JPH03292005A - 誘電体共振器の製造方法 - Google Patents
誘電体共振器の製造方法Info
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- JPH03292005A JPH03292005A JP2095746A JP9574690A JPH03292005A JP H03292005 A JPH03292005 A JP H03292005A JP 2095746 A JP2095746 A JP 2095746A JP 9574690 A JP9574690 A JP 9574690A JP H03292005 A JPH03292005 A JP H03292005A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば高周波等に用いられる誘電体共振器の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来の技術
近年、情報通信機器の進展にともなって、例えば自動車
電話或いは衛星通信などに用いられている高周波用の誘
電体共振器の需要は著しく増加しており、それとともに
誘電体共振器の小型化、高性能化や低価格化へのニーズ
が高まっている。
電話或いは衛星通信などに用いられている高周波用の誘
電体共振器の需要は著しく増加しており、それとともに
誘電体共振器の小型化、高性能化や低価格化へのニーズ
が高まっている。
従来の誘電体共振器は第5図に示すものか代表的な形状
であり、第5図(A)は斜視図、第5図(B)は第5図
(A)における断面図である。誘電体共振器の形状とし
ては、そのほかに、直方体柱状のものがあるが、第5図
に示すような円柱状のものがスプリアス特性が優れてい
るという理由から良く使われている。第5図において、
1は誘電体セラミックよりなる本体、2は貫通孔、3は
金属層である。
であり、第5図(A)は斜視図、第5図(B)は第5図
(A)における断面図である。誘電体共振器の形状とし
ては、そのほかに、直方体柱状のものがあるが、第5図
に示すような円柱状のものがスプリアス特性が優れてい
るという理由から良く使われている。第5図において、
1は誘電体セラミックよりなる本体、2は貫通孔、3は
金属層である。
この誘電体共振器は、誘電体セラミック用材料を任意の
寸法形状に成形加工し、高温焼結して作った本体1の貫
通孔2の内周面及び外周面の全面または一部分を残して
選択的に銀粉末とガラスフリットを混合した導電性ペー
ストを塗布し、これを600〜800℃の高温中で焼成
することによって金属層3を10〜20μm程度の膜厚
で連続して形成したものである。また一方、昨今では誘
電体共振器の低価格化や高性能化を指向した金属形成法
として、本体1に直接無電解めっき法によって金属層3
を形成する方法も行われている。
寸法形状に成形加工し、高温焼結して作った本体1の貫
通孔2の内周面及び外周面の全面または一部分を残して
選択的に銀粉末とガラスフリットを混合した導電性ペー
ストを塗布し、これを600〜800℃の高温中で焼成
することによって金属層3を10〜20μm程度の膜厚
で連続して形成したものである。また一方、昨今では誘
電体共振器の低価格化や高性能化を指向した金属形成法
として、本体1に直接無電解めっき法によって金属層3
を形成する方法も行われている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上述した誘電体共振器のうちで、銀とガ
ラスの焼結体によって金属層3を本体上のほぼ全面に形
成した前者のものは、使用する電極材料が貴金属のため
高価につくことはもとより、導電性ペーストを本体1の
外周面や貫通孔2における内周面に均一に塗布する作業
が複雑を極め、量産性に欠けるという課題があった。
ラスの焼結体によって金属層3を本体上のほぼ全面に形
成した前者のものは、使用する電極材料が貴金属のため
高価につくことはもとより、導電性ペーストを本体1の
外周面や貫通孔2における内周面に均一に塗布する作業
が複雑を極め、量産性に欠けるという課題があった。
そこで、後者のごとく本体1上に、無電解めっきにより
銅被膜を電極層として形成する方法が行われている(特
開昭54−108544号公報参照)。
