JPH0339061B2 - - Google Patents

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JPH0339061B2
JPH0339061B2 JP57019019A JP1901982A JPH0339061B2 JP H0339061 B2 JPH0339061 B2 JP H0339061B2 JP 57019019 A JP57019019 A JP 57019019A JP 1901982 A JP1901982 A JP 1901982A JP H0339061 B2 JPH0339061 B2 JP H0339061B2
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JP
Japan
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carbon atoms
formula
naphthyl
acid
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JP57019019A
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JPS57176966A (en
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Fuoaburyutsugen Herumuuto
Shuarutsu Noruberuto
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Bayer Pharma AG
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Schering AG
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Publication date
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Publication of JPH0339061B2 publication Critical patent/JPH0339061B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/64Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、4−ハロゲンアセト酢酸誘導体及び
アミジンからイミダゾール酢酸誘導体を製造する
方法に関する。
従来、イミダゾール−4(5)−酢酸、そのエステ
ル又はアミドは、多大な費用をかけて数工程を介
して製造され得たにすぎない。更に、既に第1工
程においてオートクレーブ中で加圧下に作業され
ねばならなかつた。シユナツク(W.Schaack)
著“アーチブ・パーマツー(Archiv
Pharmazie”第307巻、470頁(1974年)、ピーマ
ン(F.L.Pyman)著“ジヤーナル・オブ・ザ・
ケミカル・ソサイエテイー(J.Chem.Soc.)“第
99巻、668頁(1911年)及びヨーロツパ特許出願
第5528号明細書には、多工程方法が記載されてい
る。スイス国特許第524617号明細書から想到され
得るように、容易に入手される4−ハロゲンアセ
ト酢酸エステル又は−アミドをアミジンと反応さ
せる類似した方法は、常に6−環形成(6−ハロ
ゲンメチルピリジン)を惹起する、それというの
もこの種のα−ハロゲンケトン中のハロゲンの反
応性は不十分であるからである。
ところで、アセト酢酸誘導体を最初に4−ハロ
ゲン−3−トリアルキルシリルオキシ−又は3−
アルコキシ−クロトン酸エステル−又は−アミド
に変換させれば、4−ハロゲンアセト酢酸−又は
−アミドは全く別様にアミジン又はグアニジンと
反応することが判明した。この場合には、4−ハ
ロゲンは意想外に極めて容易に反応しかつ4−ハ
ロゲンアセト酢酸誘導体はアミジン及びグアニジ
ンと反応して1,2−置換イミダゾール−4(5)−
酢酸エステル又は−アミドとなる。
本発明の対象は、一般式: [式中、 R1は水素原子、1〜24個の炭素原子を有する
直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘキシル基、エチ
ルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、
7〜10個の炭素原子を有するフエニルアルキル
基、塩素、臭素、メチル、メトキシ又はトリフロ
オルメチルによつて置換されていてもよいフエニ
ル、α−ナフチル、β−ナフチル及びフエナント
リル基、1〜3個のN,O又はS複素原子を有す
る単環式又は双環式複素環式基を表わし、 R2は水素原子、1〜24個の炭素原子を有する
直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、エチ
ルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、
7〜10個の炭素原子を有するフエニルアルキル
基、塩素、臭素、メチル、メトキシ又はトリフロ
オルメチルによつて置換されていてもよいフエニ
ル、α−ナフチル、β−ナフチル及びフエナント
リル基、1〜3個のN,O又はS複素原子を有す
る単環式又は双環式複素環式基を表わし、 R1とR2は一緒に4〜7個の炭素原子を有する
アルキレン基を表わし、かつ R3は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状又は
分岐鎖状アルコキシ基又は7〜10個の炭素原子を
有するフエニルアルコキシ基を表わす]で示され
るイミダゾール酢酸誘導体を製造する方法であ
り、該方法は、一般式: [式中、R1及びR2は前記のものを表わしかつ
