCH3） 3.52（2H，ｓ，２位のCH2） 4.21（2H，ｓ，【式】） 4.29（2H，ｓ，Ｏ−CH2−） 4.5〜4.8（1H，ｍ，【式】） 4.9〜5.2（1H，ｍ，【式】） 5.01（1H，ｄ，Ｊ＝5.4Hz，６位のＨ） 5.4−6.0（2H，br.s，NH2） 6.79（1H，ｓ，チアゾール環のＨ） 7.03および7.12（1H，ｑ×２，
【式】） 7.59（1H，ｄ，Ｊ＝10Hz，CONＨ−）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基またはアシルオキシ基を
有していてもよい低級アルキル基を示し、R2は
低級アルコキシメチル基を示し、Ｙは式
【式】基（式中、R3は水素原子また はメチル基を示し、R4は低級アルキル基、低級
アルキル基を有していてもよい低級シクロアルキ
ル基、低級アルコキシ基または低級アルキル基を
有していてもよい低級シクロアルコキシ基を示
す。）を示す。但し、R1が低級アルキル基を表わ
す場合には、R4は低級アルキル基を有していて
もよい低級シクロアルキル基または低級アルキル
基を有していてもよい低級シクロアルコキシ基を
示す。〕を有するセフアロスポリン化合物（シン
異性体）およびその薬学的に許容し得る酸付加
塩。 ２ R1がメチル基、エチル基、シアノメチル基、
２−シアノエチル基、２−フルオロエチル基、
２，２，２−トリフルオロエチル基、２−フルオ
ロプロピル基、３−フルオロプロピル基、１−メ
チル−２−フルオロエチル基、１，３−ジフルオ
ロ−２−プロピル基、２−オキソプロピル基、３
−オキソブチル基、２−ヒドロキシエチル基、２
−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、２−アセトキシエチル基、３−アセトキシ
プロピル基、２−プロピオニルオキシエチル基、
２−ラウロイルオキシエチル基、２−パルミトイ
ルオキシエチル基または２−ベンゾイルオキシエ
チル基であり、R2がメトキシメチル基であり、
Ｙが式−CH2OCOC（CH3）3基、式
【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基であり、但し、R1が メチル基またはエチル基を表わす場合には、Ｙが
式【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基、式 【式】基または式 【式】基を示す特許請求の範 囲第１項記載の化合物。 ３ 一般式 〔式中、R2は低級アルコキシメチル基を示し、
Ｙは式【式】基（式中、R3は水素原 子またはメチル基を示し、R4は低級アルキル基、
低級アルキル基を有していてもよい低級シクロア
ルキル基、低級アルコキシ基または低級アルキル
基を有していてもよい低級シクロアルコキシ基を
示す。）を示す。〕 を有する化合物を、一般式 （式中、R5は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基、保護された水酸基また
はアシルオキシ基を有していてもよい低級アルキ
ル基を示し、R6はアミノ基または保護されたア
ミノ基を示す。） を有するカルボン酸またはその反応性誘導体を反
応させ、一般式 （式中、R2，R5，R6およびＹは前述したもの
と同意義を有す。但し、R5が低級アルキル基を
表わす場合には、前述したＹにおけるR4は低級
アルキル基を有していてもよい低級シクロアルキ
ル基または低級アルキル基を有していてもよい低
級シクロアルコキシ基を示す。） を有する化合物を製造し、R5が保護された水酸
基で置換された低級アルキル基、R6が保護され
たアミノ基である場合にはそれらの保護基を除去
することを特徴とする一般式 （式中、R1は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基またはアシルオキシ基を
有していてもよい低級アルキル基を示し、R2お
よびＹは前述したものと同意義を有す。） を有するセフアロスポリン化合物（シン異性体）
およびその薬学的に許容し得る酸付加塩の製法。 ４ 一般式 （式中、R2は低級アルコキシメチル基を示し、
R5は置換基としてシアノ基、フツ素原子、オキ
ソ基、水酸基、保護された水酸基またはアシルオ
キシ基を有していてもよい低級アルキル基を示
し、R6はアミノ基または保護されたアミノ基を
示す。） を有するカルボン酸化合物またはその反応性誘導
体を、一般式 （式中、R3は水素原子またはメチル基を示し、
R4は低級アルキル基、低級アルキル基を有して
いてもよい低級シクロアルキル基、低級アルコキ
シ基または低級アルキル基を有していてもよい低
級シクロアルコキシ基を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す。） を有する化合物と反応させ、一般式 （式中、R2，R5，R6およびＹは前述したもの
と同意義を有す。但し、R5が低級アルキル基を
表わす場合には、前述したＹにおけるR4は低級
アルキル基を有していてもよい低級シクロアルキ
ル基または低級アルキル基を有していてもよい低
級シクロアルコキシ基を示す。） を有する化合物を製造し、R5が保護された水酸
基で置換された低級アルキル基、R6が保護され
たアミノ基である場合にはそれらの保護基を除去
することを特徴とする一般式 （式中、R1は置換基としてシアノ基、フツ素
原子、オキソ基、水酸基またはアシルオキシ基を
有していてもよい低級アルキル基を示し、R2お
よびＹは前述したものと同意義を有す。） を有するセフアロスポリン化合物（シン異性体）
およびその薬学的に許容し得る酸付加塩の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4866982A JPS58167594A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 経口用セフアロスポリン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4866982A JPS58167594A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 経口用セフアロスポリン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58167594A JPS58167594A (ja) | 1983-10-03 |
| JPH0322392B2 true JPH0322392B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=12809731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4866982A Granted JPS58167594A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 経口用セフアロスポリン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58167594A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60218394A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-01 | Takeda Chem Ind Ltd | セフアロスポリンエステル誘導体 |
| GB8427807D0 (en) * | 1984-11-02 | 1984-12-12 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin antibotics |
| DK500285A (da) * | 1984-11-02 | 1986-05-03 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporinantibiotika |
| JPH0717655B2 (ja) * | 1987-05-27 | 1995-03-01 | 三共株式会社 | 経口用セフアロスポリン化合物 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5585594A (en) * | 1978-11-13 | 1980-06-27 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Cephem compound and their preparation |
| FR2461713A1 (fr) * | 1979-07-19 | 1981-02-06 | Roussel Uclaf | Nouvelles alcoyloximes substituees derivees de l'acide 7-(2-amino 4-thiazolyl) acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
-
1982
- 1982-03-26 JP JP4866982A patent/JPS58167594A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58167594A (ja) | 1983-10-03 |
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