JPH03276436A - 光学式記録媒体の製造方法 - Google Patents
光学式記録媒体の製造方法Info
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- JPH03276436A JPH03276436A JP7356290A JP7356290A JPH03276436A JP H03276436 A JPH03276436 A JP H03276436A JP 7356290 A JP7356290 A JP 7356290A JP 7356290 A JP7356290 A JP 7356290A JP H03276436 A JPH03276436 A JP H03276436A
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- glass substrate
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- optical recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は光学式ディスク（コンパクトディスク）、ビデ
オディスク、光カード等の光学式記録媒体の製造方法に
係り、特に製造時間の短縮化ならびにゴミの付着防止を
図り得るようにした光学式記録媒体の製造方法に関する
ものである。
オディスク、光カード等の光学式記録媒体の製造方法に
係り、特に製造時間の短縮化ならびにゴミの付着防止を
図り得るようにした光学式記録媒体の製造方法に関する
ものである。
［従来の技術］
光学式記録は、磁気式記録と比較して記録媒体とヘッド
とが非接触であり、かつ高密度の記録が可能である等の
利点がある。この光学式記録媒体としては、読出し専用
のもの、追加書込み可能なもの、消去再書込み可能なも
のが知られており、本発明にかかる読出し専用の光学式
記録媒体としては、既に光学式ディスク（コンパクトデ
ィスク）や光学方式のビデオディスク、光カード等の形
で実用に供されてきている。
とが非接触であり、かつ高密度の記録が可能である等の
利点がある。この光学式記録媒体としては、読出し専用
のもの、追加書込み可能なもの、消去再書込み可能なも
のが知られており、本発明にかかる読出し専用の光学式
記録媒体としては、既に光学式ディスク（コンパクトデ
ィスク）や光学方式のビデオディスク、光カード等の形
で実用に供されてきている。
ところで、この種の光学式記録媒体を製造する方法とし
ては、例えば以下のような方法が提案されてきている。
ては、例えば以下のような方法が提案されてきている。
すなわち、まずガラス基板上にレジストパターン層と導
電膜層を形成し、次に導電膜層上に電鋳層を形成し、ガ
ラス基板と電鋳層とを剥離し、次に洗浄ならびに乾燥を
行ない、保護層をコートし、しかる後に裏面を研磨して
打抜きにより成品化する方法である。
電膜層を形成し、次に導電膜層上に電鋳層を形成し、ガ
ラス基板と電鋳層とを剥離し、次に洗浄ならびに乾燥を
行ない、保護層をコートし、しかる後に裏面を研磨して
打抜きにより成品化する方法である。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、この種の従来の光学式記録媒体の製造方
法では、次のような問題があった。
法では、次のような問題があった。
（ａ）レジストかす、外気のゴミ等を除去するために、
洗浄ならびに乾燥を行なう工程が必要であり、その分だ
け製造時間が長くなる。
洗浄ならびに乾燥を行なう工程が必要であり、その分だ
け製造時間が長くなる。
（ｂ）ガラス基板と電鋳した原盤を剥離した後に、ガラ
ス基板上にレジストの一部が残るため、ガラス基板の再
生に厳重な洗浄あるいは研磨が必要となる。
ス基板上にレジストの一部が残るため、ガラス基板の再
生に厳重な洗浄あるいは研磨が必要となる。
本発明は上述のような問題を解決するために成されたも
ので、保護層形成前の洗浄・乾燥工程を不要として製造
時間の短縮化を図ると共に、ゴミの付着を防止すること
が可能な極めて信頼性の高い光学式記録媒体の製造方法
を提供することを目的とする。
ので、保護層形成前の洗浄・乾燥工程を不要として製造
時間の短縮化を図ると共に、ゴミの付着を防止すること
が可能な極めて信頼性の高い光学式記録媒体の製造方法
を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために本発明では、ガラス基板上
に剥離層を形成する第１の工程と、剥離層上に保護層を
形成する第２の工程と、保護層上にレジストパターン層
を形成する第３の工程と、レジストパターン層上に導電
膜層を形成する第４の工程と、導電膜層上に電鋳層を形
成する第５の工程と、電鋳した原盤をガラス基板から剥
離する第６の工程と、電鋳した原盤の裏面を研磨して打
抜きにより成品化する第７の工程とから成っている。
に剥離層を形成する第１の工程と、剥離層上に保護層を
形成する第２の工程と、保護層上にレジストパターン層
を形成する第３の工程と、レジストパターン層上に導電
膜層を形成する第４の工程と、導電膜層上に電鋳層を形
成する第５の工程と、電鋳した原盤をガラス基板から剥
離する第６の工程と、電鋳した原盤の裏面を研磨して打
抜きにより成品化する第７の工程とから成っている。
［作用］
従って、本発明の光学式記録媒体の製造方法においては
、保護層形成前の洗浄ならびに乾燥工程が不要となり、
その分だけ製造時間の短縮化を図ることができる。また
、信号形成から裏面研磨・打抜きまで、信号面は常に保
護層で覆われていることにより、ゴミの付着が少なく信
頼性を高めることができる。さらに、ガラス基板を可成
する場合、剥離層の存在によってガラス基板上にレジス
ト等か残らないことにより、簡単な洗浄のみを行なうだ
けでよい。
、保護層形成前の洗浄ならびに乾燥工程が不要となり、
その分だけ製造時間の短縮化を図ることができる。また
