JPH0328725B2 - - Google Patents
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- JPH0328725B2 JPH0328725B2 JP2335883A JP2335883A JPH0328725B2 JP H0328725 B2 JPH0328725 B2 JP H0328725B2 JP 2335883 A JP2335883 A JP 2335883A JP 2335883 A JP2335883 A JP 2335883A JP H0328725 B2 JPH0328725 B2 JP H0328725B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/265—Structure or manufacture of a head with more than one gap for erasing, recording or reproducing on the same track
- G11B5/2651—Manufacture
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
この発明は、磁気記録媒体との摺動特性及び耐
摩耗性のすぐれた構造部品用非磁性材料を有する
磁気ヘツドに関する。 一般に磁気ヘツドは、磁性材料からなるコア部
と、非磁性材料からなる構造部品とを、ガラス溶
着あるいは樹脂接着して組立られており、磁性材
料として、例えばMn−Znフエライト、Ni−Zn
フエライトが使用され、また、非磁性構造部品用
材料にはTiO2−CaO系磁器及びTiO2−BaO系磁
器が使用され、上記のフエライトは主に多結晶体
が使用される。 コア部が多結晶フエライトの場合、今日の記録
密度の向上及び磁気ヘツドの小形化にともないフ
エライトの高密度化の技術が進んでおり、熱間静
水圧プレス処理により気孔率0.1%以下のものが
すでに製品化されている。 しかし、構造部品用材料であるTiO2−CaO系
及びTiO2−BaO系磁器等の非磁性材料は、一般
に気孔率が非常に高い材料が使用されているた
め、次のような問題が生じている。 組立られた磁気ヘツドの研摩加工の際、緻密化
の不十分な気孔率の高い非磁性材料では表面欠陥
及びR面のエツジ部に凹凸が発生しやすいため、
例えば、フロツピーデイスク用の磁気ヘツド如
く、回転するデイスク上でその径方向にヘツドを
移動させ、順次信号を記録再生し作動させる場
合、記録媒体が非磁性材料に存在する気孔や表面
欠陥によつて削られて気孔や凹部に捕捉されて埋
まり、このため記録媒体が損傷したり、あるいは
記録媒体によつて非磁性材料の表面欠陥や凹凸が
削り取られ、ヘツドの走行時に線状疵が入り、こ
れによつて記録媒体側に疵を発生させる原因にも
なつていた。 すなわち、磁気ヘツドの構造部品用非磁性材料
に、気孔率の高い材料を使用すると、記録媒体の
みならず、それ自身も損傷することにより、記録
再生及び消去の効率が著しく低下し、SN比は悪
化するため、磁気ヘツドの不良率を高めたり、寿
命を著しく縮める問題があつた。 この発明は、上述の現状に鑑み、記録媒体に対
するすぐれた摺動特性及び高い耐摩耗性を有し、
かつ製品歩留の良好な磁気ヘツドを目的としてい
る。 すなわちこの発明は、熱間静水圧プレス処理を
施した気孔率0.1%以下の表面欠陥のないフエラ
イトからなるコア部と、気孔率0.1%以下で表面
欠陥の大きさが3μm以下のTiO2−CaO系及び
TiO2−BaO系磁器の非磁性材料からなる非磁性
構造部とで構成されたことを特徴とする磁気ヘツ
ドである。 この発明において、表面欠陥とは、材料の研摩
加工の際に発生する表面の凹み及び内部に存在す
る気孔である。 磁気ヘツドのコア材料には、Mn−Znフエライ
ト、Ni−Znフエライトが適当であり、構造部品
用非磁性材料には、TiO2−CaO系及びTiO2−
BaO系磁器が適している。 以下に、この発明を具体的に磁気ヘツド組立体
の構成に基づいて説明する。第1図は磁気ヘツド
の前面図であり、第2図は磁気ヘツド組立体の分
解斜視図である。 フロツピーデイスク用磁気ヘツド1は、中央の
記録再生部組立層10と、その両側の消去部組立
層20,30と、各々の外側に配置される棒状の
TiO2−CaO系及びTiO2−BaO系磁器の非磁性補
強材40,41とから構成される。記録再生部組
立層10は、L型コア11とI型コア12とをガ
ラス溶着して変換ギヤツプを形成した変換ヘツド