銅被膜を電極層として形成する方法が行われている(特
開昭54−108544号公報参照)。
しかし、無電解めっき法により本体1上のほぼ全面にめ
っき被膜からなる金属層を形成し、第5図に示すような
片側端面に選択的な電極を必要とする誘電体共振器であ
れば次のような課題かある。この課題と無電解めっき法
により選択的な電極を形成する製造方法について図面を
参照しながら説明する。第3図〜第4図は、従来法にお
ける誘電体共振器の製造方法を説明するための断面図で
ある。
っき被膜からなる金属層を形成し、第5図に示すような
片側端面に選択的な電極を必要とする誘電体共振器であ
れば次のような課題かある。この課題と無電解めっき法
により選択的な電極を形成する製造方法について図面を
参照しながら説明する。第3図〜第4図は、従来法にお
ける誘電体共振器の製造方法を説明するための断面図で
ある。
まず、第3図を用いて説明する。第3図(A)のごとく
、触媒付与工程で誘電体セラミックよりなる本体1の全
ての表面を塩化第1錫などで感受性化処理を行い、そし
て次に塩化パラジウムなどで活性化処理を行い、本体1
の外周面上及び貫通孔2の内周面上に無電解銅めっきの
前処理として触媒金属となるパラジウム10を付着させ
る。そして、このパラジウム10を付着後に、第3図(
B)のごとくレジスト印刷工程で本体lの任意の片側端
面部に、めっき被膜からなる選択的な電極形成ができる
ようレジストインク20をスクリーン印刷等を用いて1
0〜2011m程度印刷塗布し、乾燥或いは硬化する。
、触媒付与工程で誘電体セラミックよりなる本体1の全
ての表面を塩化第1錫などで感受性化処理を行い、そし
て次に塩化パラジウムなどで活性化処理を行い、本体1
の外周面上及び貫通孔2の内周面上に無電解銅めっきの
前処理として触媒金属となるパラジウム10を付着させ
る。そして、このパラジウム10を付着後に、第3図(
B)のごとくレジスト印刷工程で本体lの任意の片側端
面部に、めっき被膜からなる選択的な電極形成ができる
ようレジストインク20をスクリーン印刷等を用いて1
0〜2011m程度印刷塗布し、乾燥或いは硬化する。
そしてこうすれば第3図(C)におけるめっき工程で金
属被膜よりなる電極30がレジストインク20上を除く
部分に形成される。さらに詳しく説明すると電極30の
形成方法は、めっき工程で最初に無電解銅めっきをする
。
属被膜よりなる電極30がレジストインク20上を除く
部分に形成される。さらに詳しく説明すると電極30の
形成方法は、めっき工程で最初に無電解銅めっきをする
。
この無電解銅めっきとしては、例えば、硫酸銅−EDT
A−ホルマリン−NaOHを含むめっき浴中等で無電解
銅めっきを行い、触媒金属となるパラジウム10が露出
している表面に金属被膜よりなる電極30を0.5〜1
0.0μm程度形戊する。
A−ホルマリン−NaOHを含むめっき浴中等で無電解
銅めっきを行い、触媒金属となるパラジウム10が露出
している表面に金属被膜よりなる電極30を0.5〜1
0.0μm程度形戊する。
また、必要に応じて無電解銅めっきからなる金属被膜上
に、更に無電解めっき或いは電解めっき被膜からなる金
属被膜で電極30を3.0〜10.0μm程度形威して
もよい。なお、金属被膜より電極30を形成した後、必
要に応じて第3図(D)のごとくレジスト除去工程でレ
ジストインク20を溶剤等を用いて除去する。
に、更に無電解めっき或いは電解めっき被膜からなる金
属被膜で電極30を3.0〜10.0μm程度形威して
もよい。なお、金属被膜より電極30を形成した後、必
要に応じて第3図(D)のごとくレジスト除去工程でレ
ジストインク20を溶剤等を用いて除去する。
以上の方法における製造上の課題は、無電解銅めっき処
理時にレジストインク20上に無電解銅めっきの銅が析
出し、選択的な電極の寸法精度か悪くなることである。
理時にレジストインク20上に無電解銅めっきの銅が析
出し、選択的な電極の寸法精度か悪くなることである。
この寸法精度の悪い電極が発生すれば、所望する設定周
波数に対して、周波数バラツキのある誘電体共振器とな
り製造上の保留か悪くなる。
波数に対して、周波数バラツキのある誘電体共振器とな
り製造上の保留か悪くなる。
次に他の従来法について第4図を用いて説明する。第4
図(A)のごとくレジスト印刷工程で誘電体セラミック
