JPH05124172A - 金属有孔板およびその製造方法 - Google Patents
金属有孔板およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH05124172A JPH05124172A JP10839191A JP10839191A JPH05124172A JP H05124172 A JPH05124172 A JP H05124172A JP 10839191 A JP10839191 A JP 10839191A JP 10839191 A JP10839191 A JP 10839191A JP H05124172 A JPH05124172 A JP H05124172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal plate
- base metal
- etching
- resist pattern
- metal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 85
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 29
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 8
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000010974 bronze Substances 0.000 abstract description 7
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- OPXJEFFTWKGCMW-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Ni].[Cu] OPXJEFFTWKGCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、例えばメタルマスクなどのよう
に、多数の微細な貫通孔を穿設してなる多孔金属板の製
造方法であって、金属板の上下面の貫通孔の輪郭部をシ
ャ−プ(ほぼ直角)に形成することができ、かつ貫通孔
の垂直性も良好なものとすることができることを特徴と
している。 【構成】 基体金属板21の両面の貫通孔形成部分を選
択的に被覆するようにして、レジストパターン22を形
成し、基体金属板の露出部分に、耐エッチング性に関し
て該基体金属板とは異質の異種金属層を電着したのち、
レジストパターン22を除去し、異種金属層23をマス
クとして、異種金属層23を実質的に腐食させないエッ
チング液により基体金属板21をエッチングして多数の
貫通孔24を形成するようにした。
に、多数の微細な貫通孔を穿設してなる多孔金属板の製
造方法であって、金属板の上下面の貫通孔の輪郭部をシ
ャ−プ(ほぼ直角)に形成することができ、かつ貫通孔
の垂直性も良好なものとすることができることを特徴と
している。 【構成】 基体金属板21の両面の貫通孔形成部分を選
択的に被覆するようにして、レジストパターン22を形
成し、基体金属板の露出部分に、耐エッチング性に関し
て該基体金属板とは異質の異種金属層を電着したのち、
レジストパターン22を除去し、異種金属層23をマス
クとして、異種金属層23を実質的に腐食させないエッ
チング液により基体金属板21をエッチングして多数の
貫通孔24を形成するようにした。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、精度の高い微細な貫
通孔が形成された金属有孔板およびその製造方法の改良
に関する。
通孔が形成された金属有孔板およびその製造方法の改良
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えばスクリーン印刷に用いられ
るメタルマスクや光学的スリット版(エンコーダーディ
スク)その他の金属有孔板の製造において、機械加工以
外の方法でその貫通孔を形成する方法は大別してエッチ
ング法、電鋳法の二方法が知られている。
るメタルマスクや光学的スリット版(エンコーダーディ
スク)その他の金属有孔板の製造において、機械加工以
外の方法でその貫通孔を形成する方法は大別してエッチ
ング法、電鋳法の二方法が知られている。
【0003】すなわち、エッチング法によれば、まず所
定の厚み(例えば100ー200μm)の金属板を洗
浄、乾燥させたのち、両面にレジストを塗布し、ついで
マスクを介して露光し、現像し、露出した金属面をエッ
チング液によりエッチングして貫通孔を形成させる。つ
いでレジストを除去してソリッドメタルマスク版とす
る。
定の厚み(例えば100ー200μm)の金属板を洗
浄、乾燥させたのち、両面にレジストを塗布し、ついで
マスクを介して露光し、現像し、露出した金属面をエッ
