JPH03261733A - ジフェニルメタン核塩素化物の製造方法 - Google Patents
ジフェニルメタン核塩素化物の製造方法Info
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- JPH03261733A JPH03261733A JP2060102A JP6010290A JPH03261733A JP H03261733 A JPH03261733 A JP H03261733A JP 2060102 A JP2060102 A JP 2060102A JP 6010290 A JP6010290 A JP 6010290A JP H03261733 A JPH03261733 A JP H03261733A
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- diphenylmethane
- type zeolite
- chlorinated
- chlorination
- catalyst
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジフェニルメタン核塩素化物の製造方法に関す
る。さらに詳しくいえば本発明は、特定の触媒を用いて
ジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素
化物を液相中で塩素化することによるジフェニルメタン
核塩素化物の製造方法に関する。
る。さらに詳しくいえば本発明は、特定の触媒を用いて
ジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素
化物を液相中で塩素化することによるジフェニルメタン
核塩素化物の製造方法に関する。
ジフェニルメタン核塩素化物は、農医薬の中間体または
合成樹脂の原料として用いられる。
合成樹脂の原料として用いられる。
従来ジフェニルメタンを塩素で塩素化するとメチレン基
が塩素化された化合物が得られることが知られている。
が塩素化された化合物が得られることが知られている。
１）四塩化炭素溶媒中でα、α−アゾビスイソブチロニ
トリルの存在下、塩素で塩素化した場合、α−クロロジ
フェニルメタンが６６−６７％およびα、α°−ジクロ
ロジフェニルメタンが３２−３３％得られている（ Ｈ
ｕｎｇ、 Ｔｅ１ｊｅｓ。
トリルの存在下、塩素で塩素化した場合、α−クロロジ
フェニルメタンが６６−６７％およびα、α°−ジクロ
ロジフェニルメタンが３２−３３％得られている（ Ｈ
ｕｎｇ、 Ｔｅ１ｊｅｓ。
ＨＵ２９，９８９．２８ Ｆｅｂ、 １９８４１４ｐｐ
、） 、 ２ ）四塩化炭素溶媒中で塩化鉄を触媒とし
て用いた場合はジフェニルメタンを塩素で塩素化して、
１７％のジフェニルメタンとＰ一体６５％と〇一体３５
％を含む塩素誘導体４１％からなる生成物が得られてい
る（Ａｎｎ。
、） 、 ２ ）四塩化炭素溶媒中で塩化鉄を触媒とし
て用いた場合はジフェニルメタンを塩素で塩素化して、
１７％のジフェニルメタンとＰ一体６５％と〇一体３５
％を含む塩素誘導体４１％からなる生成物が得られてい
る（Ａｎｎ。
Ｃｈｅ＋ｓ、 （Ｒｏｍｅ） ４Ｊ１．１２２−９（１
９５６））。
９５６））。
しかしながら、１）の方法はメチレン基が塩素化され、
核塩素化が殆ど生成していない、２）の方法は塩化鉄の
ような特殊な腐食性が大きい触媒を使用するため特殊な
材質の反応器を必要とし、かつ核塩素化物の選択率およ
び収率が低い、等の問題点がある。
核塩素化が殆ど生成していない、２）の方法は塩化鉄の
ような特殊な腐食性が大きい触媒を使用するため特殊な
材質の反応器を必要とし、かつ核塩素化物の選択率およ
び収率が低い、等の問題点がある。
〔発明が解決しようとするｔＩｉ！１９）本発明の目的
は、特定の触媒を用いることにより、ジフェニルメタン
の核塩素化物を高選択率高高収率で製造し得る新規な方
法を提供することである。
は、特定の触媒を用いることにより、ジフェニルメタン