よりなる本体1の任意の片側端面部にレジストインク2
0をスクリーン印刷等を用いて10〜20μm程度印刷
塗布し、乾燥或いは硬化する。
図(A)のごとくレジスト印刷工程で誘電体セラミック
よりなる本体1の任意の片側端面部にレジストインク2
0をスクリーン印刷等を用いて10〜20μm程度印刷
塗布し、乾燥或いは硬化する。
その後に、第4図(B)に示すように触媒付与工程で誘
電体セラミックよりなる本体1の任意の片側端面部にレ
ジストインク20を含むすべての表面を塩化第1錫など
で感受性化処理を行い、そして次に塩化パラジウムなど
で活性化処理を行う。
電体セラミックよりなる本体1の任意の片側端面部にレ
ジストインク20を含むすべての表面を塩化第1錫など
で感受性化処理を行い、そして次に塩化パラジウムなど
で活性化処理を行う。
更に、本体1の外周面上及び貫通孔2の内周面上に無電
解銅めっきの前処理として触媒金属となるパラジウム1
0を付着させる。そして、このパラジウム10を付着後
に、第4図(C)のごとく前記従来法で説明した無電解
銅めっき液により、任意の片側端面部のレジストインク
20を含む本体1のすべての表面に無電解銅めっきから
なる金属被膜の電極30を0.5〜1.0μm程度形威
する。
解銅めっきの前処理として触媒金属となるパラジウム1
0を付着させる。そして、このパラジウム10を付着後
に、第4図(C)のごとく前記従来法で説明した無電解
銅めっき液により、任意の片側端面部のレジストインク
20を含む本体1のすべての表面に無電解銅めっきから
なる金属被膜の電極30を0.5〜1.0μm程度形威
する。
次に、第4図(D)のごとく、レジスト除去工程により
溶剤を用いて超音波洗浄でレジストインク20と、その
直上層の0.5〜1.0μmの金属被膜からなる電極3
0を同時に除去することができ、選択的な電極を形成す
ることが可能となる。しかし、この状態での電極30は
、誘電体共振器の備え得る電気特性及び一般環境試験に
よる信頼性を満足し得ない物であるために、本体1の無
電解銅めっきからなる金属被膜の電極30上に更に、無
電解めっき或は電解めっきからなる金属被膜で電極30
を10〜15μm程度追加することとなる。
溶剤を用いて超音波洗浄でレジストインク20と、その
直上層の0.5〜1.0μmの金属被膜からなる電極3
0を同時に除去することができ、選択的な電極を形成す
ることが可能となる。しかし、この状態での電極30は
、誘電体共振器の備え得る電気特性及び一般環境試験に
よる信頼性を満足し得ない物であるために、本体1の無
電解銅めっきからなる金属被膜の電極30上に更に、無
電解めっき或は電解めっきからなる金属被膜で電極30
を10〜15μm程度追加することとなる。
以上の方法における製造上での課題は、無電解銅めっき
からなる0、5〜1.0μmの電極30が所望の厚みよ
りも厚くなると、本工程中篇4図(D)での選択的な電
極形成が困難になり電極の寸法精度が悪くなり、前記従
来法と同様な問題が発生する。
からなる0、5〜1.0μmの電極30が所望の厚みよ
りも厚くなると、本工程中篇4図(D)での選択的な電
極形成が困難になり電極の寸法精度が悪くなり、前記従
来法と同様な問題が発生する。
そこで本発明は、上記のような電極形成上の問題点を解
決し、経済性と高い工程歩留を確保する製造方法を提供
するものである。
決し、経済性と高い工程歩留を確保する製造方法を提供
するものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明は、柱状で略中央に貫
通孔を有する誘電体セラミックよりなる本体の全面にめ
っき被膜からなる金属を形成するめっき工程と、この金
属を形成した前記本体の片側端面部における金属被膜を
除去する端面研摩工程と、この金属を除去した片側端面
部に前記金属被膜と一部が重なるように導電性ペースト
からなる電極を形成する印刷工程とを有することを特徴
とする方法としたものである。
通孔を有する誘電体セラミックよりなる本体の全面にめ
っき被膜からなる金属を形成するめっき工程と、この金
属を形成した前記本体の片側端面部における金属被膜を
除去する端面研摩工程と、この金属を除去した片側端面
部に前記金属被膜と一部が重なるように導電性ペースト
からなる電極を形成する印刷工程とを有することを特徴
とする方法としたものである。