HYは無機鉱酸又は有機酸を表わす]で示される
アミジン又はその塩を一般式: [式中、R3は前記のものを表わしかつXはハ
ロゲン原子の弗素、塩素及び沃素を表わしかつ
R4はトリ−(C1〜C4)−アルキルシリル基又はC1
〜C4−アルキル基を表わす]で示されるアセト
酢酸誘導体と反応させることを特徴とする。
R1及びR2がアルキル基を表わす場合には、1
〜24個の炭素原子を有する直鎖状及び分枝鎖状炭
化水素基、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、
t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、特に1〜6個の炭素
原子を有するものが該当する。R1及びR2がシク
ロアルキル基を表わす場合には、5〜7個の炭素
原子を有する基、例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、メチルシクロ
ヘキシル基、エチルシクロペンチル基、メチルシ
クロヘキシル基が該当する。
R1及びR2がアルキル基を表わす場合には、7
〜14個の炭素原子を有する直鎖状及び分枝鎖状
基、例えばベンジル基、1−フエニルエチル基、
2−フエニルエチル基、1−フエニルプロピル
基、2−フエニルプロピル基、3−ペンチルプロ
ピル基、4−フエニルブチル基、α−ナフチルメ
チル基、β−ナフチルメチル基、1−(α−ナフ
チル)−エチル基、2−(β−ナフチル)−エチル
基、4−(β−ナフチル)−ブチル基等が理解され
るべきである。アルが7〜10個の炭素原子を表わ
す場合には、フエニル基を有する基が有利であ
る。
R1及びR2がアリール基を表わす場合には、フ
エニル基、α−及びβ−ナフチル基、フエナント
リル基、有利にはフエニル基が該当する。
R1及びR2が複素環式基を表わす場合には、1
〜3個の窒素、酸素又は硫黄ヘテロ原子を有する
単環又は双環式複素環式基、例えばピリル基、2
−又は3−チエニル基、2−、3−又は4−ピリ
ジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリア
ゾリル基、オキサゾリル基、2−チアゾリル基、
チアジアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリミ
ジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、アゼピ
ニル基、1−、3−又は4−イソキノリル基、2
−、3−又は4−キノリル基等が挙げられる。
芳香族もしくはヘテロ芳香族基は、ハロゲン原
子(F,Cl,Br)、3個までのC1〜C4−アルキル
基(有利にはメチル基)、ニトロ基並びに3個ま
でのC1〜C4−アルコキシ基(有利にはメトキシ
基)、C1〜C4−アルコキシカルボニル基、CF3
含有していてもよい。
R1とR2が一緒に環を形成する場合には、アル
キレン架橋、例えばテトラメチレン、ペンタメチ
レン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレンを表わす
のが有利である。
R3のアルコキシ基中のアルキル基は、R1及び
R2がアルキル基を表わす場合に既に挙げたもの
と同じく、1〜10個の炭素原子を有する直鎖状及
び分枝鎖状炭化水素基である。これと同じこと
は、R3のアルアルコキシ基のアルアルキル基に
ついても当嵌る。これらは同様にR1及びR2につ
いて既述した基に相当する。R3のヘテロアリー
ルアミノ基中のヘテロアルキル基は、R1及びR2
について挙げた複素環式基と一致する。
R3がモノアルキル−又はジアルキルアミノ基
を表わす場合には、1〜4個の炭素原子を含有す
るアルキル基を有する基、例えばジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ
基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−s−ブチルア
ミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロ
ピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチ
ルアミノ基、s−ブチルアミノ基等並びにR1
びR2がアリール基又はヘテロアリール基を表わ
す場合に前記に定義した置換されていないか又は
置換されたアリールアミノ基が該当する。
一般式()中のHYは、鉱酸例えばHCl、
HBr、硫酸、硝酸、又はC1〜10−モノ−、ジ−も
しくはトリカルボン酸例えば酢酸、酪酸、蓚酸、
コハク酸、セバシン酸、マレイン酸、クエン酸等
を表わすことができる。
一般式()のアミジンもしくはグアニジン又
はその塩と、一般式()の相応するO−シリル
化又はO−アルキル化された4−ハロゲンクロト
ン酸エステル又は−アミドとの反応は、有利には
極性の不活性溶剤、例えばアセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、スルホラン中で又は
溶剤を用いないで、例えば過剰のヘキサメチルジ
シラザン(HMDS)もしくはトリメチルクロル
シラン(TCS)の存在下に、有利には反応混合
物の沸点で実施することができる。この場合、反
応成分比/は1〜6であるが、一般には化学
量論的量である。
新規方法のもう1つの利点は、反応を4−ハロ
ゲンアセト酢酸エステル又は−アミドから出発し
て1工程で所望のイミダゾール−4(5)−酢酸エス
テル又は−アミドを得ることができる点にある。
一般式()の4−ハロゲン−3−シリルオキシ
(有利にはトリメチルシリルオキシ)クロトン酸
又は−アミドは、更に有利にはその場で相応する
4−ハロゲンアセト酢酸エステル又は−アミドか
らヘキサメチルジシラザン(HNDS)もしくは
HMDSとトリメチルクロルシラン(TCS)との
組合せ物を用いて得られる〔ランゲル(S.H.
