JPH03224790A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

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JPH03224790A
JPH03224790A JP2020805A JP2080590A JPH03224790A JP H03224790 A JPH03224790 A JP H03224790A JP 2020805 A JP2020805 A JP 2020805A JP 2080590 A JP2080590 A JP 2080590A JP H03224790 A JPH03224790 A JP H03224790A
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JP
Japan
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laser beam
recording layer
phase
recording
amorphous
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JP2020805A
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Katsumi Suzuki
克己 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、レーザビーム等の光ビームがその照射条件を
変えて交互に照射されることにより結晶相と非晶質相が
所定の幅で交互に可逆的に形成される記録層を有し、こ
の記録層に形成された異なる相をそれぞれ透過する光信
号の強度の違いから記録層に記録された情報を読み取る
ことができる情報記録媒体に関する。
(従来の技術) 従来から、情報を高密度に記憶でき且つ随時情報の消去
書き込みが可能な光デイスク材料として光の透過率が固
体の相に依存する相変化型のものが知られている。
この相変化型の材料はレーザビームをその照射条件、例
えば照射エネルギー、照射強度、あるいは照射時間を変
え照射すると、照射された部分が相異なる相の間で可逆
的に変化するものである。
上記の相変化型の材料としては、例えばテルル(Te)
、ゲルマニウム(Ge)、これらの化合物であるT e
 G e、インジウム(In)とセレン(Se)の化合
物であるInSe、アンチモン(Sb)とセレンの化合
物である5bSe、あるいはアンチモンとテルルの化合
物である5bTe等の半導体、半導体化合物、あるいは
金属間化合物が知られている。
上記材料は、レーザビームの照射を受けると、その照射
条件に応じて結晶相あるいは非晶質相の2つの状態のい
づれかを形成するもので、上記2つの状態は複素屈折率
N=n(1−ik)(ここで、nは屈折率、kは吸収指
数)が相違する。即ち、相に応じて屈折率Hのみならず
吸収指数には異なる値を示すので、上記材料に入射する
光は異なる透過率を示す。
それで、上記特質を持つ材料を情報の消去、書き込み可
能な光メモリとして用いる着想は、S。
ROVShinSkV等によって提案されている(He
tallurgical rransactrons 
2.641(1971) )。
この提案によれば、上記材料からなる記録層を挟み込ん
だディスクを回転させながら照射条件を変えたレーザビ
ームを上記ディスクに交互に照射し、結晶相及び非晶質
相が交互に配列してなる所定の相パターンを可逆的に形
成する。次いで照射エネルギーの小さい再生用レーザビ
ームが上記結晶相及び非晶質相に順次照射される。この
照射された再生用レーザビームは上記結晶相あるいは非
晶質相のいずれかを交互に透過後後力に適宜設けられた
反射層で反射され、次いで反射された再生用レーザビー
ムは再生信号として適宜の光電変換器で変換され、相に
応じた透過率の違いから相状態を判別することにより上
記相パターンからなる情報を再生するものである。
さらに詳しくは、上記材料からなる記録層に情報を記録
する場合、記録層にその融点を超える温度に加熱可能な
高パワーで且つパルス幅の短いし〜ザビームが照射され
、次いで照射部分が溶融急冷され、非晶質相からなる記
録マークが形成される。また、記録層に記録された情報
を消去する場合、記録層材料の結晶化温度を超える程度
の温度(融点よりも低い温度)に加熱可能なパワーで且
つ比較的パルス幅の長いレーザビームが照射され、次い