の核塩素化物を高選択率高高収率で製造し得る新規な方
法を提供することである。
本発明者等は、特定の触媒を用いてジフェニルメタンお
よび／またはジフェニルメタン塩素化物を液相中で塩素
化することによって上記課題が解決されることを見出し
、本発明を完成させるに至った。
よび／またはジフェニルメタン塩素化物を液相中で塩素
化することによって上記課題が解決されることを見出し
、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、触媒としてＹ型ゼオライトを用い
ジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素
化物と塩素化試剤とを液相中で反応させることを特徴と
するジフェニルメタン核塩素化物の製造方法である。
ジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素
化物と塩素化試剤とを液相中で反応させることを特徴と
するジフェニルメタン核塩素化物の製造方法である。
本発明の方法において、原料としてジフェニルメタンお
よびジフェニルメタンが核塩素化された化合物、例えば
モノクロロジフェニルメタンやジジロロジフェニルメタ
ン等を挙げることができる。
よびジフェニルメタンが核塩素化された化合物、例えば
モノクロロジフェニルメタンやジジロロジフェニルメタ
ン等を挙げることができる。
本発明の方法において用いられるＹ型ゼオライトは、酸
化ケイ素（ＳｉＯｘ）／酸化アルミニウム（ＡｈＯｓ
）比が通常３〜６の結晶性アルミノシリケートであり、
−船釣にはそれと同一のＸ線回折スペクトルを有する合
成ゼオライトであればよい。
化ケイ素（ＳｉＯｘ）／酸化アルミニウム（ＡｈＯｓ
）比が通常３〜６の結晶性アルミノシリケートであり、
−船釣にはそれと同一のＸ線回折スペクトルを有する合
成ゼオライトであればよい。
本発明のＹ型ゼオライトは公知の方法により合成するこ
とが出来る。Ｙ型ゼオライトは、−ｉに合成されたまま
の状態では陽イオンとしてＮａイオンを含んでいる。
とが出来る。Ｙ型ゼオライトは、−ｉに合成されたまま
の状態では陽イオンとしてＮａイオンを含んでいる。
本発明の方法においては、Ｙ型ゼオライトに含有される
陽イオンに特に制限はなく、合成時に含有されるＮａイ
オンを有するものを触媒として使用すれば良いが、必要
に応して、他の陽イオンに交換したものを使用しても差
し支えない、この場合には、交換したい陽イオンを含む
水溶液を用いて、公知の方法によりイオン交換処理を実
施すれば良い、ナトリウムをカリウムでイオン交換する
ことも可能である。又、ナトリウムをアンモニウムでイ
オン交換してＮＨ４型とし、これを空気中４７０℃で２
時間焼成しＨ型として使用することも出来る。
陽イオンに特に制限はなく、合成時に含有されるＮａイ
オンを有するものを触媒として使用すれば良いが、必要
に応して、他の陽イオンに交換したものを使用しても差
し支えない、この場合には、交換したい陽イオンを含む
水溶液を用いて、公知の方法によりイオン交換処理を実
施すれば良い、ナトリウムをカリウムでイオン交換する
ことも可能である。又、ナトリウムをアンモニウムでイ
オン交換してＮＨ４型とし、これを空気中４７０℃で２
時間焼成しＨ型として使用することも出来る。
さらに、本発明で用いるＹ型ゼオライトは前記のナトリ
ウムイオン、カリウムイオン、水素イオン交換型以外に
、もちろん他のカチオン威勢を含んでいてもよく、例え
ばナトリウム、カリウム以外のＩＡ族、ＩＩＡ族、ｍＡ
族、ＩＶＡ族、ＶＡ族の金属、遷移金属又はプロトンな
どで交換したものも使用出来る。またこれらのカチオン
は１種でも２種以上でもよい、これらのＹ型ゼオライト
の内、ＮａＹ、ＭＹ型ゼオライトは、市販品、例えば、
東ソー株式会社製品であっても良い、これらのＹ型ゼオ
ライトは一般的には８０〜１５０ ”Ｃで１〜２４時間
乾燥し、そのまま、または更に空気流通下、窒素、ヘリ
