JPH03249200A - 複合電気めっき鋼板の製造方法 - Google Patents
複合電気めっき鋼板の製造方法Info
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- JPH03249200A JPH03249200A JP4783490A JP4783490A JPH03249200A JP H03249200 A JPH03249200 A JP H03249200A JP 4783490 A JP4783490 A JP 4783490A JP 4783490 A JP4783490 A JP 4783490A JP H03249200 A JPH03249200 A JP H03249200A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は自動車、家電、建材等に使用されるCr含有率
の高い耐食性に優れたZn系複合電気めっき鋼板の製造
方法に関し、特に工業的に安定して長期にわたって連続
生産するためのめつき浴のイオン補給方法および維持管
理方法に関するものである。
の高い耐食性に優れたZn系複合電気めっき鋼板の製造
方法に関し、特に工業的に安定して長期にわたって連続
生産するためのめつき浴のイオン補給方法および維持管
理方法に関するものである。
(従来の技術)
冷延鋼板の耐食性や塗装後耐食性を向上させ、加工性を
損なわずに量産化できる表面処理鋼板として電気亜鉛め
っき鋼板が汎用されていることは周知である。
損なわずに量産化できる表面処理鋼板として電気亜鉛め
っき鋼板が汎用されていることは周知である。
近年では寒冷地帯における冬期の道路凍結防止用の散布
塩に対する自動車の防錆対策として亜鉛めっき鋼板の使
用が試みられ、苛酷な腐食環境での高度な耐食性が要求
されている。
塩に対する自動車の防錆対策として亜鉛めっき鋼板の使
用が試みられ、苛酷な腐食環境での高度な耐食性が要求
されている。
亜鉛めっき鋼板の耐食性の向上要求に対しては、亜鉛の
めっき量(付着1:)の増加という手段があるが、これ
は溶接性や加工性の点で問題が多い。
めっき量(付着1:)の増加という手段があるが、これ
は溶接性や加工性の点で問題が多い。
そこで亜鉛自身の溶解を抑制し亜鉛めっきの寿命を延ば
す方法として、数多くの合金めっきが提案されている。
す方法として、数多くの合金めっきが提案されている。
これらの多くはFe、Co、N1といった鉄族金属を合
金成分として含有するものである。
金成分として含有するものである。
また、CrをZnないしZn系合金めっき中に含有させ
て、高耐食性電気めっき鋼板を得ようとするものとして
、例えば特公昭59−311313号公報及び59−4
0234号公報、特開昭81−270398号公報及び
特開昭82−54099号公報などが開示されている。
て、高耐食性電気めっき鋼板を得ようとするものとして
、例えば特公昭59−311313号公報及び59−4
0234号公報、特開昭81−270398号公報及び
特開昭82−54099号公報などが開示されている。
これらは何れもCr含有率が5%以下と低いため、めっ
き浴中のCrイオンの補給方法など維持管理については
特に考慮されていない。
き浴中のCrイオンの補給方法など維持管理については
特に考慮されていない。
(発明が解決しようとする課題)
本発明者らは、Cr3+イオンと鉄族金属イオンを含む
酸性Zn系めっき浴に、Cr析出促進剤としてカチオン
ポリマーを添加することにより、従来にない高含有率の
Crと微量のカチオンポリマーを含む耐食性、加工性、
表面外観に優れたZn系複合電気めっき鋼板を得る目安
を得た。
酸性Zn系めっき浴に、Cr析出促進剤としてカチオン
ポリマーを添加することにより、従来にない高含有率の
Crと微量のカチオンポリマーを含む耐食性、加工性、
表面外観に優れたZn系複合電気めっき鋼板を得る目安
を得た。
しかしながら、工業的規模で長期にわたって安定した品
質の該めっき鋼板を製造するためには、めっきにより消
費される金属イオンを補給し、所定濃度に維持管理でき
る製造技術がさらに必要であった。
質の該めっき鋼板を製造するためには、めっきにより消
費される金属イオンを補給し、所定濃度に維持管理でき
る製造技術がさらに必要であった。
Z n ”4オンや鉄族金属イオンについては公知の方
法、すなわち酸に可溶で陰イオン濃度が増大しない炭酸
塩や水酸化物として補給する、あるいは金属を溶解する
などがこのめっき系においても適用可能である。
法、すなわち酸に可溶で陰イオン濃度が増大しない炭酸
塩や水酸化物として補給する、あるいは金属を溶解する
などがこのめっき系においても適用可能である。
しかし、Cr3+イオンの補給に対しては、これら従来
の方法は以下の理由により適用できない。■硫酸クロム
あるいは塩化クロムの如き塩ではめっき浴中にSO2−
イオン、Cg イオンが蓄積し、長期の連続生産に支障
をきたす。■Cr (CO3)2などの炭酸塩あるいは
Cr (OH)aなどの水酸化物では酸性めっき浴に対
する溶解速度が極めて遅く実用的ではない。
の方法は以下の理由により適用できない。■硫酸クロム
あるいは塩化クロムの如き塩ではめっき浴中にSO2−
イオン、Cg イオンが蓄積し、長期の連続生産に支障
をきたす。■Cr (CO3)2などの炭酸塩あるいは
Cr (OH)aなどの水酸化物では酸性めっき浴に対
する溶解速度が極めて遅く実用的ではない。
また原料コストが高い点でも不利である。■金属C「や
Cr2O3などの酸化物はp)11以下の強酸性のめっ
き浴でも溶解しないため、適用できない。
Cr2O3などの酸化物はp)11以下の強酸性のめっ
き浴でも溶解しないため、適用できない。
■金属Crを陽極に使用して電気的に溶解することは可
能であるが、めっきで消費されるCr”+イオン量より
も過剰のCr3+イオンが溶解するので、Cr3+イオ
ン濃度を一定に維持することはできない。
能であるが、めっきで消費されるCr”+イオン量より
も過剰のCr3+イオンが溶解するので、Cr3+イオ
ン濃度を一定に維持することはできない。
このように、Cr3+イオンの補給方法に関して、工業
的に適用できる実用的かつ効率的な方法はなかった。
的に適用できる実用的かつ効率的な方法はなかった。
本発明はかかる事情に鑑み、Cr5〜30重量%、鉄族
金属1〜lO重量%、カチオンポリマー0.001〜5
重量%を含有する新規のZn系複合電気めっき鋼板の製
造において、Cr”+イオンの補給および維持管理の問
題を有利に解決し、該Zn系複合電気めっき鋼板を工業
的に安定して生産し得る製造方法を提供するものである
。
金属1〜lO重量%、カチオンポリマー0.001〜5
重量%を含有する新規のZn系複合電気めっき鋼板の製
造において、Cr”+イオンの補給および維持管理の問
題を有利に解決し、該Zn系複合電気めっき鋼板を工業
的に安定して生産し得る製造方法を提供するものである
。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、Cr”9オンの供給源としては安価なC