で照射部分が徐冷され、非晶質相は結晶相に変化する。
即ち、記録マークが消去される。
このような情報の記録、消去においては、照射部分を溶
融急冷し非晶質化するための円形スポットのレーザビー
ムと、照射部分を徐冷結晶化するための長楕円形スポッ
トのレーザビームとを互いに独立に用いる2ビ一ム方式
が採用されている。
しかしながら、上記の2ビ一ム方式ではレーザビームを
照射するための光学系が複雑となる。特に、記録層が挟
み込まれたディスクの回転に合わせ、非晶質相と結晶相
が交互に並べられてなるディスク内のスパイラル状のト
ラックに長楕円形スポットのレーザビームを追従させる
ことは困難であり、複雑なサーボ機構が必要となる。
そこで、情報の記録、消去とを1つのレーザビームで行
う1ビ一ム方式の研究が行われている。
この1ビ一ム方式においては、ディスク内のトラックに
追従させるレーザビーム源は単一であるので、記録層に
既に記録されている情報を消去し、次いで新しい情報を
書き込むオーバライドを容易に行うことができる。
即ち、単一のレーザビーム源から照射される1つのレー
ザビームを2段階のパワーレベル、つまり消去用レーザ
ビームのパワーレベルPeあるいは記録用レーザビーム
のパワーレベルPw(Pe< P w )にパワー変調
し、既に情報が記録されている記録層に上記の2種のレ
ーザビームを所定の幅で交互に照射し、古い情報を消去
すると同時に新しい情報を重ね書きするものである。
このように1ビームのレーザでオーバライドを行う方式
は1ビ一ムオーバライド方式と称され、上述しな2ビ一
ム方式の欠点である複雑なサーボ機構の必要性が無く、
レーザビームの位置設定が容易である。
しかしながら、1ビ一ムオーバライド方式を相変化型記
録層に適用する場合、他の困難性を伴うことになる。
即ち、非晶質相及び結晶相からなる相パターンを形成す
べきディスクの回転速度は一定であるので、所定間隔を
おいて非晶質相あるいは結晶相を形成するべく記録層に
照射されたレーザビーム熱が放出される時間はディスク
が上記所定間隔を移動する時間になる。換言すれば、レ
ーザビーム熱の放出時間は形成される相に依存せず、レ
ーザビームが照射される記録層部分が非晶質相になるか
結晶相になるかは照射されるレーザビームのパワの大き
さのみで決まる。
従って、非晶質化と同程度の短い時間で結晶化を行わな
ければならないので、情報の消去において徐冷に充分な
時間をかけて結晶化を行うことができない。
また、情報を記録する場合、非晶質相からなる記録マー
クが形成されるべき部分の端部を非晶質相に変化させる
のは困難である。その理由は、上記非晶質相形成直前に
結晶相を形成すべく照射された消去用レーザビームによ
って記録層に与えられた熱の一部が放熱されること無く
残っており、この余熱により上記記録マークが形成され
るべき部分の端部の急冷が損なわれるからである。
従って、非晶質相と結晶相を所定の幅で交互に形成する
ことができなくなり、誤った情報が読み取られる原因に
なる。
そこで近年、上述の1ビ一ムオーバライド方式を相変化
型記録層に適用することが可能な材料として、インジウ
ム(In)、アンチモン(sb>、及びテルル(Te)
からなる合金が注目されている。この合金は組成を適正
に選ぶことにより1ビムオ一バライト方式の適用が可能
である。
本願発明者の実験によれば化合物InSbにテルルを2
0乃至45原子%添加してなる合金、換言すればX原子
%のTe及び50−2/X原子%のIn並びに50−2
/X原千%のsbからなるI n 50−X/2S b
 50−X/2T e x  (ただし、20≦X≦4
5の範囲内である。)で表される組成を有する合金材料
を記録層として用いることにより、化合物I nSbの
速やかに結晶化する特性(以下、高速結晶化特性と呼称
する。)を生がしつつ、テルルの容易に非晶質化する特
性(以下、非晶質化容易特性と呼称する。)を得ること
ができる。つまり、1ビ一ムオーバライド方式における
問題点である短時間に結晶化する必要性、及び急冷する
こと無く非晶質化する必要性を克服することができる。
また、上記非晶質化容易特性により容易に非晶質化する
ので、最も高いパワーを必要とする記録用レーザビーム
のパワーを滅しても非晶質化が可能である。それで、光
学系を小形化でき、経済的であり、且つ取扱いが容易に
なる。
しかしながら、上記のI n qo−X/2S b 5
o−X/2Texからなる記録層は合金であるがため原
子間の結合力が弱く組成の安定性に問題がある。オーバ
