JPH0339948A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPH0339948A JPH0339948A JP25753889A JP25753889A JPH0339948A JP H0339948 A JPH0339948 A JP H0339948A JP 25753889 A JP25753889 A JP 25753889A JP 25753889 A JP25753889 A JP 25753889A JP H0339948 A JPH0339948 A JP H0339948A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- emulsion
- compound
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はグラフィック・アーツ分野において。
有用なハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。
更に詳しく述べるとコントラストを増大させるためにヒ
ドラジン化合物を含有しているハロゲン化銀写真感光材
料及びその製造方法に関するものである。
ドラジン化合物を含有しているハロゲン化銀写真感光材
料及びその製造方法に関するものである。
(従来技術)
グラフィック・アーツ分野において超硬調(特にガンマ
が10以上)の写真特性を示す画像形成システムとして
、特開昭A/−22r37、同2/−φ7タダ2、同t
/−,20/233に示されるような、水溶性イリジウ
ム化合物とヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀感
光材料が提供されている。上記文献で示される実施方法
で、同じ塗布銀量で、高感度にするには、ハロゲン化銀
粒子の大きさを大きくすればよいが、その場合、最高濃
度(Dmax)の低下が起る。筐た同じ塗布銀量で高I
)maxを得るにはハロゲン化銀粒子サイズを小さくす
ればよいが、その場合感度が下がる。
が10以上)の写真特性を示す画像形成システムとして
、特開昭A/−22r37、同2/−φ7タダ2、同t
/−,20/233に示されるような、水溶性イリジウ
ム化合物とヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀感
光材料が提供されている。上記文献で示される実施方法
で、同じ塗布銀量で、高感度にするには、ハロゲン化銀
粒子の大きさを大きくすればよいが、その場合、最高濃
度(Dmax)の低下が起る。筐た同じ塗布銀量で高I
)maxを得るにはハロゲン化銀粒子サイズを小さくす
ればよいが、その場合感度が下がる。
(発明の目的)
従って1本発明の目的は、同じ水溶性イリジウノ、化合
物とヒドラジノ化合物を用い、同じ塗布銀量で、感度対
Drnaxの関係を良化する(同一感度で高I) m
a x化、または同一1)maxで高感度化)製造方法
と、ハロゲン化銀感光材料を提供することである。
物とヒドラジノ化合物を用い、同じ塗布銀量で、感度対
Drnaxの関係を良化する(同一感度で高I) m
a x化、または同一1)maxで高感度化)製造方法
と、ハロゲン化銀感光材料を提供することである。
(発明の構成)
本発明の目的は、水溶性イリジウム化合物を・・ロゲン
化銀乳剤の粒子形成の物理熟成及び/又は化学熟成時に
添加ty、さらに下記−形成(I)で表わされる化合物
を添加し、さらに該乳剤層、オたは他の親水性コロイド
層にヒト・ラジン化合物を加えて支持体に塗布すること
で達成された。
化銀乳剤の粒子形成の物理熟成及び/又は化学熟成時に
添加ty、さらに下記−形成(I)で表わされる化合物
を添加し、さらに該乳剤層、オたは他の親水性コロイド
層にヒト・ラジン化合物を加えて支持体に塗布すること
で達成された。
−形成(1)
〔式中、R1及びR2は同一でも異っていてもよく、各
々水素原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチルなト;ヒドロキシル基、カルボキシル基
で置換されたメチル、エチル、プロピル、ブチルなど)
、又はアリール基)(例えば、フェニル基:メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、塩素、臭素
、沃素などのハロゲン原子、ヒドロキシル基で置換され
たフェニル基など)を表わし、nは/又は2を表わす。
々水素原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチルなト;ヒドロキシル基、カルボキシル基
で置換されたメチル、エチル、プロピル、ブチルなど)
、又はアリール基)(例えば、フェニル基:メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、塩素、臭素
、沃素などのハロゲン原子、ヒドロキシル基で置換され
たフェニル基など)を表わし、nは/又は2を表わす。
〕
以下本発明の構成について詳細に具体的に説明する。一
般的にハロゲン化銀粒子が形成するのに経ると言われる
「粒子生成」 「粒子成長」 「物理熟成」 「脱塩」
「化学熟成」の五工程に大別されるが1本発明の方法
において、水溶性イリジウム化合物は物理熟成及び/又
は化学熟成の工程で乳剤中に添加しなければならない。
般的にハロゲン化銀粒子が形成するのに経ると言われる
「粒子生成」 「粒子成長」 「物理熟成」 「脱塩」
「化学熟成」の五工程に大別されるが1本発明の方法
において、水溶性イリジウム化合物は物理熟成及び/又
は化学熟成の工程で乳剤中に添加しなければならない。
この工程で添加される水溶性イリジウム化合物はハロゲ
ン化銀粒子の表面から表面付近に存在することになり、
その後加える一般式(I)、ヒドラジン化合物との共存
効果を発揮する。即ち、水溶性イリジウム化合物を特開
昭A/−29137%同A/−u7り名λ、同6/−2
θ/コ33の実施例のようにハロゲン化銀の粒子生成工
程、筺たは粒子成長工程に添加すればハロゲン化銀粒子
の内部に存在することになり、また脱塩工程で添加すれ
ば水洗水と共に流出するためにハロゲン化銀粒子には存
在することができず、本発明の目的とする効果を得るこ
とができない。
ン化銀粒子の表面から表面付近に存在することになり、
その後加える一般式(I)、ヒドラジン化合物との共存
効果を発揮する。即ち、水溶性イリジウム化合物を特開
昭A/−29137%同A/−u7り名λ、同6/−2
θ/コ33の実施例のようにハロゲン化銀の粒子生成工
程、筺たは粒子成長工程に添加すればハロゲン化銀粒子
の内部に存在することになり、また脱塩工程で添加すれ
ば水洗水と共に流出するためにハロゲン化銀粒子には存
在することができず、本発明の目的とする効果を得るこ
とができない。
水溶性イリジウム化合物を添加するときのハロゲン化銀
乳剤の温度はjo 0c〜7!0Cの範囲のいずれでも
よく、pAgは69.j〜2.3の範囲のいずれでもよ
い。またpHは3.0〜/コ。
乳剤の温度はjo 0c〜7!0Cの範囲のいずれでも
よく、pAgは69.j〜2.3の範囲のいずれでもよ
い。またpHは3.0〜/コ。
Oの範囲のいずれでもよい。
水溶性イリジウム化合物の添加後、他の異なる種類の化
合物を添加する筐での熟成時間は!分収上とることが好
筐しい。
合物を添加する筐での熟成時間は!分収上とることが好
筐しい。
水溶性イリジウム化合物はハロゲン化銀7モル当り10
−6〜10−4モル添加することが好ましい。/ 0−
7モル以下では効果が少なく、10−3モル以上添加す
ると写真感度の低下など好筐しくない影響が現われる。
−6〜10−4モル添加することが好ましい。/ 0−
7モル以下では効果が少なく、10−3モル以上添加す
ると写真感度の低下など好筐しくない影響が現われる。
従って、イリジウム化合物の添加量の範囲は本発明にお
いて重要である。
いて重要である。
本発明に用いられる水溶性イリジウム化合物は水溶性イ
リジウム塩又は水溶性イリジウム錯塩であって、例えば
三ハロゲン化イリジウム塩、四ハロゲン化イリジウム塩
、ヘキサハロゲノイリジウム(ilり酸塩、ヘキサハロ
ゲンイリジウム(IV)酸塩などを包含する。これらの
具体例を示せば、I r C13、IrBr3、Ir
l 3 %I r Q! 4、IrBr4゜K3(Ir
α6〕、Na5(IrQ!6)、Li5(Irα6〕、
(NH4)3(Irα6〕、K3(IrBr6)、Na
5(IrBr6)、に2(IrQ!!6)、Na2(I
rCl4)。
リジウム塩又は水溶性イリジウム錯塩であって、例えば
三ハロゲン化イリジウム塩、四ハロゲン化イリジウム塩
、ヘキサハロゲノイリジウム(ilり酸塩、ヘキサハロ
ゲンイリジウム(IV)酸塩などを包含する。これらの
具体例を示せば、I r C13、IrBr3、Ir
l 3 %I r Q! 4、IrBr4゜K3(Ir
α6〕、Na5(IrQ!6)、Li5(Irα6〕、
(NH4)3(Irα6〕、K3(IrBr6)、Na
5(IrBr6)、に2(IrQ!!6)、Na2(I
rCl4)。
Li2(IrCI!6)、(NH4)2(IrC/?6
)。
)。
K2 (X rBr 6 〕、Na2(UrBr6)。
(If(NHa)a)(OH)a、〔Ir(NH3)6
〕(N03)3(Ir(NH3)s)c7!a、 (I
r(NHa)s)Br3 などを挙げることができる
。
〕(N03)3(Ir(NH3)s)c7!a、 (I
r(NHa)s)Br3 などを挙げることができる
。
次に一般式(I)で示す化合物について説明する。水溶
性イリジウム化合物を乳剤に添加した後に一般式(1)
で示す化合物を添加するが、水溶性イリジウム化合物を
添加した後であれば、物理熟成中でも化学熟成中でも塗
布直前でもいずれの工程で添加してもよい。
性イリジウム化合物を乳剤に添加した後に一般式(1)
で示す化合物を添加するが、水溶性イリジウム化合物を
添加した後であれば、物理熟成中でも化学熟成中でも塗
布直前でもいずれの工程で添加してもよい。
一般式(1)で示す化合物を添加するときのハロゲン化
銀乳剤の温度ばJ j”C〜7!0Cの範囲でいずれで
もよ<、pAgは6.!〜り、3の範囲のいずれでもよ
い。またp Hは3.0〜/、2゜0の範囲のいずれで
もよい。
銀乳剤の温度ばJ j”C〜7!0Cの範囲でいずれで
もよ<、pAgは6.!〜り、3の範囲のいずれでもよ
い。またp Hは3.0〜/、2゜0の範囲のいずれで
もよい。
添加量はハロゲン化銀7モル当りlo−5〜10−2モ
ル添加することが好筐しい。10−6モル以下では効果
が少なく、lo−1モル以上添加すると写真感度の低下
など好壕しくない影響が現われる。
ル添加することが好筐しい。10−6モル以下では効果
が少なく、lo−1モル以上添加すると写真感度の低下
など好壕しくない影響が現われる。
一般式(■)で示される化合物は上述した水溶性イリジ
ウム化合物とヒドラジン化合物と組み合わされたときに
顕著にこれらに相互作用を与える。
ウム化合物とヒドラジン化合物と組み合わされたときに
顕著にこれらに相互作用を与える。
基本骨格であるヒドロキシテトラザインデン化合物であ
れば、その種類に制限されない。米国特許第2.7/l
、061号、同第2,71グ、071、英国特許第yr
i←70号などにも記載されているが、具体例を挙げる
と以下の如くである。
れば、その種類に制限されない。米国特許第2.7/l
、061号、同第2,71グ、071、英国特許第yr
i←70号などにも記載されているが、具体例を挙げる
と以下の如くである。
化合物1−/
亭−ヒドロキシ−6−メチルート3・3a・7−テトラ
ザインデン 化合物1−.2 1−ヒドロキシ−7・3・3a・7−テトラザインデン 化合物1−J グーヒドロキシ−6−フエニルー/・3・3a・7−テ
トラザインデン 化合物I−ダ グ−メチル−6−ヒトロキシー7・3・3a・7−テト
ラザインデン 化合物1−J l−ヒドロキシ−6−ベンジルート3・3a・7−テト
ラザインデン 化合物1−1 コーメチルーψ−ヒドロキシー4−ブチルート3・3a
・7−テトラザインデン 化合物1−7 ψ−ヒドロキシー6−カルポキシメチルート3・3a・
7−テトラザインデン 化合物1−f 2−ヒドロキシメチル−←−ヒドロキシー2−フェニル