r6+イオンの水溶液が最適と考え、これを連続的にC
r3+イオンに還元処理して補給する方法を見出した。
r6+イオンの水溶液が最適と考え、これを連続的にC
r3+イオンに還元処理して補給する方法を見出した。
本発明はこの知見に基づいてなされたものであり、その
要旨は、(1)Cr3+イオン、鉄族金属イオン、カチ
オンポリマーを含有する酸性Zn系めっき浴を用いてC
r5〜30重量%、鉄族金属1〜lO重量%、カチオン
ポリマー0.001〜5重量%を含有するZn系複合電
気めっき鋼板を製造する際、Cr6+イオンを含む水溶
液を金属Znに接触させてCr”+イオンに還元し、こ
れをめっき浴に供給することを特徴とし、(2)Cr3
+イオン、鉄族金属イオン、カチオンポリマーを含有す
る酸性Zn系めっき浴を用いてCr5〜30重量%、鉄
族金属1〜lO重量%、カチオンポリマーo、oot〜
5重量%を含有するZn系複合電気めっき鋼板を製造す
る際、Cr6+イオンが生成しためっき浴を金属Znに
接触させてCr”dオンに還元し、これをめっき浴に供
給することを特徴とし、(3)Cr3+イオン、鉄族金
属イオン、カチオンポリマーを含有する酸性Zn系めっ
き浴を用いてCr5〜30重量%、鉄族金属1〜10重
量%、カチオンポリマー0.001〜5重量%を含有す
るZn系複合電気めっき鋼板を製造する際、Cr8+イ
オンを含む水溶液およびCr6+イオンが生成しためっ
き浴を混合して金属Znに接触させてCr3+イオンに
還元し、これをめっき浴に供給することを特徴とし、(
4)Cr3+イオンの1部を硫酸クロムとじて供給し、
かつSr炭酸塩およびまたはBa炭酸塩をめっき浴に供
給することを加え、(5)鉄族金属がN1であること及
び(6)カチオンポリマーが4級アミンポリマーである
ことを含む。
要旨は、(1)Cr3+イオン、鉄族金属イオン、カチ
オンポリマーを含有する酸性Zn系めっき浴を用いてC
r5〜30重量%、鉄族金属1〜lO重量%、カチオン
ポリマー0.001〜5重量%を含有するZn系複合電
気めっき鋼板を製造する際、Cr6+イオンを含む水溶
液を金属Znに接触させてCr”+イオンに還元し、こ
れをめっき浴に供給することを特徴とし、(2)Cr3
+イオン、鉄族金属イオン、カチオンポリマーを含有す
る酸性Zn系めっき浴を用いてCr5〜30重量%、鉄
族金属1〜lO重量%、カチオンポリマーo、oot〜
5重量%を含有するZn系複合電気めっき鋼板を製造す
る際、Cr6+イオンが生成しためっき浴を金属Znに
接触させてCr”dオンに還元し、これをめっき浴に供
給することを特徴とし、(3)Cr3+イオン、鉄族金
属イオン、カチオンポリマーを含有する酸性Zn系めっ
き浴を用いてCr5〜30重量%、鉄族金属1〜10重
量%、カチオンポリマー0.001〜5重量%を含有す
るZn系複合電気めっき鋼板を製造する際、Cr8+イ
オンを含む水溶液およびCr6+イオンが生成しためっ
き浴を混合して金属Znに接触させてCr3+イオンに
還元し、これをめっき浴に供給することを特徴とし、(
4)Cr3+イオンの1部を硫酸クロムとじて供給し、
かつSr炭酸塩およびまたはBa炭酸塩をめっき浴に供
給することを加え、(5)鉄族金属がN1であること及
び(6)カチオンポリマーが4級アミンポリマーである
ことを含む。
(作 用)
本発明の製造方法の対象であるCr5〜30重量%、鉄
族金属1〜IO重量%、カチオンポリマー0.001〜
5重量%を含有するZn系複合電気めっき鋼板について
述べる。
族金属1〜IO重量%、カチオンポリマー0.001〜
5重量%を含有するZn系複合電気めっき鋼板について
述べる。
当該複合電気めっき鋼板の高耐食性は、C「の作用によ
り発現される。Cr含有率は5〜30重量%が好ましい
。5重量%未満では若干の耐食性向上効果は認められる
ものの、赤錆が発生しやすい傾向は残り、耐食性は十分
ではない。5重量%以上になると赤錆発生が抑制され、
耐食性は大幅に向上する。例えば塩水噴霧試験を500
時間以上行なっても容易に赤錆は発生しない。
り発現される。Cr含有率は5〜30重量%が好ましい
。5重量%未満では若干の耐食性向上効果は認められる
ものの、赤錆が発生しやすい傾向は残り、耐食性は十分
ではない。5重量%以上になると赤錆発生が抑制され、
耐食性は大幅に向上する。例えば塩水噴霧試験を500
時間以上行なっても容易に赤錆は発生しない。
このような高耐食性は、従来公知のZnめっきはもとよ
りZn −Ni 、Zn −Feなどの合金めっきでは
到底得られないレベルのものである。
りZn −Ni 、Zn −Feなどの合金めっきでは
到底得られないレベルのものである。
CrはZnとの共存下では不働態化せずZnとともに犠
牲防食作用を発揮し、しかも腐食生成物が難溶性の保護
皮膜を形成して表面を覆い腐食の進行を抑制する。これ
が画期的な高耐食性を発揮する理由であろうと推定され
る。
牲防食作用を発揮し、しかも腐食生成物が難溶性の保護
皮膜を形成して表面を覆い腐食の進行を抑制する。これ
が画期的な高耐食性を発揮する理由であろうと推定され
る。
C「含有率は30重量%を超えても高度の耐食性を有す
るが、後述するカチオンポリマーの共析効果をもってし
ても、加工時のパウダリング性(めっき層の粉状剥離)
の劣化を防止しえず、実用上は適用が難しい。
るが、後述するカチオンポリマーの共析効果をもってし
ても、加工時のパウダリング性(めっき層の粉状剥離)
の劣化を防止しえず、実用上は適用が難しい。
該複合電気めっき鋼板においては、さらに鉄族金属を含
ませる。ここで鉄族金属とはNi、Co、。
ませる。ここで鉄族金属とはNi、Co、。
Feを指し、これらの含有率は1種もしくは2種以上の
総量で1〜IO重量%が好ましい。
総量で1〜IO重量%が好ましい。
鉄族金属の作用は、主としてスポット溶接性を向上させ
る点にある。鉄族金属を含まないZn高C「−カチオン
ポリマーからなる複合めっきは、従来のZn −Ni
、Zn −Fe合金めっきに比べてスポット溶接性がや
や劣る。
る点にある。鉄族金属を含まないZn高C「−カチオン
ポリマーからなる複合めっきは、従来のZn −Ni
、Zn −Fe合金めっきに比べてスポット溶接性がや
や劣る。
この理由は明らかではないが、該複合めっきは電気抵抗
が低く通電による発熱で溶融しやすい、あるいはめっき
層が軟らかく溶接チップの圧力でめっき層が変形しやす
いので、溶接部に電流が集中しにくいことなどが考えら
れる。
が低く通電による発熱で溶融しやすい、あるいはめっき
層が軟らかく溶接チップの圧力でめっき層が変形しやす
いので、溶接部に電流が集中しにくいことなどが考えら
れる。
鉄族金属を含ませると、電気抵抗が増加しめっき層が適
度に硬くなるためスポット溶接性は確実に向上する。鉄
族金属1重量%未満では上記効果が顕著でなく、10重
量%を超えると鉄族金属の性質が強くなりC「の効果が
低減する。
度に硬くなるためスポット溶接性は確実に向上する。鉄
族金属1重量%未満では上記効果が顕著でなく、10重
量%を超えると鉄族金属の性質が強くなりC「の効果が
低減する。
加工時のパウダリング性を考慮すると、Cr及び鉄族金
属の総量は30重量%以下が好ましい。なお、鉄族金属