ライド操作において記録層の溶融及び急冷を繰り返した
場合、オーバライドされた部分の合金組成が徐々に変化
、即ち偏析し、ついには上記高速結晶化特性及び非晶質
化容易特性が劣化してしまうという問題点があった。
一方、組成が安定した化合物としてIn3SbTe、が
1ビ一ムオーバライド方式を適用する場合における記録
層の材料として考えられている。
つまり、InvSbTezを記録層材として用い一消去
用レーザビームを照射した場合、極めて早く結晶相が形
成される。
その理由は、I n35bTe2の結晶相は熱的に極め
て安定であるからである。
また、In35bTe2は化合物であるため、オーバラ
イド操作を繰り返しても組成は変化しないので、上記の
高速結晶化特性は劣化しない。
しかしながら、I n3 S bTe 2は化合物であ
るがゆえに、原子間の結合力が強く結晶相が安定である
反面、非晶質化しにくいという性質を有している。
即ち、オーバライド時に記録用レーザビームのパワーが
消去用レーザビームのパワーに比べて充分に大きくない
と、In1SbTe2が融点を越えた温度に達し溶融し
ても非晶質化すべき部分の周囲は既に照射された消去用
レーザビームの余熱により高i晶になっているので、I
n1SbTe2は急冷することができず非晶質化しない
という欠点がある。
従って、化合物rn55bTe2を記録層材とした光デ
ィスクでは消去用レーザビームのパワーとして8 m 
W程度で済むのに反し、記録用レーザビームのパワーと
してディスク面換算で22乃至25mW必要であり、極
めて高いパワーとなる。
これは、エネルギー消費が大きいのみならず、光学系は
大形化して非常に不経済であり、かつ取扱いが面倒なも
のになる。
(発明が解決しようとする課題) 上記の如く、2ビ一ム方式で記録層にレーザビームを照
射し非晶質相及び結晶相を形成する場合、所望の相を得
ることができるが、レーザビームの照射位置を決めるに
は複雑なサーボ機構が必要となるという問題点があった
そこで、1ビ一ムオーバライド方式を適用した場合、上
記サーボ機構が簡略化されるものの非晶質化と同程度の
短い時間で結晶化を行わなければならない、また、非晶
質相からなる記録マークの端部を非晶質相に変化させる
のは難しい。
それで結局、誤った情報が読み取られる原因になるとい
う問題があった。
この問題を解決すべく、高速結晶化特性及び非晶質化容
易特性が良好なIns。−X/2Sb5゜−x7□Te
xを記録層の材料に適′用することが考えられたが、合
金であるためオーツ(ライト操作において記録層の溶融
及び急冷を繰り返した場合、上記材料は偏析し上記特性
が劣化するという問題があった。
一方、化合物であるIn3SbTe2を記録層に用いた
場合、In3SbTezが有する高速結晶化特性はオー
バライド操作を繰り返しても劣化しないが、非晶質化が
難しく、記録用レーザビムのパワーを大きくしなければ
ならない。
そこで、本発明は上記従来技術の問題点を解消するもの
で、その目的とするところは、複雑なサーボ機構を必要
とすることなく、また要求するレザビームパワーが比較
的小さく、高速結晶化特性及び非晶質化容易特性に代表
されるオーバライド特性が良好であり、且つオーバライ
ド操作の繰り返しを行っても上記オーバライド特性の劣
化が生じない情報記録媒体を提供することである。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記課題を解決するための本発明は、基板と、該基板上
に設けられ光ビームの照射を受けたときその照射エネル
ギーの条件に応じて結晶相と非晶質相との間で可逆的に
相変化する記録層から構成される情報記録媒体において
、前記記録層は、■n3SbTe2とI n 5o−x
ziS b 50−X/2T e x(式中Xは25≦
X≦45とする)との合金((I n S b > +
11)O−Yl/200 TeY/1001100−2
(In35bTe、)z (式中Y、Zは25≦Y≦4
5かつ0≦Z≦70、及び30≦Y≦40かつ70〈Z
≦80とする)と同一の組成である3元合金からなるこ
とを特徴とする。
、作用) 本発明の情報記録媒体では、記録層はインジウム、アン
チモン、及びテルルを上述した組成比、即ち((I n
Sb > 1100−Yl/200 TeY/loo 
) 10o−z  (I nm 5bTe2)z  (
式中Y、Zは25≦Y≦45かつ0≦Z≦70、及び3
0≦Y≦40かつ70〈Z≦80とする)とした3元合
金からなるので、I n 5o−x72s b 50−