、信号形成から裏面研磨・打抜きまで、信号面は常に保
護層で覆われていることにより、ゴミの付着が少なく信
頼性を高めることができる。さらに、ガラス基板を可成
する場合、剥離層の存在によってガラス基板上にレジス
ト等か残らないことにより、簡単な洗浄のみを行なうだ
けでよい。
［実施例］
以下、本発明の一実施例について図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、本発明による光学式記録媒体である光学式デ
ィスクの製造工程例を示す断面構成図である。本実施例
の光学式ディスクは、以下のようにして製造する。
ィスクの製造工程例を示す断面構成図である。本実施例
の光学式ディスクは、以下のようにして製造する。
すなわち、まず第１図（ａ）に示すように、ガラス基板
１上に剥離層２を形成し、さらにこの剥離層２上に保護
層３を形成する。ここで、剥離層２の材質としては、例
えばアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂
等を用いることができる。また、剥離層２の厚さとして
は、例えば０．１〜１．０μｍの厚さに形成する。一方
、保護層３の材質としては、例えば塩酢ビ系樹脂、塩ビ
系樹脂１ ウレタン系樹脂等を用いることができる。ま
た、保護層３の厚さとしては、例えば５〜１００μｍの
厚さに形成する。
１上に剥離層２を形成し、さらにこの剥離層２上に保護
層３を形成する。ここで、剥離層２の材質としては、例
えばアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂
等を用いることができる。また、剥離層２の厚さとして
は、例えば０．１〜１．０μｍの厚さに形成する。一方
、保護層３の材質としては、例えば塩酢ビ系樹脂、塩ビ
系樹脂１ ウレタン系樹脂等を用いることができる。ま
た、保護層３の厚さとしては、例えば５〜１００μｍの
厚さに形成する。
次に、第１図（ｂ）に示すように、保護層３上にレジス
トを塗布し、露光によりバターニングしてレジストパタ
ーン層４を形成しく信号パターンの形成）、さらにこの
レジストパターン層４の上に、蒸着により導電膜□層５
を形成する。ここで、レジストパターン層４の材質とし
ては、例えばポジレジ等を用い、またその厚さとしては
、例えば０．１２μｍの厚さに形成する。一方、導電膜
層５の材質としては、例えばニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａ
ｇ）等を用いることができ、またその厚さとしては、例
えば０．０５〜１μｍの厚さに形成する。
トを塗布し、露光によりバターニングしてレジストパタ
ーン層４を形成しく信号パターンの形成）、さらにこの
レジストパターン層４の上に、蒸着により導電膜□層５
を形成する。ここで、レジストパターン層４の材質とし
ては、例えばポジレジ等を用い、またその厚さとしては
、例えば０．１２μｍの厚さに形成する。一方、導電膜
層５の材質としては、例えばニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａ
ｇ）等を用いることができ、またその厚さとしては、例
えば０．０５〜１μｍの厚さに形成する。
次に、第１図（Ｃ）に示すように、導電膜層５上に電鋳
により電鋳層６を形成する。ここで、電鋳層６の材質と
しては、例えばニッケル（Ｎｉ）等を用いることができ
る。
により電鋳層６を形成する。ここで、電鋳層６の材質と
しては、例えばニッケル（Ｎｉ）等を用いることができ
る。
次に、第１図（ｄ）に示すように、電鋳した原盤をガラ
ス基板１から剥離する。その後、電鋳した原盤の裏面を
研磨し、打抜きにより成品化する。
ス基板１から剥離する。その後、電鋳した原盤の裏面を
研磨し、打抜きにより成品化する。
ここで、原盤の裏面を研磨する方法としては、例えば原
盤を回転させた状態でサンドペーパー等で研磨すること
ができる。
盤を回転させた状態でサンドペーパー等で研磨すること
ができる。
以上のようにして製造した光学式ディスクにおいては、
保護層３形成前の洗浄ならびに乾燥工程が不要となるこ
とにより、その分だけ製造時間を短かくすることができ
る。また、信号形成から裏面研磨・打抜きまで、信号面
は常に保護層３で覆われていることにより、ゴミの付着
が少なく光学式ディスクとしての信頼性を高めることが
できる。
保護層３形成前の洗浄ならびに乾燥工程が不要となるこ
とにより、その分だけ製造時間を短かくすることができ
る。また、信号形成から裏面研磨・打抜きまで、信号面
は常に保護層３で覆われていることにより、ゴミの付着
が少なく光学式ディスクとしての信頼性を高めることが
できる。
さらに、ガラス基板１を再成する場合、剥離層２の存在
によってガラス基板１上にレジスト等が残らないことに
より、簡単な洗浄のみを行なうだけでよい。
によってガラス基板１上にレジスト等が残らないことに
より、簡単な洗浄のみを行なうだけでよい。
上述したように、本実施例の光学式ディスクは、ガラス
基板１上に剥離層２を形成し、この剥離層２上に保護層
３を形成し、この保護層３上にレジストパターン層４を
形成し、このレジストパターン層４の上に導電膜層５を
形成し、この導電膜層５上に電鋳層６を形成し、この電
鋳した原盤をガラス基板１から剥離した後に、電鋳した
原盤の裏面を研磨し、打抜きにより成品化することによ
り、製造したものである。
基板１上に剥離層２を形成し、この剥離層２上に保護層
３を形成し、この保護層３上にレジストパターン層４を
形成し、このレジストパターン層４の上に導電膜層５を
形成し、この導電膜層５上に電鋳層６を形成し、この電
鋳した原盤をガラス基板１から剥離した後に、電鋳した
原盤の裏面を研磨し、打抜きにより成品化することによ
り、製造したものである。
従って、次のような種々の作用効果が得られるものであ
る。
る。
（ａ）保護層３形成前の洗浄ならびに乾燥工程が不要と