の中でも特にNiは耐食性に対しても効果的であり、最
も有利である。
属の総量は30重量%以下が好ましい。なお、鉄族金属
の中でも特にNiは耐食性に対しても効果的であり、最
も有利である。
本発明の複合電気めっき鋼板に含有されるカチオンポリ
マーは、C「析出促進剤としてめっき浴中に添加される
ものであり、これをC「とともにめっき層中に微量共析
させることにより、加工時の耐パウダリング性を向上さ
せることができる。
マーは、C「析出促進剤としてめっき浴中に添加される
ものであり、これをC「とともにめっき層中に微量共析
させることにより、加工時の耐パウダリング性を向上さ
せることができる。
このようなカチオンポリマーの共析効果は、CrがZn
の均一な電析成長を阻害し、均一性、平滑性に欠けため
っき構造になってしまうことを防止する点にあると推定
される。
の均一な電析成長を阻害し、均一性、平滑性に欠けため
っき構造になってしまうことを防止する点にあると推定
される。
即ち、共析するカチオンポリマーを介することによって
、Zn、鉄族金属とCrが均一に混合もしくは合金化し
た緻密なめっき層が形成されると考えられる。有機高分
子の含有率は0.001〜5重量%が好ましい。0.0
01重量%未満では、耐パウダリング性向上効果が乏し
く、5重量%超の含有率はめっき浴中のカチオンポリマ
ー濃度を増しても得られ難いのみならず、多量に共析す
ると返ってめっき密着性が低下する。耐パウダリング性
を確実なものとするためには、C「含有率の1/100
0以上の含有率で有機高分子を共析させることが望まし
い。
、Zn、鉄族金属とCrが均一に混合もしくは合金化し
た緻密なめっき層が形成されると考えられる。有機高分
子の含有率は0.001〜5重量%が好ましい。0.0
01重量%未満では、耐パウダリング性向上効果が乏し
く、5重量%超の含有率はめっき浴中のカチオンポリマ
ー濃度を増しても得られ難いのみならず、多量に共析す
ると返ってめっき密着性が低下する。耐パウダリング性
を確実なものとするためには、C「含有率の1/100
0以上の含有率で有機高分子を共析させることが望まし
い。
本発明に用いるカチオンポリマーとしては、4級アミン
の重合物が特に効果的である。この場合、分子量は10
3〜10Bが望ましい。具体的には次に示すアミンポリ
マーの内、ポリアミンスルホン(PASと略)、及びポ
リアミン(PAと略)がCr析出促進剤としても最も効
果的である。
の重合物が特に効果的である。この場合、分子量は10
3〜10Bが望ましい。具体的には次に示すアミンポリ
マーの内、ポリアミンスルホン(PASと略)、及びポ
リアミン(PAと略)がCr析出促進剤としても最も効
果的である。
この理由としては、アミン基による陰極面への吸着作用
と、スルホン基へのCr’−1’オンの配位結合が寄与
していると考えられる。これらは基本的には次に示す4
級アミンの塩(アンモニウム塩)を主鎖に含むホモポリ
マーあるいはコポリマーで構成されている。
と、スルホン基へのCr’−1’オンの配位結合が寄与
していると考えられる。これらは基本的には次に示す4
級アミンの塩(アンモニウム塩)を主鎖に含むホモポリ
マーあるいはコポリマーで構成されている。
以下具体的にいくつかの化合物を列挙する。
まず、ジアリルアミンから得られる次のような高分子が
挙げられる。
挙げられる。
/
\
あるいは
/
\
N・・・X
/ \
2
/ \
RI R2
→PASと略す。
Rt 、 R2は低級アルキル基を示し、XはCN
、H3O、HPO、R−5O3424 (Rはc −c のアルキル基)、NO3のア4 ニオンを示す。
、H3O、HPO、R−5O3424 (Rはc −c のアルキル基)、NO3のア4 ニオンを示す。
あるいはビニルベンジンから合成される高分子が挙げら
れる。
れる。
N・・・X
/ 1\
RI R2R3
R1,R2、Rsは低級アルキル基を示し、XはC#−
、H3O−、HPO、R−NO3424 (Rはcl−c4のアルキル基)、NO3のアニオンを
示す。
、H3O−、HPO、R−NO3424 (Rはcl−c4のアルキル基)、NO3のアニオンを
示す。
さらにはアリルアミンポリマーが挙げられる。
N・・・X
/ 1\
RI R2R8
R,、R2,R3は低級アルキル基を示し、XはC,9
−、H5O”−、HPO、R−NO3424 (Rはc −c のアルキル基)、NO3のア4 ニオンを示す。
−、H5O”−、HPO、R−NO3424 (Rはc −c のアルキル基)、NO3のア4 ニオンを示す。
この他、1,2.3級アミンのポリマーも前述の4級ア
ミンポリマーには及ばないがCr析出促進剤として効果
がある。
ミンポリマーには及ばないがCr析出促進剤として効果
がある。
めっき付着量は10〜50g1rdで十分耐食性を確保
できる。
できる。
上述した如き組成を有する複合電気めっき鋼板を製造す
るに際しては、Cr3+イオンを所定濃度に維持する必
要がある。そのためには、■電気めっきにより消費され
るCr8“イオンを補給する、■陽極でのCr3+イオ
ンの酸化により生じるCr””Kオンを再度還元する、
という必要があり、本発明の方法を適用することによっ
て、効率的、経済的にこれらを行なわしめることができ
る。
るに際しては、Cr3+イオンを所定濃度に維持する必
要がある。そのためには、■電気めっきにより消費され
るCr8“イオンを補給する、■陽極でのCr3+イオ
ンの酸化により生じるCr””Kオンを再度還元する、
という必要があり、本発明の方法を適用することによっ
て、効率的、経済的にこれらを行なわしめることができ
る。
まず電気めっきにより消費されるCr”+イオンの補給
方法であるが、これにはCr6+イオンを含む水溶液を
金属Znに接触させる方法が有効であり、これが本発明
の第1の様態である。Cr””4オンを含む水溶液を金
属Znに接触させると、金属Znは水素ガスを発生しな
がら溶解するが、Cr’!オンは金属Znの溶解を促進
し、自らはCr3+イオンに還元される。Cr6+イオ
ンと金属Znを適当な条件で十分に接触させると、Cr
’イオンはほとんどCr”l’イオン還元される。
方法であるが、これにはCr6+イオンを含む水溶液を
金属Znに接触させる方法が有効であり、これが本発明
の第1の様態である。Cr””4オンを含む水溶液を金
属Znに接触させると、金属Znは水素ガスを発生しな
がら溶解するが、Cr’!オンは金属Znの溶解を促進
し、自らはCr3+イオンに還元される。Cr6+イオ
ンと金属Znを適当な条件で十分に接触させると、Cr
’イオンはほとんどCr”l’イオン還元される。
Cr6+イオンを含む水溶液としては、めっき浴のイオ
ンバランスの上から他の陽イオンや陰イオンを含まない
ことが望ましく、クロム酸、無水クロム酸、重クロム酸
、クロム酸クロムが適している。
ンバランスの上から他の陽イオンや陰イオンを含まない
ことが望ましく、クロム酸、無水クロム酸、重クロム酸
、クロム酸クロムが適している。
クロム酸クロムはクロム酸や無水クロム酸にでんぷん、
アルコール類、ぎ酸などの有機物を還元剤として添加し
、Cr”l’イオン1部をC「3+イオンに還元したも