Langer)他著“ザ・ジヤーナル・オブ・オルガ
ニツク・ケミストリー(J.O.C)“第23巻、50頁
(1958年)〕、この方法はイミダゾ−ル合成を1工
程合成法に簡略化する。
屡々、反応に塩基のヘキサメチルジシラザン
(HMDS)の他にトリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミンもしくはジアザビシクロノネン
(DBN)又はジアザビンクロウンデセン(DBU)
を添加するのが有利である。
反応を促進するかあるいは反応温度を高めるた
めに、縮合の際に生じるヘキサメチルジシロキサ
ン〔(CH33−Si−O−Si(CH33沸点99゜〕を反応
混合物から短かい蒸留塔を介して蒸留によつて除
去するのが屡々有利である。
式()の4−ハロゲン化された3−アルコキ
シクロトン酸エステル又は−アミドは、文献記載
に基づき4−ハロゲンアセト酢酸エステル又は−
アミドを例えばオルト蟻酸エステルでO−アルキ
ル化する〔シユミツト(U.Schmidt)他著“モナ
ーツヘフテ・デア・ケミー(Monatshefteder
Chemie)”、第102巻、214頁(1971年)参照〕、あ
るいは相応する3−アルコキシクロトン酸エステ
ル又は−アミドを例えばCCl4中のNBSでハロゲ
ン化する〔コスターマンズ(D.G.F.R.
Kostermans)著、“ルコイユ・デ・トラヴオ・
シミツク・デ・ペイーバ(Rec.)”第70巻、79頁
(1951年)及びライド(E.B.Reid)及びルビー
(W.R.Ruby)著、“ザ・ジヤーナル・オブ・アミ
リカン・ケミカル・ソサイエテイー(JACS)”、
第73巻、1054頁(1951年)参照〕ことにより得る
ことができる。
式()の出発アミゾンもしくはグアニジン又
はその塩は、文献、例えば“ホーベン−バイル
(Houben/Weyl)”11/2、38〜69頁(1958年)、
“ザ・ケミストリ・オブ・フアンクシオナル・グ
ループズ(The Chemistry of Functional
Groups)”中の“ザ・ケミストリー・オブ・アミ
ジンズ・アンド・イミダードズ(The
Chemistry of Amidnes and Imidates)”、出版
社ソウル・パタイ(Soul patai)、ジヨン・ウイ
リー・アンド・サンズ(John Wiley and
Sons)、(1975年)に記載された方法に基づいて
製造されるが、しかしながら相応して置換された
ニトリルを当該のイミドエステル塩酸塩に変換し
〔ピンネル(A.Pinner)著、“デイ・イミドエー
テル・ウント・イーレ・デリバーテ(Die
Imidoa¨ther und ihre Derivate)”ベルリン1892
年、53頁参照〕、引続き所望の生成物を合成する
ために必要なアミンと反応させる〔ピーマン(F.