作用
これにより、本体表面上の金属被膜は全表面上となり電
極の形成状態は印刷精度で決定される。
極の形成状態は印刷精度で決定される。
よって無電解めっきという公知の技術で金属被膜を形成
し、選択的な電極はスクリーン印刷という簡単な工法で
できることになり、経済性と高周波特性、更には信頼性
に優れた誘電体共振器が実現されることになる。
し、選択的な電極はスクリーン印刷という簡単な工法で
できることになり、経済性と高周波特性、更には信頼性
に優れた誘電体共振器が実現されることになる。
実施例
以下本発明の一実施例の誘電体共振器の製造方法につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
第1図〜第2図は、本発明の第一の実施例における誘電
体共振器の製造方法を説明するための断面図である。
体共振器の製造方法を説明するための断面図である。
まず第1図の実施例について説明する。
第1図(A)において、略中央に貫通孔2を設けたBa
0−TiO=系誘電体セラミックよりなる本体1のすべ
ての外表面上に塩化第1錫などで感受性化処理を行い、
そして次に塩化パラジウムなどで活性化処理を行い、本
体1の外周面上及び貫通孔2の内周面上に無電解銅めっ
きの触媒金属となるパラジウム10を付着させる。そし
てこのパラジウム10を付着後、第1図(B)における
めっき工程で本体1の全表面に金属被膜30を形成する
。この金属被膜30の形成方法について更に詳しく説明
する。
0−TiO=系誘電体セラミックよりなる本体1のすべ
ての外表面上に塩化第1錫などで感受性化処理を行い、
そして次に塩化パラジウムなどで活性化処理を行い、本
体1の外周面上及び貫通孔2の内周面上に無電解銅めっ
きの触媒金属となるパラジウム10を付着させる。そし
てこのパラジウム10を付着後、第1図(B)における
めっき工程で本体1の全表面に金属被膜30を形成する
。この金属被膜30の形成方法について更に詳しく説明
する。
めっき工程でまず最初に、無電解銅めっきする。
この無電解銅めっきとしては、硫酸銅−EDTA−ホル
マリンーNaOHを含むめっき浴中等で無電解銅めっき
を行い、本体1の外表面全体に金属被膜30を5〜10
μm程度形成する。また必要に応じて無電解銅めっきか
らなる金属被膜30上に、更に無電解めっき或いは電解
めっきからなる金属被膜30aを5〜IQlim程度形
成してもよい。そしてこの無電解めっき或いは電解めっ
きからなる金属被膜30aを形成後に、第1図(C)に
おける端面研磨工程で、本体1の任意の片側端面部の金
属被膜30をラッピング等の機械研磨で平行に精度良く
端面研磨し、本体1を露出させる。
マリンーNaOHを含むめっき浴中等で無電解銅めっき
を行い、本体1の外表面全体に金属被膜30を5〜10
μm程度形成する。また必要に応じて無電解銅めっきか
らなる金属被膜30上に、更に無電解めっき或いは電解
めっきからなる金属被膜30aを5〜IQlim程度形
成してもよい。そしてこの無電解めっき或いは電解めっ
きからなる金属被膜30aを形成後に、第1図(C)に
おける端面研磨工程で、本体1の任意の片側端面部の金
属被膜30をラッピング等の機械研磨で平行に精度良く
端面研磨し、本体1を露出させる。
この端面研磨により露出された本体1の任意の片側端面
上に導電ペーストよりなる電極部40をスクリーン印刷
等により形成し、乾燥或いは硬化する。
上に導電ペーストよりなる電極部40をスクリーン印刷
等により形成し、乾燥或いは硬化する。
次に第2図の実施例について説明する。第2図(A)の
誘電体セラミックの本体1の全体表面上にパラジウム1
0の金属触媒を付与する工程から第2図(D)の導電ペ
ーストよりなる電極部40を、スクリーン印刷等により
形成し乾燥或は硬化する工程までは第1図の実施例と同
様であり、第2図の実施例の大きな違いは、第2図(E
)のごとく任意の片側端面部に導電ペーストよりなる電
極部40を形威し、乾燥或いは硬化した後、無電解銅め
っきからなる金属被膜30上及び導電ペーストよりなる
電極部40上に更に、無電解銅めっき或いは電解めっき
からなる金属被膜30aを3〜1011m程度形成した
ものである。
誘電体セラミックの本体1の全体表面上にパラジウム1
0の金属触媒を付与する工程から第2図(D)の導電ペ
ーストよりなる電極部40を、スクリーン印刷等により