のである。
アルコール類、ぎ酸などの有機物を還元剤として添加し
、Cr”l’イオン1部をC「3+イオンに還元したも
のである。
金属Znとしては、電解精製Znのような純度の高いも
のが望ましい。また形状としては、板状、粒状、粉状い
ずれのものも使用できるが、Cr6+イオンとの接触面
積を太きくLCr””4オンへの還元速度を高めるため
には粒状のものが好ましい。
のが望ましい。また形状としては、板状、粒状、粉状い
ずれのものも使用できるが、Cr6+イオンとの接触面
積を太きくLCr””4オンへの還元速度を高めるため
には粒状のものが好ましい。
Cr6+イオンを含む水溶液を金属Znに接触させる反
応槽としては、槽内に金属Znを充填し、槽上部もしく
は底部よりCr6+イオンを含む水溶液を流入させ反応
後、槽底部もしくは上部より流出させる循環系を有する
ものが、連続的にイオン補給ができるので好ましい。
応槽としては、槽内に金属Znを充填し、槽上部もしく
は底部よりCr6+イオンを含む水溶液を流入させ反応
後、槽底部もしくは上部より流出させる循環系を有する
ものが、連続的にイオン補給ができるので好ましい。
反応槽からの流出液は、全量めっき浴循環タンクに補給
してもよいし、1部を補給して残りは貯槽にためおく、
もしくは還元反応が不十分な場合には再度反応槽に流入
させてもよい。
してもよいし、1部を補給して残りは貯槽にためおく、
もしくは還元反応が不十分な場合には再度反応槽に流入
させてもよい。
この際金属Znが液流や水素ガスによって移動しないよ
うに、反応槽の上下部に多孔板を設置することが好まし
い。またCr6+イオンを含む水溶液の流入は、反応槽
内の空気の残留防止や水素ガスの浮上を促進する上で、
槽底部より行なう方が有利である。この時反応槽からの
流出は反応槽上部に取付けた配管を通してもよいし、反
応槽上部でオーバーフローさせて回収してもよい。
うに、反応槽の上下部に多孔板を設置することが好まし
い。またCr6+イオンを含む水溶液の流入は、反応槽
内の空気の残留防止や水素ガスの浮上を促進する上で、
槽底部より行なう方が有利である。この時反応槽からの
流出は反応槽上部に取付けた配管を通してもよいし、反
応槽上部でオーバーフローさせて回収してもよい。
次に陽極でのCr””4オンの酸化により生じるCr8
+イオンの還元方法について述べる。
+イオンの還元方法について述べる。
めっき浴中のCr’M’オンは、陽極として不溶性陽極
を使用する場合に生じる。不溶性陽極は周知の如く、連
続的に電気めっきを行なっても損耗しないため、可溶性
陽極の如き顛繁な補充や取替えを必要とせず、長期にわ
たって一定のめっき条件で操業できるので、高生産性を
確保する上での経済的利点は絶大である。
を使用する場合に生じる。不溶性陽極は周知の如く、連
続的に電気めっきを行なっても損耗しないため、可溶性
陽極の如き顛繁な補充や取替えを必要とせず、長期にわ
たって一定のめっき条件で操業できるので、高生産性を
確保する上での経済的利点は絶大である。
しかるに、不溶性陽極を使用する場合には、陽極で水の
電気分解による酸素発生やめっき浴成分の酸化反応を生
じる。Cr3+イオンを含むめっき浴では、Cr”+イ
オンが酸化されCr6+イオンが生成する。
電気分解による酸素発生やめっき浴成分の酸化反応を生
じる。Cr3+イオンを含むめっき浴では、Cr”+イ
オンが酸化されCr6+イオンが生成する。
Cr6+イオンがめつき浴中に蓄積すると、めっき電流
効率の低下のみならず表面外観や加工性といった性能低
下を生じるので、これを再度Cr””イオンへ還元する
必要がある。
効率の低下のみならず表面外観や加工性といった性能低
下を生じるので、これを再度Cr””イオンへ還元する
必要がある。
これにはめっき浴そのものを金属Znに接触させ、Cr
’にオンをCr”<オンへ還元する方法が有利である。
’にオンをCr”<オンへ還元する方法が有利である。
これが本発明の第2の様態であり、Cr’−(オンが生
成しためつき浴を、金属Znを充填した反応槽に流入せ
、金属Znを溶解させつつめっき浴中のCr’!オンを
Cr”宥オンへ還元させる方法である。
成しためつき浴を、金属Znを充填した反応槽に流入せ
、金属Znを溶解させつつめっき浴中のCr’!オンを
Cr”宥オンへ還元させる方法である。
使用する金属Znや反応槽の様態については先に述べた
ものと同様である。
ものと同様である。
不溶性陽極としては、pbもしくはpbを主成分としS
n、In、Agなどを含むpb系電極、Piもし、くは
Ptを主成分としIr 、 Pd 、 Rhなどを含
むPt系電極、Ir、Pd、Rhなどの酸化物を主成分
とするセラミックス電極などが適用可能である。中でも
、pb系電極は経済的に最も有利であるが、他の電極に
比べるとCr6“イオンの生成速度が大きいので、本発
明の適用効果は最も大きい。
n、In、Agなどを含むpb系電極、Piもし、くは
Ptを主成分としIr 、 Pd 、 Rhなどを含
むPt系電極、Ir、Pd、Rhなどの酸化物を主成分
とするセラミックス電極などが適用可能である。中でも
、pb系電極は経済的に最も有利であるが、他の電極に
比べるとCr6“イオンの生成速度が大きいので、本発
明の適用効果は最も大きい。
以上の如く、電気めっきで消費するCr”!オンの補給
は本発明の第1の様態、めっき洛中に生成するCr6+
イオンのCr”+イオンへの還元は本発明の第2の様態
により、効率的、経済的に行なわしめることができる。
は本発明の第1の様態、めっき洛中に生成するCr6+
イオンのCr”+イオンへの還元は本発明の第2の様態
により、効率的、経済的に行なわしめることができる。
これらは反応槽を別々に設置して、それぞれを独立させ
て適用してよい。より好ましい方法として、Cr3+イ
オンの補給とめっき洛中のCr’イオンの還元を同一の
反応槽を使用して行なわしめることも可能であり、これ
が本発明の第3の様態である。
て適用してよい。より好ましい方法として、Cr3+イ
オンの補給とめっき洛中のCr’イオンの還元を同一の
反応槽を使用して行なわしめることも可能であり、これ
が本発明の第3の様態である。
すなわち、Cr6+イオンを含む水溶液とCr6+イオ
ンが生成しためっき浴を混合して、金属Znを充填した
反応槽に流入させ、Cr”−4オンへの還元を同時に行
なわしめる方法である。
ンが生成しためっき浴を混合して、金属Znを充填した
反応槽に流入させ、Cr”−4オンへの還元を同時に行
なわしめる方法である。
かくすることによって、電気めっきにより消費されるC
r3+イオンの補給と、不溶性陽極での酸化により生じ
るCr イオノのCr”宥オンへの6+ 、 還元が可能であるが、さらに安定した長期連続生産を行
なうためには、電気めっきによるZ n 2”!オン、
Cr3+イオン、鉄族金属イオンの消費に伴う、その対
陰イオンである硫酸イオンの蓄積をも考慮する必要があ
る。
r3+イオンの補給と、不溶性陽極での酸化により生じ
るCr イオノのCr”宥オンへの6+ 、 還元が可能であるが、さらに安定した長期連続生産を行
なうためには、電気めっきによるZ n 2”!オン、