ウムなどの不活性ガス流通下で、１０分〜２４時間、２
００〜９００℃にて坑底した後触媒として用いる。
ウムイオン、カリウムイオン、水素イオン交換型以外に
、もちろん他のカチオン威勢を含んでいてもよく、例え
ばナトリウム、カリウム以外のＩＡ族、ＩＩＡ族、ｍＡ
族、ＩＶＡ族、ＶＡ族の金属、遷移金属又はプロトンな
どで交換したものも使用出来る。またこれらのカチオン
は１種でも２種以上でもよい、これらのＹ型ゼオライト
の内、ＮａＹ、ＭＹ型ゼオライトは、市販品、例えば、
東ソー株式会社製品であっても良い、これらのＹ型ゼオ
ライトは一般的には８０〜１５０ ”Ｃで１〜２４時間
乾燥し、そのまま、または更に空気流通下、窒素、ヘリ
ウムなどの不活性ガス流通下で、１０分〜２４時間、２
００〜９００℃にて坑底した後触媒として用いる。
本発明の方法においては、触媒の形状に特に制限はなく
、通常、底型したものを触媒としてもちいればよいが、
粉末のまま使用しても一向に差し支えない、成型方法は
通常の方法で良く、例えば、押出成型法、打錠成型法、
噴霧乾燥成型法等を挙げることかできる。底型する場合
、その機械的強度を高める等の目的で、本反応に対して
不活性な物質を粘結剤または成型助剤として添加しても
良い０例えば、シリカ、粘土類、グラファイト、ステア
リン酸、澱粉、ポリビニールアルコール等を０〜８０ｗ
ｔ％、好ましくは２〜３０ｗｔ％の範囲で添加できる。
、通常、底型したものを触媒としてもちいればよいが、
粉末のまま使用しても一向に差し支えない、成型方法は
通常の方法で良く、例えば、押出成型法、打錠成型法、
噴霧乾燥成型法等を挙げることかできる。底型する場合
、その機械的強度を高める等の目的で、本反応に対して
不活性な物質を粘結剤または成型助剤として添加しても
良い０例えば、シリカ、粘土類、グラファイト、ステア
リン酸、澱粉、ポリビニールアルコール等を０〜８０ｗ
ｔ％、好ましくは２〜３０ｗｔ％の範囲で添加できる。
本発明の方法はＹ型ゼオライトを用いて始めて効果的に
実施される。他の固体酸触媒、例えば、モルデナイト、
ＺＳＭ−５を用いる場合、または無触媒の場合には、ジ
フェニルメタンの塩素化を行うと、メチレン基が塩素化
されたものが多く生威し、フェニル基に核塩素化された
化合物は得にくい。
実施される。他の固体酸触媒、例えば、モルデナイト、
ＺＳＭ−５を用いる場合、または無触媒の場合には、ジ
フェニルメタンの塩素化を行うと、メチレン基が塩素化
されたものが多く生威し、フェニル基に核塩素化された
化合物は得にくい。
本発明の方法により、ジフェニルメタンおよび／または
ジフェニルメタン塩素化物の核塩素化を行うには、ジフ
ェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素化物
１モル当たりＹ型ゼオライトを通常０．１ ｇ以上使用
することが好ましい、触媒の量が少なすぎると反応速度
が遅く実用的でない６通常の回分式反応の場合は触媒が
多すぎると反応液のかきまぜが困難になる。固定床的な
流通反応の場合は触媒使用量は必ずしも原料に対して規
定されなくてもよい。
ジフェニルメタン塩素化物の核塩素化を行うには、ジフ
ェニルメタンおよび／またはジフェニルメタン塩素化物
１モル当たりＹ型ゼオライトを通常０．１ ｇ以上使用
することが好ましい、触媒の量が少なすぎると反応速度
が遅く実用的でない６通常の回分式反応の場合は触媒が
多すぎると反応液のかきまぜが困難になる。固定床的な
流通反応の場合は触媒使用量は必ずしも原料に対して規
定されなくてもよい。
本発明の方法で用いられる塩素化試剤として通常慣用さ
れている塩素化試剤、例えば塩素ガス、塩化スルフリル
、Ｎ−クロロコハク酸イミド、五塩化リン、−酸化塩素
などが挙げられるが、工業的には一般に塩素ガスが用い
られる。
れている塩素化試剤、例えば塩素ガス、塩化スルフリル
、Ｎ−クロロコハク酸イミド、五塩化リン、−酸化塩素
などが挙げられるが、工業的には一般に塩素ガスが用い
られる。
本発明の方法において、塩素化試剤の使用量は目的とす
る核塩素化物の種別により一概には決められないが、一
般にはジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタ
ン塩素化物１モル当たり０．１モル〜１００モルが良く
、１モル〜３０モルが更に好ましい。
る核塩素化物の種別により一概には決められないが、一
般にはジフェニルメタンおよび／またはジフェニルメタ
ン塩素化物１モル当たり０．１モル〜１００モルが良く
、１モル〜３０モルが更に好ましい。
本発明の方法においては、塩素体は溶媒の不在下に行っ
てもよいし、溶媒の存在下に行ってもよい、溶媒は塩素
化に不活性な溶媒、例えば、四塩化炭素等を用いる事が
できる。
てもよいし、溶媒の存在下に行ってもよい、溶媒は塩素
化に不活性な溶媒、例えば、四塩化炭素等を用いる事が
できる。
反応温度は前記塩素化試剤の種類によって適宜選ばれる
７°く、通常０℃から反応系の沸点までの範胛で選ばれ
る６例えば、ジフェニルメタンおよび／またはジフェニ
ルメタン塩素化物を塩素ガスを用いて塩素化する場合、
反応温度は０〜２００℃の範囲で選ぶのがよい。
７°く、通常０℃から反応系の沸点までの範胛で選ばれ
る６例えば、ジフェニルメタンおよび／またはジフェニ
ルメタン塩素化物を塩素ガスを用いて塩素化する場合、
反応温度は０〜２００℃の範囲で選ぶのがよい。
反応時間については、反応温度や塩素化試剤の種類など
によって左右されるが、通常ｌＯ分〜２４時間程度であ
る。
によって左右されるが、通常ｌＯ分〜２４時間程度であ
る。
塩素化反応は窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うこと
ができる０反応圧は反応系が液相を保つのに充分な圧で
あれば特に制限はなく、減圧、加圧のいずれでもよい６
通常、この塩素化反烏は常圧で行われる。
ができる０反応圧は反応系が液相を保つのに充分な圧で
あれば特に制限はなく、減圧、加圧のいずれでもよい６
通常、この塩素化反烏は常圧で行われる。
通常、光を遮断して塩素化反応を行う方が好ましいが、
必ずしも光を遮断して塩素化反応を行わなくても良い。
必ずしも光を遮断して塩素化反応を行わなくても良い。
反応終了後、反応液からのジフェニルメタン核塩素化物
の回収は通常の分離方法によって行うことができる０例
えば、反応液に蒸留、晶析等の一般的分離手段を施せば
、反応液中のジフェニルメタン、２−クロロジフェニル
メタン、４−クロロジフェニルメタン、α−クロロジフ
ェニルメタン、２．２°−ジクロロジフェニルメタン、
２．４’−ジクロロジフェニルメタン、４．４’−ジク
ロロジフェニルメタン、α、α−ジクロロジフェニルメ
タン、のトリ体等多核塩素化物が得られる０条件によっ
ては更に２．４− ２．６−のジ体も出来る。
の回収は通常の分離方法によって行うことができる０例
えば、反応液に蒸留、晶析等の一般的分離手段を施せば
、反応液中のジフェニルメタン、２−クロロジフェニル
メタン、４−クロロジフェニルメタン、α−クロロジフ
ェニルメタン、２．２°−ジクロロジフェニルメタン、
２．４’−ジクロロジフェニルメタン、４．４’−ジク
ロロジフェニルメタン、α、α−ジクロロジフェニルメ
タン、のトリ体等多核塩素化物が得られる０条件によっ
ては更に２．４− ２．６−のジ体も出来る。
以下、各化合物について次の様な略号を用いる。
ジフェニルメタン鱒ＤＰ？１
モノクロロ体
２−クロロジフェニルメタン−２−ＣＤＰＭ４−クロロ
ジフェニルメタン−４−ＣＤＰＭα−クロロジフェニル
メタン瞭α−ＣＤＰＭジクロロ体 ２．２１−ジクロロジフェニルメタン−２，２’−ＤＣ
ＤＰＭ２．４°−ジクロロジフェニルメタン−２゜４′
−ＤＣＤＰ？！４．４゛−ジクロロジフェニルメタ／−
４，４°−［ＩＣＤＰＦＩα、α−ジクロロジフェニル
メタン 厘α、α−ＤＣＤＰＭ 本発明を更に詳細に説明するために、以下に具体的実施
例を挙げるが、本発明はこれ等に限定されるものではな
い。
ジフェニルメタン−４−ＣＤＰＭα−クロロジフェニル
メタン瞭α−ＣＤＰＭジクロロ体 ２．２１−ジクロロジフェニルメタン−２，２’−ＤＣ
ＤＰＭ２．４°−ジクロロジフェニルメタン−２゜４′
−ＤＣＤＰ？！４．４゛−ジクロロジフェニルメタ／−
４，４°−［ＩＣＤＰＦＩα、α−ジクロロジフェニル
メタン 厘α、α−ＤＣＤＰＭ 本発明を更に詳細に説明するために、以下に具体的実施
例を挙げるが、本発明はこれ等に限定されるものではな
い。
なお実施例中の反応成績の計算方法は以下の式％式％）
反応結果の分析はガスクロマトグラフィーにより行った
。
。
実施例１
冷却管、温度計、かきまぜ機、吹き込み管を備えた５０
Ｉ１１反応フラスコに、ＨＹ型ゼオライト（商品名Ｈ５
Ｚ−３２０ＨＯＡ東ソー側製Ｈ，２４ｇ。
Ｉ１１反応フラスコに、ＨＹ型ゼオライト（商品名Ｈ５
Ｚ−３２０ＨＯＡ東ソー側製Ｈ，２４ｇ。
ＤＰＭ ３３．７ ｇ （０，２モル）を入れ、光を遮
断して窒素気流下７０℃にて３０分かきまぜた後、７０
”Ｃにて、０．２モル／時間の速度で塩素を４．５時間
吹き込み反応を行った０反応終了後、反応液を冷却し、
得られた反応生成物をガスクロマトグラフィーで分析し
た結果、ＤＰＭの転化率は９５％、２−ＣＤＰＭの収率
は４．０％、４ ＣＤＰＭの収率は６．０％、α−Ｃ［
ｌＰＭは１％生生成、２．２″−ＤＣＤＰＨの収率は２
０．５％、２，４゛−ＤＣＤＰＭの収率は３６．０％、
４．４°−ＤＣＤＰＭの収率は１７．５％で、α、α−
ＤＣＤＰＭは生威しなかった。光を遮断しなかった場合
もほぼ同様の結果であった。
断して窒素気流下７０℃にて３０分かきまぜた後、７０
”Ｃにて、０．２モル／時間の速度で塩素を４．５時間
吹き込み反応を行った０反応終了後、反応液を冷却し、
得られた反応生成物をガスクロマトグラフィーで分析し
た結果、ＤＰＭの転化率は９５％、２−ＣＤＰＭの収率
は４．０％、４ ＣＤＰＭの収率は６．０％、α−Ｃ［
ｌＰＭは１％生生成、２．２″−ＤＣＤＰＨの収率は２
０．５％、２，４゛−ＤＣＤＰＭの収率は３６．０％、
４．４°−ＤＣＤＰＭの収率は１７．５％で、α、α−
ＤＣＤＰＭは生威しなかった。光を遮断しなかった場合
もほぼ同様の結果であった。
なお、使用したＨＹ型ゼオライトは、次の化学組成（原
子吸光法〉のものであった。
子吸光法〉のものであった。
ＳｉＯｘ （ｗｔ％） ドライベース７３．
３Ａｔχ０３（ｗｔ％） １２２．
２Ｎａｎｏ （ｗｔ％）’ ４．１９ＳｉＯ□／
ＡｈＯｉ（モル比）５．６ 比較例１ 触媒を使用しないで、反応温度を１００℃にした以外は
、実施例１と同様にしてＩ）ＰＦＩの塩素化を４．５時
間と７時間行った。その結果を第１表に示す。
３Ａｔχ０３（ｗｔ％） １２２．
２Ｎａｎｏ （ｗｔ％）’ ４．１９ＳｉＯ□／
ＡｈＯｉ（モル比）５．６ 比較例１ 触媒を使用しないで、反応温度を１００℃にした以外は
、実施例１と同様にしてＩ）ＰＦＩの塩素化を４．５時
間と７時間行った。その結果を第１表に示す。
実施例２
実施例１におけるＭＹ型ゼオライトの代わりに、ＮａＹ
型ゼオライト（商品名ＴＳＺ−３２ＯＮＡＡ東ソー■製
）を用いた以外は、実施例１と同様にして、７０°Ｃで
４．５時間、９．５時間、２１時間塩素化を行った。そ
の結果を第２表に示す。
型ゼオライト（商品名ＴＳＺ−３２ＯＮＡＡ東ソー■製
）を用いた以外は、実施例１と同様にして、７０°Ｃで
４．５時間、９．５時間、２１時間塩素化を行った。そ
の結果を第２表に示す。
なお、使用したＮａＹ型ゼオライトは、次の化学組成（
原子吸光法）のものであった。
原子吸光法）のものであった。
ＳｉＯ□（阿ｔ％） ドライベース６６°、
６Ａ＋ｚｏｉ（ｗｔ％） 〃２０．
２Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％） １２
．２Ｓｉｆｔ／＾ＩｚＯｉ（モル比）５．６第１表 第２表 実施例３ ５００ｃｃのビーカーにＩＮのＫＣ１水溶液を２００ｅ
ｃ入れ、温浴を用いてこの溶液を８０°Ｃに保ち、テフ
