JPH03288667A - サーマルヘッド - Google Patents

サーマルヘッド

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JPH03288667A
JPH03288667A JP9121590A JP9121590A JPH03288667A JP H03288667 A JPH03288667 A JP H03288667A JP 9121590 A JP9121590 A JP 9121590A JP 9121590 A JP9121590 A JP 9121590A JP H03288667 A JPH03288667 A JP H03288667A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
heat insulating
layer
thermal head
vinylidene fluoride
Prior art date
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Pending
Application number
JP9121590A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Nishioka
洋一 西岡
Yutaka Okabe
豊 岡部
Hiroyo Katou
加藤 博代
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、感熱式印字装置等に組み込まれるサーマルヘ
ッドに関するものである。
[従来の技術] 従来より、サーマルヘッドについては、低消費電力化及
び印字の高速化が望まれている。このような特性は、サ
ーマルヘッドを構成する基板の熱特性により大きく左右
されるため、これについての改善が種々提案されている
第2図は従来のサーマルヘッドを示す概略断面図である
。同図に示されるように、従来のサーマルヘッドにおい
ては、絶縁性の基板11上に保温層12が備えられ、そ
の上に発熱抵抗体層13、給電体14aと14b1保護
層15が順に備えられている。そして、発熱抵抗体13
の給電体14aと14.bとの間の部分Aが発熱部とな
る。
ところで、一般には、保温層12は熱伝導率3×10−
8〜9×1O−3ca1/cm−8・℃のガラスで構成
されており、発熱抵抗体13で発生した熱が基板11に
必要以上に逃げないようにしている。
そして、従来は、この保温層12の熱伝導率を発熱抵抗
体13を挟んで反対に位置する保護層15(SiOs又
はTa2O,等)の熱伝導率より小さくして、基板11
に必要以上の放熱がなされないようにするため、保温層
12を厚く形成していた。
ところが、保温層12を厚く形成した場合には、発熱抵
抗体13の通電をオフにした後の発熱部Aの放熱が速や
かになされなくなる。このため、印字繰返し周期が速い
場合には、発熱部Aの温度が十分に低下しないうちに次
の印字が開始され、発熱部Aの温度が上昇しすぎて、印
字品質が低下するとの問題が生じる。
そこで、サーマルヘッドの保温層の熱伝導率を小さくす
るため保温層に多数の孔を有するガラスをもちいたもの
(例えば、特開昭62−1554号公報に開示)が提案
されている。この保温層は熱伝導率が小さく保温性に優
れ、また、薄型に形成することにより良好な熱応答性を
もたせることを可能にしている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来例に示されるような多孔質ガラ
ス層を製造するためには、焼成に際して設定する温度を
、例えば、設定温度の±2〜3°Cの範囲内に維持しな
ければならず、このような温度制御は技術的に高度で、
且つ、困難であるという問題があった。
また、焼成温度が適当に設定されていないことにより、
ガラス粉内部より発生する気泡の径が大きくばらつくた
め、サーマルヘッドの熱応答性にも製品ごとにばらつき
が生じる問題があった。
さらに、気泡の径が大きすぎるときには、保温層の機械
的強度が弱くなる問題があった。
さらにまた、気泡の径が大きすぎるときには、気泡が多
孔質ガラスの表面に露出して、表面が凹凸状になり、こ
のため、保温層上に形成される発熱抵抗体や導電体等の
微細加エバターンの形成(例えば、フォトリソグラフィ
技術を用いる)が困難になり、又、印字品質に悪影響を
与える等の問題があった。
そこで、本発明は上記したような従来技術の課題を解決
するためになされたもので、その目的とするところは、
保温層の熱伝導率が小さく、機械的強度が強く、良好な
印字品質を得ることができるサーマルヘッドを提供する
ことにある。
[課題を解決するための手段] 本発明に係わるサーマルヘッドは、絶縁基板と、上記絶
縁基板上に備えられた保温層と、上記保温層上に備えら