Cr3+イオン、鉄族金属イオンの消費に伴う、その対
陰イオンである硫酸イオンの蓄積をも考慮する必要があ
る。
硫酸イオンの除去は、Sr炭酸塩およびまたはBa炭酸
塩をめっき浴に供給することで可能である。すなわち、
これらは硫酸酸性のめっき洛中で硫酸塩として不溶化す
るので、これを分離することにより硫酸イオンを系外に
除去することができる。
塩をめっき浴に供給することで可能である。すなわち、
これらは硫酸酸性のめっき洛中で硫酸塩として不溶化す
るので、これを分離することにより硫酸イオンを系外に
除去することができる。
3十
これにより、Cr イオンの1部をC「2(SO4)
3やCr (OH)(SO4)などの硫酸塩として補給
することが可能になり、金属ZnによるCr’イオンの
還元補給に関する負荷が軽減され、イオン濃度の維持管
理をより精度良く行なうことができる。
3やCr (OH)(SO4)などの硫酸塩として補給
することが可能になり、金属ZnによるCr’イオンの
還元補給に関する負荷が軽減され、イオン濃度の維持管
理をより精度良く行なうことができる。
S「炭酸塩およびまたはBa炭酸塩の供給のもう1つの
メリットは、硫酸塩として不溶化する際にpbを吸着す
る作用がある点である。
メリットは、硫酸塩として不溶化する際にpbを吸着す
る作用がある点である。
すなわち、pb系電極を用いる場合には、めっき浴中に
pbが不可避的に極微量溶解するが、めっき浴中のpb
がlOppmを超えると、めっき層の表面外観や耐食性
が劣化する傾向が現れるので好ましくない。そのため、
めっき浴中のpbを系外に除去する必要が有るが、Sr
炭酸塩やBa炭酸塩の作用によりこれを同時に解決でき
る。
pbが不可避的に極微量溶解するが、めっき浴中のpb
がlOppmを超えると、めっき層の表面外観や耐食性
が劣化する傾向が現れるので好ましくない。そのため、
めっき浴中のpbを系外に除去する必要が有るが、Sr
炭酸塩やBa炭酸塩の作用によりこれを同時に解決でき
る。
本発明を適用するめっき浴としては、Zn”I’イオノ
Cr イオノ、さらにNi2+イオン、Fe”+43
+ 、 オン、COイオンなどの鉄族金属イオンをそれぞれ10
〜100g/i)含有し、かつCr析出促進剤としてP
ASのごときカチオンポリマーを0.1〜20g/l含
有するpH0,5〜3の硫酸酸性めっき浴が好ましい。
Cr イオノ、さらにNi2+イオン、Fe”+43
+ 、 オン、COイオンなどの鉄族金属イオンをそれぞれ10
〜100g/i)含有し、かつCr析出促進剤としてP
ASのごときカチオンポリマーを0.1〜20g/l含
有するpH0,5〜3の硫酸酸性めっき浴が好ましい。
これらの成分の他に、N a 、K 、N H4”
などの電導度助剤、はう酸などの緩衝剤、あるいは耐食
性をさらに向上させるための5i02゜TiO2,Af
I203などの酸化物粒子やB a Cr O4などの
クロム酸塩粒子を含有しても、本発明は有効である。
などの電導度助剤、はう酸などの緩衝剤、あるいは耐食
性をさらに向上させるための5i02゜TiO2,Af
I203などの酸化物粒子やB a Cr O4などの
クロム酸塩粒子を含有しても、本発明は有効である。
Cr6+イオンはCr”dオン濃度のl/10以下であ
れば実質的影響はなく許容可能である。なお、Zn2+
イオンや鉄族金属イオンの補給は、炭酸塩、水酸化物、
金属溶解など公知の方法で可能であるが、Z n ”K
オンは本発明の方法でも補給されるので、反応槽の調節
によりZ n 2”<オン濃度とCr3+イオン濃度を
同時に維持管理することも可能である。
れば実質的影響はなく許容可能である。なお、Zn2+
イオンや鉄族金属イオンの補給は、炭酸塩、水酸化物、
金属溶解など公知の方法で可能であるが、Z n ”K
オンは本発明の方法でも補給されるので、反応槽の調節
によりZ n 2”<オン濃度とCr3+イオン濃度を
同時に維持管理することも可能である。
次に本発明の製造方法を具体化したプロセス例を図を用
いて説明する。
いて説明する。
j@1図は本発明の第1の様態を示すものである。
1は不溶解性陽極を備えためつきセルで複数個ある。2
は不溶解性陽極、3は銅帯に電気を流す通電ロール、4
は銅帯である。5はめつき浴の循環タンクであり、めっ
き浴をここからめつきセル1に循環して電気めっきを行
なう。6は反応槽であり、ここにはホッパー7から金属
Znを投入充填し、タンク8からCr6+イオンを含む
水溶液を供給する。
は不溶解性陽極、3は銅帯に電気を流す通電ロール、4
は銅帯である。5はめつき浴の循環タンクであり、めっ
き浴をここからめつきセル1に循環して電気めっきを行
なう。6は反応槽であり、ここにはホッパー7から金属
Znを投入充填し、タンク8からCr6+イオンを含む
水溶液を供給する。
この反応槽内で、Cr6+イオンは金属Znと接触反応
してCr3+イオンに還元され、金属Znは溶解してZ
n 2”<オンになる。このC「3+イオンとZn2
+イオンを含む水溶液を循環タンク5に供給する。ここ
で、還元反応が不十分な場合には、9から再び反応槽に
供給し、循環タンクへの供給が必要無い時には貯槽10
にためおき、必要に応じて循環タンクに供給する。
してCr3+イオンに還元され、金属Znは溶解してZ
n 2”<オンになる。このC「3+イオンとZn2
+イオンを含む水溶液を循環タンク5に供給する。ここ
で、還元反応が不十分な場合には、9から再び反応槽に
供給し、循環タンクへの供給が必要無い時には貯槽10
にためおき、必要に応じて循環タンクに供給する。
また、ホッパー11には硫酸クロムの水溶液を、ホッパ
ー12にはSrおよびまたはBaの炭酸塩を仕込み、必
要に応じてめっき浴に供給してもよい。
ー12にはSrおよびまたはBaの炭酸塩を仕込み、必
要に応じてめっき浴に供給してもよい。
SrおよびまたはBaの炭酸塩は硫酸塩として不溶化し
、陽極としてpb系電極を使用する場合にはめっき浴中
に溶出するpbを吸着するが、これはフィルター16に
よって分離し系外に除去する。
、陽極としてpb系電極を使用する場合にはめっき浴中
に溶出するpbを吸着するが、これはフィルター16に
よって分離し系外に除去する。
ホッパー13から15にはそれぞれPASなどのカチオ
ンポリマー、Niなどの鉄族金属の炭酸塩、炭酸亜鉛を
それぞれ仕込み、必要に応じて循環タンクに投入する。
ンポリマー、Niなどの鉄族金属の炭酸塩、炭酸亜鉛を
それぞれ仕込み、必要に応じて循環タンクに投入する。
炭酸亜鉛は反応槽での金属Znの溶解によるZn2+(
オンの補給が不十分な場合に補助的に用いればよい。
オンの補給が不十分な場合に補助的に用いればよい。
第2図は本発明の第2の様態を示すものである。
図中の1から7.11から16の説明は第1図と同様で
あるが、反応槽6には循環タンクからめっき浴を供給す
る。めっき浴中に含まれるC「6+イオンは反応槽内に
充填された金属Znとの反応によりCr”Kオンに還元
され、循環タンクに戻る。
あるが、反応槽6には循環タンクからめっき浴を供給す
る。めっき浴中に含まれるC「6+イオンは反応槽内に
充填された金属Znとの反応によりCr”Kオンに還元