X/2Te Xが有する速やかに結晶化する特性及び容
易に非晶質化する特性、並びにIn1SbTe2が有す
る速やかに結晶化する特性が生かされる。
また、In1SbTe2は安定な組成であるので、オー
バライド操作において記録層の溶融及び急冷を繰り返し
ても記録層を構成する3元合金の組成変化は無い。
その理由は、組成が安定なIn3SbTe2が合金I 
n 50−X/2S b 、o−x/2T e xの間
に入り込んでいるため、オーバライド時に記録層を溶融
してもこの記録層を構成する合金In、。−X/2S 
b S。−8/2Tcxは該合金I n 50−X/2
S b qo−xi2T e xの構成原子を他の合金
I n 5o−X/2S b 50−X/2T e x
の原子と交換することを損なわれ、偏析を生ずることが
ないからである。
従って、随時オーバライドのため条件の異なる光ビーム
を交互に記録層に照射し結晶相及び非晶質相を所定の幅
で交互に可逆的に形成しても、各相の複素屈折率N=n
(1−ik>(ここで、nは屈折率、kは吸収指数)は
常に安定な一定値を示す。即ち、各相の光に対する吸収
率は一定である。
これは、上記各相をそれぞれ通過する光信号の透過率は
常に一定であることを意味する。それで、記録層に入射
した光信号の透過率の違いから記録層に形成された相パ
ターンを常に正確に読み取ることができる。
(実施例) 以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例に係わる情報記録媒体の断面
図である。
図示するように、本実施例の情報記録媒体は記録用及び
消去用レーザビーム並びに情報再生用レーザビームを透
過する基板1と、該基板1上に設けられ熱的に安定な保
護層2と、該保護層2上に設けられ情報を記録する記録
層3と、該記録層3上に設けられ保護層2と共に記録層
3を密封して保護する保護層4と、該保護層4上に積層
され情報再生用レーザビームを反射する反射層5と、該
反射層5上に設けられた樹脂層6から構成される。
ここで、基板1は、経時変化が少ない材料であるポリカ
ーボネイト製の直径5インチのディスク状基板である。
記録層3は、インジウム(In)及びアンチモン(Sb
)並びにテルル(Te)の3元合金を20OAの厚みに
形成したものであり、かつ化合物In35bTe2と、
テルルがX原子%及びインジウムが50−2/X原千%
並びにアンチモンが50−2/X原子%の合金I n 
50−X/2S b 5o−X/2Tex (ただし、
Xは原子%で表されており、20≦X≦45の範囲内で
ある。)とが後述するように所定の割合からなる組成と
同一の組成を有する。上記3元合金からなる記録層3は
所定のパワーレベルを有する記録用レーザビームの照射
を受けると融点(500乃至600°C)を越える温度
に加熱され、次いで保護層2.4にレーザビーム熱が放
出され非晶質化し、非晶質相7を形成するものである。
また、記録層3は所定のパワーレベルを有する消去用レ
ーザビームの照射を受けると結晶化温度を越える程度の
温度に加熱され、次いで保護層2.4にレーザビーム熱
が放出され結晶化し、結晶相8を形成するものである。
保護層2.4は、酸化アルミニウム(A120、)の結
晶からなる1000人厚みの誘電体であり、熱的に安定
(M点は1300°C程度である。)であると共に、レ
ーザビームに対し透明であり該保護層2.4に挟まれた
記録層3を保護するものである。即ち、保護層2.4は
記録層3を熱的に安定した物質で密封することにより、
記録用あるいは消去用レーザビームが記録層3に照射さ
れ、照射された部分が蒸発したとき空洞部が形成される
のを防ぐ、また、保護J12.4は上記レーザビームの
照射で熱せられた記録層3が融点あるいは結晶化温度を
越える程度に昇温すると共に、放熱して非晶質相あるい
は結晶相を形成する程度の熱伝導度を有し、昇温した記
録層3から熱を適度に吸収する。さらに、波長830n
mの半導体レーザからなる記録再生用レーザビームが記
録層3に照射された後、記録層3及び反射層5でそれぞ
れ反射されて基板1から出射されたとき、保護層4はこ
の保護層4を透過する一方のレーザビーム、即ち反射層
5で反射したレーザビームのみに光学的伝播距離を与え
、出射する上記2つのレーザビームに干渉を生じせしめ
てエンハンスし、このレーザビームの強度測定を容易な
らしめる。
反射層5は本実施例では1000人の厚みを有する金(
A u )の薄膜からなる。
樹脂層6は10μmの厚みを有する紫外線硬化樹脂から
