JPH03257178A - 装飾部材の蝕刻方法 - Google Patents
装飾部材の蝕刻方法Info
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- JPH03257178A JPH03257178A JP5403690A JP5403690A JPH03257178A JP H03257178 A JPH03257178 A JP H03257178A JP 5403690 A JP5403690 A JP 5403690A JP 5403690 A JP5403690 A JP 5403690A JP H03257178 A JPH03257178 A JP H03257178A
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Landscapes
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はステンレス材を用いた装飾部材表面に凹状また
は凸状の文字および模様を形成する装飾部材の蝕刻方法
に関する。
は凸状の文字および模様を形成する装飾部材の蝕刻方法
に関する。
[発明の概要1
本発明はステンレス材を用いた装飾部材表面に、凹状ま
たは凸状の文字および模様を形成する方法において、該
部材表面に予め電気メッキ法により金ストライクメッキ
層を被覆し、次いで有機系メッキ用レジストを用い凹状
となる文字および模様のパターンを印刷した後、電気メ
ッキ法により金メッキ層を被覆し、その後に該有機系メ
ッキ用レジストを有機溶剤にて溶解除去し、次に金メッ
キ剥離液中に浸漬し金ストライクメッキ層を剥離除去す
ることにより文字および模様のパターンに素地表面を露
出させ金メッキ層によるエツチング用マスキング層を形
成した後、エツチング液により蝕刻を行いしかる後金メ
ッキ剥離液中に浸漬し該金メッキ層を剥離除去すること
により装飾部材表面に所望の書体図パターンを凹状また
は凸状に形成し、装飾的価値の高い装飾部材を品質的に
安定で且つ安価に提供するところにある。
たは凸状の文字および模様を形成する方法において、該
部材表面に予め電気メッキ法により金ストライクメッキ
層を被覆し、次いで有機系メッキ用レジストを用い凹状
となる文字および模様のパターンを印刷した後、電気メ
ッキ法により金メッキ層を被覆し、その後に該有機系メ
ッキ用レジストを有機溶剤にて溶解除去し、次に金メッ
キ剥離液中に浸漬し金ストライクメッキ層を剥離除去す
ることにより文字および模様のパターンに素地表面を露
出させ金メッキ層によるエツチング用マスキング層を形
成した後、エツチング液により蝕刻を行いしかる後金メ
ッキ剥離液中に浸漬し該金メッキ層を剥離除去すること
により装飾部材表面に所望の書体図パターンを凹状また
は凸状に形成し、装飾的価値の高い装飾部材を品質的に
安定で且つ安価に提供するところにある。
[従来の技術]
従来のステンレス材を用いた装飾部材表面に、凹状また
は凸状の文字または模様を形成する方法には、 ■部材表面にフォトレジ法により所望の書体図パターン
をマスキングした後にエツチングを行い、次にマスキン
グを剥離除去するフォトエツチング法。
は凸状の文字または模様を形成する方法には、 ■部材表面にフォトレジ法により所望の書体図パターン
をマスキングした後にエツチングを行い、次にマスキン
グを剥離除去するフォトエツチング法。
■部材表面に有機系のメッキ用レジストをタコ印刷・ス
クリーン印刷等により所望の書体図パターンに印刷マス
キングした後に電気メッキ法により銀、金、金合金メッ
キ層の内の一種を被覆形成し、次に印刷マスキングを剥
離除去し、次いでエツチングを行った後にメッキ層を剥
離除去する方法。
クリーン印刷等により所望の書体図パターンに印刷マス
キングした後に電気メッキ法により銀、金、金合金メッ
キ層の内の一種を被覆形成し、次に印刷マスキングを剥
離除去し、次いでエツチングを行った後にメッキ層を剥
離除去する方法。
が知られている。
[発明が解決しようとする課題〕
しかし、おおむね複雑な形状、多種多様な表面仕上げを
有する装飾部材の選択的所定部分にのみ蝕刻を行うため
には選択的所定部分以外の表面全体をマスキングする必