コア組立体に、これと同幅のTiO2−CaO系磁器
の非磁性材料からなるL型補強材13をギヤツプ
に平行する端面すなわちI型コア12の側端面に
固着して1枚の板に構成してある。 記録再生部組立層10の両側面に樹脂またはガ
ラスで接着する2層の消去部組立層20,30
は、L型コア21,31とI型コア22,32と
をガラス溶着して消去ギヤツプを形成した消去ヘ
ツドコア組立体に、これと同幅のTiO2−BaO系
磁器の非磁性材料からなるL型補強材23,33
をギヤツプに平行する端面すなわちI型コア2
2,32の側端面に固着して1枚の板に構成して
ある。 この消去部組立層20,30の消去ギヤツプの
トラツク幅は、組立層を積層した際の外側より記
録再生部組立層10方向へ設けたL型コア21,
31の切欠部24,34により規制して所定幅に
形成される。 また、記録再生部組立層10の両側面に2層の
消去部組立層20,30を各々樹脂またはガラス
で接着して積層組立するが、各組立層の磁気ギヤ
ツプは、消去部組立層20,30の消去ギヤツプ
がL型補強材13に、記録再生部組立層10の変
換ギヤツプがL型補強材23,33に隣接するよ
うに配列組立される。 このように各組立層を所定位置及び所定寸法関
係を保持し、樹脂またはガラス接着して積層組立
したのち、さらに棒状のTiO2−CaO系及びTiO2
−BaO系磁器の非磁性補強材40,41を接着
してこの組立体の底面を実質的に同一平面にし、
この磁気記録媒体の摺動面を例えばR研摩して磁
気ヘツド組立体に作製する。 以上の構成からなる磁気ヘツドにおいて、各コ
アを熱間静水圧プレス処理を施した気孔率0.1%
以下の表面欠陥のないMn−Znフエライト、Ni−
Znフエライトより作製し、各補強材を気孔率0.1
%以下で表面欠陥の大きさが3μm以下のTiO2−
CaO系及びTiO2−BaO系磁器より作製すること
によつて、磁気記録媒体との摺動特性及び耐摩耗
性に著しくすぐれ、かつ製品不良率の低い磁気ヘ
ツドが得られる。 以下に、この発明の実施例を示し、その効果を
明らかにする。 ここでは、上述したフロツピーデイスク用磁気
ヘツドにおいて、記録再生ヘツドコアにMn−Zn
フエライト、同補強材にTiO2−CaO系磁器、消
去ヘツドコアにNi−Znフエライト、同補強材に
TiO2−BaO系磁器を使用した例を説明する。 コア用のソフトフエライトは各々第1表に示す
特性を有し、ともに同一の熱間静水圧プレス処理
を施してあり、気孔率が0.05%である。 また、非磁性補強材のTiO2−CaO系磁器は、
TiO2 64.3wt%、CaO 25.5wt%、MgO 7.0wt%、
ZrO2 3.2wt%とした組成物で、TiO2−BaO系磁
器は、TiO2 82.7wt%、BaO 12.7wt%、ZrO2
3.1wt%、SiO2 1.5wt%とした組成物で、両者と
も、その気孔率を0.05%、0.1%、0.2%、0.5%、
1%と変化させたものを使用した。 以上の組み合せで、ガラス溶着により作製した
磁気ヘツドについて、表面のR研摩を表面欠陥が
種々異なるよう研摩し、気孔率及び表面欠陥と、
磁気ヘツドの走行時に非磁性補強材に発生する線
状疵の発生頻度との関係を調べた。結果は第2表
に示す。なお、表中の疵発生本数は、上記の磁気
ヘツドを500時間摺動走行たせのち、コア部非磁
性補強材表面に残された線状で幅2μm以上の疵
の本数を表わしたもので、表面欠陥は表面段差測
定器及び顕微鏡写真にて測定した結果である。 第2表から明らかなように、磁気ヘツドコアの
フエライトの差異に関係なく、非磁性補強材の気
孔率が0.1%を越える場合は研摩による表面欠陥
も大きくなり、非磁性補強材の疵発生本数も著し
く増加する。これに対して、非磁性補強材の気孔
率が0.1%以下で、かつ研摩による表面欠陥が3μ
m以下の場合、疵発生が全くなく、摺動特性及び
耐摩耗性にすぐれていることが分る。
摩耗性のすぐれた構造部品用非磁性材料を有する
磁気ヘツドに関する。 一般に磁気ヘツドは、磁性材料からなるコア部
と、非磁性材料からなる構造部品とを、ガラス溶
着あるいは樹脂接着して組立られており、磁性材
料として、例えばMn−Znフエライト、Ni−Zn
フエライトが使用され、また、非磁性構造部品用
材料にはTiO2−CaO系磁器及びTiO2−BaO系磁
器が使用され、上記のフエライトは主に多結晶体
が使用される。 コア部が多結晶フエライトの場合、今日の記録
密度の向上及び磁気ヘツドの小形化にともないフ
エライトの高密度化の技術が進んでおり、熱間静