チング液によりエッチングして貫通孔を形成させる。つ
いでレジストを除去してソリッドメタルマスク版とす
る。
【0004】しかし、このようにして作られたソリッド
メタルマスク版は、図6に示すように、金属板1に穿設
された貫通孔2は輪郭部2aが、金属板1の厚みに比例
して大きくだれて傾斜状となりシャープ性に欠け、ま
た、孔の中間部分が内側に突出して垂直性に欠け、その
部分にインキの溜まりができるなどの問題があった。ま
たエッチング深度の調整も困難であり、孔精度の良好な
ものが得難いなどの問題があった。
メタルマスク版は、図6に示すように、金属板1に穿設
された貫通孔2は輪郭部2aが、金属板1の厚みに比例
して大きくだれて傾斜状となりシャープ性に欠け、ま
た、孔の中間部分が内側に突出して垂直性に欠け、その
部分にインキの溜まりができるなどの問題があった。ま
たエッチング深度の調整も困難であり、孔精度の良好な
ものが得難いなどの問題があった。
【0005】一方、電鋳法では、金属板を洗浄、乾燥さ
せたのち、両面にレジストを塗布し、ついでマスクを介
して露光し、現像し、露出した金属面を電鋳して貫通孔
を形成し、その後、レジストを除去し電鋳層を剥離して
ソリッドメタルマスク版を完成させる。この電鋳法では
精度並びに断面形状に於てエッチング法に勝るが、製造
速度において一般的に電鋳の速度はエッチングの速度に
比較して数十分の一乃至数百分の一程度であり加工に長
時間を要する欠点がある。
せたのち、両面にレジストを塗布し、ついでマスクを介
して露光し、現像し、露出した金属面を電鋳して貫通孔
を形成し、その後、レジストを除去し電鋳層を剥離して
ソリッドメタルマスク版を完成させる。この電鋳法では
精度並びに断面形状に於てエッチング法に勝るが、製造
速度において一般的に電鋳の速度はエッチングの速度に
比較して数十分の一乃至数百分の一程度であり加工に長
時間を要する欠点がある。
【0006】そこで、 エッチング法を改良したものと
して、例えば図7ないし図9に示す特開平1−1309
7号には耐エッチング性の異なる2種類の金属を3層に
積層させ、それぞれの金属層をそれぞれのエッチング液
で腐食させる方法が開示されている。ここでは、例えば
銅または真鍮からなる基体金属層12の両面にメッキ法
で例えばニッケル層13を付着させ、ニッケル−銅−ニ
ッケルからなる積層体を形成する。
して、例えば図7ないし図9に示す特開平1−1309
7号には耐エッチング性の異なる2種類の金属を3層に
積層させ、それぞれの金属層をそれぞれのエッチング液
で腐食させる方法が開示されている。ここでは、例えば
銅または真鍮からなる基体金属層12の両面にメッキ法
で例えばニッケル層13を付着させ、ニッケル−銅−ニ
ッケルからなる積層体を形成する。
【0007】ついで、その上下両面にレジスト層を形成
し、マスキングしたのち、露光し、現像し、レジストパ
ターン14を形成する(図7参照)。次に、基体金属は
侵食せずメッキ金属のみ侵食する薬品(例えば過酸化水
素と硝酸の混液からなる酸性エッチング液)を用いて、
露出するニッケル層13のみがエッチングされる(図8
参照)。
し、マスキングしたのち、露光し、現像し、レジストパ
ターン14を形成する(図7参照)。次に、基体金属は
侵食せずメッキ金属のみ侵食する薬品(例えば過酸化水
素と硝酸の混液からなる酸性エッチング液)を用いて、
露出するニッケル層13のみがエッチングされる(図8
参照)。
【0008】次に、メッキ金属は侵食せず基体金属のみ
侵食する薬品(アルカリ性エッチング液)で露出する基
体金属層12を選択的にエッチングし、基体金属層12
を貫通して貫通孔が成形される。そして、レジストパタ
ーン14を除去することにより、ソリッドメタルマスク
版15が形成される(図9参照)。
侵食する薬品(アルカリ性エッチング液)で露出する基
体金属層12を選択的にエッチングし、基体金属層12
を貫通して貫通孔が成形される。そして、レジストパタ
ーン14を除去することにより、ソリッドメタルマスク
版15が形成される(図9参照)。
【0009】しかしこの方法によっても、図8で示すよ
うにエッチング作業の進行に伴ってサイドエッチ15も
進行するので、どのようにレジストパターンの画線を修
正しても貫通孔形成個所を所定限度以上には接近させら
れず、ニッケル層が厚くなりエッチング深さが深くなる
ほど画線幅Lを狭めることができない欠点が残る。また
レジスト層の周縁部(図中丸で囲んだ部分)は若干の不
規則なエッチングとなり高精度化を妨げるので、インキ
の抜け性に劣り、インキのスムースな流通が得られない
などの問題が依然として残る。
うにエッチング作業の進行に伴ってサイドエッチ15も
進行するので、どのようにレジストパターンの画線を修
正しても貫通孔形成個所を所定限度以上には接近させら
れず、ニッケル層が厚くなりエッチング深さが深くなる
ほど画線幅Lを狭めることができない欠点が残る。また
レジスト層の周縁部(図中丸で囲んだ部分)は若干の不
規則なエッチングとなり高精度化を妨げるので、インキ
