JPH0337809A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0337809A JPH0337809A JP17250589A JP17250589A JPH0337809A JP H0337809 A JPH0337809 A JP H0337809A JP 17250589 A JP17250589 A JP 17250589A JP 17250589 A JP17250589 A JP 17250589A JP H0337809 A JPH0337809 A JP H0337809A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- insulating layer
- track portion
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、磁気ディスク装置などにおいて磁気記憶媒
体との間で信号の授受を行うための薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関する。
体との間で信号の授受を行うための薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関する。
［従来の技術］
薄膜磁気ヘッドは、従来のバルクのコアを用いた磁気ヘ
ッドに比較して小型であるので、トラック幅を小さくす
ることができるとともに、高周波帯域での記録が可能と
なり、記録の高密度化が期待できる。従って、固定磁気
ディスク装置の浮動式磁気ヘッドなどにおいてその利点
を生かして使用されている。
ッドに比較して小型であるので、トラック幅を小さくす
ることができるとともに、高周波帯域での記録が可能と
なり、記録の高密度化が期待できる。従って、固定磁気
ディスク装置の浮動式磁気ヘッドなどにおいてその利点
を生かして使用されている。
この種の磁気ヘッドとして、例えば第２図及び第３図に
示すものが知られている。この磁気ヘッドは、非磁性基
板ｌと、この非磁性基板！上に形成された下部磁性体層
２と、非磁性基板ｌならびに下部磁性体層２上に形成さ
れたギャップ層３と、ギャップ層３を被覆する層間絶縁
層４と、層間絶縁層４上に平面螺旋状に形成された第１
コイル層５ａと、この第１コイル層５ａ上に形成された
層間絶縁層６と、層間絶縁層６上に形成された第２コイ
ル層５ｂと、この第２コイル層５ｂを被覆する層間絶縁
層８と、層間絶縁層８上に形成された上部磁性体層９と
を備えて構成されている。そして、下部磁性体層２およ
び上部磁性体層９の端部に、これら磁性体層２．９およ
びギャップ層３によってヘッドトラック部Ｈが形成され
、このヘッドトラック部Ｈの端面が磁気媒体摺接面Ｉｔ
となり、この摺接面１１のギヤツブｇの位置において磁
気媒体（図示路）との間で信号の授受が行われる。
示すものが知られている。この磁気ヘッドは、非磁性基
板ｌと、この非磁性基板！上に形成された下部磁性体層
２と、非磁性基板ｌならびに下部磁性体層２上に形成さ
れたギャップ層３と、ギャップ層３を被覆する層間絶縁
層４と、層間絶縁層４上に平面螺旋状に形成された第１
コイル層５ａと、この第１コイル層５ａ上に形成された
層間絶縁層６と、層間絶縁層６上に形成された第２コイ
ル層５ｂと、この第２コイル層５ｂを被覆する層間絶縁
層８と、層間絶縁層８上に形成された上部磁性体層９と
を備えて構成されている。そして、下部磁性体層２およ
び上部磁性体層９の端部に、これら磁性体層２．９およ
びギャップ層３によってヘッドトラック部Ｈが形成され
、このヘッドトラック部Ｈの端面が磁気媒体摺接面Ｉｔ
となり、この摺接面１１のギヤツブｇの位置において磁
気媒体（図示路）との間で信号の授受が行われる。
「発明が解決しようとする課題」
このような形式の磁気ヘッドにおいては、磁気媒体に記
録を行うときに、上部磁性体層９及び下部磁性層２から
磁気媒体摺接面１１に向けて発生する磁界の強度を高め
るために、第４図に示すように下部磁性体層２および上
部磁性体層９のヘッドトラック部Ｈを他の部分より薄く
形成している。
録を行うときに、上部磁性体層９及び下部磁性層２から
磁気媒体摺接面１１に向けて発生する磁界の強度を高め
るために、第４図に示すように下部磁性体層２および上
部磁性体層９のヘッドトラック部Ｈを他の部分より薄く
形成している。
従来、上部磁性体層９の上述した肉薄部は、上部磁性体
層９のトラック部Ｈをイオンビームエツチングによって
薄くすることにより形成していた。
層９のトラック部Ｈをイオンビームエツチングによって
薄くすることにより形成していた。
しかしながら、この方法は、上部磁性体層９を形成する
際の層厚のバラツキの影響をそのまま受けるだけでなく
、エツチング時のバラツキがさらに加味されるため、大
きな膜厚のバラツキが生じる欠点がある。
際の層厚のバラツキの影響をそのまま受けるだけでなく
、エツチング時のバラツキがさらに加味されるため、大
きな膜厚のバラツキが生じる欠点がある。
上述したバラツキを減らす方法として、第５図（イ）に