L.Pyman)著”ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカ
ル・ソサイエテイー(J.Chem.Soc.)”1923,
3359頁、ピンネル著“Die Imida¨ther und ihre
Derivate”ベルリン1892年、152頁参照〕ことに
より製造するのが有利である。
本発明の新規方法に基づいて製造された一般式
()のイミダゾール酢酸誘導体は、貴重な医薬
(消炎剤)及び植物保護剤のための中間物質であ
る。また、本発明方法により得られる生成物は、
例えば解熱作用を有する5−イミダゾール酢酸誘
導体(特公昭50−84567号公報)の中間物質であ
る。
例 1 4(5)−エトキシカルボニルメチル−イミダゾー
ル アセトニトリル250ml中の4−クロル酢酸エチ
ルエステル8.25gの溶液にトリメチルクロルシラ
ン19ml及びヘキサメチルジシラザン42mlを加え
る。反応混合物を還流下に1時間加熱しかつ次い
で酢酸ホルムアミジン総計31.2gを約14時間かけ
て分割して徐々に加える。冷却し、エーテル1
とヘキサン0.5との混合物を加えかつ水夫々50
mlで5回抽出する。水相をエーテル/ヘキサン
(1/1)混合物で1回洗浄し、過しかつ真空
中で蒸発乾涸する。その残留物を展開剤としてヘ
キサン/25〜100%酢酸エステル及び酢酸エステ
ル/0〜20%エタノールを用いてシリカゲルでの
カラムクロマトグラフイーによつて精製する。所
望のイミダゾール酢酸エステル6.6g(85%)が
得られる。
NMR(DMSO):1.20(t);3.55;4.05(q);6.85
(s);7.45(s) IR(フイルム):1735/cm 例 2 4(5)−エトキシカルボニルメチル−イミダゾー
ル 例1記載の4−クロル酢酸エチルエステルの代
りに3−エトキシ−4−クロルクロトン酸エチル
エステル〔R.フアインデングス、G.ツマーマン、
U.シユミツト著“Mh.Chem.”102巻、214頁
(1971年)、収率:20%〕を使用すると、4(5)−エ
トキシカルボニルメチル−イミダゾール0.89g
(11%)が得られる。
例 3 1,2−ジフエニル−4−エトキシカルボニル
メチル−イミダゾール N−フエニルベンズアミジン〔“Org.Synth.
Coll.”第1V巻、769頁、(1963年)に基づいて製
造〕9.8g、4−クロルアセト酢酸エチルエステ
ル8.25g、ヘキサメチルジシラザン100ml及びト
リエチルアミン7mlから混合物を還流下に一晩加
熱する。次いで、酢酸エステル400mlで希釈しか
つ飽和重炭酸ナトリウム溶液並びに水で5回洗浄
する。水相を塩化メチレンで抽出した後に、合し
た有機相を乾燥しかつ真空中で濃縮する。この残
分を展開剤として塩化メチレン/0.2〜1%イソ
プロパノール並びにトルエン/40%酢酸エステル
を用いてシリカゲルでのカラムクロマトグラフイ
ーによつて精製する。表題の化合物9.1g(59%)
が得られる。
NMR(CHCl3):1.28(t);3.75(d);4.2(q);
7.1−7.4 IR(フイルム):1735/cm 例 4 2−(4−ブロム)−フエニル−4−エトキシカ
ルボニルメチル−イミダゾール 4−ブロムベンズアミジン塩酸塩〔H・キング
及びJ.ウオカー著“Proc.Soc.”〔B〕〔ロンドン〕
第133巻、20頁(1946年)に基づいて製造〕5.88
g、4−クロルアセト酢酸エチルエステル4.12
g、ヘキサメチルジシラザン10.5ml及びトリエチ
ルアミン3.5mlから成る混合物を一晩還流下に加
熱する。引続き、酢酸エステル500mlで希釈しか
つ飽和重炭酸ナトリウム溶液夫々100mlで3回並
びに水夫々100mlで3回洗浄する。水相を塩化メ
チレンで抽出した後に、合した有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥しかつ真空中で蒸発乾涸する。こ
の残分を展開剤として塩化メチレン/0.1〜6%
イソプロパノールでシリカゲルでのカラムクロマ
トグラフイーによつて精製する。表題化合物3.8
g(49.9%)が得られる。