水圧プレス処理により気孔率0.1%以下のものが
すでに製品化されている。 しかし、構造部品用材料であるTiO2−CaO系
及びTiO2−BaO系磁器等の非磁性材料は、一般
に気孔率が非常に高い材料が使用されているた
め、次のような問題が生じている。 組立られた磁気ヘツドの研摩加工の際、緻密化
の不十分な気孔率の高い非磁性材料では表面欠陥
及びR面のエツジ部に凹凸が発生しやすいため、
例えば、フロツピーデイスク用の磁気ヘツド如
く、回転するデイスク上でその径方向にヘツドを
移動させ、順次信号を記録再生し作動させる場
合、記録媒体が非磁性材料に存在する気孔や表面
欠陥によつて削られて気孔や凹部に捕捉されて埋
まり、このため記録媒体が損傷したり、あるいは
記録媒体によつて非磁性材料の表面欠陥や凹凸が
削り取られ、ヘツドの走行時に線状疵が入り、こ
れによつて記録媒体側に疵を発生させる原因にも
なつていた。 すなわち、磁気ヘツドの構造部品用非磁性材料
に、気孔率の高い材料を使用すると、記録媒体の
みならず、それ自身も損傷することにより、記録
再生及び消去の効率が著しく低下し、SN比は悪
化するため、磁気ヘツドの不良率を高めたり、寿
命を著しく縮める問題があつた。 この発明は、上述の現状に鑑み、記録媒体に対
するすぐれた摺動特性及び高い耐摩耗性を有し、
かつ製品歩留の良好な磁気ヘツドを目的としてい
る。 すなわちこの発明は、熱間静水圧プレス処理を
施した気孔率0.1%以下の表面欠陥のないフエラ
イトからなるコア部と、気孔率0.1%以下で表面
欠陥の大きさが3μm以下のTiO2−CaO系及び
TiO2−BaO系磁器の非磁性材料からなる非磁性
構造部とで構成されたことを特徴とする磁気ヘツ
ドである。 この発明において、表面欠陥とは、材料の研摩
加工の際に発生する表面の凹み及び内部に存在す
る気孔である。 磁気ヘツドのコア材料には、Mn−Znフエライ
ト、Ni−Znフエライトが適当であり、構造部品
用非磁性材料には、TiO2−CaO系及びTiO2−
BaO系磁器が適している。 以下に、この発明を具体的に磁気ヘツド組立体
の構成に基づいて説明する。第1図は磁気ヘツド
の前面図であり、第2図は磁気ヘツド組立体の分
解斜視図である。 フロツピーデイスク用磁気ヘツド1は、中央の
記録再生部組立層10と、その両側の消去部組立
層20,30と、各々の外側に配置される棒状の
TiO2−CaO系及びTiO2−BaO系磁器の非磁性補
強材40,41とから構成される。記録再生部組
立層10は、L型コア11とI型コア12とをガ
ラス溶着して変換ギヤツプを形成した変換ヘツド
コア組立体に、これと同幅のTiO2−CaO系磁器
の非磁性材料からなるL型補強材13をギヤツプ
に平行する端面すなわちI型コア12の側端面に
固着して1枚の板に構成してある。 記録再生部組立層10の両側面に樹脂またはガ
ラスで接着する2層の消去部組立層20,30
は、L型コア21,31とI型コア22,32と
をガラス溶着して消去ギヤツプを形成した消去ヘ
ツドコア組立体に、これと同幅のTiO2−BaO系
磁器の非磁性材料からなるL型補強材23,33
をギヤツプに平行する端面すなわちI型コア2
2,32の側端面に固着して1枚の板に構成して
ある。 この消去部組立層20,30の消去ギヤツプの
トラツク幅は、組立層を積層した際の外側より記
録再生部組立層10方向へ設けたL型コア21,
31の切欠部24,34により規制して所定幅に
形成される。 また、記録再生部組立層10の両側面に2層の
消去部組立層20,30を各々樹脂またはガラス
で接着して積層組立するが、各組立層の磁気ギヤ
ツプは、消去部組立層20,30の消去ギヤツプ
がL型補強材13に、記録再生部組立層10の変
換ギヤツプがL型補強材23,33に隣接するよ
うに配列組立される。 このように各組立層を所定位置及び所定寸法関
係を保持し、樹脂またはガラス接着して積層組立
したのち、さらに棒状のTiO2−CaO系及びTiO2
−BaO系磁器の非磁性補強材40,41を接着
してこの組立体の底面を実質的に同一平面にし、
この磁気記録媒体の摺動面を例えばR研摩して磁
気ヘツド組立体に作製する。 以上の構成からなる磁気ヘツドにおいて、各コ
アを熱間静水圧プレス処理を施した気孔率0.1%
以下の表面欠陥のないMn−Znフエライト、Ni−
Znフエライトより作製し、各補強材を気孔率0.1
%以下で表面欠陥の大きさが3μm以下のTiO2−
CaO系及びTiO2−BaO系磁器より作製すること
によつて、磁気記録媒体との摺動特性及び耐摩耗