示すように、第１上部磁性体層１６を形成した後、その
トラック部Ｈをイオンビームエツチングによって削除し
てギャップ層３を露出させ、次いでその上に、同図（ロ
）に示すように、規定の厚さで第２上部磁性体層１８を
形成する方法が考えられる。この方法によれば、トラッ
ク部Ｈの磁性体層の膜厚のバラツキは、第２上部磁性体
層１８の形成時のバラツキのみとなり、上述した従来の
方法の約１／２にすることができる。しかしながら、こ
の方法は、イオンビームエツチングによって第１上部磁
性体層１６をエツチングする際に、ギャップ層３までオ
ーバーエツチングしてしまうため、ギャップ層３の精度
が損なわれる問題がある。
示すように、第１上部磁性体層１６を形成した後、その
トラック部Ｈをイオンビームエツチングによって削除し
てギャップ層３を露出させ、次いでその上に、同図（ロ
）に示すように、規定の厚さで第２上部磁性体層１８を
形成する方法が考えられる。この方法によれば、トラッ
ク部Ｈの磁性体層の膜厚のバラツキは、第２上部磁性体
層１８の形成時のバラツキのみとなり、上述した従来の
方法の約１／２にすることができる。しかしながら、こ
の方法は、イオンビームエツチングによって第１上部磁
性体層１６をエツチングする際に、ギャップ層３までオ
ーバーエツチングしてしまうため、ギャップ層３の精度
が損なわれる問題がある。
そこでこの発明は、ギャップ層の精度を悪化させること
なく磁性体層の膜厚の精度を上げることができる薄膜磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的としている。
なく磁性体層の膜厚の精度を上げることができる薄膜磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的としている。
「課題を解決するための手段」
この発明は、非磁性基板上に下部磁性体層、ギャップ層
、絶縁層、導体からなるコイル層を順次形成し、次に、
絶縁材を塗布した後該絶縁材をエツチングしてヘッドト
ラック部に絶縁層を薄く残し、次に、この絶縁層上に所
定形状の第１上部磁性体層を形状し、次に、この第！上
部磁性体層におけるヘッドトラック部をエツチング除去
し、次に、ヘッドトラック部における前記絶縁層を反応
性エツチングによって除去し、次に、前記コイル層の上
部およびヘッドトラック部に第２上部磁性体層を形成す
ることを特徴としている。
、絶縁層、導体からなるコイル層を順次形成し、次に、
絶縁材を塗布した後該絶縁材をエツチングしてヘッドト
ラック部に絶縁層を薄く残し、次に、この絶縁層上に所
定形状の第１上部磁性体層を形状し、次に、この第！上
部磁性体層におけるヘッドトラック部をエツチング除去
し、次に、ヘッドトラック部における前記絶縁層を反応
性エツチングによって除去し、次に、前記コイル層の上
部およびヘッドトラック部に第２上部磁性体層を形成す
ることを特徴としている。
「作用」
この発明によれば、従来の方法と異なり絶縁層をヘッド
トラック部にも残しておく。そして、その上に第！上部
磁性体層を形成し、次いでそのヘッドトラック部をエツ
チングにより除去する。この時、オーバーエツチングが
あっても、上記絶縁層があるのでギャップ層までエツチ
ングされることはない。次に、ギャップ層が全くエツチ
ングされない条件の反応性エツチングによってヘッドト
ラック部の上記残りの絶縁層を除去し、次いで第２上部
磁性体層を形成する。
トラック部にも残しておく。そして、その上に第！上部
磁性体層を形成し、次いでそのヘッドトラック部をエツ
チングにより除去する。この時、オーバーエツチングが
あっても、上記絶縁層があるのでギャップ層までエツチ
ングされることはない。次に、ギャップ層が全くエツチ
ングされない条件の反応性エツチングによってヘッドト
ラック部の上記残りの絶縁層を除去し、次いで第２上部
磁性体層を形成する。
「実施例」
以下、図面を参照してこの発明の一実施例について説明
する。第１図は（イ）〜（ハ）は同実施例による製造方
法を説明するための図である。
する。第１図は（イ）〜（ハ）は同実施例による製造方
法を説明するための図である。
まず、従来の製造方法と同様に、非磁性基板ｌ上に下部
磁性体層２、非磁性体からなるギャップ層３を順次積層
し、このギャップ層３上に第１絶縁層を介して第１コイ
ル層５ａを形成する。次に、この第１コイル層５ａの上
に第２絶縁層を介して第２コイル層５ｂを形成する。こ
こまでは、従来の方法と同じである。次に、上記の工程
が終了したウェハ上面に第３の絶縁材を塗布した後該第
１〜第３の絶縁材をまとめてエツチングするが、ヘッド
トラック部Ｈには薄く絶縁層を残す。なお、第１図にお
いは、上述した第１〜第３絶縁層を絶縁層２０として示
している。
磁性体層２、非磁性体からなるギャップ層３を順次積層
し、このギャップ層３上に第１絶縁層を介して第１コイ
ル層５ａを形成する。次に、この第１コイル層５ａの上
に第２絶縁層を介して第２コイル層５ｂを形成する。こ
こまでは、従来の方法と同じである。次に、上記の工程
が終了したウェハ上面に第３の絶縁材を塗布した後該第
１〜第３の絶縁材をまとめてエツチングするが、ヘッド
