JPH0335366A - パターン判別装置 - Google Patents

パターン判別装置

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Publication number
JPH0335366A
JPH0335366A JP1169642A JP16964289A JPH0335366A JP H0335366 A JPH0335366 A JP H0335366A JP 1169642 A JP1169642 A JP 1169642A JP 16964289 A JP16964289 A JP 16964289A JP H0335366 A JPH0335366 A JP H0335366A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
quantization level
memory
pattern
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP1169642A
Other languages
English (en)
Inventor
Michihide Tazaki
田崎 通英
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP1169642A priority Critical patent/JPH0335366A/ja
Publication of JPH0335366A publication Critical patent/JPH0335366A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、例えば集積回路等の半導体装置の外観を判
別するパターン判別装置に関する。
(従来の技術) 一般に、製造された半導体装置は、その外観が検査され
る。この半導体装置の外観を検査する場合、従来は検査
対象としての半導体装置をテレビジョンカメラ(TVカ
メラ)によって撮像し、これを多値画像としてのディジ
タル信号に変換する。この多値画像は所定の量子化レベ
ルで量子化され、この量子化された画像から、検査対象
としてのマークが記載された領域や、リード端子を含む
領域等からなる検査対象領域が決定される。そして、こ
の決定した検査対象領域内の画像と予め登録した基準パ
ターンとを照合したり、寸法等の測定を行うことにより
、半導体装置の外観の良否を検査している。
ところで、従来は、1つの量子化レベルによって撮像し
た画像を量子化し、この量子化した画像から検査対象領
域を決定するとともに、その検査対象領域内の画像の照
合等を行っている。このため、半導体装置の表面が汚れ
ている場合等においては、検査対象領域を決定すること
ができず、また、マークが薄い場合やかすれている場合
には、確実に照合することができないという問題を有し
ていた。
(発明が解決しようとする課題) この発明は、1つの量子化レベルによって検査対象領域
と、パターンの比較を行うことにより検査対象領域の決
定不能や照合不能が生ずるという課題を解決するもので
あり、その目的とするところは、検査対象領域を確実に
決定することができるとともに、照合精度を向上するこ
とが可能なパターン判別装置を提供しようとするもので
あ°る。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明は、上記課題を解決するために、敷物を撮像す
る撮像手段と、この撮像手段によって撮像された対象物
の多値画像を第1の量子化レベルによって量子化し、検
査対象領域を決定する決定手段と、前記撮像手段によっ
て撮像された対象物の多値画像から少なくとも前記決定
手段によって決定された検査対象領域内の画像のパター
ンを第2の量子化レベルによって量子化し、この量子化
した画像のパターンを判別する判別手段とを設けている
(作用) この発明は、撮像手段によって撮像した画像を検査対象
領域を決定するために適した第1の量子化レベルによっ
て量子化するとともに、画像を判別するために適した第
2の量子化レベルによって量子化することにより、検査
対象領域の決定および画像の照合を確実に行うことがで
きる。
(実施例) 以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
第1図において、TVカメラ11は検査対象としての半
導体装置12を撮像するものである。このTVカメラ1
1には、A/D変換器13が接続されており、このA/
D変換器13により、撮像された半導体装置12の画像
が多値画像に変換される。このA/D変換器13にはメ
モリ14が接続されており、このメモリ14にA/D変
換器13により変換され多値画像が記憶される。このメ
モリ14には、画像処理部15を構成する制御部15a
が接続され、この制御部15aには画像処理部15を構
成する認識部15b、辞書メモリ15cが順次接続され
るとともに、メモリ16が接続されている。
前記制御部15aは、例えばマイクロコンピュータによ
って構成されている。この制御部15aでは、検査対象
領域を決定するための量子化レベルを決定したり、パタ
ーン判別を行うための量子化レベルが決定され、この決
定された量子化レベルに従って前記メモリ14に記憶さ
れている多値画像が読出され、前記メモリ16に記憶さ
れる。
前記認識部15bは、このメモリ16に記憶されている
画像と、辞書メモリ15cに記憶されている基準パター
ンとを比較するものである。
上記構成において、この装置により半導体装置の表面に
記載されているマーク等を判別する場合について説明す
る。
この場合、先ず、TVカメラ11によって半導体装置1
2が上面から撮像され、この撮像された画像は、A/D
変換器13によって多値画像に変換され、メモリ14に
記憶される。
第2図(a)は、このメモリ14に記憶される半導体装
置12の多値画像を示すものであり・、この画像中には
、半導体装置12、この半導体装置12のリード端子1
2a1表面に記載されたマーク12b、背景画像21、
これら半導体装置12、背景画像21に付着した汚れ2
2等が含まれている。
第3図(L)は、半導体装置12を上面から撮像した場
合におけるリード端子12aの明るさの範囲31、マー
ク12b等の明るさの範囲32、背景画像21の明るさ
の範囲33の関係を示すものである。
制御部15aでは、後述するように、先ず、リード端子
12aの明るさの範囲31内で、マーク12bが記載さ
れた領域を検出するに最適な量子化レベルAが設定され
、この後、マーク12b(7)明るさの範囲32内で、
マーク12bを判別するために最適な量子化レベルBが
設定される。
第4図は、制御部15aの動作を示すものである。
制御部15aでは、先ず、マーク12bが記載された領
域を検出するに最適な量子化レベルAが設定され、メモ
リ14に記憶された画像が量子化される(STI)。こ
の量子化された画像はメモリ16に記憶される。
第2図(b)は、メモリ16に記憶された量子化レベル
Aに対応する画像を示すものである。制御部15aでは