の抜け性に劣り、インキのスムースな流通が得られない
などの問題が依然として残る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記事情に
鑑みて創案されたものであって、電鋳法の利点である高
精度を維持しつつエッチング法の高速化を付加して貫通
孔の輪郭部をシャープに形成した金属有孔板およびその
製造方法を提供することを目的とする。
鑑みて創案されたものであって、電鋳法の利点である高
精度を維持しつつエッチング法の高速化を付加して貫通
孔の輪郭部をシャープに形成した金属有孔板およびその
製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決するため、耐エッチング性の異なる2種類の金属を
3層に積層させ、多孔化のためのパターニングは、中間
層の金属層のみをエッチング液で腐食させ、その外側の
金属層のパターニングは電鋳法により行なうという手段
を講じた。
解決するため、耐エッチング性の異なる2種類の金属を
3層に積層させ、多孔化のためのパターニングは、中間
層の金属層のみをエッチング液で腐食させ、その外側の
金属層のパターニングは電鋳法により行なうという手段
を講じた。
【0012】すなわち、請求項1の発明では、基体金属
板の両面の貫通孔形成部分を選択的に被覆するようにし
てレジストパターンを形成し、該レジストパターンが被
着されていない基体金属板の両面の露出部分に耐エッチ
ング性に関して該基体金属板とは異質の異種金属層を電
鋳により形成し、上記レジストパターンを除去すると共
に残留する上記異種金属層をマスクとして、該異種金属
層を実質的に腐食させないエッチング液により該基体金
属板をエッチングして基体金属板に貫通孔を穿設してな
る、という技術的手段を講じている。
板の両面の貫通孔形成部分を選択的に被覆するようにし
てレジストパターンを形成し、該レジストパターンが被
着されていない基体金属板の両面の露出部分に耐エッチ
ング性に関して該基体金属板とは異質の異種金属層を電
鋳により形成し、上記レジストパターンを除去すると共
に残留する上記異種金属層をマスクとして、該異種金属
層を実質的に腐食させないエッチング液により該基体金
属板をエッチングして基体金属板に貫通孔を穿設してな
る、という技術的手段を講じている。
【0013】また、請求項2の発明では、(a).基体金属
板の両面の貫通孔形成部分を選択的に被覆するようにし
て、レジストパターンを形成する工程と、(b).該レジス
トパターンが被着されていない基体金属板露出部分に、
耐エッチング性に関して該基体金属板とは異質の異種金
属層を電鋳により形成する工程と、(c).上記レジストパ
ターンを除去する工程と、(d).残留する該異種金属層を
マスクとして、該異種金属層を実質的に腐食させないエ
ッチング液により上記基体金属板をエッチングし、基体
金属板に貫通孔を形成する工程とからなる技術的手段を
講じている。
板の両面の貫通孔形成部分を選択的に被覆するようにし
て、レジストパターンを形成する工程と、(b).該レジス
トパターンが被着されていない基体金属板露出部分に、
耐エッチング性に関して該基体金属板とは異質の異種金
属層を電鋳により形成する工程と、(c).上記レジストパ
ターンを除去する工程と、(d).残留する該異種金属層を
マスクとして、該異種金属層を実質的に腐食させないエ
ッチング液により上記基体金属板をエッチングし、基体
金属板に貫通孔を形成する工程とからなる技術的手段を
講じている。
【0014】なお、上記基体金属板としては、例えば、
銅及び銅合金、アルミニウム及びアルミニウム合金、鉄
及び鉄合金等であって下記の異種金属をマスキング材と
してエッチング可能な金属を使用することができる。ま
た、上記異種金属としては、この基体金属に対するエッ
チング液ではエッチングされない任意の金属、例えば
銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、パラジウ
ム、錫、鉛等のような一般に使用されるメッキ可能な材
質が用いることができる。これら基体金属板、異種金属
層の厚みについては、特に制限はないが、電着される異
種金属層の厚みは、通常20〜300μm程度とするこ
とができる。
銅及び銅合金、アルミニウム及びアルミニウム合金、鉄
及び鉄合金等であって下記の異種金属をマスキング材と
してエッチング可能な金属を使用することができる。ま
た、上記異種金属としては、この基体金属に対するエッ
チング液ではエッチングされない任意の金属、例えば
銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、パラジウ
ム、錫、鉛等のような一般に使用されるメッキ可能な材
質が用いることができる。これら基体金属板、異種金属
層の厚みについては、特に制限はないが、電着される異
種金属層の厚みは、通常20〜300μm程度とするこ
とができる。