形成され、表面に傷などが発生するのを防止している。
次に、上記構成を有する情報記録媒体の製造方法につい
て説明する。
まず、ディスク状の基板1を酸化アルミニウム(A l
 x O,)などのターゲットを有するスパッタリング
装置の真空チャンバ内に設置し、次いでチャンバ内を適
宜の真空装置を用いて高真空にする。
次に、チャンバ内にアルゴンガスを導入し、このアルゴ
ンガスで上記酸化アルミニウムのターゲットをラジオフ
リークエンシーパワー(以下、R1F、パワーと称する
。)を投入してスパッタリングし基板1上に保護層2を
形成する。
次に、チャンバ内をアルゴンガス雰囲気に維持した状態
で、化合物1n3SbTe2及び合金■n 50−X/
2S b 5o−X/2T e x  (ただし、Xは
原子%で表されており、25≦X≦45の範囲内である
)の各ターゲットを同時にアルゴンガスでスパッタリン
グし記録層3を成膜する。
ここで、上記操作でスパッタリングされる各ターゲット
のスパッタリング量は予め調製されており、後述する所
望の組成からなる記録層3を得ることができる。
なお、上記各ターゲットを交互にスパッタリングしても
良い。
また、ターゲットとなる化合物あるいは合金はスパッタ
リング時には原子単位で保護層2上に蒸着されるので、
インジウム(In)及びアンチモン(Sb)並びにテル
ル(Te)を各々別のタゲットとして同時にスパッタリ
ングしても同じ事である。
次に、保護層2と同様に保護層4を形成する。
次いで、金(Au)のターゲットにR,F、パワーを投
入してスパッタリングし反射層5を積層する。
最後に、上記操作で得られたディスクをスパッタリング
装置から取り出し、次いでスピナーにセットし、紫外線
硬化樹脂をスピンコードした後紫外線を照射して硬化さ
せ、樹脂層6を形成する。
以上説明した情報記録媒体の製造方法を用い、第2図に
示される本実施例における情報記録媒体の記録層材の組
成範囲9内でサンプルA群乃至サンプルC群からなる5
1枚のディスクサンプルを作成した。
サンプルA群 ; ((I n S b ) o、9.yzT e o、4
sl too−z(In3SbTe2)z z=0.10.20.30.40.50.60.70.
80.90.100原子% サンプル8群 ; ((Insb)o、boyxT e (1,411+ 
too−Z(In3SbTe2 )z 2=0、10.20.30.40.50.60.70.
80.90原子% サンプルC群 ; ((I n S b ) o、6.yzT e o、、
q) too−Z(Int 5bTe、)z 2=0.10.20.30.40.50.60.70.
80.90原子% サンプル0群 ; ((I n S b ) 0.70/2T e 0.3
0) Zoo−Z(Irz 5bTe、)z 2=0.10.20.30.40.50.60.70.
80.90原子% サンプルC群 ; ((I n S b ) o、tqyxT e o、z
、l too−Z(In3SbTe2)z z=0.10.20.30.40.50.60.70.
80.90原子% 即ち、サンプルA群ではI n 、o−xyzs b 
50−X/2TexとしてX=45原千%の化合物を用
いた。
また同様に、サンプル8群ではX=40原千%、サンプ
ルC群ではX−35原子%、サンプル0群ではX=30
原子%、サンプルC群ではX=25原子%原子台物を用
いた。
次に、このようにして得られた情報記録媒体の初期化、
情報のオーバライド、及び情報の再生について説明する
記録層3はスパッタリングで成膜され基板1上に堆積す
るとき急冷されるので非晶質相になる。
それで、所定の幅からなる非晶質相の記録マークを形成
するため、記録層3を全て結晶相に相変化しなければな
らない、これが情報記録媒体の初期化である。
本実施例では、前述した製造方法で作成されたディスク
サンプルを1800 r、p、tで回転させ、記録層面
におけるパワーが14mWでかつ連続発光す、るレーザ
光を記録層のスパイラル状になった所定のトラックに照
射し、上記初期化を行った。
ここで、スパッタリングで基板1上に成膜された非晶質
相は熱的に非常に安定であるので、特にパワーが大きい
14mWの記録用レーザビームを用いた。また、記録層
の結晶化を完全に行うなめ、同一トラックを3回レーザ
光で照射した。
初期化が終了した後、上記トラックに沿って非晶質相及
び結晶相が所定の幅で交互に配列されてなる相パターン
を形成し、この相パターンを読み取ることにより情報を
得ることができる。上記相パターンの形成が情報のオー
バライドである。
本実施例では、第3図に示すようにパワーレベルが最も
高いPw=14mWである記録用レーザビームと、この
記録用レーザビームよりも低いパワーレベルPH=:3
mWである消去用レーザビームとを用いた。つ丈り、4
MH2あるいは5M)(2周波数に相当する周期、即ち
周波数の逆数からなる周期で上記2種のレーザビームを
等しい時間間隔で切り替え、次いでこれらのレーザビー
ムを記録層のトラックに照射し上記オーバライドを行っ
た。
即ち、ディスクは所定速度で回転しているので、例えば
記録用レーザビームの照射を受けた部分は非晶質相にな
り記録マークが形成される0次いで、レーザビームの上
記切り替え周期経過後消去用レーザビームの照射に切り
替えられたときには、上記非晶質相部は移動し、新たな
被照射部が消去用レーザビームの照射を受は結晶相とな
る。このようにして、非晶質相及び結晶相がレーザビー
ムの切り替え周期に対応した所定の幅で交互に配列され
てなる相パターンが形成される。
なお、最初のオーバライド時は初期化が既になされ、記
録層は結晶相化しているので消去用レーザビームを用い
る必要はなく、記録用レーザビムのみを断続的に照射す
れば良い。
また、パワーレベルの切り替えは等間隔であるので、デ
ユーティ比は50%である。
オーバライドの終了後、記録層3を照射しても相変化を
生じせしめない程度に照射エネルギーの小さい再生用し
′−ザビームで記録層3を照射し、次いで非晶質相及び
結晶相をそれぞれ交互に透過する上記レーザビ一ムのエ
ネルギー強度の違いを測定し相パターンを読み取る。こ
の非晶質相及び結晶相が所定の幅で交互に配列してなる
相バタンは2進符号系列からなるデータとみなすことが
でき、このデータを記録層に書き込まれた情報として得
る。これが情報の再生である。
本実施例では、再生用レーザビームとして0゜8mWの
パワーレベルを有する半導体レーザビーム(波長830
nm)を用いた。即ち、上記レーザビームを基板1から
保護層2.4及び記録層3に入射し、記録層3及び反射
層うで反射したレザビームを再び記録層3及び保護層2
.4を透過させ、基板1から出射した反射光を光電変換
素子て検出した。検出された反射光は再生信号としてA
/D変換され、スペクトロアナライザにて上記サンプル
A群乃至サンプルE群の各ディスクサンプルごとに周波
数分布が測定された。
即ち、非晶質相あるいは結晶相を透過した再生信号は、
上記各相が4MHzあるいは5MHz周波数でレーザビ
ームパワーを切り替えて形成されたものであるので、各
相のレーザに対する特有の透過率に基づきエネルギー強
度が変動し、その変動周期はレーザビームパワーの切り
替え周期に一致する。略言すれば、再生信号は4MHz
あるいは5MHzの周波数になる。
次いで、測定された周波数分布からC/N値を算出し、
各ディスクサンプルの記録層に記録された情報を再生し
た。
ここで、C/N値は様々な周波数からなる雑音の大きさ
に対する特定周波数(4MHzあるいは5MHz)から
なる再生信号の大きさの比であり、対数化したデシベル
(dB)単位で表現される。
第4図(A)乃至第4図(E)に測定されたC/N値、
及びこのC/N値から定まる消去度を用いディスクサン
プルの特性評価をした結果をサンプル群ごとに示す。
図において、横軸はI n 50−X/2S b 50
−X/2T e8とI n35bTezとの合金組成と
同一の組成を示し、横軸の左端はIn3SbTe2のみ
の組成に対応し、横軸の右端はIn、。−x7zsbs
。−X/2TeXのみの組成に対応する。また、左側の
縦軸はC/N値を示し各データを実線で結んだ折れ線に
対応し、右側の縦軸は消去度を示し各データを破線で結
んだ折れ線に対応する。
ここで消去度は以下のように定義される。即ち、初期化
後4MHz周波数の記録用レーザビームで第1回目の記
録を行い、第5図(A)に示すように得られた再生信号
10のC/N値が例えばAであり、次いで5MHz周波
数の記録用及び消去用レーザビームを用い相パターンを
変えてオーバライドしなとき、第5図(B)に示すよう
に前回の再生信号が完全に消去されずに残った消去残り
信号11のC/N値が例えばBであった場合、再生信号
10の大きさに対する消去残り信号11の大きさの比を
対数化して得られるB−Aの値が消去度である。
また、第5図(B)に上記オーバライドで新しく書き込
まれた情報に対応する再生信号12のC/N値Cが示さ
れ、このC/N値Cが第4図に表示されている。
第4図に戻って、全てのサンプル群において、In1S
bTe、の組成に近づくに従ってC/N値が減少し消去
度は零値に近づく傾向が示されている。これは、明瞭な
再生信号が得られなくなると共に、誤信号を拾ってしま
う可能性が大きくなることを意味する。
このような傾向になる理由は、従来技術で説明したよう
に、In3SbTe2の化合物を非晶質化するためには
記録用レーザビームとして22乃至25mWのパワーが
必要であるにもかかわらず、本実施例ではPw=14m
Wの記録用レーザビームを用いたからである。つまり、
記録用レーザビムが記録層に照射されたにもかかわらず
結晶相が形成され、非晶質相と結晶相の相パターンが崩
れ、この相パターンを読み取った再生信号の周波数はレ
ーザビームのパワー切り替え周期と異なるものになり、
4MHzあるいは5MHzの周波数からなる再生信号の
C/′N値は劣化する。また、C/N値Aの劣化により
消去度B−Aも劣化したからである。
しかしながら、合金I n 5o−X/2S b 5o
−X/2T e8の影響が寄与する領域、即ち上記合金
が70原子%以上あるいは80原子%以上を占める組成
領域では、合金I n !11−X/2S b 5o−
xyxT e xが有する高速結晶化特性及び非晶質化
容易特性が生かされ、C/N値及び消去度は優れた値を
示す、即ち、C/N値は35dB以上の値を示し、消去
度は一20dB以下の値を示し、明瞭な再生信号が得ら
れると共に、誤信号を拾う可能性は大幅に減少する。
次に、全てのサンプル群に対し4MHz周波数の記録用
及び消去用レーザビーム、及び5MHz周波数の記録用
及び消去用レーザビームを交互に用いてオーバライドを
多数回繰り返したときの結果を第6図に示す。
即ち、第6図に第2図に示す情報記録媒体の記録層材の
組成範囲9を抜き出し拡大して示すように、51枚のデ
ィスクサンプルが有する組成に対応する位置にC/N値
の特性評価の結果を示した。
例えば、10万回以上のオーバライドの繰り返しにおい
てもC/N値を45dB以上維持したディスクサンプル
には、その組成位置に優良を示す記号◎を、上記と同条
件でC/N値を35dB以上維持したディスクサンプル
には良を示す記号○を、1000回乃至1万回のオーバ
ライドを繰り返すまでC/N値を35dB以上維持した
ディスクサンプルには可を示す記号・を、最初のオーバ
ライドでC/N値が35dB以下になってしまったディ
スクサンプルには不可を示す記号ムを記した。
第6図に示すようにオーバライドを多数回繰り返した場
合の特性評価、及び第4図に示した最初のオーバライド
後のC/N値並びに消去度を考慮しての特性評価を考え
合わせると、合金In5゜−8/2S b 50−X/
2Te X  (ただし、Xは原子%で表されており、
25≦X≦45の範囲内である。)に化合物In1Sb
Te2を零乃至70原子%添加した合金((I n S
 b ) +tao−n/zoo Te Y/1011
 )roo−z  (I n55bTez ) z  
(ただし、Y、Zは原子%で表されており、25≦Y≦
45かつ0≦Z≦70、及び30≦Y≦40かつ70〈
Z≦80の範囲内である。)の組成と同一の組成を有す
るIn−9b−Teの3元合金の組成範囲では、消去度
及び多数回のオーバライド後のC/N値は優れた値を示
す。
即ち、C/N値は1000回乃至1T回のオーバライド
を繰り返すまで35dB以上を維持し、また消去度は一
20dB以下の値を示し、明瞭な再生信号が得られると
共に、誤信号を拾う可能性は大幅に減少する。
また、サンプル8群乃至サンプル0群において化合物I
n1SbTezが70乃至80原子%を占める組成領域
でも同様にC/N値及び消去度は優れた値を示す。
特に、サンプルA群及びサンプルE群で化合物In3S
bTe、が40原子%を占める組成領域、並びにサンプ
ル8群乃至サンプル0群で化合物In 5 S b T
 e xが20乃至60原子%占める組成範囲で10万
回以上のオーバライドの繰り返しを行ってもC/N値は
45dB以上を維持するので、1ビ一ムオーバライド方
式において相変化型の記録層の材料として適用するに、
非常に明瞭な再生信号を得ることができる。
このようにC/N値及び消去度が優れた値を示す理由は
、組成が安定な化合物I n3SbTe2が合金I n
 qo−xzzs b 5o−xizT e xの間に
入り込んでいるため、オーバライド時に合金Ins。−
X/jlS b 5o−xixT e xは該合金1 
n 5O−X/2S b ’30−X/2Texの構成
原子を他の合金I n ’to−X/2S b 50−
X、、TeXの原子と交換することを損なわれ、偏析を
生ずることがないからである。
従って、化合物In1SbTeiのみで、あるいは合金
I n 5o−xyxs b 5o−X/2T e x
  (ただし、Xは原子%で表されており、20≦X≦
45の範囲内である。)のみでは得られない優れた特性
、即ちオーバライドを繰り返しても常に安定して得られ
る高速結晶化特性及び非晶質化容易特性を、化合物In
3SbTe2と合金I n 80−X/2S b s。
x72T e、との合金組成と同一の組成に適宜調製す
ることにより得ることができる。
以上において、本実施例における情報記録媒体では保護
層2及び樹脂層6を設けたが必ずしも必要はない。
また、本実施例では情報記録媒体の特性評価のなめに、
4MHzあるいは5MHz周波数からなるレーザビーム
のパワーを切り替えることにより第4図に示されるレー
ザビームのパワーパターンを得、デユーティ比50%で
レーザビームを記録層に照射したが、レーザビームの周
波数及びパワーパターンは上記に限られること無く自在
に変えることができ、デユーティ比も同様に変えても良
い。
本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、適宜
の設計的変更により、適宜の態様で実施し得るものであ
る。
[発明の効果コ 以上説明したように本発明によれば、基板と、該基板上
に設けられ光ビームの照射を受けたときその照射エネル
ギーなどの照射条件に応じて結晶相若しくは非晶質相に
可逆的に相変化する記録層から構成される情報記録媒体
において、前記記録層は、In1SbTelとI n 
5o−xy2sb 50−X/2T e X  (式中
Xは20≦X≦45とする)との合金((I n S 
b ) +too−y+/zoo Te Y/100 
)1oo−z (I n35bTe2) z (式中Y
−Zは25≦Y≦45かつ0≦Z≦70、及び30≦Y
≦40かつ70<Z≦80とする)と同一の組成である
3元合金からなり、組成が安定なIn、SbT e 2
が合金I n 5o−xyxs b 5o−xixT 
e xの間に入り込んでいるので、オーバライド時に合
金In、。−X/2Sb5゜−x7□Texの構成原子
をに変えることを損なわれ、偏析を生ずることがないの
で、1ビ一ムオーバライド方式が適用でき複雑なサーボ
機構を必要とすること無(、また要求するレーザビーム
パワーも比較的小さく、高速結晶化特性及び非晶質化容
易特性に代表されるオーバライド特性が良好であり、か
っオーバライド操作の繰り返しを行っても上記オーバラ
イド特性の劣化が生じない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係わる情報記録媒体の断面
図を示し、 第2図は第1図に示した情報記録媒体の記録層の組成範
囲を示すIn−3b−Te組成図、第3図は消去用レー
ザビーム及び記録用レーザビームを交互に切り替えてな
るビームパワーのパタンに関する説明図、 第4図(A)乃至第4図(E)は作成したディスクサン
プルのC/N値及び消去度を示す特性図、第5図(A>
及び第5図(B)は消去度を説明するための再生信号表
示図、 第6図は第2図に示す組成範囲を拡大しオーバライドを
繰り返した場合のC/N値に関する特性評価の説明図で
ある。 1・・・基板       2.4・・・保護層3・・
・記録層      5・・・反射層6・・・樹脂層 
     7・・・非晶質相8・・・結晶相

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板と、該基板上に設けられ光ビームの照射を受けたと
    きその照射エネルギーの条件に応じて結晶相と非晶質相
    との間で可逆的に相変化する記録層から構成される情報
    記録媒体において、前記記録層は、In_3SbTe_
    2とIn_5_0_−_X_/_2Sb_5_0_−_
    X_/_2Te_X(式中Xは25≦X≦45とする)
    との合金{(InSb)_(_1_0_0_−Y_)_
    /_2_0_0Te_Y_/_1_0_0}_1_0_
    0_−_Z(In_3SbTe_2)_Z(式中Y、Z
    は25≦Y≦45かつ0≦Z≦70、及び30≦Y≦4
    0かつ70<Z≦80とする)と同一の組成である3元
    合金からなることを特徴とする情報記録媒体。
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