、このメモリ16に記憶された画像より、マーク12b
が記載された検査対象領域が23検出される(Sr1)
このようにマーク12bが記載された領域は、リード端
子12aの内側であるため、このリード端子12aの明
るさの範囲内に量子化レベルを設定して量子化すること
により、マーク12bが記載された検査対象領域23を
確実に抽出することができる。
次に、制御部15aでは、マーク12bを判別するため
に最適な量子化レベルBが設定され、この量子化レベル
Bによってメモリ14に記憶された画像の少なくとも前
記検査対象領域に対応する範囲の画像が量子化され、メ
モリ16に記憶される(Sr1)。
!2図(c)は、量子化レベルBによって量子化され、
メモリ16に記憶された画像を示すものである。制御部
15aではこのメモリ16に記憶された画像のうち、検
査対象領域23内の画像が基準パターンと照合され、欠
陥が判別される(Sr4)。
すなわち、検査対象領域23内の画像が認識部15bに
おいて、辞書メモリ15cに記憶された基準パターンと
照合され、マーク12が確実に印刷されているか否か等
が判別される。
一方、上記装置によって半導体装置のリード端子を検査
する場合は、TVカメラ11によって半導体装置12が
側面から撮像され、この撮像された画像は、A/D変換
器13によって多値画像に変換され、メモリ14に記憶
される。
第5図(a)は、このメモリ14に記憶される半導体装
置12の多値画像を示すものであり、この画像中には、
半導体装置12、この半導体装置12のリード端子12
a1背景画像21、リード端子12aのメツキネ良24
等が含まれている。
第3図(b)は、半導体装置12を側面から撮像した場
合における正常なリード端子の明るさの範囲34、メツ
キネ良や異物が付着した゛場合のリード端子の明るさの
範囲35、背景等の明るさの範囲36の関係を示すもの
である。
制御部15aでは、先ず、メツキネ良や異物が付着した
場合のリード端子の明るさの範囲35内で、リード端子
12aの各形状を検出するに最適な量子化レベルCが設
定され、この量子化レベルCによって、メモリ14に記
憶されている多値画像が量子化される。この量子化され
た画像より、第5図(b)に示すごとく、各リード端子
12Hの検査対象領域25が決定されるとともに、リー
ド端子の形状的な欠陥、例えば折れや曲り等が判別され
る。
この後、正常なリード端子の明るさの範囲34内の量子
化レベルDが設定され、この量子化レベルDによって、
メモリ14に記憶されている多値画像の少なくとも前記
検査対象領域25に対応する範囲の画像が量子化される
。この量子化された画像より、第5図(C)に示すごと
く、各リード端子12aのメツキネ良や異物等の付着が
判別される。
上記実施例によれば、半導体装置の検査を行う場合、検
査対象領域を決定するための量子化レベルと、検査対象
のパターン照合を行うための量子化レベルとを設定して
、撮像した画像を量子化している。したがって、1つの
量子化レベルのみによって量子化を行う場合に比べて、
検査対象領域の決定、および検査対象のパターン照合を
精度よく行うことができるものである。
尚、この発明は上記実施例に限定されるものではなく、
発明の要旨を変えない範囲において、種々変形実施可能
なことは勿論である。
[発明の効果] 以上、詳述したようにこの発明によれば、撮像手段によ
って撮像した画像を検査対象領域を決定するために適し
た第1の量子化レベルによって量子化するとともに、画
像を判別するために適した第2の量子化レベルによって
量子化することにより、検査対象領域の決定および照合
精度を向上することが可能なパターン判別装置を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す構成図、第2図はマ
ークを検出する場合の動作を説明するために示す図、第
3図は量子化レベルを説明するために示す図、第4図は
第1図に示す制御部の動作を説明するために示す図、第
5図はリード端子を検出する場合の動作を説明するため
に示す図である。 11・・・TVカメラ、15a・・・制御部、15b・
・・認識部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 対象物を撮像する撮像手段と、 この撮像手段によって撮像された対象物の多値画像を第
    1の量子化レベルによって量子化し、検査対象領域を決
    定する決定手段と、 前記撮像手段によって撮像された対象物の多値画像から
    少なくとも前記決定手段によって決定された検査対象領
    域内の画像のパターンを第2の量子化レベルによって量
    子化し、この量子化した画像のパターンを判別する判別
    手段と、 を具備したことを特徴とするパターン判別装置。
JP1169642A 1989-06-30 1989-06-30 パターン判別装置 Pending JPH0335366A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1169642A JPH0335366A (ja) 1989-06-30 1989-06-30 パターン判別装置

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JP1169642A JPH0335366A (ja) 1989-06-30 1989-06-30 パターン判別装置

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JPH0335366A true JPH0335366A (ja) 1991-02-15

Family

ID=15890268

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JP1169642A Pending JPH0335366A (ja) 1989-06-30 1989-06-30 パターン判別装置

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JP (1) JPH0335366A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008216140A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Fuji Mach Mfg Co Ltd 電子部品装着装置における転写材転写検査方法
JP2012154707A (ja) * 2011-01-25 2012-08-16 Stanley Electric Co Ltd リード端子の異物検査装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008216140A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Fuji Mach Mfg Co Ltd 電子部品装着装置における転写材転写検査方法
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