融点:165〜166℃(トルエン/酢酸エステル) 例 5 1−メチル−2−フエニル−4−エトキシカル
ボニルメチル−イミダゾ−ル N−メチル−ベンズアミジン塩酸塩6.12g、4
−クロルアセト酢酸エチルエステル4.95g、ヘキ
サメチルジシラザン18.5g、トリメチルクロルシ
ラザン1.27ml及びアセトニトリル350mlを、分析
DC−コントロールがもはや出発物質を示さなく
なるまで還流下に加熱する(約72時間)。冷却し、
真空中で濃縮することによつて反応溶液の体積を
約1/2に減少させ、次いで水200mlを加えかつエー
テル/ヘキサン(1/1−混合物)で数回抽出す
る。合した有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥
し、溶剤を真空中で除去しかつその成分を展開剤
としてペンタン/0〜100%酢酸エステルを用い
てシリカゲルでのカラムクロマトグラフイーによ
つて精製する。表題化合物3.53g(48%)が得ら
れる。
IR(フイルム):1735/cm NMR(DMSO):1.20(t);3.55;3.72;4.10
(q);7.10;7.3〜7.7 極性の副生成物として、1,5−位異性体(1
−メチル−2−フエニル−5−エトキシカルボニ
ルメチル−イミダゾ−ル)が少量単離される。
例 6 1−メチル−2−(3−クロル)−フエニル−4
−エトキシカルボニルメチル−イミダゾ−ル N−メチル−3−クロルベンズアミジン塩酸塩
10.25gをまず9時間4−クロルアセト酢酸エチ
ルエステル8.25g、ヘキサメチルジシラザン21
ml、トリメチルクロルシラン6.4ml及びアセトニ
トリル250mlと一緒に還流下に加熱し、次いで反
応時間を短縮するために、浴温度110℃で溶剤を
留去し、反応溶液にヘキサメチルジシラザン50ml
を加えかつ浴温度140℃で1時間保持する。冷却
し、水を加えかつエーテル/ヘキサン(1/1)
混合物で数回抽出する。合した有機相を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮しかつその残
分を展開剤としてのヘキサン/10〜100%酢酸エ
ステル及び塩化メチレン/10%イソプロパノール
でシリカゲルでのカラムクロマトグラフイーによ
り精製する。表題化合物4.6g(33%)が得られ
る。
IR(フイルム):1735/cm NMR(CHCl3):1.30(t);3.70;3.73;4.20
(q);6.95;7.3〜7.7 出発化合物は、以下のようにして製造される。
6a) 3−クロル−ベンズイミドエチルエステ
ル塩酸塩 エタノール及びエーテル中の3−クロルベン
ゾニトリル50gの溶液を乾燥塩化水素で飽和さ
せかつ引続き3℃で放置する。反応溶液から3
−クロル−ベンズイミドエチルエステル塩酸塩
70gが晶出する。
6b) N−メチル−3−クロルベンズアミジン
塩酸塩 無水エタノール86ml中のナトリウム4.9gか
ら製造されたナトリウムエチレート溶液に塩化
メチルアンモニウム14.2gを加える。1時間撹
拌した後に、この懸濁液に3−クロルベンズイ
ミドエチルエステル塩酸塩35gを加えかつ3℃
で一晩保管する。過後、溶液を蒸発乾涸しか
つその残分を水に溶かす。アセトン/エーテル
で沈殿させることにより所望の物質が得られ
る。融点209℃を有する物質24.8gが単離され
る。
例 7 4(5)−メトキシカルボニルメチル−2−フエニ
ル−イミダゾ−ル ベンズアミジン塩酸塩10g、4−クロルアセト
酢酸メチルエステル7.55g、ヘキサメチルジシラ
ザン33ml、トリメチルクロルシラン6.3ml及びア
セトニトリル300mlから成る混合物を還流下に、
分析的DC−コントロールがもはや出発物質を示
さなくなるまで数時間煮沸する。次いで、反応混
合物を水500mlを注入しかつ塩化メチレン夫々100
mlで5回抽出する。有機相の内容物を展開剤とし
てヘキサン/50〜100%酢酸エステルを用いてシ
リカゲルでのカラムクロマトグラフイーにより精
製する。ベンゼンから再結晶後、融点122〜124℃
を有する所望のイミダゾ−ル6.5gが得られる。