ロン製のローターを入れ、充分に攪拌しながら、ＮａＹ
型ゼオライト（商品名ＴＳＺ−３２ＯＮＡＡ東ソー■製
） 、Ｓｉｎｇ／＾１２０．比５．６）をＬｏｇ加えた
。８０℃で４時間攪拌した。デカンチーシランにより交
換液を除き、新しい交換液を加えた。この操作を５回繰
り返し、最後にＣｌイオンがゼオライト中に残存しない
ように水洗して濾過した。イオン交換したゼオライトは
１００℃で４時間乾燥した後、４７０°Ｃで２時間乾燥
した。この様にして得られたＫＹゼオライトは、次の樺
な化学組成（原子吸光法）のものであった。
６Ａ＋ｚｏｉ（ｗｔ％） 〃２０．
２Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％） １２
．２Ｓｉｆｔ／＾ＩｚＯｉ（モル比）５．６第１表 第２表 実施例３ ５００ｃｃのビーカーにＩＮのＫＣ１水溶液を２００ｅ
ｃ入れ、温浴を用いてこの溶液を８０°Ｃに保ち、テフ
ロン製のローターを入れ、充分に攪拌しながら、ＮａＹ
型ゼオライト（商品名ＴＳＺ−３２ＯＮＡＡ東ソー■製
） 、Ｓｉｎｇ／＾１２０．比５．６）をＬｏｇ加えた
。８０℃で４時間攪拌した。デカンチーシランにより交
換液を除き、新しい交換液を加えた。この操作を５回繰
り返し、最後にＣｌイオンがゼオライト中に残存しない
ように水洗して濾過した。イオン交換したゼオライトは
１００℃で４時間乾燥した後、４７０°Ｃで２時間乾燥
した。この様にして得られたＫＹゼオライトは、次の樺
な化学組成（原子吸光法）のものであった。
Ｓｉｎｇ （ｗｔ％） ドライベース６２．
６Ａｌｔｏｚ（ｗｔ％） ＃
１９．０ＨａｘＯ（ｗｔ％） ＃１
７．４Ｓｉ（ｈ／ＡｈＯｚ（モル比）５．に の触媒を実施例１におけるＨＹ型ゼオライトの代りに用
いた以外は、実施例１と同様にして４．５時間、９．５
時間塩素化を行った。
６Ａｌｔｏｚ（ｗｔ％） ＃
１９．０ＨａｘＯ（ｗｔ％） ＃１
７．４Ｓｉ（ｈ／ＡｈＯｚ（モル比）５．に の触媒を実施例１におけるＨＹ型ゼオライトの代りに用
いた以外は、実施例１と同様にして４．５時間、９．５
時間塩素化を行った。
第３表に示す。
その結果を
比較例２
実施例１におけるＨＹ型ゼオライトの代りにＺＳＭ−５
型ゼオライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は
実施例１と同様にして、４．５時間、９．５時間、１５
時間塩素化を行った。その結果を第４表に示す、なお、
使用したＺＳＭ−５型ゼオライトは、次の化学組！（原
子吸光法）のものであった。
型ゼオライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は
実施例１と同様にして、４．５時間、９．５時間、１５
時間塩素化を行った。その結果を第４表に示す、なお、
使用したＺＳＭ−５型ゼオライトは、次の化学組！（原
子吸光法）のものであった。
５ｉＯｔ （ｗｔ％） ドライベース９１．８
ＡｈＯｓ（＠ｔ％”） ３．
８６Ｎａｎｏ （ｗｔ％）３．３ ｓｔｏｗ／＾１ｔＯ１（モル比） ４０
．４Ｆｅ （ｗｔ％） ０．
０５５比較例 ３ 実施例１におけるＨＹ型ゼオライトの代りにＫＭ型ゼオ
ライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は実施例
１と同様にして、４時間、６時間塩素化を行った。その
結果を第４１Ｎに示す、なお、使用したＫＭ型ゼオライ
トは、次の化学ｌＩ威（原子吸光法）のものであった。
ＡｈＯｓ（＠ｔ％”） ３．
８６Ｎａｎｏ （ｗｔ％）３．３ ｓｔｏｗ／＾１ｔＯ１（モル比） ４０
．４Ｆｅ （ｗｔ％） ０．
０５５比較例 ３ 実施例１におけるＨＹ型ゼオライトの代りにＫＭ型ゼオ
ライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は実施例
１と同様にして、４時間、６時間塩素化を行った。その
結果を第４１Ｎに示す、なお、使用したＫＭ型ゼオライ
トは、次の化学ｌＩ威（原子吸光法）のものであった。