【0015】
【作用】この発明では基体金属板の両面に形成される異
種金属層のパターニングがエッチングでなく、電鋳法に
よりおこなわれるため、金属有孔板の外側の異種金属層
での貫通孔の輪郭部がシャープ(ほぼ直角)となる。ま
た、エッチングは基体金属板に対してのみなされるの
で、加工速度が早く且つ貫通孔の垂直性も良好となる。
種金属層のパターニングがエッチングでなく、電鋳法に
よりおこなわれるため、金属有孔板の外側の異種金属層
での貫通孔の輪郭部がシャープ(ほぼ直角)となる。ま
た、エッチングは基体金属板に対してのみなされるの
で、加工速度が早く且つ貫通孔の垂直性も良好となる。
【0016】
【実施例】以下、この発明を図示の実施例を参照して説
明する。まず、図1に示すように、基体金属板(例えば
燐青銅板)21を洗浄、乾燥させたのち、表裏両面にレ
ジストを塗布し、ついでマスク(図示しない)を介して
露光し、現像して、両面の貫通孔形成部分を選択的に被
覆するようにして、レジストパターン22を形成する。
明する。まず、図1に示すように、基体金属板(例えば
燐青銅板)21を洗浄、乾燥させたのち、表裏両面にレ
ジストを塗布し、ついでマスク(図示しない)を介して
露光し、現像して、両面の貫通孔形成部分を選択的に被
覆するようにして、レジストパターン22を形成する。
【0017】このレジストパターン22が被着されてい
ない基体金属板21の露出部分に、耐エッチング性に関
して基体金属板21とは異質の異種金属(例えばニッケ
ル)層23をメッキ浴にて電鋳法により形成する(図2
参照)。
ない基体金属板21の露出部分に、耐エッチング性に関
して基体金属板21とは異質の異種金属(例えばニッケ
ル)層23をメッキ浴にて電鋳法により形成する(図2
参照)。
【0018】次に、剥離液を用い、レジストパターン2
2を除去する(図3参照)。レジストパターン22を除
去すると異種金属(例えばニッケル)層23がレジスト
パターンとは逆のパターンとして残り、レジストパター
ンの覆っていた個所の燐青銅は露出する。
2を除去する(図3参照)。レジストパターン22を除
去すると異種金属(例えばニッケル)層23がレジスト
パターンとは逆のパターンとして残り、レジストパター
ンの覆っていた個所の燐青銅は露出する。
【0019】ついで、異種金属層23をエッチングレジ
ストとし、実質的に腐食させないエッチング液によっ
て、異種金属層23をマスクとしてエッチングし、基体
金属板21を溶解させ、貫通孔24を形成する。得られ
た金属有孔板は精密度としては電鋳法によるものと同等
であり、その製造速度は従来の電鋳法に比べ大幅に短縮
できる。
ストとし、実質的に腐食させないエッチング液によっ
て、異種金属層23をマスクとしてエッチングし、基体
金属板21を溶解させ、貫通孔24を形成する。得られ
た金属有孔板は精密度としては電鋳法によるものと同等
であり、その製造速度は従来の電鋳法に比べ大幅に短縮
できる。
【0020】このように、異種金属層23部分の貫通孔
は電鋳により形成され、エッチング処理は全くなされな
いので、その輪郭部23aは直角をなした精密度の高い
形状を形成することができる。なお、上記実施例ではレ
ジストパターン22を基体金属板21の表裏両面に対称
に形成した例について説明したが、目的とする貫通孔2
4の形状に応じ、一方の面のレジストパターン22の孔
の大きさを他方より大きく形成して上記処理工程を行な
ってもよい(図5参照)。
は電鋳により形成され、エッチング処理は全くなされな
いので、その輪郭部23aは直角をなした精密度の高い
形状を形成することができる。なお、上記実施例ではレ
ジストパターン22を基体金属板21の表裏両面に対称
に形成した例について説明したが、目的とする貫通孔2
4の形状に応じ、一方の面のレジストパターン22の孔
の大きさを他方より大きく形成して上記処理工程を行な
ってもよい(図5参照)。
【0021】上記実施例においては、基体金属板に燐青
銅を用い、異種金属層にはニッケルを用いた場合を例示
したが、この組合せは製品の使用目的に応じて種々考え
られる。例えば、基体金属としては、銅及び銅合金、ア
ルミニウム及びアルミニウム合金、鉄及び鉄合金等であ
って下記の異種金属をマスキング材としてエッチング可
能な金属を使用することができる。また、異種金属とし
ては、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、パラ
ジウム、錫、鉛等の一般に使用されるメッキ可能な材質
が使用できる。
銅を用い、異種金属層にはニッケルを用いた場合を例示
したが、この組合せは製品の使用目的に応じて種々考え
られる。例えば、基体金属としては、銅及び銅合金、ア
ルミニウム及びアルミニウム合金、鉄及び鉄合金等であ
って下記の異種金属をマスキング材としてエッチング可
能な金属を使用することができる。また、異種金属とし
ては、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、パラ
ジウム、錫、鉛等の一般に使用されるメッキ可能な材質
が使用できる。
【0022】これにより、この発明によれば従来法では
困難視されてた微細な、または精密度の高い貫通孔を成
形することができ、また外表面となる異種金属層の厚さ
が厚くなっても貫通孔の周縁部のシャープ性が失われな
いので、各種用途の有孔板を製造することできる。ま
た、この発明は、基体金属板の両面に異種金属層が積層
される3層の金属板からなるが、基体金属板自体が同種
の基体金属としての性質を有する金属で多層に形成され
ているものであってもよい。
困難視されてた微細な、または精密度の高い貫通孔を成
形することができ、また外表面となる異種金属層の厚さ
が厚くなっても貫通孔の周縁部のシャープ性が失われな
いので、各種用途の有孔板を製造することできる。ま
た、この発明は、基体金属板の両面に異種金属層が積層
される3層の金属板からなるが、基体金属板自体が同種
の基体金属としての性質を有する金属で多層に形成され
ているものであってもよい。
【0023】(実施例1)次に、この製法を用いた金属
有孔板の一例としてスクリーン印刷用のメタルマスクの
製造について詳細に説明する。300mm×300mm
で厚さ0.1mmの燐青銅板を脱脂、洗浄したのち、両
面に感光性樹脂(レジスト)を塗布、乾燥し、ついでそ
の上にマスキングフィルムを載せ、紫外線露光した。露
光の後、このフィルムを剥がし、所定の現像液で現像
し、厚み50μmのレジストパターンを形成させた。次
に、通常のスルファミン酸ニッケルメッキ浴にて、上下
両面の厚さが各50μmとなるようにニッケルメッキを
おこなった。この鍍着時間は約5時間である(従来の電
鋳法だけの場合では約30時間かかるので、1/6の時
間の短縮となる)。ついで、剥離液で前記レジストパタ
ーンを剥離し、貫通孔形成部分の燐青銅板を露出させ
た。さらに、ニッケルを全く腐食させない過硫酸アンモ
ニウム及びアンモニア水の混液により、露出した燐青銅
板部分を約10分間エッチングし、ピッチ0.2mmで
孔幅0.15mm、孔の全高0.2mmの貫通孔を成形
させた3層からなるスクリーン印刷用のメタルマスクを
製造することができた。この形成されたメタルマスクの
貫通孔は、表裏両面の輪郭部が直角なシャープなもので
あり、貫通孔の垂直性もスムースであり、インキの抜け
性も良好なものであった。
有孔板の一例としてスクリーン印刷用のメタルマスクの
製造について詳細に説明する。300mm×300mm
で厚さ0.1mmの燐青銅板を脱脂、洗浄したのち、両
面に感光性樹脂(レジスト)を塗布、乾燥し、ついでそ
の上にマスキングフィルムを載せ、紫外線露光した。露
光の後、このフィルムを剥がし、所定の現像液で現像
し、厚み50μmのレジストパターンを形成させた。次
に、通常のスルファミン酸ニッケルメッキ浴にて、上下
両面の厚さが各50μmとなるようにニッケルメッキを
おこなった。この鍍着時間は約5時間である(従来の電
鋳法だけの場合では約30時間かかるので、1/6の時
間の短縮となる)。ついで、剥離液で前記レジストパタ
ーンを剥離し、貫通孔形成部分の燐青銅板を露出させ
た。さらに、ニッケルを全く腐食させない過硫酸アンモ
ニウム及びアンモニア水の混液により、露出した燐青銅
板部分を約10分間エッチングし、ピッチ0.2mmで
孔幅0.15mm、孔の全高0.2mmの貫通孔を成形
させた3層からなるスクリーン印刷用のメタルマスクを
製造することができた。この形成されたメタルマスクの
貫通孔は、表裏両面の輪郭部が直角なシャープなもので
あり、貫通孔の垂直性もスムースであり、インキの抜け
性も良好なものであった。
【0024】
【発明の効果】以上、説明したようにこの発明の金属有
孔板およびその製造方法によれば、基体金属板の両面に
異種金属層を電鋳法により形成し、この異種金属層をマ
スクとして基体金属板のみをエッチングで穿孔するよう
にしたから、金属有孔板の厚みに関係なく、最終的に得
られる金属有孔板の貫通孔は、その輪郭部がシャープ
(ほぼ直角)となり、さらに、貫通孔の垂直性も良好と
なる。これにより、この発明によれば従来法では困難視
されてた微細パターン、即ち短いピッチで貫通孔を多数
設けることができ、また表面となる異種金属層の厚みが
厚くても同様の加工を施すことが可能となった。しか
も、電鋳法のみによる場合に比べ大幅な加工時間の短縮
を図ることができ極めて有益である。そして、この発明
の金属多孔板およびその製法は、金属多孔板の用途を限
定することなく金属板に貫通孔を成形する場合に用いる
ことができる。
孔板およびその製造方法によれば、基体金属板の両面に
異種金属層を電鋳法により形成し、この異種金属層をマ
スクとして基体金属板のみをエッチングで穿孔するよう
にしたから、金属有孔板の厚みに関係なく、最終的に得
られる金属有孔板の貫通孔は、その輪郭部がシャープ
(ほぼ直角)となり、さらに、貫通孔の垂直性も良好と
なる。これにより、この発明によれば従来法では困難視
されてた微細パターン、即ち短いピッチで貫通孔を多数
設けることができ、また表面となる異種金属層の厚みが
厚くても同様の加工を施すことが可能となった。しか
も、電鋳法のみによる場合に比べ大幅な加工時間の短縮
を図ることができ極めて有益である。そして、この発明
の金属多孔板およびその製法は、金属多孔板の用途を限
定することなく金属板に貫通孔を成形する場合に用いる
ことができる。
【図1】この発明の実施例として示す金属有孔板の第1
処理工程を示す断面図である。
処理工程を示す断面図である。
【図2】同じく第2処理工程を示す断面図である。
【図3】同じく第3処理工程を示す断面図である。
【図4】同じく第4処理工程を示す断面図である。
【図5】上下の孔の大きさが異なる貫通孔を示す断面図
である。
である。
【図6】従来のエッチング法の製造方法により得られる
多孔金属板の断面図である。
多孔金属板の断面図である。
【図7】改良された従来の多孔金属板の製造方法の第1
処理工程を示す断面図である。
処理工程を示す断面図である。
【図8】同じく第2処理工程を示す断面図である。
【図9】同じく最終処理工程を示す断面図である。
21 基体金属板 22 レジストパターン 23 異種金属層 24 貫通孔
Claims (2)
- 【請求項1】 基体金属板の両面の貫通孔形成部分を選
択的に被覆するようにしてレジストパターンを形成し、
該レジストパターンが被着されていない基体金属板の両
面の露出部分に耐エッチング性に関して該基体金属板と
は異質の異種金属層を電鋳により形成し、上記レジスト
パターンを除去すると共に、残留する該異種金属層をマ
スクとして、該異種金属層を実質的に腐食させないエッ
チング液により上記基体金属板をエッチングして基体金
属板に貫通孔を穿設してなることを特徴とする有孔金属
板。 - 【請求項2】 基体金属板の両面の貫通孔形成部分を選
択的に被覆するようにして、レジストパターンを形成す
る工程と、 該レジストパターンが被着されていない基体金属板露出
部分に、耐エッチング性に関して該基体金属板とは異質
の異種金属層を電鋳により形成する工程と、 上記レジストパターンを除去する工程と、 残留する該異種金属層をマスクとして、該異種金属層を
実質的に腐食させないエッチング液により上記基体金属
板をエッチングし、基体金属板に貫通孔を形成する工程
とからなることを特徴とする有孔金属板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10839191A JPH05124172A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 金属有孔板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10839191A JPH05124172A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 金属有孔板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05124172A true JPH05124172A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=14483578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10839191A Pending JPH05124172A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 金属有孔板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05124172A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015040840A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | オムロン株式会社 | 光学式エンコーダ用遮光板、その製造方法およびそれを用いた光学式エンコーダ |
| JP2018036012A (ja) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | 新光電気工業株式会社 | ループ型ヒートパイプ及びその製造方法 |
| JP2019135434A (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-15 | 新光電気工業株式会社 | ループ型ヒートパイプ及びその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50144504A (ja) * | 1974-05-10 | 1975-11-20 | ||