れた発熱抵抗体とを有するサーマルヘッドにおいて、上
記保温層をフッ化ビニリデンへキサフルオロアセトン共
重合体により形成したことを特徴としている。
[作用] 本発明においては、保温層を、耐熱性に優れた特性を持
ち、且つ、空孔を備えなくとも熱伝導率を十分に低くで
きる特性を持つ材質であるフッ化ビニリデン−ヘキサフ
ルオロアセトン共重合体により形成している。この保温
層は熱伝導率が低いために、空孔を形成する必要がなく
、このため保温層の機械的強度を強くでき、空孔の径の
ばらつきによる熱応答性のばらつきをなくすることがで
きる。また、空孔が表面に露出することがなく、しかも
、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン共重合体
は成膜性に優れ膜厚の制御も容易であるので、均−且つ
平滑な膜に形成できるので、その上に形成される発熱抵
抗体等の平滑性を高くできる。
[実施例] 以下に本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
火施桝↓ 第1図は、本発明に係わるサーマルヘッドの一実施例を
示す概略断面図である。同図に基づいて本実施例の構成
を説明すると、本実施例においては、絶縁性のアルミナ
基板1上に保温層2が備えられており、この保温層2上
にスパッタ法により形成されたTa2N等よりなる発熱
抵抗体層3が備えられている。そして、発熱抵抗体層3
上に蒸着法及びメツキ法により形成されたN1Cr−A
U等よりなる給電体4aと4bが備えられ、さらに給電
体4a、4b上にスパッタ法等により形成された5i0
2等よりなる保護層5が備えられている。ここで、発熱
抵抗体3の給電体4aと4bのあいだの部分Aが発熱部
となる。
そして、本実施例では上記保温層2を下記化学式(I)
で示されるフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン
共重合体により形成している。
 6 CF。
(CH2−CF 2)T−(0−Ce−0・・ ・ (
I)CF3 (ただし、上式において、n :m=10 : 90〜
90:10の範囲である) 上記フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン共重合
体は、熱分析装置(理学電機製)を用い空気中で10℃
/分の速度で昇温した場合に370℃にて重量減少が始
るものの、370℃以下の温度範囲では殆ど重量減少が
起らないという優れた耐熱性を有する。サーマルヘッド
の発熱抵抗体の最高温度は通常の使用モードでは300
℃前後と推測されているので、上記フッ化ビニリデン−
ヘキサフルオロアセトン共重合体はサーマルヘッドの保
温層として十分な耐熱性を有するものと考えられる。
また、本発明者らは、先に含フツ素ポリベンゾオキサゾ
ールを保温層として使用するサーマルヘッドについて提
案している(特願平1−301373号明細書参照)が
、上記フッ化ビニリデンヘキサフルオロアセトン共重合
体は含フツ素ポリベンゾオキサゾールに比較して成膜性
に優れており、表面がより平滑な膜が得られるので有利
である。
上記保温層2をフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセ
トン共重合体としたサーマルヘッドは以下の手順により
製造できる。
まず、片面研磨した50X50X1mmのアルミナ基板
(高純度化学研究新製)上に、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業
製)1.5mlに純水150m1とイソプロピルアルコ
ール150m1とを加えて混合した溶液を400Orp
mで30秒間スピンコードし、100℃で30分間乾燥
させる。
次に、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン共重
合体10gのメチルイソブチルケトン100m1溶液を
1100Orpで30秒間スピンコードし、300℃で
30分間乾燥させて、10μm厚のフッ化ビニリデン−
ヘキサフルオロアセトン共重合体膜が得られる。
次に、保温層2上にスパッタ法によりTa2Nよりなる
発熱抵抗体層3を形成し、その上に蒸着法及びメツキ法
によりNiCr−Auよりなる給電体4aと4bを形成
し、さらにその上にスパッタ法によりSiO2よりなる
保護層5を形成している。
尖施例ス 第3図は本発明に係わるサーマルヘッドの他の実施例を
示す概略断面図である。同図において、第1図の実施例
と同一の構成部分には同一の符号を付して実施例の構成
を説明すると、第3図の実施例は保温層2と発熱抵抗体
層3の間にスパッタ法により1μm厚に形成された5i
02よりなる中間層6を備えている点のみが第1図の実
施例と相違する。この中間層6によりスパッタ法により
形成されるTa2Nの発熱抵抗体層3は高分子化合物で
ある保温層2上に直接ではなく、中間層6を介して形成
されることとなる。従って、中間層6は、保温層2がT
a2Nのスパッタによる熱応力の影響を受けにくくする
働きを持つ。尚、上記以外の構成は第1図の実施例と同
一である。
上記実施例1と実施例2によるサーマルヘッドの性能を
確認するため、サーマルヘッドに与えられる電力を変化
させて感熱記録紙に全黒印字を行ない、マクベス濃度計
により印字濃度を測定した。
尚、比較のため以下に比較例1、比較例2として示され
る構成のサーマルヘッドについても同様の測定を行なっ
た。
比較例↓ 保温層の材質を厚さ10μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例1と異なり、これ以外は実施例1と
同一の構成のサーマルヘッド。
ル較桝又 保温層の材質を厚さ40μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例1と異なり、これ以外は実施例1と
同一の構成のサーマルヘッド。
測定により、以下の表1の結果が得られた。
= 9 0 ここで、第4図は上記測定結果を示すグラフであり、A
、B、C,Dはそれぞれ実施例1、実施例2、比較例1
、比較例2を示したものである。
実施例1.2と比較例1.2の比較により、実施例1.
2のいずれも、比較例1.2より、少ない電力で高い濃
度が得られることが確認できた。尚、実施例1と実施例
2の比較より中間層によりわずかに放熱量が増し、印字
濃度の低下が見られるが、その差は極めて小さく、性能
にほとんど悪影響を与えないことが確認できた。
上記したフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン共
重合体により形成された実施例1.2の保温層は、十分
な保温性能があるので、保温層に空孔を形成する必要が
なく、このため空孔を有する従来のグレーズガラスのよ
うに焼成温度を厳密に設定することが要求されず製作が
簡単になり、しかも、保温層2の機械的強度を向上でき
る。また、空孔を必要としないので空孔の径のばらつき
による熱応答性のばらつきをなくすることができる。さ
らに、空孔が表面に露出することがないので表面の平滑
性も高くでき、しかも、フッ化ビニリデン−ヘキサフル
オロアセトン共重合体は成膜性に優れ均−且つ平滑に形
成できるので、その上に形成される発熱抵抗体等の平滑
性を高くできる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明においては保温層を耐熱性
に優れ熱伝導率の低い材質であるフッ化ビニリデン−ヘ
キサフルオロアセトン共重合体により形成したので、保
温層に空孔を形成することなく十分な保温性能を持たせ
ることができる。また、保温層に空孔を形成する必要が
ないため、従来のグレーズガラスのように焼成温度を厳
密に設定することが要求されず製作が簡単になり、しか
も、保温層の機械的強度を強くできる。さらに、空孔の
径のばらつきによる熱応答性のばらつきをなくすること
ができ、しかも、保温層表面の平滑性を高めることによ
りその上に形成される層の平滑性を高めることにより、
印字品質を良好にできるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わるサーマルヘッドの一実施例を示
す概略構成図、 第2図は従来のサーマルヘッドの概略構成図、第3図は
他の実施例を示す概略構成図、第4図は実施例1.2と
比較例1.2の印加電力・濃度特性を示すグラフである
。 1・・・アルミナ基板、 2・・・保温層、 3・・・発熱抵抗体層、 4a、4b・・・給電体、 5・・・保護層、 6・・・中間層、 A・・・発熱部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 絶縁基板と、 上記絶縁基板上に備えられた保温層と、 上記保温層上に備えられた発熱抵抗体とを有するサーマ
    ルヘッドにおいて、 上記保温層をフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセト
    ン共重合体により形成したことを特徴とするサーマルヘ
    ッド。
JP9121590A 1990-04-05 1990-04-05 サーマルヘッド Pending JPH03288667A (ja)

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JP9121590A JPH03288667A (ja) 1990-04-05 1990-04-05 サーマルヘッド

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