IR(フイルム):1730/cm NMR(DMSO):3.65;7.05;7.3〜7.9 例 8 2−(2−ピリジル)−イミダゾ−ル−4(5)−酢
酸メチルエステル 2−ピリジルアミジン塩酸塩〔F.C.シエーフア
及びG.A.ペーテルズ著“J.Org.Chem.”第26巻、
412頁(1961年)〕4.73g(0.03モル)を4−クロ
ルアセト酢酸メチルエステル4.5g(3.6ml=0.03
モル)、ヘキサメチルジシラザン12.65ml(0.06モ
ル)及びトリブチルアミン14.3ml(0.06モル)と
一緒に140℃に撹拌下に14時間加熱する。冷却後、
塩化メチレン及び飽和重炭酸ナトリウム溶液で抽
出しかつ水相を塩化メチレンで更に数回抽出す
る。Na2SO4で乾燥後、塩化メチレン相を蒸発す
る。この際に酢酸エステル/メタノール/トリエ
チルアミン(75:20:5)を用いた薄層系で均一
である(Rf=0.55)、粗製の2−ピリジル−イミ
ダゾ−ル−4(5)−酢酸メチルエステル4.7g(72
%)が得られる。シリカゲル100gでの酢酸エス
テル中の簡単な過で、粋純な物質4.3g(66%)
が得られる。
NMR(DMSO−D6):3.65(s);7.05(s);7.3
(m);7.9(m);8.55(m)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: [式中、 R1は水素原子、1〜24個の炭素原子を有する
    直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、シクロペンチル
    基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、エチ
    ルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、
    7〜10個の炭素原子を有するフエニルアルキル
    基、塩素、臭素、メチル、メトキシ又はトリフロ
    オルメチルによつて置換されていてもよいフエニ
    ル、α−ナフチル、β−ナフチル及びフエナント
    リル基、1〜3個のN,O又はS複素原子を有す
    る単環式又は双環式複素環式基を表わし、 R2は水素原子、1〜24個の炭素原子を有する
    直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、シクロペンチル
    基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、エチ
    ルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、
    7〜10個の炭素原子を有するフエニルアルキル
    基、塩素、臭素、メチル、メトキシ又はトリフロ
    オルメチルによつて置換されていてもよいフエニ
    ル、α−ナフチル、β−ナフチル及びフエナント
    リル基、1〜3個のN,O又はS複素原子を有す
    る単環式又は双環式複素環式基を表わし、 R1とR2は一緒に4〜7個の炭素原子を有する
    アルキレン基を表わし、かつ R3は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状又は
    分岐鎖状アルコキシ基又は7〜10個の炭素原子を
    有するフエニルアルコキシ基を表わす]で示され
    るイミダゾール酢酸誘導体を製造する方法におい
    て、一般式: [式中、R1及びR2は前記のものを表わしかつ
    HYは無機鉱酸又は有機酸を表わす]で示される
    アミジン又はその塩を一般式: [式中、R3は前記のものを表わしかつXはハ
    ロゲン原子の弗素、塩素及び沃素を表わしかつ
    R4はトリ−(C1〜C4)−アルキルシリル基又はC1
    〜C4−アルキル基を表わす]で示されるアセト
    酢酸誘導体と反応させることを特徴とするイミダ
    ゾール酢酸誘導体の製法。
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