| JPS5547969A (en) * | 1978-10-03 | 1980-04-05 | Kubota Ltd | Mechanism for detecting variation in advancing direction of movable agricultural machine |
-
1991
- 1991-04-12 JP JP10839191A patent/JPH05124172A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50144504A (ja) * | 1974-05-10 | 1975-11-20 | ||
| JPS5547969A (en) * | 1978-10-03 | 1980-04-05 | Kubota Ltd | Mechanism for detecting variation in advancing direction of movable agricultural machine |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015040840A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | オムロン株式会社 | 光学式エンコーダ用遮光板、その製造方法およびそれを用いた光学式エンコーダ |
| CN104422467A (zh) * | 2013-08-23 | 2015-03-18 | 欧姆龙株式会社 | 光学式编码器用遮光板、其制造方法及使用其的光学式编码器 |
| JP2018036012A (ja) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | 新光電気工業株式会社 | ループ型ヒートパイプ及びその製造方法 |
| JP2019135434A (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-15 | 新光電気工業株式会社 | ループ型ヒートパイプ及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4033831A (en) | Method of making a bi-metal screen for thick film fabrication | |
| USRE29784E (en) | Thermal dissipating metal core printed circuit board | |
| US4902607A (en) | Metal-etching process | |
| JP3141117B2 (ja) | 印刷用メタルマスク版の製造方法 | |
| JPH0936084A (ja) | パターン形成方法 | |
| JP3206246B2 (ja) | 微小穴を有する金属部材の製造方法 | |
| JPH05124172A (ja) | 金属有孔板およびその製造方法 | |
| CA1258717A (en) | Method for manufacture of printed circuit boards | |
| KR100269101B1 (ko) | 메탈마스크와그제조방법 | |
| JPH08186373A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
| JPH10250032A (ja) | 印刷用メタルマスク | |
| JPH0243356B2 (ja) | ||
| JP3103904B2 (ja) | スクリーン印刷用メタルマスク、およびその製造方法 | |
| JP2987389B2 (ja) | スクリーン印刷用製版スクリーンの製造方法 | |
| JP2004091909A (ja) | レーザ加工機用マスク等に用いる精密な貫通部パターンを含む銅製プレートの電鋳方法 | |
| JP3427332B2 (ja) | 精密微細パターンを有する電鋳製品の製造方法 | |
| JPH03257178A (ja) | 装飾部材の蝕刻方法 | |
| JPS5996275A (ja) | メタルスリツト板の製造方法 | |
| JPS6054798B2 (ja) | プリント板の製造方法 | |
| JPH04334084A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
| JPS612156A (ja) | フオトフアブリケーシヨン用マスクの製作方法 | |
| JPS59147430A (ja) | 微細回路の形成方法 | |
| JPH06340984A (ja) | 超薄形金属板におけるフォトエッチング加工法 | |
| JPH02251195A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
| EP0596110A1 (en) | Method of processing rod |