され、循環タンクに戻る。
第3図は本発明の第3の様態を示すものである。
図中の1から8、IOから16の説明は第1図と同様で
あるが、Cr6+イオンを含む水溶液とCr’イオンが
生成しためっき浴とを9で混合し、この混合液を反応槽
6に供給する。
あるが、Cr6+イオンを含む水溶液とCr’イオンが
生成しためっき浴とを9で混合し、この混合液を反応槽
6に供給する。
これによって、電気めっきで消費されるCr””イオン
の補給と、陽極で生成するCr6+イオンのCr3+イ
オンへの還元を同時に行なわしめる。
の補給と、陽極で生成するCr6+イオンのCr3+イ
オンへの還元を同時に行なわしめる。
以上述べた如く、本発明を適用することによって、めっ
き浴温度30〜70℃、電流密度50〜300A/dw
2の条件で、Cr5〜30重量%、鉄族金属1〜10重
量%、カチオンポリマーo、oot〜5重量%を含有す
る高耐食性Zn系複合電気めっき鋼板を安定して長期に
わたって製造することができる。
き浴温度30〜70℃、電流密度50〜300A/dw
2の条件で、Cr5〜30重量%、鉄族金属1〜10重
量%、カチオンポリマーo、oot〜5重量%を含有す
る高耐食性Zn系複合電気めっき鋼板を安定して長期に
わたって製造することができる。
(実施例1)
冷延鋼板を、アルカリ脱脂し、5%硫酸水溶液で酸洗し
た後、以下の条件で電気めっきを行なった。めっき浴と
しては、Zn2”−45g/fl、3+ Cr =LOg/II、Ni2”−22sr/IIS
PAS(平均分子量IO万) = 5 g/D 、
N a 2”−16g/p1浴温50℃、I)Hl、5
の硫酸酸性浴を用いた。
た後、以下の条件で電気めっきを行なった。めっき浴と
しては、Zn2”−45g/fl、3+ Cr =LOg/II、Ni2”−22sr/IIS
PAS(平均分子量IO万) = 5 g/D 、
N a 2”−16g/p1浴温50℃、I)Hl、5
の硫酸酸性浴を用いた。
I r O2電極を陽極として、電流密度100A/d
12、液流速100m/ginの条件で、1万クーロン
/Iの連続めっきを行なった。
12、液流速100m/ginの条件で、1万クーロン
/Iの連続めっきを行なった。
めっき層組成は、CrlO%、Ni 2%、PAS1%
、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめっき
浴中のCr6+は痕跡程度であった。
、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめっき
浴中のCr6+は痕跡程度であった。
次に、めっき浴111あたり2gの金属Zn粉末と総C
rO,2gを含むクロム酸クロム水溶液(総3十 Cr中38%がCr 、残部Cr’)を50℃で十分
反応させ、金属Znを溶解させた。反応後の水溶液中の
Cr6+は痕跡程度であり、はぼ全量がCr3+に還元
されていた。
rO,2gを含むクロム酸クロム水溶液(総3十 Cr中38%がCr 、残部Cr’)を50℃で十分
反応させ、金属Znを溶解させた。反応後の水溶液中の
Cr6+は痕跡程度であり、はぼ全量がCr3+に還元
されていた。
この水溶液をめっき浴に添加したところ、2+
Z n Cr 3”s度はほぼ初期の濃度に回復し
た。
た。
再び上記と同一の条件で1万クーロン/pの連続めっき
とイオン補給を行ない、これを50万ク一ロン/gまで
繰り返した。なおこの間N i ’2a度の補正はNi
CO3で行ない、ドラッグアウトなどによる添加成分の
若干の変動は試薬により適宜調整した。
とイオン補給を行ない、これを50万ク一ロン/gまで
繰り返した。なおこの間N i ’2a度の補正はNi
CO3で行ない、ドラッグアウトなどによる添加成分の
若干の変動は試薬により適宜調整した。
50万ク一ロン/p通電後のZ n 2”、 Cr
”9度はほぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は0.
1g/gであった。また50万クーロン/1までのめっ
き層組成はほぼCrlO%、Ni 2%、PA51%、
残部Znと安定して推移し、表面外観や加工性(パウダ
リング性)も良好であった。
”9度はほぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は0.
1g/gであった。また50万クーロン/1までのめっ
き層組成はほぼCrlO%、Ni 2%、PA51%、
残部Znと安定して推移し、表面外観や加工性(パウダ
リング性)も良好であった。
(実施例2)
めっき浴として、Z n”=45g/N 、 Cr””
−20g/l 、 Co”=44g/II 、 FA
(平均分子量1万) =10g/l 、Na2”−1
8g/j! 、浴温80℃、pH1,8の硫酸酸性浴を
用いて、Pt電極を陽極として、電流密度200A/d
12、液流速100m/sinの条件で、1万クーロン
/flの連続めっきを行なった。
−20g/l 、 Co”=44g/II 、 FA
(平均分子量1万) =10g/l 、Na2”−1
8g/j! 、浴温80℃、pH1,8の硫酸酸性浴を
用いて、Pt電極を陽極として、電流密度200A/d
12、液流速100m/sinの条件で、1万クーロン
/flの連続めっきを行なった。
めっき層組成は、Cr2O%、Co7%、PA2%、残
部Znであった。1万ク一ロン/11通電後のめっき浴
中のCr6+は痕跡程度であった。
部Znであった。1万ク一ロン/11通電後のめっき浴
中のCr6+は痕跡程度であった。
次に、めっき浴11あたり2gの金属Zn粉末とCr
’ 0.5gを含むクロム酸水溶液を50℃で十分反応
させ、金属Znを溶解させた。反応後の水溶液中にはC
r6+は痕跡程度であり、はぼ全量かCr”+に還元さ
れていた。
’ 0.5gを含むクロム酸水溶液を50℃で十分反応
させ、金属Znを溶解させた。反応後の水溶液中にはC
r6+は痕跡程度であり、はぼ全量かCr”+に還元さ
れていた。
この水溶液をめっき浴に添加したところ、2+
Zn Cr3+m度はほぼ初期の濃度に回復した。
再び上記と同一の条件で1万クーロン/1の連続めっき
とイオン補給を行ない、これを50万クーロン/IIま
で繰り返した。なおこの間Co 2”tli度の補正は
Co COsで行ない、ドラッグアウトなどによる添加
成分の若干の変動は試薬により適宜調整した。
とイオン補給を行ない、これを50万クーロン/IIま
で繰り返した。なおこの間Co 2”tli度の補正は
Co COsで行ない、ドラッグアウトなどによる添加
成分の若干の変動は試薬により適宜調整した。
50万ク一ロン/g通電後のZ n ””、 Cr
”9度はほぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は0.
15g/Illであった。また50万クーロン/ρまで
のめっき層組成はほぼCr2O%、Co 7%、PA2
%、残部Znと安定して推移し、表面外観や加工性(パ
ウダリング性)も良好てあった。
”9度はほぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は0.