要があるが、従来の方法では次の欠点がある。
有する装飾部材の選択的所定部分にのみ蝕刻を行うため
には選択的所定部分以外の表面全体をマスキングする必
要があるが、従来の方法では次の欠点がある。
■の方法では、予め表面全体にフォトレジ法(・をコー
ティングする際、複雑形状であるために液たまり防止が
不可能であり膜厚のバラツキが発生してしまうため、露
光時の位置合せ用治具へのセットが困難である。又、レ
ジスト膜はピンホールが発生しやすく、ピンホール部は
エツチングされてしまい、装飾価値が低下してしまうた
め、ピンホール修正が必要であるが、肉眼では発見しに
くいために顕微鏡等により拡大して検査、修正しなくて
はならず長時間を要し、作業効率が悪く、コストが高い
等の問題がある。
ティングする際、複雑形状であるために液たまり防止が
不可能であり膜厚のバラツキが発生してしまうため、露
光時の位置合せ用治具へのセットが困難である。又、レ
ジスト膜はピンホールが発生しやすく、ピンホール部は
エツチングされてしまい、装飾価値が低下してしまうた
め、ピンホール修正が必要であるが、肉眼では発見しに
くいために顕微鏡等により拡大して検査、修正しなくて
はならず長時間を要し、作業効率が悪く、コストが高い
等の問題がある。
■の方法では、ステンレス上への電気メッキを行う際、
素地との密着性確保のためにメッキ前洗浄に於て強力な
活性化が必要であり、予め印刷されたレジストが該メッ
キ前洗浄により部分的に剥離してしまう、又、印刷時に
付着した汚れ・印刷後の1/シスト焼成時の発生ガス付
着による汚れによるメッキ層の密着不良が発生してしま
う等により所定部分以外の部分がエツチングされてしま
う等の問題がある0本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、ステンレス材を用
いた装飾部材表面に所望の書体図パターンを凹、状また
は凸状に形成し装飾的価値の高い装飾部材を品質的に安
定で且つ安価に提供することにある。
素地との密着性確保のためにメッキ前洗浄に於て強力な
活性化が必要であり、予め印刷されたレジストが該メッ
キ前洗浄により部分的に剥離してしまう、又、印刷時に
付着した汚れ・印刷後の1/シスト焼成時の発生ガス付
着による汚れによるメッキ層の密着不良が発生してしま
う等により所定部分以外の部分がエツチングされてしま
う等の問題がある0本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、ステンレス材を用
いた装飾部材表面に所望の書体図パターンを凹、状また
は凸状に形成し装飾的価値の高い装飾部材を品質的に安
定で且つ安価に提供することにある。
「課題を解決するための手段〕
本発明の装飾部材の蝕刻方法は、ステンレス材を用いた
装飾部材表面に、凹状または凸状の文字および模様を形
成する方法において、該部材表面に予め電気メッキ法に
より金ストライクメッキ層を被覆し、次いで有機系メッ
キ用レジストを用い凹状となる文字および模様のパター
ンを印刷した後、電気メッキ法により金メッキ層を被覆
し、その後に該有機系メッキ用レジストを有機溶剤にて
溶解除去し、次に金メッキ剥離液中に浸漬し金ストライ
クメッキ層を剥離除去することにより文字および模様の
パターンに素地表面を露出させ金メッキ層によるエツチ
ング用マスキング層を形成した後、エツチング液により
蝕刻を行いしかる後金メッキ剥離液中に浸漬し該金メッ
キ層を剥離除去することにを特徴とする。
装飾部材表面に、凹状または凸状の文字および模様を形
成する方法において、該部材表面に予め電気メッキ法に
より金ストライクメッキ層を被覆し、次いで有機系メッ
キ用レジストを用い凹状となる文字および模様のパター
ンを印刷した後、電気メッキ法により金メッキ層を被覆
し、その後に該有機系メッキ用レジストを有機溶剤にて
溶解除去し、次に金メッキ剥離液中に浸漬し金ストライ
クメッキ層を剥離除去することにより文字および模様の
パターンに素地表面を露出させ金メッキ層によるエツチ
ング用マスキング層を形成した後、エツチング液により
蝕刻を行いしかる後金メッキ剥離液中に浸漬し該金メッ
キ層を剥離除去することにを特徴とする。
また前記金ストライクメッキ層が24にで、厚みが0.