トラック部Ｈには薄く絶縁層を残す。なお、第１図にお
いは、上述した第１〜第３絶縁層を絶縁層２０として示
している。
次に、上記第３絶縁層上に第１上部磁性体層２１を形状
し、次に、この第１上部磁性体層２１におけるヘッドト
ラック部Ｈをイオンビームエツチングによって除去する
（第５図（イ）参照）。次に、ヘッドトラック部Ｈにお
ける残りの絶縁層２０を、ギャップ層３がエツチングさ
れない反応性エツチングによって除去する（第５図（ロ
）参照）。次に、上述した第１上部磁性体層２１上およ
びヘッドトラック部Ｈに第２上部磁性体層２２を形成す
る（第５図（ハ）参照）。
し、次に、この第１上部磁性体層２１におけるヘッドト
ラック部Ｈをイオンビームエツチングによって除去する
（第５図（イ）参照）。次に、ヘッドトラック部Ｈにお
ける残りの絶縁層２０を、ギャップ層３がエツチングさ
れない反応性エツチングによって除去する（第５図（ロ
）参照）。次に、上述した第１上部磁性体層２１上およ
びヘッドトラック部Ｈに第２上部磁性体層２２を形成す
る（第５図（ハ）参照）。
以上がこの発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの製造
工程である。なお、第４図に示す従来のものは、上部磁
性体層９のヘッドトラック部Ｈにおける上面９ａが比較
的荒くなるのに対し、上記実施例によって製造されたも
のは、同部分の平坦度が優れている。高密度記録におい
ては、同部分の平坦度が記録状態に影響を与えるので、
上記実施例によって製造されたものの方が従来のものよ
り良いという結果が確認されている。
工程である。なお、第４図に示す従来のものは、上部磁
性体層９のヘッドトラック部Ｈにおける上面９ａが比較
的荒くなるのに対し、上記実施例によって製造されたも
のは、同部分の平坦度が優れている。高密度記録におい
ては、同部分の平坦度が記録状態に影響を与えるので、
上記実施例によって製造されたものの方が従来のものよ
り良いという結果が確認されている。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明によれば、絶縁層をヘッ
ドトラック部に残しておき、その上に第１上部磁性体層
を形成し、次いでそのヘッドトラック部をエツチングに
より除去し、次にギャップ層が全くエツチングされない
反応性エツチングによってヘッドトラック部の上記残り
の絶縁層を除去し、次いで第２上部磁性体層を形成する
ようにしたので、ギャップ層の精度を損なうことなく磁
性体層の膜厚の精度を上げることができる効果がある。
ドトラック部に残しておき、その上に第１上部磁性体層
を形成し、次いでそのヘッドトラック部をエツチングに
より除去し、次にギャップ層が全くエツチングされない
反応性エツチングによってヘッドトラック部の上記残り
の絶縁層を除去し、次いで第２上部磁性体層を形成する
ようにしたので、ギャップ層の精度を損なうことなく磁
性体層の膜厚の精度を上げることができる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による製造方法を説明する
ための断面図、第２図、第３図は各々従来の薄膜磁気ヘ
ッドの構成例を示す断面図および平面図、第４図は同磁
気ヘッドのヘッドトラック部Ｈの拡大図、第５図は同磁
気ヘッドを改良した磁気ヘッドの製造工程の要部を示す
断面図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・下部磁性体層、３
・・・・・・ギャップ層、５ ａ、 ５ ｂ・・・・・
・コイル層、２１・・・・・・第１上部磁性体層、２２
・・・・・・第２上部磁性体層、Ｈ・・・・・・ヘッド
トラック部。
ための断面図、第２図、第３図は各々従来の薄膜磁気ヘ
ッドの構成例を示す断面図および平面図、第４図は同磁
気ヘッドのヘッドトラック部Ｈの拡大図、第５図は同磁
気ヘッドを改良した磁気ヘッドの製造工程の要部を示す
断面図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・下部磁性体層、３
・・・・・・ギャップ層、５ ａ、 ５ ｂ・・・・・
・コイル層、２１・・・・・・第１上部磁性体層、２２
・・・・・・第２上部磁性体層、Ｈ・・・・・・ヘッド
トラック部。
Claims (1)
- 非磁性基板上に下部磁性体層、ギャップ層、絶縁層、導
体からなるコイル層を順次形成し、次に、絶縁材を塗布
した後該絶縁材をエッチングしてヘッドトラック部に絶
縁層を薄く残し、次に、この絶縁層上に所定形状の第１
上部磁性体層を形状し、次に、この第１上部磁性体層に
おけるヘッドトラック部をエッチング除去し、次に、ヘ
ッドトラック部における残った前記絶縁層を反応性エッ
チングによって除去し、次に、前記コイル層の上部およ
びヘッドトラック部に第２上部磁性体層を形成すること