15g/Illであった。また50万クーロン/ρまで
のめっき層組成はほぼCr2O%、Co 7%、PA2
%、残部Znと安定して推移し、表面外観や加工性(パ
ウダリング性)も良好てあった。
(実施例3)
2十
めっき浴として、Zn −45g/l)、Cr3”5
−10g/II 、 N i 2+〜45g/I 、P
AS (半均分子量3500) −2fr/II 、
Na2”−32g/l) 、浴温60℃、pH2,0の
硫酸酸性浴を用いて、Pb−5%Sn電極を陽極として
、電流密度150A/da+2液流速100m/■1n
の条件で、1万クーロン/pの連続めっきを行なった。
−10g/II 、 N i 2+〜45g/I 、P
AS (半均分子量3500) −2fr/II 、
Na2”−32g/l) 、浴温60℃、pH2,0の
硫酸酸性浴を用いて、Pb−5%Sn電極を陽極として
、電流密度150A/da+2液流速100m/■1n
の条件で、1万クーロン/pの連続めっきを行なった。
めっき層組成は、CrlO%、Ni 5%、PASO1
1%、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめ
っき洛中のC「6+は0.2g/fl 、Pbは10p
pmであった。
1%、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめ
っき洛中のC「6+は0.2g/fl 、Pbは10p
pmであった。
次に、めっき洛中にめっき浴1gあたり2gの金属Zn
粉末およびCr ’ 0.2gを含むクロム酸水溶液を
添加して50℃で十分反応させ、金属Znを溶解させた
。
粉末およびCr ’ 0.2gを含むクロム酸水溶液を
添加して50℃で十分反応させ、金属Znを溶解させた
。
反応後のめっき浴中のCr6+は痕跡程度であり、Z
n”、 Cr””8度はほぼ初期の濃度に回復した。
n”、 Cr””8度はほぼ初期の濃度に回復した。
(実施例4)
めっき浴として、Z n ””−45g / I s
Cr ””=20z/I 、 N i 2”−22g/
I 、 PA S (平均分子量3500) = 2
g/l 、N a ””−32tr/1 、浴温55℃
、pH1,5の硫酸酸性浴を用いて、Pb−3%In−
0,5%Ag電極を陽極として、電流密度150A/d
112、液流速Loom/winの条件で、1万クーロ
ン/IIの連続めっきを行なった。
Cr ””=20z/I 、 N i 2”−22g/
I 、 PA S (平均分子量3500) = 2
g/l 、N a ””−32tr/1 、浴温55℃
、pH1,5の硫酸酸性浴を用いて、Pb−3%In−
0,5%Ag電極を陽極として、電流密度150A/d
112、液流速Loom/winの条件で、1万クーロ
ン/IIの連続めっきを行なった。
めっき層組成は、Cr2O%、Ni 2%、PASO0
2%、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめ
っき浴中のCr6+はQ、3tr/II 、 Pbは5
ppmであった。
2%、残部Znであった。1万ク一ロン/g通電後のめ
っき浴中のCr6+はQ、3tr/II 、 Pbは5
ppmであった。
次に、めっき浴中にめっき浴litあたり2gの金属Z
n粉末とCr ’ 0.5gを含むクロム酸水溶液を添
加して、50℃で十分反応させ金属Znを溶解させた。
n粉末とCr ’ 0.5gを含むクロム酸水溶液を添
加して、50℃で十分反応させ金属Znを溶解させた。
反応後のめっき浴中のCr6+は痕跡程度であり、Z
n2+、 Cr”6度はほぼ初期の濃度に回復した。
n2+、 Cr”6度はほぼ初期の濃度に回復した。
(実施例5)
実施例3の1万クーロン/IIの連続めっき後のめっき
浴中に、めっき浴litあたり2gの金属Zn粉末とC
r ’ O,1gを含むクロム酸水溶液を添加して50
℃で十分反応させ金属Znを溶解させた。
浴中に、めっき浴litあたり2gの金属Zn粉末とC
r ’ O,1gを含むクロム酸水溶液を添加して50
℃で十分反応させ金属Znを溶解させた。
さらにめっき浴中に、めっき浴IIIあたりCr ”
O,1gを含む硫酸クロム水溶液と0.5gのS r
COs粉末を添加溶解させた。反応後のめりき浴中のC
r6+は痕跡程度であり、pbは1 ppm以下であっ
た。
O,1gを含む硫酸クロム水溶液と0.5gのS r
COs粉末を添加溶解させた。反応後のめりき浴中のC
r6+は痕跡程度であり、pbは1 ppm以下であっ
た。
またZn2+、Cr3+a度はほぼ初期の濃度に回復し
た。再び上記と同一の条件で1万ク一ロン/gの連続め
っきとイオン補給を行ない、これを100万クーロン/
1まで繰り返した。なおこの間N i ”fi度の補正
はNiC0で行ない、ドラッグアウトなどによる添加成
分の若干の変動は試薬により適宜調整し、さらに不溶化
したS r S O4はフィルターで除去した。
た。再び上記と同一の条件で1万ク一ロン/gの連続め
っきとイオン補給を行ない、これを100万クーロン/
1まで繰り返した。なおこの間N i ”fi度の補正
はNiC0で行ない、ドラッグアウトなどによる添加成
分の若干の変動は試薬により適宜調整し、さらに不溶化
したS r S O4はフィルターで除去した。
100万クーロン/g通電後のZn、Cr”@2+
度はほぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は痕跡程度
であり、pbは1 ppI11以下であった。また10
0万クーロン/pまでのめっき層組成はほぼCrlO%
、N15%、PASo、1%、残部Znと安定して推移
し、表面外観や加工性(パウダリング性)も良好であっ
た。
であり、pbは1 ppI11以下であった。また10
0万クーロン/pまでのめっき層組成はほぼCrlO%
、N15%、PASo、1%、残部Znと安定して推移
し、表面外観や加工性(パウダリング性)も良好であっ
た。
(実施例6)
実施例4の1万ク一ロン/gの連続めっき後のめっき浴
中に、めっき浴1gあたり2gの金属Zn粉末とCr
’ 0.3gを含むクロム酸水溶液を添加して、50℃
で十分反応させ金属Znを溶解させた。
中に、めっき浴1gあたり2gの金属Zn粉末とCr
’ 0.3gを含むクロム酸水溶液を添加して、50℃
で十分反応させ金属Znを溶解させた。
さらにめっき浴中に、めっき浴IgあたりCr ””
0.2gを含む硫酸クロム水溶液と1gのB a CO
a粉末を添加溶解させた。反応後のめっき浴中のCr6
+は痕跡程度であり、pbは1 ppm以下であった。
0.2gを含む硫酸クロム水溶液と1gのB a CO
a粉末を添加溶解させた。反応後のめっき浴中のCr6
+は痕跡程度であり、pbは1 ppm以下であった。
またZ n ”、 Cr ”78度はほぼ初期の濃度
に回復した。再び上記と同一の条件で1万ク一ロン/g
の連続めっきとイオン補給を行ない、これを100万ク
ーロン/gまで繰り返した。
に回復した。再び上記と同一の条件で1万ク一ロン/g
の連続めっきとイオン補給を行ない、これを100万ク
ーロン/gまで繰り返した。
、2+
なおこの間Ni 濃度の補正はN t COsで行ない
、ドラッグアウトなどによる添加成分の若干の変動は試
薬により適宜調整し、不溶化したB a S O4はフ
ィルターで除去した。
、ドラッグアウトなどによる添加成分の若干の変動は試
薬により適宜調整し、不溶化したB a S O4はフ
ィルターで除去した。
2+
100万クーロン/I通電後のZn、Cr3”6度はほ
ぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は狼跡程度であり
、pbは1pp−以下であった。また100万クーロン
/gまでのめっき層組成はほぼCr2O%、Ni 2%
、PASo、2%、残部Znと安定して推移し、表面外
観や加工性(パウダリング性)も良好であった。
ぼ初期の濃度と同一であり、Cr6+は狼跡程度であり
、pbは1pp−以下であった。また100万クーロン
/gまでのめっき層組成はほぼCr2O%、Ni 2%
、PASo、2%、残部Znと安定して推移し、表面外
観や加工性(パウダリング性)も良好であった。
(比較例1)
実施例1で、Z n2”、 Cr”+濃度の調整をZn
C0と硫酸クロムの補給で行なったところ、20万ク
一ロン/g付近からC「含有率が低下する傾向が現われ
はじめ、50万ク一ロン/g後のめっき層組成はCr7
%、Ni 2%、PAS O,1%、残部Znに変化し
ていた。
C0と硫酸クロムの補給で行なったところ、20万ク
一ロン/g付近からC「含有率が低下する傾向が現われ
はじめ、50万ク一ロン/g後のめっき層組成はCr7
%、Ni 2%、PAS O,1%、残部Znに変化し
ていた。
(比較例2)
実施例6で、Z n2”、 Cr” 6度の調整をZ
n COaと硫酸クロムの補給で行ない、かつS r
CO3粉末の添加も行なわなかったところ、20万ク一
ロン/g付近からCr含有率が低下する傾向が現われは
じめ、100万クーロン/g後のめっき層組成はCr1