形成し乾燥或は硬化する工程までは第1図の実施例と同
様であり、第2図の実施例の大きな違いは、第2図(E
)のごとく任意の片側端面部に導電ペーストよりなる電
極部40を形威し、乾燥或いは硬化した後、無電解銅め
っきからなる金属被膜30上及び導電ペーストよりなる
電極部40上に更に、無電解銅めっき或いは電解めっき
からなる金属被膜30aを3〜1011m程度形成した
ものである。
以上に述べた実施例による誘電体共振器は、本体1の表
面上に一連の湿式めっきによる簡単な方法で金属被膜を
形成し、次にスクリーン印刷という一般的な手法で導電
性ペーストを用いて電極形成を片側端面部の研磨面に行
うために、今まで行われていた従来の手法による問題点
の発生が皆無となる。その結果大量処理が可能となり大
幅な工数低減と工程歩留の向上ができる。
面上に一連の湿式めっきによる簡単な方法で金属被膜を
形成し、次にスクリーン印刷という一般的な手法で導電
性ペーストを用いて電極形成を片側端面部の研磨面に行
うために、今まで行われていた従来の手法による問題点
の発生が皆無となる。その結果大量処理が可能となり大
幅な工数低減と工程歩留の向上ができる。
発明の効果
本発明において、誘電体セラミックよりなる本体の電極
は、端面研磨により除去された片側端面部に印刷により
行われるため電極の位置精度がよく、周譚数の安定した
誘電体共振器が製造されることとなり、簡単な方法であ
るために製造が容易で、大量生産が可能で周波数特性の
安定な誘電体共振器を提供できることとなる。
は、端面研磨により除去された片側端面部に印刷により
行われるため電極の位置精度がよく、周譚数の安定した
誘電体共振器が製造されることとなり、簡単な方法であ
るために製造が容易で、大量生産が可能で周波数特性の
安定な誘電体共振器を提供できることとなる。
体共振器の製造方法を説明するための断面図、第5図(
A)、(B)は代表的な従来の誘電体共振器を示す斜視
図及び断面図である。
A)、(B)は代表的な従来の誘電体共振器を示す斜視
図及び断面図である。
1・・・・・・本体、2・・・用貫通孔、30,30a
・・・・・・金属被膜、40・・・・・・電極部。
・・・・・・金属被膜、40・・・・・・電極部。
Claims (1)
- 柱状で略中央に貫通孔を有する誘電体セラミックより
なる本体の全面にめっき被膜からなる金属を形成するめ
っき工程と、この金属被膜を形成した前記本体の片側端
面部における金属被膜を除去する端面研摩工程と、この
金属被膜を除去した片側端面部に前記金属被膜と一部が
重なるように導電性ペーストからなる電極を形成する印
刷工程とを有することを特徴とする誘電体共振器の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095746A JPH03292005A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 誘電体共振器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095746A JPH03292005A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 誘電体共振器の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03292005A true JPH03292005A (ja) | 1991-12-24 |
Family
ID=14146060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2095746A Pending JPH03292005A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 誘電体共振器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03292005A (ja) |
-
1990
- 1990-04-10 JP JP2095746A patent/JPH03292005A/ja active Pending
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