lLLm以内であり、前記金メッキ層14〜24にのA
u−Ag、Au−Ni、Au−Co、Au−5n、Au
−Pd−Cu、Auの金合金または純金メッキ層の内の
一種であり、庫みが0.5〜5μmであることを特徴と
する。
lLLm以内であり、前記金メッキ層14〜24にのA
u−Ag、Au−Ni、Au−Co、Au−5n、Au
−Pd−Cu、Auの金合金または純金メッキ層の内の
一種であり、庫みが0.5〜5μmであることを特徴と
する。
[作 用]
本発明の上記方法によれば、ステンレス材を用いた装飾
部材表面全体に予め電気メッキ法により金ストライクメ
ッキ層を被覆することにより、般的に行われているステ
ンレス表面活性化のメッキ前洗浄が容易に可能であり、
素地との密着性が確保できる。又、メッキ被膜厚みは0
.IL1m以内であるため、印刷時の位置合せ用治具へ
のセットには何ら影響しない、従って印刷は選択的所定
部分に所望の書体図パターンの転写が可能である。印刷
後の金メッキ層被覆に於けるメッキ前洗浄は予め金スト
ライクメッキ層が形成されているためステンレス用の強
力な活性化は不要であり、−量的な脱脂、中和洗浄のみ
で密着性確保が可能であるため、レジストの剥離は発生
しない0次に、レジスト溶解除去後の金ストライクメッ
キ層の剥離除去においては、上層の金メッキ層も剥離す
る恐れもあるが、金ストライクメッキ層は0.1μm以
内であるため短時間で剥離でき、しかも、上層の金メッ
キ層が0.5〜5μmであるため上層の金メッキ層への
影響はない、上記方法により蝕刻用のマスキングは素地
との密着性が確保され、且つ書体図パターンを正確に転
写した金メッキ層により形成され、蝕刻が容易に可能で
ある。以下本発明について実施例に基づいて説明する。
部材表面全体に予め電気メッキ法により金ストライクメ
ッキ層を被覆することにより、般的に行われているステ
ンレス表面活性化のメッキ前洗浄が容易に可能であり、
素地との密着性が確保できる。又、メッキ被膜厚みは0
.IL1m以内であるため、印刷時の位置合せ用治具へ
のセットには何ら影響しない、従って印刷は選択的所定
部分に所望の書体図パターンの転写が可能である。印刷
後の金メッキ層被覆に於けるメッキ前洗浄は予め金スト
ライクメッキ層が形成されているためステンレス用の強
力な活性化は不要であり、−量的な脱脂、中和洗浄のみ
で密着性確保が可能であるため、レジストの剥離は発生
しない0次に、レジスト溶解除去後の金ストライクメッ
キ層の剥離除去においては、上層の金メッキ層も剥離す
る恐れもあるが、金ストライクメッキ層は0.1μm以
内であるため短時間で剥離でき、しかも、上層の金メッ
キ層が0.5〜5μmであるため上層の金メッキ層への
影響はない、上記方法により蝕刻用のマスキングは素地
との密着性が確保され、且つ書体図パターンを正確に転
写した金メッキ層により形成され、蝕刻が容易に可能で
ある。以下本発明について実施例に基づいて説明する。
〔実 施 例1
第1図の(a)〜(g)は本発明の蝕刻仕上を行う場合
の5tJS304を素材とした時計用外装部品の基本製
造工程を段階的に示した該部品の一部分を示す断面図で
ある。まず第1図(a)に示す様に5US304素材1
よりなる時計用外装部品表面全体に電気メッキ法により
金ストライクメッキ層2を0,05LLm形成させた6
次に予め準備された所望の書体図パターンを用いて作成
したガラスJIII版を用い(b)に示す様に有機系レ
ジスト3をタコ印刷により部品表面に印刷し焼成の後に
、(C)に示す様にアルカリ脱脂、酸中和の前処理洗浄
を行い、次いで電気メッキ法により、23にのAu−N
i合金メッキ層4を2μm形成した。その後(d)に示
す様に有機溶剤中に浸漬して有機系レジスト3を剥離除
去し、次いで(e)に示す様に、金剥離液中に10秒間
浸漬して表面に露出した金ストライクメッキ層2を剥離
除去し蝕刻しようとする部分のステンレス素地を露出さ
せた後、42%塩化第二鉄溶液中に浸漬し、60秒間部
品を揺動してステンレス素地露出部を蝕刻し水洗を行っ
た後の状態を(e)に示した。更に、金剥離液中に浸漬
して蝕刻用マスキングに用いた23にのAu−Ni合金
メッキ層4および金ストライクメッキ層2を剥離除去し
くg)に示す様に5US304から成る時計用外装部品
の表面に凹状または凸状の文字および模様を形成した。
の5tJS304を素材とした時計用外装部品の基本製
造工程を段階的に示した該部品の一部分を示す断面図で
ある。まず第1図(a)に示す様に5US304素材1
よりなる時計用外装部品表面全体に電気メッキ法により
金ストライクメッキ層2を0,05LLm形成させた6
次に予め準備された所望の書体図パターンを用いて作成
したガラスJIII版を用い(b)に示す様に有機系レ
ジスト3をタコ印刷により部品表面に印刷し焼成の後に
、(C)に示す様にアルカリ脱脂、酸中和の前処理洗浄
を行い、次いで電気メッキ法により、23にのAu−N
i合金メッキ層4を2μm形成した。その後(d)に示
す様に有機溶剤中に浸漬して有機系レジスト3を剥離除
去し、次いで(e)に示す様に、金剥離液中に10秒間
浸漬して表面に露出した金ストライクメッキ層2を剥離
除去し蝕刻しようとする部分のステンレス素地を露出さ
せた後、42%塩化第二鉄溶液中に浸漬し、60秒間部
品を揺動してステンレス素地露出部を蝕刻し水洗を行っ
た後の状態を(e)に示した。更に、金剥離液中に浸漬
して蝕刻用マスキングに用いた23にのAu−Ni合金
メッキ層4および金ストライクメッキ層2を剥離除去し
くg)に示す様に5US304から成る時計用外装部品
の表面に凹状または凸状の文字および模様を形成した。
上記方法により作成した時計用外装部品は、上載的に高
級感を有するものであった0品質試験は人工汗耐食試験
(40℃×湿度90%X48H)、人工海水耐食試験(
40℃×濃度90%×48H)を行い上記試験結果は全
て時計用外装部品としての品質を十分満足するものであ
った。
級感を有するものであった0品質試験は人工汗耐食試験
(40℃×湿度90%X48H)、人工海水耐食試験(
40℃×濃度90%×48H)を行い上記試験結果は全
て時計用外装部品としての品質を十分満足するものであ
った。
また、本発明の適用にあたっては、メガネフレーム、ラ
イター、ネクタイビン、装身具等の装飾部品への適用も
可能である。
イター、ネクタイビン、装身具等の装飾部品への適用も
可能である。
[発明の効果1
以上述べた如く本発明によれば、ステンレス材を用いた
装飾部材表面に予め電気メッキ法により金ストライクメ
ッキ層を形成した後に所望の書体図パターンを有機系メ
ッキ用レジストを用いて印刷し、次いで電気メッキ法に
より金メッキ層を被覆し、その後に該有機系メッキ用レ
ジストを有機溶剤にて溶解除去し1次に金メッキ剥離液
中に浸漬し金ストライクメッキ層を剥離除去することに
より文字および模様のパターンに素地表面を露出させ金
メッキ層によるエツチング用マスキング層を形成した後
、エツチング液により蝕刻を行いしかる後金メッキ剥離
液中に浸漬し該金メッキ層を剥離除去することにより、
従来のフォトレジ法における治具セット困難、ピンホー
ル修正、又はメッキ被膜によるマスキングにおけるレジ
スト剥離等のCaを克服し、選択的所定部分に所望の書
体図パターンを凹状または凸状に形成し、装飾的価値の
高い装飾部材を品質的に安定で且つ、安価に提供するこ
とが回前となった。
装飾部材表面に予め電気メッキ法により金ストライクメ
ッキ層を形成した後に所望の書体図パターンを有機系メ
ッキ用レジストを用いて印刷し、次いで電気メッキ法に
より金メッキ層を被覆し、その後に該有機系メッキ用レ
ジストを有機溶剤にて溶解除去し1次に金メッキ剥離液
中に浸漬し金ストライクメッキ層を剥離除去することに
より文字および模様のパターンに素地表面を露出させ金
メッキ層によるエツチング用マスキング層を形成した後
、エツチング液により蝕刻を行いしかる後金メッキ剥離
液中に浸漬し該金メッキ層を剥離除去することにより、
従来のフォトレジ法における治具セット困難、ピンホー
ル修正、又はメッキ被膜によるマスキングにおけるレジ
スト剥離等のCaを克服し、選択的所定部分に所望の書
体図パターンを凹状または凸状に形成し、装飾的価値の
高い装飾部材を品質的に安定で且つ、安価に提供するこ
とが回前となった。
第1図(a)〜(g)は本発明の蝕刻仕上を行う場合の
5US304を素材とした時計用外装部品の基本製造工
程を段階的に示した該部品の一部分を示す断面図である
。 1 ・ ・ ・ 5US304 2・・・金ストライクメッキ層 3・・・有機系レジスト 4・・・Au−Ni合金メッキ層 以 上
5US304を素材とした時計用外装部品の基本製造工
程を段階的に示した該部品の一部分を示す断面図である
。 1 ・ ・ ・ 5US304 2・・・金ストライクメッキ層 3・・・有機系レジスト 4・・・Au−Ni合金メッキ層 以 上
Claims (2)
- (1)ステンレス材を用いた装飾部材表面に、凹状また
は凸状の文字および模様を形成する方法において、該部
材表面に予め電気メッキ法により金ストライクメッキ層
を被覆し、次いで有機系メッキ用レジストを用い凹状と
なる文字および模様のパターンを印刷した後、電気メッ
キ法により金メッキ層を被覆し、その後に該有機系メッ
キ用レジストを有機溶剤にて溶解除去し、次に金メッキ
剥離液中に浸漬し金ストライクメッキ層を剥離除去する
ことにより文字および模様のパターンに素地表面を露出
させ金メッキ層によるエッチング用マスキング層を形成
した後、エッチング液により蝕刻を行い、しかる後金メ
ッキ剥離液中に浸漬し該金メッキ層を剥離除去すること
を特徴とする装飾部材の蝕刻方法。 - (2)前記金ストライクメッキ層が24Kで、厚みが0
.1μm以内であり、前記金メッキ層が14〜24Kの
Au−Ag、Au−Ni、Au−Co、Au−Sn、A
u−Pd−Cu、Auの金合金または純金メッキ層の内
の一種であり、厚みが0.5〜5μmであることを特徴
とする請求項1記載の装飾部材の蝕刻方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5403690A JPH03257178A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 装飾部材の蝕刻方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5403690A JPH03257178A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 装飾部材の蝕刻方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03257178A true JPH03257178A (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=12959365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5403690A Pending JPH03257178A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 装飾部材の蝕刻方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03257178A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032557A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ステンレス基板への金めっきパターンの形成方法 |
| JP2013139639A (ja) * | 2011-02-09 | 2013-07-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 金めっき層を有するステンレス基板 |
| JP2013216981A (ja) * | 2013-07-31 | 2013-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | ステンレス基板 |
| JP2014001409A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | ステンレス基板への高分子化合物層と金めっきパターンの形成方法 |
| JP2017082339A (ja) * | 2016-12-28 | 2017-05-18 | 大日本印刷株式会社 | ステンレス基板 |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP5403690A patent/JPH03257178A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032557A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ステンレス基板への金めっきパターンの形成方法 |
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