を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17250589A JPH0337809A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17250589A JPH0337809A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0337809A true JPH0337809A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15943212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17250589A Pending JPH0337809A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337809A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5880915A (en) * | 1996-10-21 | 1999-03-09 | International Business Machines Corporation | Crack resistant magnetic write head |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP17250589A patent/JPH0337809A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5880915A (en) * | 1996-10-21 | 1999-03-09 | International Business Machines Corporation | Crack resistant magnetic write head |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5225953A (en) | Magnetic thin film head of a single magnetic pole for perpendicular recording and reproduction | |
| JPH07118057B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US4476509A (en) | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same | |
| JPH0337809A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0118495B2 (ja) | ||
| US5691866A (en) | Magnetic head and method of manufacturing the same | |
| JPS5877016A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0227508A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2596070B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2891817B2 (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JPH08508360A (ja) | 空隙中金属のそして薄膜のハイブリッド読出し／書込みヘッド | |
| JP2618860B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2635670B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0589430A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH097118A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2977897B2 (ja) | 薄膜磁気テープヘッドの製造方法 | |
| JPS60258715A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0524563B2 (ja) | ||
| JPH02236806A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS63253515A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0373404A (ja) | 薄膜浮動式磁気ヘッド | |
| JPH02130706A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63257910A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS5857614A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |