JPH0323652A - 半導体パターン構造 - Google Patents

半導体パターン構造

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Publication number
JPH0323652A
JPH0323652A JP15877489A JP15877489A JPH0323652A JP H0323652 A JPH0323652 A JP H0323652A JP 15877489 A JP15877489 A JP 15877489A JP 15877489 A JP15877489 A JP 15877489A JP H0323652 A JPH0323652 A JP H0323652A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
semiconductor pattern
signal
pattern structure
gate
Prior art date
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Pending
Application number
JP15877489A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Akiyama
秋山 義雄
Yuji Kihara
雄治 木原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0323652A publication Critical patent/JPH0323652A/ja
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はIC設計における、パターン設計構造に関す
るものである。
〔従来の技術〕
第3図は従来の半導体パターン構造の1例を示す平面図
である。図において(1)は慴源配絆、(21はGND
配線、《3》はトランジスタのゲート電極を構成するシ
リコンゲート、(4)はCMOS  構造時のP型及び
N型トランジスタを分離するウエル分離部、(Is)は
トランジスタの出力信号を伝達するたいの出力信号m、
(61はトランジスタのソース、ドレインヲ構成する拡
散層、αdはトランジスタのゲートへの信号を伝達する
信号紳である。
次に動作について説明する。信号締αOより,トランジ
スタのゲート電極であるゲートシリコン(3》に信号が
供給される。この時、P型及びNWトランジスタのゲー
トが一定の爾位となり、p 9J、Npnどちらかのト
ランジスタが′″ON’状態となり,ff源配線(1》
もしくはGND配線(21のどちらか1方より供給を受
け,出力信号糾(5)に一定常圧信号を供給する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の半導体パターン構造は以上0ように構成されてい
るので、信号締まりゲートシリコンに信号が伝わる時、
素材のもつ抵抗及び周辺との寄生容量により、信号紗と
ゲートシリコンとの接続部より離れるほど信号が到達す
るのに時間遅れが生じ、高速応答性に問題が生じる。
この発明は上記の様な問題点をか消オるた力になされた
もので、ゲートシリコンの時間遅n ヲナくし、均等な
伝達状態を作ることによりより高速な応答性を得ること
を目的とする。
〔課題を解決するた力の手段〕
この発明に係る半導体パターン構造は,トランジスタへ
の信号伝達遅れをなくすたい,低抵抗配神を並列に2ケ
所以上で接続することにより、トランジスタへの信号伝
達遅れの分布を均一にするものである。
〔作用〕
この発明に係る半導体パターン構造は,低抵抗配純を並
列に接続することにより,トランジスタへの伝達遅れが
早い方向で均一化され,このことにより,トランジスタ
動作をより高速化できる。
又,配純間に発生する寄生容量により、トランジスタの
ゲート哨位を瞬間時に変化することもできる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図は半導体パターン構造を示す平面図、第2図はm
l図に示すA−Aにおける断面図である。
図において(1)〜(6)、0(Iに付いては第3図の
従来例に示したものと同等であるので説明を省略する。
《7》はト与ンジスタのゲートへの伝達遅れを均一にす
る低抵抗配線、(8)は信号純絶縁用の酸化膜、(9)
は配線間に発生する寄生容母である。
次に動作について説明する。flK31−’mn従来例
で説明した様に,信号IililaQより信号がゲート
シリコン(3》に接続部より伝達される。こ0時ゲート
シリコン(3》と並列に接純された低抵抗配神(7)に
も同時に伝達が行なわれ、低抵抗配線《7》を通し抵抗
成分の大きいトランジスタのゲートに2ケ所以上で伝達
される。
このことにより,トランジスタのS O N #  S
OFF’  がより高速となり.PW、NWトランジス
タのどちらかが’ON’状態となり、田源配線《1)又
はGND ii”線(2)より出力信号線(5)に信号
が伝達される。
〔発明の効果〕
以上の様にこの発明による牢導体パターン構造は、トラ
ンジスタのゲートへの信号伝達を早い、動作の高速化を
Iまかることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による半導体パターンma
を示す平面図、ffi2図はIll図に示すA・Aにお
ける断面図、第3図は従来の半導体パターン構造の平面
図である。図において(1)は電源配練、(21はGN
D配締,(3)はシリコンゲート,(4)はウェル分前
部、(5)は出力信号線、(6)は拡散贋,(7)は低
抵抗配線、(8)は酸化膜,(9)は寄生容量、aOは
信号練を示す。 なお.図中同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. トランジスタのゲート配線と平行に低抵抗配線を2個以
    上の接点を介して接続し、信号の伝達遅れを緩和し、よ
    り高速に信号を伝達する機能を備えたことを特徴とする
    半導体パターン構造。
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