Ｓｉｎｇ （ｗｔ％） ドライベース８２．
ｌＡｌ １０３ （ｗｔ％）９．５ Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％）〃〈０．０５ Ｓｉｆｔ／ ＡｈＯｓ（モル比”） １１４
．７比較例 ４ 実施例１におけるＭＹ型ゼオライトの代りにＮａＸ型ゼ
オライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は実施
例１と同様にして、４時間、８時間塩素化を行った。そ
の結果を第４表に示す、なお、使用したＮａＸ型ゼオラ
イトは、次の化学組＄、（原子吸光法）のものであった
。
ｌＡｌ １０３ （ｗｔ％）９．５ Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％）〃〈０．０５ Ｓｉｆｔ／ ＡｈＯｓ（モル比”） １１４
．７比較例 ４ 実施例１におけるＭＹ型ゼオライトの代りにＮａＸ型ゼ
オライトを用い、反応温度を１００℃にした以外は実施
例１と同様にして、４時間、８時間塩素化を行った。そ
の結果を第４表に示す、なお、使用したＮａＸ型ゼオラ
イトは、次の化学組＄、（原子吸光法）のものであった
。
５ｉｆｔ （ｗｔ％） ドライベース４７．
８Ａ１ｇＯｓ（ｗｔ％） Ｊ３２．
５Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％） 〃１９．７
ＳｉＯ□／Ａ１ｚＯｓＣモル比）２．５〔発明の効果〕 本発明の方法によれば、Ｙ型ゼオライトを用いることに
より、メチレン基の塩素化を制御し、ジフェニルメタン
の核塩素化物を選択的に製造することが出来る。
８Ａ１ｇＯｓ（ｗｔ％） Ｊ３２．
５Ｎａ＝Ｏ（ｗｔ％） 〃１９．７
ＳｉＯ□／Ａ１ｚＯｓＣモル比）２．５〔発明の効果〕 本発明の方法によれば、Ｙ型ゼオライトを用いることに
より、メチレン基の塩素化を制御し、ジフェニルメタン
の核塩素化物を選択的に製造することが出来る。
Claims (2)
- （１）触媒としてＹ型ゼオライトを用いジフェニルメタ
ンおよび／またはジフェニルメタン塩素化物と塩素化試
剤とを液相中で反応させることを特徴とするジフェニル
メタン核塩素化物の製造方法。 - （２）塩素化試剤として塩素を用いる請求項１に記載の
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2060102A JPH03261733A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | ジフェニルメタン核塩素化物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2060102A JPH03261733A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | ジフェニルメタン核塩素化物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03261733A true JPH03261733A (ja) | 1991-11-21 |
Family
ID=13132400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2060102A Pending JPH03261733A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | ジフェニルメタン核塩素化物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03261733A (ja) |
-
1990
- 1990-03-13 JP JP2060102A patent/JPH03261733A/ja active Pending
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