なるため、その分だけ製造時間の短縮化を図ることが可
能となる。
なるため、その分だけ製造時間の短縮化を図ることが可
能となる。
（ｂ）信号形成から裏面研磨・打抜きまで、信号面は常
に保護層３で覆われているため、ゴミの付着が少なく光
学式ディスクとしての信頼性を高めることが可能となる
。
に保護層３で覆われているため、ゴミの付着が少なく光
学式ディスクとしての信頼性を高めることが可能となる
。
（ｃ）ガラス基板１を再成する場合、剥離層２の存在に
よってガラス基板１上にレジスト等が残らないため、簡
単な洗浄のみを行なうだけでよく、手間がかからない。
よってガラス基板１上にレジスト等が残らないため、簡
単な洗浄のみを行なうだけでよく、手間がかからない。
尚、上記実施例では、本発明を光学式ディスクに適用し
た場合について述べたが、これに限らず光学方式のビデ
オディスク、光カード、その他シート状の光学式記録媒
体についても、全く同様に本発明を適用して同様の効果
を得ることができるものである。
た場合について述べたが、これに限らず光学方式のビデ
オディスク、光カード、その他シート状の光学式記録媒
体についても、全く同様に本発明を適用して同様の効果
を得ることができるものである。
［発明の効果］
以上説明したように本発明によれば、保護層形成前の洗
浄・乾燥工程を不要として製造時間の短縮化を図ると共
に、ゴミの付着を防止することが可能な極めて信頼性の
高い光学式記録媒体の製造方法が提供できる。
浄・乾燥工程を不要として製造時間の短縮化を図ると共
に、ゴミの付着を防止することが可能な極めて信頼性の
高い光学式記録媒体の製造方法が提供できる。
第１図は本発明による光学式記録媒体である光学式ディ
スクの製造工程の一実施例を示す断面構成図である。 １・・・ガラス基板、２・・・剥離層、３・・・保護層
、４・・・レジストパターン層、５・・・導電膜層、６
・・・電鋳層。
スクの製造工程の一実施例を示す断面構成図である。 １・・・ガラス基板、２・・・剥離層、３・・・保護層
、４・・・レジストパターン層、５・・・導電膜層、６
・・・電鋳層。
Claims (2)
- （１）ガラス基板上に剥離層を形成する第１の工程と、 前記剥離層上に保護層を形成する第２の工程と、前記保
護層上にレジストパターン層を形成する第３の工程と、 前記レジストパターン層上に導電膜層を形成する第４の
工程と、 前記導電膜層上に電鋳層を形成する第５の工程と、 前記電鋳した原盤を前記ガラス基板から剥離する第６の
工程と、 前記電鋳した原盤の裏面を研磨して打抜きにより成品化
する第７の工程と、 から成ることを特徴とする光学式記録媒体の製造方法。 - （２）前記光学式記録媒体としては、ディスク状、カー
ド状、シート状のうちいずれかであることを特徴とする
請求項（１）項に記載の光学式記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2073562A JP2792186B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 光学式記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2073562A JP2792186B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 光学式記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03276436A true JPH03276436A (ja) | 1991-12-06 |
| JP2792186B2 JP2792186B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=13521826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2073562A Expired - Lifetime JP2792186B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 光学式記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2792186B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63313333A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Kyodo Printing Co Ltd | 光記録カードの製造方法 |
| JPH0244540A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Toppan Printing Co Ltd | 光学式ディスク及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP2073562A patent/JP2792186B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63313333A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Kyodo Printing Co Ltd | 光記録カードの製造方法 |
| JPH0244540A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Toppan Printing Co Ltd | 光学式ディスク及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2792186B2 (ja) | 1998-08-27 |
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