5%、Ni 1%、PASO,1%、残部Znに変化し
ていた。
n COaと硫酸クロムの補給で行ない、かつS r
CO3粉末の添加も行なわなかったところ、20万ク一
ロン/g付近からCr含有率が低下する傾向が現われは
じめ、100万クーロン/g後のめっき層組成はCr1
5%、Ni 1%、PASO,1%、残部Znに変化し
ていた。
まためっき浴中のCr6+は10g/II SPbは2
0ppmに増加していた。めっきの表面外観には光沢ム
ラがあり、めっき電流効率と加工性も低下していた。
0ppmに増加していた。めっきの表面外観には光沢ム
ラがあり、めっき電流効率と加工性も低下していた。
(実施例7)
2+
めっき浴として、Zn −45g/l、Cr”−20
tr/I 、 Ni””−22g/l) 、 PAS
(平均分子量3500) =2g/I 、 Na2”−
32g/fl 、浴温50℃、I)Hl、3の硫酸酸性
浴を用いて、第1図に示した電気めっき設備で連続めっ
きを行なった。めっきセル1において陽極2はPb−3
%In−0,5%Ag電極とし、電流密度80A/d■
2、液流速100m /麿Inの条件で行なった。
tr/I 、 Ni””−22g/l) 、 PAS
(平均分子量3500) =2g/I 、 Na2”−
32g/fl 、浴温50℃、I)Hl、3の硫酸酸性
浴を用いて、第1図に示した電気めっき設備で連続めっ
きを行なった。めっきセル1において陽極2はPb−3
%In−0,5%Ag電極とし、電流密度80A/d■
2、液流速100m /麿Inの条件で行なった。
反応槽6には金属Zn板を充填し、貯槽8からCr ’
30g /Iのクロム酸水溶液を反応槽6の底部に流入
させた。ホッパー11から14にはそれぞれPAS、炭
酸ニッケル、Cr 3”Jog /1の硫酸クロム水溶
液、S r COsを仕込んだ。これらを操作すること
により、連続通電量100万クーロン/gまでZ n”
”、 Cr3”、 N i 2”s度をほぼ初期値に
維持でき、Cr6+を痕跡程度、pbを1 ppm以下
に抑制できた。
30g /Iのクロム酸水溶液を反応槽6の底部に流入
させた。ホッパー11から14にはそれぞれPAS、炭
酸ニッケル、Cr 3”Jog /1の硫酸クロム水溶
液、S r COsを仕込んだ。これらを操作すること
により、連続通電量100万クーロン/gまでZ n”
”、 Cr3”、 N i 2”s度をほぼ初期値に
維持でき、Cr6+を痕跡程度、pbを1 ppm以下
に抑制できた。
また100万クーロン/IIまでのめっき層組成はほぼ
CrlO%、Ni 2%、PASO,1%、残部Znと
安定して推移し、表面外観や加工性(パウダリング性)
も良好であった。
CrlO%、Ni 2%、PASO,1%、残部Znと
安定して推移し、表面外観や加工性(パウダリング性)
も良好であった。
(発明の効果)
以上述べた如く、本発明により耐食性の極めて優れた高
Cr含有率のZn系複合電気めっき鋼板を、長期にわた
って安定した品質で製造することが可能であり、工業生
産を行なう上で優れた効果を発揮するものである。
Cr含有率のZn系複合電気めっき鋼板を、長期にわた
って安定した品質で製造することが可能であり、工業生
産を行なう上で優れた効果を発揮するものである。
第1図、第2図、第3図はそれぞれ本発明のプロセス例
を示す説明図である。 1:めっきセル 2:不溶解性陽極3:通電
ロール 4:鋼 帯 5:めっき浴の循環タンク 6:反応槽7:ホッパー
8=タンク9:混合点 l
O:貯 槽11〜15:ホッパ−16:フイルター代
理 人 弁理士 茶野木 立 失策 図 第 図 第 3図 手 続 補 正 書 (自発) 平成2年4月1 日 平成2年特許願第47 34号 2、発明の名称 複合電気めっき鋼板の製造方法 3、補正をする者 事件との関係
を示す説明図である。 1:めっきセル 2:不溶解性陽極3:通電
ロール 4:鋼 帯 5:めっき浴の循環タンク 6:反応槽7:ホッパー
8=タンク9:混合点 l
O:貯 槽11〜15:ホッパ−16:フイルター代
理 人 弁理士 茶野木 立 失策 図 第 図 第 3図 手 続 補 正 書 (自発) 平成2年4月1 日 平成2年特許願第47 34号 2、発明の名称 複合電気めっき鋼板の製造方法 3、補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、Cr^3^+イオン、鉄族金属イオン、カチオンポ
リマーを含有する酸性Zn系めっき浴を用いてCr5〜
30重量%、鉄族金属1〜10重量%、カチオンポリマ
ー0.001〜5重量%を含有するZn系複合電気めっ
き鋼板を製造する際、Cr^6^+イオンを含む水溶液
を金属Znに接触させてCr^3^+イオンに還元し、
これをめっき浴に供給することを特徴とする複合電気め
っき鋼板の製造方法。 2、Cr^6^+イオンが生成しためっき浴を金属Zn
に接触させてCr^3^+イオンに還元し、これをめっ
き浴に供給することを特徴とする請求項1記載の複合電
気めっき鋼板の製造方法。 3、Cr^6^+イオンを含む水溶液およびCr^6^
+イオンが生成しためっき浴を混合して金属Znに接触
させてCr^3^+イオンに還元し、これをめっき浴に
供給することを特徴とする請求項1記載の複合電気めっ
き鋼板の製造方法。 4、Cr^3^+イオンの1部を硫酸クロムとして供給
し、かつSr炭酸塩およびまたはBa炭酸塩をめっき浴
に供給することを加えた請求項1〜3記載の複合電気め
っき鋼板の製造方法。 5、鉄族金属がNiである請求項1〜3記載の複合電気
めっき鋼板の製造方法。 6、カチオンポリマーが4級アミンポリマーである請求
項1〜3記載の複合電気めっき鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4783490A JPH03249200A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 複合電気めっき鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4783490A JPH03249200A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 複合電気めっき鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03249200A true JPH03249200A (ja) | 1991-11-07 |
Family
ID=12786390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4783490A Pending JPH03249200A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 複合電気めっき鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03249200A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01215997A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Nippon Steel Corp | 亜鉛−クロム電気めっき方法 |
| JPH01290798A (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-22 | Nippon Steel Corp | 耐食性と溶接性に優れた複合電気めっき鋼板 |
| JPH01309998A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-14 | Nippon Steel Corp | 耐食性と表面光沢に優れた複合電気めっき鋼板の製造方法 |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP4783490A patent/JPH03249200A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01215997A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Nippon Steel Corp | 亜鉛−クロム電気めっき方法 |
| JPH01290798A (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-22 | Nippon Steel Corp | 耐食性と溶接性に優れた複合電気めっき鋼板 |
| JPH01309998A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-14 | Nippon Steel Corp | 耐食性と表面光沢に優れた複合電気めっき鋼板の製造方法 |
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