性に著しくすぐれ、かつ製品不良率の低い磁気ヘ
ツドが得られる。 以下に、この発明の実施例を示し、その効果を
明らかにする。 ここでは、上述したフロツピーデイスク用磁気
ヘツドにおいて、記録再生ヘツドコアにMn−Zn
フエライト、同補強材にTiO2−CaO系磁器、消
去ヘツドコアにNi−Znフエライト、同補強材に
TiO2−BaO系磁器を使用した例を説明する。 コア用のソフトフエライトは各々第1表に示す
特性を有し、ともに同一の熱間静水圧プレス処理
を施してあり、気孔率が0.05%である。 また、非磁性補強材のTiO2−CaO系磁器は、
TiO2 64.3wt%、CaO 25.5wt%、MgO 7.0wt%、
ZrO2 3.2wt%とした組成物で、TiO2−BaO系磁
器は、TiO2 82.7wt%、BaO 12.7wt%、ZrO2
3.1wt%、SiO2 1.5wt%とした組成物で、両者と
も、その気孔率を0.05%、0.1%、0.2%、0.5%、
1%と変化させたものを使用した。 以上の組み合せで、ガラス溶着により作製した
磁気ヘツドについて、表面のR研摩を表面欠陥が
種々異なるよう研摩し、気孔率及び表面欠陥と、
磁気ヘツドの走行時に非磁性補強材に発生する線
状疵の発生頻度との関係を調べた。結果は第2表
に示す。なお、表中の疵発生本数は、上記の磁気
ヘツドを500時間摺動走行たせのち、コア部非磁
性補強材表面に残された線状で幅2μm以上の疵
の本数を表わしたもので、表面欠陥は表面段差測
定器及び顕微鏡写真にて測定した結果である。 第2表から明らかなように、磁気ヘツドコアの
フエライトの差異に関係なく、非磁性補強材の気
孔率が0.1%を越える場合は研摩による表面欠陥
も大きくなり、非磁性補強材の疵発生本数も著し
く増加する。これに対して、非磁性補強材の気孔
率が0.1%以下で、かつ研摩による表面欠陥が3μ
m以下の場合、疵発生が全くなく、摺動特性及び
耐摩耗性にすぐれていることが分る。
【表】
第1図は磁気ヘツドの前面図であり、第2図は
磁気ヘツド組立体の分解斜視図である。 1…磁気ヘツド、10…記録再生部組立層、2
0,30…消去部組立層、11,21,31…L
型コア、12,22,32…I型コア、13,2
3,33…L型補強材、24,34…切欠部、4
0,41…非磁性補強材。
磁気ヘツド組立体の分解斜視図である。 1…磁気ヘツド、10…記録再生部組立層、2
0,30…消去部組立層、11,21,31…L
型コア、12,22,32…I型コア、13,2
3,33…L型補強材、24,34…切欠部、4
0,41…非磁性補強材。
Claims (1)
- 1 熱間静水圧プレス処理を施した気孔率0.1%
以下の表面欠陥のないフエライトからなるコア部
と、気孔率0.1%以下で表面欠陥の大きさが3μm
以下のTiO2−CaO系及びTiO2−BaO系磁器の非
磁性材料からなる非磁性構造部とで構成されたこ
とを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2335883A JPS59148112A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2335883A JPS59148112A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59148112A JPS59148112A (ja) | 1984-08-24 |
| JPH0328725B2 true JPH0328725B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=12108345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2335883A Granted JPS59148112A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59148112A (ja) |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP2335883A patent/JPS59148112A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59148112A (ja) | 1984-08-24 |
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