−7・3・3a・7−テトラザインデン 化合物1−F λ−(μmクロロ−2−メチル−フェノオキシメチル)
−ヒ−ヒドロキシ−7・3・3a・7−テトラザインデ
ン 化合物(−t 。
ザインデン 化合物1−.2 1−ヒドロキシ−7・3・3a・7−テトラザインデン 化合物1−J グーヒドロキシ−6−フエニルー/・3・3a・7−テ
トラザインデン 化合物I−ダ グ−メチル−6−ヒトロキシー7・3・3a・7−テト
ラザインデン 化合物1−J l−ヒドロキシ−6−ベンジルート3・3a・7−テト
ラザインデン 化合物1−1 コーメチルーψ−ヒドロキシー4−ブチルート3・3a
・7−テトラザインデン 化合物1−7 ψ−ヒドロキシー6−カルポキシメチルート3・3a・
7−テトラザインデン 化合物1−f 2−ヒドロキシメチル−←−ヒドロキシー2−フェニル
−7・3・3a・7−テトラザインデン 化合物1−F λ−(μmクロロ−2−メチル−フェノオキシメチル)
−ヒ−ヒドロキシ−7・3・3a・7−テトラザインデ
ン 化合物(−t 。
コーメチルーダーヒドロキシー6−エトキシカルボニル
メチルー/・3・3a・7−テトラザインデン 前記−形成(I)で示される化合物の中、特にグーヒド
ロキシ−/・3・3a・7−テトラザインデン類が好1
しく、とりわけ化合物(1−/ )は実用的に有利であ
る。
メチルー/・3・3a・7−テトラザインデン 前記−形成(I)で示される化合物の中、特にグーヒド
ロキシ−/・3・3a・7−テトラザインデン類が好1
しく、とりわけ化合物(1−/ )は実用的に有利であ
る。
本発明に用いられるヒドラジンイヒ名物1ヨ、下記−形
成(TI)によって表わされる化合物が好ましい。
成(TI)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(U)
A、At
式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、G、はカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 0 0 0 1111 −P−基、−c−c−i、チオカルボニル基又はt イミノメチレン基を表わし、 AI、Atはともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、G、はカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 0 0 0 1111 −P−基、−c−c−i、チオカルボニル基又はt イミノメチレン基を表わし、 AI、Atはともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。
一般式(n)において、R6で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
−形成(IりにおいてR1で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和へテロN基である。
たは2環のアリール基または不飽和へテロN基である。
ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R1として特に好ましいものはアリール基であR8のア
リール基または不飽和へテロ環基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例え(fアルキル基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基
、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキ
シ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、
アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキ
シ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカルボキ
シル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基
、 R8 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
がl〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アジルアえノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである。
リール基または不飽和へテロ環基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例え(fアルキル基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基
、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキ
シ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、
アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキ
シ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカルボキ
シル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基
、 R8 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
がl〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アジルアえノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである。
−形成(II)においてR2で表わされるアルキル基と
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって
、例えぽハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スル
ホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アルキルスルホ基、アリールスルホ基、スル
フ1モイル基、ニトロ基、複素芳香環基、 AIAz てもよく、更にこれらの基がlaされていてもよアリー
ル基としては単環または2環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置換基の例としてはアルキル基
の場合と同様である。
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって
、例えぽハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スル
ホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アルキルスルホ基、アリールスルホ基、スル
フ1モイル基、ニトロ基、複素芳香環基、 AIAz てもよく、更にこれらの基がlaされていてもよアリー
ル基としては単環または2環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置換基の例としてはアルキル基
の場合と同様である。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、了り−ル基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、了り−ル基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基なとで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基なとで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基なとで置換されていてもよい。
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基なとで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R2て表わされる基のうち好ましいものは、G。
がカルボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例
えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキ
シプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、
)、エニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(
例えば、0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基
(例えば、フェニル基、3.5−ジクロロフェニル10
−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホ
ニルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好ま
しい。
えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキ
シプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、
)、エニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(
例えば、0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基
(例えば、フェニル基、3.5−ジクロロフェニル10
−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホ
ニルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好ま
しい。
またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基なと)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
(例えば、メチル基なと)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などがあ1 す、G、が−P−5の場合には、R2として1 はメトキシ基、ニドキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基
、フェニル基が好家しく、特に、フェノキシ基が好適で
ある。
ジル基、メチルチオベンジル基などがあ1 す、G、が−P−5の場合には、R2として1 はメトキシ基、ニドキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基
、フェニル基が好家しく、特に、フェノキシ基が好適で
ある。
G1がN−置換または無置換イ2ノメチレン基の場合、
好ましいR8はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
好ましいR8はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
R1の置換基としては、Rtに関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式(II)のGとしてはカルボニル基が最も好まし
い。
い。
又、R1はG、−R,の部分を残余分子から分裂させ、
−G、−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
−G、−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
一般式(a)
−R,−z。
式中、ZIはG、に対し求核的に攻輩し、G、−R,−
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3は
Rtから水素原子1細隙いたもので、ZIがG1に対し
求核攻輩し、Gt、Ri、Z、で環式構造が生成可能な
ものである。
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3は
Rtから水素原子1細隙いたもので、ZIがG1に対し
求核攻輩し、Gt、Ri、Z、で環式構造が生成可能な
ものである。
さらに詳細には、Z、は−形成(II)ヒドラジン化合
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
に01と求核反応し RAN■N −G t −Rs −Z +RI−N−N
基をG、から分裂させうる基であり、具体的にはOH,
、SHまたはNHR,(R4は水素原子、アルキル基、
アリール基、−CORs。
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
に01と求核反応し RAN■N −G t −Rs −Z +RI−N−N
基をG、から分裂させうる基であり、具体的にはOH,
、SHまたはNHR,(R4は水素原子、アルキル基、
アリール基、−CORs。
または−3OtRsであり、R5は水繁原子、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基などを表す)、C0ORな
どのようにG、と直接反応する官能基であってもよく(
ここで、○HSSH,,NHR4、−Coo)Iはアル
カリ等の加水分解によりこれらの基を生成するように一
時的に保護されていてもON−R。
基、アリール基、ヘテロ環基などを表す)、C0ORな
どのようにG、と直接反応する官能基であってもよく(
ここで、○HSSH,,NHR4、−Coo)Iはアル
カリ等の加水分解によりこれらの基を生成するように一
時的に保護されていてもON−R。
よい)、あるいは、−C−R,、−C−R。
(R,、R,は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
1と反応することが可能になる官能基であってもよい。
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
1と反応することが可能になる官能基であってもよい。
また、G+ 、R2、Lで形成される環としては5員ま
たは6員のものが好ましい。
たは6員のものが好ましい。
−形威(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式中)
式中、R1,〜R4,は水素原子、アルキル基(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜12のもの)なとを表し、同しでも異なっても
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nは0または1で
あり、(n+m)は1または2である。
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜12のもの)なとを表し、同しでも異なっても
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nは0または1で
あり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
2、は−形威(a)と同義である。
−形威(C)
R9
【
−(−N+T+CRc l Rc ” ÷’qZ1式
中、RC’ s Rt本は水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し、
同じでも異なってもよい。
中、RC’ s Rt本は水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し、
同じでも異なってもよい。
R,sは水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表す。
アリール基を表す。
pは0または1を表し、qは1〜4を表す。
Rt ’ % Rc2およびRCツはZlがCIへ分子
内求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
内求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
Rc ’ s Rc ”は好ましくは水素原子、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基であり、Rclは好ましくは
アルキル基または了り−ル基である。
ン原子、またはアルキル基であり、Rclは好ましくは
アルキル基または了り−ル基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときPは0また
は1を、qが2のときPはOまたは1を、qが3のとき
Pは0または1を表し、qが2または3のときRC’%
Rgtは同一でも異なってもよい、 Z、は−形威(
a)と同義である。
は1を、qが2のときPはOまたは1を、qが3のとき
Pは0または1を表し、qが2または3のときRC’%
Rgtは同一でも異なってもよい、 Z、は−形威(
a)と同義である。
A+、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が一〇
。5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメットの置lA基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎮又は
分岐状又は環状の@置換及び置換脂肪族アシル基(W
tA aとしては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。)〉A、 、A!と
しては水素原子が最も好ましい。
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が一〇
。5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメットの置lA基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎮又は
分岐状又は環状の@置換及び置換脂肪族アシル基(W
tA aとしては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。)〉A、 、A!と
しては水素原子が最も好ましい。
−形威(11)のRtまたはR1はその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい、バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい、バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
一般式(II)のR1またはR2はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド蟇、メルカプト復素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4゜385.108号、同4,45
9,347号、特開開59−195,233号、同59
−200゜231号、同59−201,045号、同5
9−201.046号、同59−201,047号、同
59−201,048号、同59−201.049号、
特開昭61−170.733号、同61−27ン、74
4号、同62−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載された基があげられる。
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド蟇、メルカプト復素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4゜385.108号、同4,45
9,347号、特開開59−195,233号、同59
−200゜231号、同59−201,045号、同5
9−201.046号、同59−201,047号、同
59−201,048号、同59−201.049号、
特開昭61−170.733号、同61−27ン、74
4号、同62−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載された基があげられる。
−S式(U)で示される化合物の具体例を以下に示す、
但し゛本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
但し゛本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
■−1)
11−2)
■−3)
■−4)
■−6)
Js
■−7)
■−8)
■−9)
C,HzCHtCHzSH
n−10)
n−11)
TI−12)
n−14)
ff−15)
H
n−16)
Ul−17)
n −1,8)
II−19)
N層−N
n−20)
St(
N
■−22)
ll−23)
zHs
n−26)
■−27)
11−28)
II−30)
n−31)
n−32)
n−33)
+1−34)
n−35)
n−36)
If−37)
■−38)
1;、lls
しi=υH
II−40)
n−41)
II−42)
N
2
II−43)
U−44)
11−45)
tr−46)
11−47)
■−48)
n−49)
It−50)
n−51)
II −52)
II−53)
It−54)
本発明に用いられるヒドラジン<baitしては、上記
のものの他に、RESEARCHDISCI、05II
RE 1te1123516(’1983年11月号、
P、346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4゜080.207号、同4,269,929号、同
4.276.364号、同4,278,748号、同4
,385.108号、同4,459.347号、同4.
5°60,638号、同4.478.928号、英国特
許2,011,391B、特開昭60−179734号
、同62−270,948号、同63−29,751号
、同61−170゜733号、同61−270,744
号、同62−948号、EP217,310号、または
US4゜686.167号、特開昭62−178,24
6号、同63=32,538号、同63−104゜04
7号、同63−121,838号、同63−129.3
37号、同63−223,744号、同63−234,
244号5、同63−234,245号、同63−23
4.246号、同63−294.552号、同63−3
06,438号、特開平1−100,530号、同1−
105,941号、同1−105,943号、特開昭6
4−10.233号、特開平1−90.439号、特願
昭63−105,682号、同63−114,118号
、同63−110,051号、同63−114.119
号、同63−116,239号、同63−147,33
9号、同63−179,760号、同63−229,1
63号、特願平1−18.377号、同1−18,37
8号、同1−18.379号、同1−15,755号、
同1−16.814号、同1−40,792号、同1−
42.615号、同1−42,616号、同1−123
.693号、同1−126,284号に記載されたもの
を用いることができる。
のものの他に、RESEARCHDISCI、05II
RE 1te1123516(’1983年11月号、
P、346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4゜080.207号、同4,269,929号、同
4.276.364号、同4,278,748号、同4
,385.108号、同4,459.347号、同4.
5°60,638号、同4.478.928号、英国特
許2,011,391B、特開昭60−179734号
、同62−270,948号、同63−29,751号
、同61−170゜733号、同61−270,744
号、同62−948号、EP217,310号、または
US4゜686.167号、特開昭62−178,24
6号、同63=32,538号、同63−104゜04
7号、同63−121,838号、同63−129.3
37号、同63−223,744号、同63−234,
244号5、同63−234,245号、同63−23
4.246号、同63−294.552号、同63−3
06,438号、特開平1−100,530号、同1−
105,941号、同1−105,943号、特開昭6
4−10.233号、特開平1−90.439号、特願
昭63−105,682号、同63−114,118号
、同63−110,051号、同63−114.119
号、同63−116,239号、同63−147,33
9号、同63−179,760号、同63−229,1
63号、特願平1−18.377号、同1−18,37
8号、同1−18.379号、同1−15,755号、
同1−16.814号、同1−40,792号、同1−
42.615号、同1−42,616号、同1−123
.693号、同1−126,284号に記載されたもの
を用いることができる。
本発明におけるヒドラジンイヒc的の添加量としてはハ
ロゲン化銀1モルあたりI X 10−’モルないし5
×10″2モル含有されるのが好ましく、特にl×10
′5モルないし2X10””モルの範囲が好ましい添加
量である。
ロゲン化銀1モルあたりI X 10−’モルないし5
×10″2モル含有されるのが好ましく、特にl×10
′5モルないし2X10””モルの範囲が好ましい添加
量である。
本発明は以上述べた如くハロゲン化銀粒子表面付近にイ
リジウム化合物を存在せしめ、その後に一般式(I)で
示される化合物と一般式(■)で示される化合物を添加
することにより同一塗布銀量で同じハロゲン化銀粒子サ
イズでも高感度にすることができる。または、粒子サイ
ズを小さくした場合には、同一塗布銀量で同一感度にし
て高DmaXを実現することができる。更に本発明にお
いて、さらに圧力増感を少なくするには、ポリヒドロキ
シベンゼン化合物を用いることが好ましい。
リジウム化合物を存在せしめ、その後に一般式(I)で
示される化合物と一般式(■)で示される化合物を添加
することにより同一塗布銀量で同じハロゲン化銀粒子サ
イズでも高感度にすることができる。または、粒子サイ
ズを小さくした場合には、同一塗布銀量で同一感度にし
て高DmaXを実現することができる。更に本発明にお
いて、さらに圧力増感を少なくするには、ポリヒドロキ
シベンゼン化合物を用いることが好ましい。
本発明に使用されるポリヒドロキシベンゼン化合物は写
真感光材料の構成層のいずれにあってもよく、好壕しく
はハロゲン化銀粒子乳剤層である。
真感光材料の構成層のいずれにあってもよく、好壕しく
はハロゲン化銀粒子乳剤層である。
ポリヒドロキシベンゼン化合物の添加時期は、形成(1
)と(II)で示される化合物の添加量に関係なく添加
してもよいが、−形成(1’)と(II)の化合物の添
加後に添加するのが好筐しい。
)と(II)で示される化合物の添加量に関係なく添加
してもよいが、−形成(1’)と(II)の化合物の添
加後に添加するのが好筐しい。
ポリヒドロキシベンゼン化合物のうち好筐しいものは下
記−形成(III)で表わされる化合物である。
記−形成(III)で表わされる化合物である。
−形成(III)
d2
式中01と02の少なくとも一方はヒドロキシ基を表わ
し、他方は以下のR1なlnl、R4と同義の基から選
ばれる。R1ないしR4は互いに独立に水素原子、ヒド
ロキシ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は無
置換のアリールオキシ基。
し、他方は以下のR1なlnl、R4と同義の基から選
ばれる。R1ないしR4は互いに独立に水素原子、ヒド
ロキシ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は無
置換のアリールオキシ基。
置換又は無置換のアルキルチオ基、置換又は無置換のア
リールチオ基、ハロゲン原子、/、、2.J級のアミノ
基、置換又は無置換のカルボンアミド基、置換又は無置
換のスルホンアミド基、置換又は無置換のアルキル基、
置換又は無置換のアIJ−ル基、置換又は無置換の、少
なくとも1個のN、0、S原子を含む!又10員のへテ
ロ環基、ホルミル基、ケト基、スルホン酸基、カルボン
酸基、置換又は無置換のフルキルスルホニル基、置換又
は無置換のアリールスルホニル基などを挙げることがで
きる。
リールチオ基、ハロゲン原子、/、、2.J級のアミノ
基、置換又は無置換のカルボンアミド基、置換又は無置
換のスルホンアミド基、置換又は無置換のアルキル基、
置換又は無置換のアIJ−ル基、置換又は無置換の、少
なくとも1個のN、0、S原子を含む!又10員のへテ
ロ環基、ホルミル基、ケト基、スルホン酸基、カルボン
酸基、置換又は無置換のフルキルスルホニル基、置換又
は無置換のアリールスルホニル基などを挙げることがで
きる。
これらのジヒドロキシベンゼン化合物の具体例としては
例えばThe Merck Index 10 the
ditionlfc多くの例が記載されているほか、米
国特許2.72♂、Ajり号、同!、700.IIタ3
号、同3,2.27.j!2号、特開昭μ2−101a
JJP号、同!0−Ij& 、1A31r号、同!t−
10P34711号、同タフーJu、2j7号。
例えばThe Merck Index 10 the
ditionlfc多くの例が記載されているほか、米
国特許2.72♂、Ajり号、同!、700.IIタ3
号、同3,2.27.j!2号、特開昭μ2−101a
JJP号、同!0−Ij& 、1A31r号、同!t−
10P34711号、同タフーJu、2j7号。
同!Y−2021At!号、同5r−i’ytJi号、
特公昭jO−コ12←り号、同1g−Vorir号、同
JP−37グタ7号、英国特許7!コ/4t2号、同1
0rt20r号、西独特許公開コ、lφF、7rY号、
ケミカル マブストラクッ誌!巻4jj7h、特開昭j
7−/7り≠2などに記載されている。これらの好壕し
−ジヒドロキシベンセン類のうち特に好1ししものは、
無置換又は/ないしμ置換のカテコール又はハイドロキ
ノンであり、1個の水酸基以外の置換基のハメットのシ
グマ値の和が一ノ、4な−し+ノ1.2、特に好it、
<は−/、0ないし+o、rの範囲内にあるものである
。
特公昭jO−コ12←り号、同1g−Vorir号、同
JP−37グタ7号、英国特許7!コ/4t2号、同1
0rt20r号、西独特許公開コ、lφF、7rY号、
ケミカル マブストラクッ誌!巻4jj7h、特開昭j
7−/7り≠2などに記載されている。これらの好壕し
−ジヒドロキシベンセン類のうち特に好1ししものは、
無置換又は/ないしμ置換のカテコール又はハイドロキ
ノンであり、1個の水酸基以外の置換基のハメットのシ
グマ値の和が一ノ、4な−し+ノ1.2、特に好it、
<は−/、0ないし+o、rの範囲内にあるものである
。
以下にこれらジヒドロキシベンゼン化合物の具体例を示
すが1本発明はこれらのみにて限定されるものではない
。
すが1本発明はこれらのみにて限定されるものではない
。
(III)−/ コ
ゲ
!
ぶ
?
/コ
0
3
/ψ
/よ
コO
H
H
Jよ
本発明におけるポリヒドロキシベンゼン化合物の添加量
としてはハロゲン化銀1モルあたりよ×10−1モル未
満であればよく、好渣しくはハロゲン化@1モルあたり
/X’/(7−1からjXlo−3モルの添加量である
。
としてはハロゲン化銀1モルあたりよ×10−1モル未
満であればよく、好渣しくはハロゲン化@1モルあたり
/X’/(7−1からjXlo−3モルの添加量である
。
本発明においては、さらに本発明の帯電防止性を向上せ
しめることが望1れるが、かかる目的に対しては含弗素
界面活性剤が特に好1しく用いられる。
しめることが望1れるが、かかる目的に対しては含弗素
界面活性剤が特に好1しく用いられる。
本発明に使用される含フツ素界面活性剤は、写真感光材
料の構成層のいずれにあってもよいが、好筐しいのは保
護層であジ特に好ましくは最外層である。
料の構成層のいずれにあってもよいが、好筐しいのは保
護層であジ特に好ましくは最外層である。
本発明に併用される好ましい含弗素界面活性剤としては
、炭素数←以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基
、又はアリ一ル基を有し、イオン性基としてアニオン基
(スルホン酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)%
リン酸(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウ
ム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム
塩)、ベタイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシア
ンモニウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩
、ホスホアンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置
換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル基または
ソルビタン残基)を有する活性剤が挙げられる。
、炭素数←以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基
、又はアリ一ル基を有し、イオン性基としてアニオン基
(スルホン酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)%
リン酸(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウ
ム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム
塩)、ベタイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシア
ンモニウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩
、ホスホアンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置
換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル基または
ソルビタン残基)を有する活性剤が挙げられる。
これらの含弗素界面活性剤Vi%開昭開開−10722
号、英国特許第1,330.3jA号、特開開!!−!
r177/J号、同644−/4tJ、24’号、同!
0−713λ2/号、米国特許第ψ、3J、t。
号、英国特許第1,330.3jA号、特開開!!−!
r177/J号、同644−/4tJ、24’号、同!
0−713λ2/号、米国特許第ψ、3J、t。
xoi号、同グ、3ダ7,30!号、英国特許第1、I
I/7,9/!号、特公昭74−J44F7号、同77
−2J7/り号、同!ター313−73号、特開昭jj
−/11F!P31号、同t+−+tr!コO号、同!
ダー/ψコλφ号、同!l−40023!号、同j7−
/<4AJ4C♂号、同jl−15F4jlψ号、英国
特許第1.IAJ?、402号、などに記載されている
。
I/7,9/!号、特公昭74−J44F7号、同77
−2J7/り号、同!ター313−73号、特開昭jj
−/11F!P31号、同t+−+tr!コO号、同!
ダー/ψコλφ号、同!l−40023!号、同j7−
/<4AJ4C♂号、同jl−15F4jlψ号、英国
特許第1.IAJ?、402号、などに記載されている
。
これらの好ましい具体例を以下に記す。
M−/ CBF17803に
’Ji J C7F 15 C00N a■−
3C3H7 コ C3F17SO2N−CH2COOK ■−u 06 F’ 17802 N(−CH2a(20−)%
CH2+−So 3 N a4 Na −7 C8F17CH2CH200C−CH2C8H17α)
C−CH−8O3Na −r 12H25 ■−タ Ha ■−72 −i3 −it 本発明における含弗素界面活性剤の添加量は、/、0’
に10−6モル/ m2〜/ 、 OX / 0−2モ
ル/m2がよく、好ましくはj×10−6モル/ m2
から1×10−4モル/m2の塗布量になる添加量であ
る。
3C3H7 コ C3F17SO2N−CH2COOK ■−u 06 F’ 17802 N(−CH2a(20−)%
CH2+−So 3 N a4 Na −7 C8F17CH2CH200C−CH2C8H17α)
C−CH−8O3Na −r 12H25 ■−タ Ha ■−72 −i3 −it 本発明における含弗素界面活性剤の添加量は、/、0’
に10−6モル/ m2〜/ 、 OX / 0−2モ
ル/m2がよく、好ましくはj×10−6モル/ m2
から1×10−4モル/m2の塗布量になる添加量であ
る。
本発明に用いられる写真乳剤は写真感光材料の分野で公
知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メロシアニ
ン色素などで分光増感されていてもよい。好壕しく用い
られる増感色素は特開昭タj−j 20 ! 0号に記
載されている色素などであるが、そのなかでも下記の一
般式(v)であられされるシアニン色素が特に好適であ
る。
知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メロシアニ
ン色素などで分光増感されていてもよい。好壕しく用い
られる増感色素は特開昭タj−j 20 ! 0号に記
載されている色素などであるが、そのなかでも下記の一
般式(v)であられされるシアニン色素が特に好適であ
る。
一般弐N’)
式中、Z 1 + Z 2はチアゾール核、チアゾリン
核、ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサ
ゾール核、ベンズオキサゾール核、オキサゾリン核、ナ
フトオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾ
ール核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリ
ン核、ベンゾセレナゾール核またはす7トセレナゾール
核七形成するのに必要な原子群七表わす。
核、ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサ
ゾール核、ベンズオキサゾール核、オキサゾリン核、ナ
フトオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾ
ール核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリ
ン核、ベンゾセレナゾール核またはす7トセレナゾール
核七形成するのに必要な原子群七表わす。
R1,R2はアルキル基又は置換アルキル基え表わす。
但し、R1,R2の少くとも1つはスルホ基又はカルボ
キシ基に有しているものとする。
キシ基に有しているものとする。
Ll m L 2は置換又は無置換メタン基金表わす。
nは0 % uの整数上表わす。
Z 1 + Z 2によって形成される核には、シアニ
ン色素の分野でよく知られているように、置換基が導入
されていてもよい。この置換基としては例えばアルキル
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
ン色素の分野でよく知られているように、置換基が導入
されていてもよい。この置換基としては例えばアルキル
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R1及びR2Vi各々同一であっても異っていてもよい
。R1s R2のアルキルとしては好壕しくは炭素原子
数l−♂のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。置
換アルキル基の置換基としては、例えばカルボキシ基、
スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子
、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコキ
シカルボニル基(炭素原子数r以下、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下、
例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキン基、ブトキ
シ基、ベンジルオキシ基など)アリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、アシルオ
キシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ基、
プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子数r
以下、例tばアセチル基、プロピオニル基、ベンソイル
基、メシル基など)、カルバモイル基(例えばカルバモ
イル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、モルホリノ
カルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)、ス
ルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N−ジ
メチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基など
)、アリール基(例エバフェニル基、p−ヒドロキシフ
ェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホフェ
ニル基、α−ナフチル基など)がある。置換アルキル基
の好ましい炭素数は6以下である。
。R1s R2のアルキルとしては好壕しくは炭素原子
数l−♂のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。置
換アルキル基の置換基としては、例えばカルボキシ基、
スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子
、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコキ
シカルボニル基(炭素原子数r以下、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下、
例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキン基、ブトキ
シ基、ベンジルオキシ基など)アリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、アシルオ
キシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ基、
プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子数r
以下、例tばアセチル基、プロピオニル基、ベンソイル
基、メシル基など)、カルバモイル基(例えばカルバモ
イル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、モルホリノ
カルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)、ス
ルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N−ジ
メチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基など
)、アリール基(例エバフェニル基、p−ヒドロキシフ
ェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホフェ
ニル基、α−ナフチル基など)がある。置換アルキル基
の好ましい炭素数は6以下である。
L 1 r Ij 2の置換メチン基としては低級アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基など)
、フェニル基、ベンジル基など上挙げることができる。
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基など)
、フェニル基、ベンジル基など上挙げることができる。
以下に本発明に使用するに適したシアニン色素の具体例
上挙げる。
上挙げる。
(
)
SO3す
S○3H−N((−2Hs)3
(3
)
(−4)
(
6)
(
)
(
)
oak
SO3M−N(CzHs)3
(
)
(10)
(11)
O3d
SO3M−N(C2H5)3
(19)
(20)
(21)
2H5
2H5
2H5
03e
(23)
2H5
03e
(CH2) 4
O3e
(30)
(31)
(32)
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカブリ茫防止し、あるい
は写真性能上安定化させる目的で、種々の化合物金含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアゾール類、アミノトリアゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾー
ル類、メルカプトテトラゾール類(特にl−フェニル−
!−メルカプトテトラゾール)など;メルカプトピリミ
ジ7類;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサドリ
ンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン類、た
とえばトリアザインデン類、テトラアザイン類、ぺ7タ
アザインデ7類iど;ベンゼンチオスルフォン酸。
、保存中あるいは写真処理中のカブリ茫防止し、あるい
は写真性能上安定化させる目的で、種々の化合物金含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアゾール類、アミノトリアゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾー
ル類、メルカプトテトラゾール類(特にl−フェニル−
!−メルカプトテトラゾール)など;メルカプトピリミ
ジ7類;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサドリ
ンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン類、た
とえばトリアザインデン類、テトラアザイン類、ぺ7タ
アザインデ7類iど;ベンゼンチオスルフォン酸。
ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフオン酸アミド等
のようなカブリ防止剤または安定剤として知られた、多
くの化合物を加えることができる。
のようなカブリ防止剤または安定剤として知られた、多
くの化合物を加えることができる。
これらの中で、特に好筐しいのはベンゾトリアゾール類
(例えば!−メチルベンゾトリアゾール及びニトロイン
ダゾール類(例えば!−二トロインダゾール)である。
(例えば!−メチルベンゾトリアゾール及びニトロイン
ダゾール類(例えば!−二トロインダゾール)である。
また、これらの化合物を処理液に含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機渣たは有機の硬膜剤金含有してよい。
コロイド層に無機渣たは有機の硬膜剤金含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど)
、アルーデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサー
ル、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール11
合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダント
インなど)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシ
ジオキサンなど)、活性ビニルfヒ合物(/、3.!−
1リアクリロイル−へキサヒドロ−s −トリアジン、
l、3−ビニルスルホニル−コープロバノールなど)、
活性ハロゲン化合物(2,グージクロル−6−ヒドロキ
シ−3−トリアジンなト)、ムコハロゲン酸類(ムコク
ロル酸、ムコフェノキシクロル酸など)、など七単独鵞
たは組み合わせて用いることができる。
、アルーデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサー
ル、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール11
合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダント
インなど)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシ
ジオキサンなど)、活性ビニルfヒ合物(/、3.!−
1リアクリロイル−へキサヒドロ−s −トリアジン、
l、3−ビニルスルホニル−コープロバノールなど)、
活性ハロゲン化合物(2,グージクロル−6−ヒドロキ
シ−3−トリアジンなト)、ムコハロゲン酸類(ムコク
ロル酸、ムコフェノキシクロル酸など)、など七単独鵞
たは組み合わせて用いることができる。
本発明上用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真%注改良(例えば、
現像促進、硬調比、増感)等種々の目的で種々の界面活
性剤た含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真%注改良(例えば、
現像促進、硬調比、増感)等種々の目的で種々の界面活
性剤た含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシド−A・誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスル7オ/酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基
、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステ
ル基等の酸性基上官むアニオン界面活性剤;アミノ酸類
、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又
はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第ψ級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム
塩類、及び脂肪族又は複葉環上官むホスホニウム又はス
ルホニウム塩Mなどのカチオン界面活性剤上用いること
ができる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシド−A・誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスル7オ/酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基
、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステ
ル基等の酸性基上官むアニオン界面活性剤;アミノ酸類
、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又
はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第ψ級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム
塩類、及び脂肪族又は複葉環上官むホスホニウム又はス
ルホニウム塩Mなどのカチオン界面活性剤上用いること
ができる。
特に本発明に3いて好1しく用いられる界面活性剤は特
公昭!I−?lA/2号公報に記載された分子量300
以上のポリアルキレンオキサイド類である。
公昭!I−?lA/2号公報に記載された分子量300
以上のポリアルキレンオキサイド類である。
本発明に用いる写真感光材料には、写真乳剤層その他の
親水性コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水
不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物上音むことができ
る。例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシ
アルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル
(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリル、オレフィン
、スチレンなどの単独もしくは組合せ、又はこれらとア
クリル酸、メタクリル酸、α、β−不飽和ジカルボン酸
、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、スルホア
ルキル(メタ)アクリレート、スチレンスルホン酸等の
組合せ七単量体成分とするポリマー上用いることができ
る。
親水性コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水
不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物上音むことができ
る。例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシ
アルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル
(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリル、オレフィン
、スチレンなどの単独もしくは組合せ、又はこれらとア
クリル酸、メタクリル酸、α、β−不飽和ジカルボン酸
、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、スルホア
ルキル(メタ)アクリレート、スチレンスルホン酸等の
組合せ七単量体成分とするポリマー上用いることができ
る。
本発明のハロゲン化銀感光材料金用いて超硬調で高感度
の写真特性上えるには、従来の伝染現像液や米国特許第
コ、Vlり、27!号に記載されたpH73に近い高ア
ルカリ現像液に用いる必要はなく、安定な現像液上用い
ることができる。
の写真特性上えるには、従来の伝染現像液や米国特許第
コ、Vlり、27!号に記載されたpH73に近い高ア
ルカリ現像液に用いる必要はなく、安定な現像液上用い
ることができる。
すなわち、本発明のハロゲンfヒ銀感光材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンfO,/、fモル/を以上含み、
pHり、s〜ノ2.3、特にpH10゜s〜ノ2.3の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像七得ることがで
きる。
としての亜硫酸イオンfO,/、fモル/を以上含み、
pHり、s〜ノ2.3、特にpH10゜s〜ノ2.3の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像七得ることがで
きる。
本発明の方法に訃いて用いうる現濠生薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば/−フェニル
−3−ピラゾリドン、ψ。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば/−フェニル
−3−ピラゾリドン、ψ。
μmジメチル−7−フェニル−3−ピラゾリドン)、ア
ミノフェノール類(例えばN−メチル−p−アミノ7エ
/−ル)など七単独あるいは組み合わせてもち7’)こ
とができる。
ミノフェノール類(例えばN−メチル−p−アミノ7エ
/−ル)など七単独あるいは組み合わせてもち7’)こ
とができる。
本発明のハロゲンfヒ銀感光材料は特に、主現像主薬と
してジヒドロキシベンゼン類七、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類プたはアミノフェノール類上官む現像
液で処理されるのに適している。好1しくはこの現像液
にふ〜いてジヒドロキシベンゼン類は0.0!〜O0!
モル/113−ピラゾリドン類!たはアミノフェノール
類は0.06モル/を以下の範囲で併用される。
してジヒドロキシベンゼン類七、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類プたはアミノフェノール類上官む現像
液で処理されるのに適している。好1しくはこの現像液
にふ〜いてジヒドロキシベンゼン類は0.0!〜O0!
モル/113−ピラゾリドン類!たはアミノフェノール
類は0.06モル/を以下の範囲で併用される。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭fヒ物、
沃fヒ物、及び有機カブリ防止剤(特に好tL<はニト
ロインダゾール類ttcriベンゾトリアゾール類)の
如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤など七含むことが
できる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調
剤、現像促進剤、界面活性剤(とぐに好甘しくは前述の
ポリアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィ
ルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミ
ダゾールスルホン酸類)などt含んでもよい。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭fヒ物、
沃fヒ物、及び有機カブリ防止剤(特に好tL<はニト
ロインダゾール類ttcriベンゾトリアゾール類)の
如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤など七含むことが
できる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調
剤、現像促進剤、界面活性剤(とぐに好甘しくは前述の
ポリアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィ
ルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミ
ダゾールスルホン酸類)などt含んでもよい。
これら添加剤の具体例はリサーチディスクロージヤー/
7&号の/7t←3などに記載されている。
7&号の/7t←3などに記載されている。
定着液としては一般に用いられてい仝組成のもの上用い
ることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシア
ン酸塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機
硫黄比合物七用いることができる。憬た定着液には硬膜
剤として水溶性アルミニウム塩など七含んでも良い。
ることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシア
ン酸塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機
硫黄比合物七用いることができる。憬た定着液には硬膜
剤として水溶性アルミニウム塩など七含んでも良い。
処理温度は通常tr 0cからroocの間に選ばれる
が、/r 0cよシ低い温度または5o0C虻こえる温
度としてもよい。
が、/r 0cよシ低い温度または5o0C虻こえる温
度としてもよい。
写真処理には自動現像機上用いるのが好筐しい。
本発明では感光材料を自動現像機に入れてから出てくる
までのトータルの処理時間を20秒〜120秒に設定し
ても十分に超硬調で高感度のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
までのトータルの処理時間を20秒〜120秒に設定し
ても十分に超硬調で高感度のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
本発明は以上述べた如<ハロゲン化銀粒子表面付近にイ
リジウム化合物を存在せしめ、その後に一般式(I)で
示される化合物と一般式(II)で示される化合物を添
加することにより同一塗布銀量で同じハロゲン化銀粒子
サイズでも高感度にすることができる。または、粒子サ
イズを小さくした場合には、同一塗布銀量で同一感度に
して高Dmaxを実現することができる。更に本発明に
釦いて、圧力増感を小さくするには一般式(f[[)で
示される化合物を用いれば、感度対Dmaxの関係を悪
化させずに達成することができ、更に帯電防止性を良化
するには一般式(■)で示される化合物を用いることで
実現することができる。
リジウム化合物を存在せしめ、その後に一般式(I)で
示される化合物と一般式(II)で示される化合物を添
加することにより同一塗布銀量で同じハロゲン化銀粒子
サイズでも高感度にすることができる。または、粒子サ
イズを小さくした場合には、同一塗布銀量で同一感度に
して高Dmaxを実現することができる。更に本発明に
釦いて、圧力増感を小さくするには一般式(f[[)で
示される化合物を用いれば、感度対Dmaxの関係を悪
化させずに達成することができ、更に帯電防止性を良化
するには一般式(■)で示される化合物を用いることで
実現することができる。
以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
乳剤Aの調製
7770Cに保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と
、銀1モル当りψ×lθ−6モルに相当するヘキサクロ
ロイリジウム(III)酸カリウムを含む沃化カリウム
と臭化カリウムの水溶液を同時にto分間で加え、その
間のpAgを7.3に保つことにより単分散の沃臭化銀
乳剤(平均粒子サイズ0,2tμ、沃化銀金i12モル
多)を調整した。
、銀1モル当りψ×lθ−6モルに相当するヘキサクロ
ロイリジウム(III)酸カリウムを含む沃化カリウム
と臭化カリウムの水溶液を同時にto分間で加え、その
間のpAgを7.3に保つことにより単分散の沃臭化銀
乳剤(平均粒子サイズ0,2tμ、沃化銀金i12モル
多)を調整した。
この乳剤を常法に従って水洗し可溶性塩類を除去したの
ち、V−ヒドロキシ=/・3・3a・7−テトラザイン
デンを銀1モル当りψX10−3モル添加しl、j 0
cで30分間加熱攪拌して得た乳剤をAとした。
ち、V−ヒドロキシ=/・3・3a・7−テトラザイン
デンを銀1モル当りψX10−3モル添加しl、j 0
cで30分間加熱攪拌して得た乳剤をAとした。
乳剤Bの調製
70°Cに保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と沃
化カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で
加え、その間PAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳
剤(平均粒子サイズ0.28μ 沃化銀含量2モル%)
を調製し、その後、脱塩工程前にil 1ル当り4X1
0−’モルに相当するヘキサクロロイリジウム(I[[
)酸カリウムを添加し、70°Cにて15分間加熱攪拌
した。この乳剤を乳剤Aと同様に脱塩後4−ヒドロキシ
ー■、3゜3a、7−テトラアザインデンをi艮1モル
当り4xxo−’モル添加し65゛Cで30分間加熱攪
拌して得た乳剤をBとした。
化カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で
加え、その間PAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳
剤(平均粒子サイズ0.28μ 沃化銀含量2モル%)
を調製し、その後、脱塩工程前にil 1ル当り4X1
0−’モルに相当するヘキサクロロイリジウム(I[[
)酸カリウムを添加し、70°Cにて15分間加熱攪拌
した。この乳剤を乳剤Aと同様に脱塩後4−ヒドロキシ
ー■、3゜3a、7−テトラアザインデンをi艮1モル
当り4xxo−’モル添加し65゛Cで30分間加熱攪
拌して得た乳剤をBとした。
乳剤Cの調製
70°Cに保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と沃
化カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で
加え、その間PAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳
剤(平均粒子サイズ0.28μ 沃化銀含量2モル%)
を調製し、その後脱塩に相当するヘキサクロロイリジウ
ム(III)酸カリウムを添加し15分間加熱撹拌する
。その後辺1モル当り4X10−’モルの4−ヒドロキ
シ−l。
化カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で
加え、その間PAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳
剤(平均粒子サイズ0.28μ 沃化銀含量2モル%)
を調製し、その後脱塩に相当するヘキサクロロイリジウ
ム(III)酸カリウムを添加し15分間加熱撹拌する
。その後辺1モル当り4X10−’モルの4−ヒドロキ
シ−l。
3.3a、7−テトラアザインデンを添加し30分間加
熱攪拌して得た乳剤をCとした。
熱攪拌して得た乳剤をCとした。
乳剤りの調製
70℃に保、たゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と沃化
カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加
え、その間pAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳剤
(平均粒子サイズ0.28μm、沃化銀含量2モル%〉
を調製し、その後脱塩工程前に銀1モル当り2X10−
’モルに相当するヘキサクロロイリジウム(III)酸
カリウムを添加し70℃にて15分間加熱攪拌した。そ
の後脱塩を行い65℃にて銀1モル当り2X10−”モ
ルのへキサクロロイリジウム(III)酸カリウムを添
加し15分間加熱攪拌する。その後辺1モル当り10
モルの4−ヒドロキシート3・3a・7−テトラザイン
デンを添加し30分間加熱攪拌して得た乳剤をDとした
。
カリウムと臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加
え、その間pAgを7.5に保ち単分散の沃臭化銀乳剤
(平均粒子サイズ0.28μm、沃化銀含量2モル%〉
を調製し、その後脱塩工程前に銀1モル当り2X10−
’モルに相当するヘキサクロロイリジウム(III)酸
カリウムを添加し70℃にて15分間加熱攪拌した。そ
の後脱塩を行い65℃にて銀1モル当り2X10−”モ
ルのへキサクロロイリジウム(III)酸カリウムを添
加し15分間加熱攪拌する。その後辺1モル当り10
モルの4−ヒドロキシート3・3a・7−テトラザイン
デンを添加し30分間加熱攪拌して得た乳剤をDとした
。
乳剤Eの調製
8酸銀水溶液とハロゲン化合物水溶液を添加する時のゼ
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤Bと同様にして乳剤EをtII製し
た。
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤Bと同様にして乳剤EをtII製し
た。
乳剤Fの!j!!?!
硝酸銀水溶液とハロゲン化合物水溶液を添加する時のゼ
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤Cと同様にして乳剤Fを調製した。
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤Cと同様にして乳剤Fを調製した。
乳剤Gの調製
硝酸銀水溶液とハロゲン化合物水溶液を添加する時のゼ
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤りと同様にして乳剤Fを!J製した
。
ラチン水溶液の温度をかえ、平均粒子サイズを0.24
μにした以外は乳剤りと同様にして乳剤Fを!J製した
。
これらの乳剤A−Gのそれぞれにポリエチルアクリレー
トの分散物、ポリエチレングリコール(分子11000
) 、1・3−ビニルスルホニル−2−プロパノールを
加え、次いで本発明の一般式C11)の化合物■−29
を銀1モル当り4.5×104モル加えた後にポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布1!13.0g/
n(になるように塗布した。
トの分散物、ポリエチレングリコール(分子11000
) 、1・3−ビニルスルホニル−2−プロパノールを
加え、次いで本発明の一般式C11)の化合物■−29
を銀1モル当り4.5×104モル加えた後にポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布1!13.0g/
n(になるように塗布した。
の現像液で38℃、30秒間現像し、停止、定着、水洗
、乾燥した。
、乾燥した。
現像液組成
ハイドロキノン 40.0g4・4
−ジメチル−1−フェニル =3−ピラゾリドン 0.4g水酸化ナ
トリウム !3.0g無水亜硫酸カリ
ウム 9.0.0g第3リン酸カリウム
74.0gエチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム 1.0g臭化カリウ
ム 6.0g5−メチルベンゾ
トリアゾール 0.6g1−ジメチルアミノ−2・
3− ジヒドロキシプロパン 17.0g水を加えて
1i水酸化カリウムでp
H11,5に合わせる。
−ジメチル−1−フェニル =3−ピラゾリドン 0.4g水酸化ナ
トリウム !3.0g無水亜硫酸カリ
ウム 9.0.0g第3リン酸カリウム
74.0gエチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム 1.0g臭化カリウ
ム 6.0g5−メチルベンゾ
トリアゾール 0.6g1−ジメチルアミノ−2・
3− ジヒドロキシプロパン 17.0g水を加えて
1i水酸化カリウムでp
H11,5に合わせる。
結果を第1表に示す、但し、表中
・相対感度は濃度1.5を与える露光量の逆数の相対値
で、フィルム試料1の感度を100とした。
で、フィルム試料1の感度を100とした。
・ Dmaxは濃度1.5を与える露光量をさらに10
倍の露光量を与えた時の濃度を示す。
倍の露光量を与えた時の濃度を示す。
第1表
第1表の結果より、従来の乳剤を用いた試料1に比べ、
イリジウム化合物を物理熟成時に添加して1lil!L
、たハロゲン化銀乳剤を用いた試料2、またはイリジウ
ム化合物を化学熟成時に添加して調製したハロゲン化銀
乳剤を用いた試料3、または物理熟成時と化学熟成時の
両方に添加して調製したハロゲン化銀乳剤を用いた試料
4は同一塗布銀量でDi+axをかえずに高感化するこ
とがわかる。
イリジウム化合物を物理熟成時に添加して1lil!L
、たハロゲン化銀乳剤を用いた試料2、またはイリジウ
ム化合物を化学熟成時に添加して調製したハロゲン化銀
乳剤を用いた試料3、または物理熟成時と化学熟成時の
両方に添加して調製したハロゲン化銀乳剤を用いた試料
4は同一塗布銀量でDi+axをかえずに高感化するこ
とがわかる。
一方試料2.3.4と同様なイリジウム化合物の添加を
行った試料5.6.7は同一塗布銀量で感度の低下をお
こさずに高Dmax化することがわかる。
行った試料5.6.7は同一塗布銀量で感度の低下をお
こさずに高Dmax化することがわかる。
実施例2
実施例1で用いた試料1.2.3.4.5.6.7の各
々塗布前に増感色素(本文中で挙げた化合物例13)を
1!!1モル当り3X10−’モル加えて塗布した以外
は同様にして試料8.9.10111.12.13.1
4を得たこれらの試料8〜14を実施例1と同様に露光
・現像処理して第2表に示した結果を得た。第2表によ
り増感色素を添加しても本発明の効果は第1表のごとく
維持されるのがわかる。
々塗布前に増感色素(本文中で挙げた化合物例13)を
1!!1モル当り3X10−’モル加えて塗布した以外
は同様にして試料8.9.10111.12.13.1
4を得たこれらの試料8〜14を実施例1と同様に露光
・現像処理して第2表に示した結果を得た。第2表によ
り増感色素を添加しても本発明の効果は第1表のごとく
維持されるのがわかる。
第2表
実施例3
実施例1で用いた試料λ、3、φ、j、t、7の各々塗
布前に一般式(III)の化合物1−/を銀1モル当り
AX/(7−2モル加えた後にポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布銀量3.0g/m2になるように
塗布した以外は同様にして試料/j、/l、17、/I
、19%20を得た。
布前に一般式(III)の化合物1−/を銀1モル当り
AX/(7−2モル加えた後にポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布銀量3.0g/m2になるように
塗布した以外は同様にして試料/j、/l、17、/I
、19%20を得た。
これらの試料l!〜20と試料l〜7を次のように試験
を行い表3の結果を得た。
を行い表3の結果を得た。
(感度測定試験)
実施例1で示される方法で感度、D m a xを測定
した。
した。
(圧力増感試験)
試料t〜/ダの未露光サンプルについて、直径0.2φ
のサファイヤ針を乳剤塗布面に接触させ/ OCmでO
gからコoogに連続的に荷重が変化するように、サフ
ァイヤ針で試料の乳剤面上をこする。その後、実施例/
で示す現像液、現像条件で試料を処理し、圧力をかける
ことによってひきおこされた銀像が出現しはじめた地点
とサファイヤ針でこすりはじめた地点の距離を測定する
。
のサファイヤ針を乳剤塗布面に接触させ/ OCmでO
gからコoogに連続的に荷重が変化するように、サフ
ァイヤ針で試料の乳剤面上をこする。その後、実施例/
で示す現像液、現像条件で試料を処理し、圧力をかける
ことによってひきおこされた銀像が出現しはじめた地点
とサファイヤ針でこすりはじめた地点の距離を測定する
。
表3中、圧力増感試験のデーターは、試料上で、サファ
イヤ針でこすり始めた地点と銀像の出現し始めた地点の
距離を示し、距離が長い程すなわち荷重が重い程圧力増
感が小さく、距離が短い程すなわち荷重が軽い程圧力増
感が大きいことを示す。
イヤ針でこすり始めた地点と銀像の出現し始めた地点の
距離を示し、距離が長い程すなわち荷重が重い程圧力増
感が小さく、距離が短い程すなわち荷重が軽い程圧力増
感が大きいことを示す。
表
3
表3の結果より。
従来の乳剤を用いた試料/に
対し、
本発明の中の化合物■−/を添加し7ていない試料2、
J、!、j、A、7は感度対1)maxは良化するも圧
力増感が大きいのに対し、化合物■−/を添加した試料
/6、/7、l♂、17.20、コlは感度対Dmax
の関係を損わずに圧力増感が小さく、従来の乳剤を用い
た試料lと同様な、またはそれより小さい圧力増感を示
すことがわかる。
J、!、j、A、7は感度対1)maxは良化するも圧
力増感が大きいのに対し、化合物■−/を添加した試料
/6、/7、l♂、17.20、コlは感度対Dmax
の関係を損わずに圧力増感が小さく、従来の乳剤を用い
た試料lと同様な、またはそれより小さい圧力増感を示
すことがわかる。
実施例グ
実施例3で用いた試料16%/7、/♂、/7.20.
2/の各々の塗布前に一般式(IV)の化合物■−/を
10mg/m2塗布できるように加えた後にポリエチレ
ンテl/フタレートフィルム上に塗布銀量3.0g7m
2になるように塗布した以外は同様に(2て試料2/、
2j、コ!、jj、26を得た。これらの試料21−
26と試料/〜7と試料/l、2/を次のように試験を
行い表1の結果を得た。
2/の各々の塗布前に一般式(IV)の化合物■−/を
10mg/m2塗布できるように加えた後にポリエチレ
ンテl/フタレートフィルム上に塗布銀量3.0g7m
2になるように塗布した以外は同様に(2て試料2/、
2j、コ!、jj、26を得た。これらの試料21−
26と試料/〜7と試料/l、2/を次のように試験を
行い表1の結果を得た。
(感度測定試験)
実施例/で示される方法で感度(光感度)、D m a
xを測定した。
xを測定した。
(圧力増感試験)
実施例3で示される方法で圧力増感を調べた。
(帯電防止性試験)
未露光の試料を2i ’CIO%RHで2時間調湿した
後、同一空調条件の暗室の中に訃いて、試料をゴムロー
ラー及びデルリンローラで摩擦した後、実施例1で示し
た現像液で現像し、スタチックマークの発生度を目視で
評価した。
後、同一空調条件の暗室の中に訃いて、試料をゴムロー
ラー及びデルリンローラで摩擦した後、実施例1で示し
た現像液で現像し、スタチックマークの発生度を目視で
評価した。
表V中、スタチックマーク発生度のデーターのA%B、
Cは目視による評価結果であり、A#2スタチックマー
クの発生なく、B%Cに行くに従い発生が強くなってい
ることを示している。また、感度、圧力増感試験のデー
ターは、表1、表3で示すものと同じ表示方法である。
Cは目視による評価結果であり、A#2スタチックマー
クの発生なく、B%Cに行くに従い発生が強くなってい
ることを示している。また、感度、圧力増感試験のデー
ターは、表1、表3で示すものと同じ表示方法である。
表グの結果より、従来の乳剤を用いた試料lに対し本発
明の中の化合物■−/を添加していない試料2〜7、/
!〜20は感度対f)maxは良化するもスタチックマ
ーク発生度すなわち帯電防止性が悪いのに対し、化合物
■−lを添加した試料λ/〜2ぶは感度対Dmaxを損
わず、かつ圧力増感を太きくせずに帯電防止性が良化し
従来の乳剤を用すた試料lと同様な帯電防止性を示すこ
とがわかる。
明の中の化合物■−/を添加していない試料2〜7、/
!〜20は感度対f)maxは良化するもスタチックマ
ーク発生度すなわち帯電防止性が悪いのに対し、化合物
■−lを添加した試料λ/〜2ぶは感度対Dmaxを損
わず、かつ圧力増感を太きくせずに帯電防止性が良化し
従来の乳剤を用すた試料lと同様な帯電防止性を示すこ
とがわかる。
Claims (3)
- (1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において該ハロゲン
化銀乳剤の粒子形成の物理熟成、及び/又は化学熟成時
に水溶性イリジウム化合物を添加し、さらに下記一般式
( I )で表わされる化合物を添加し、更に該乳剤層、
または他の親水性コロイド層にヒドラジン化合物を含有
することを特徴とするネガ型ハロゲン化銀感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2は同じでも異つていてもよく
それぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表わし
、nは1又は2を表わす。〕 - (2)ハロゲン化銀乳剤層、又は他の親水性コロイド層
中に、ポリヒドロキシベンゼン化合物を含有することを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のネガ型ハロゲ
ン化銀感光材料。 - (3)ハロゲン化銀乳剤層、又は他の親水性コロイド層
中に含弗素界面活性剤を含有することを特徴とする特許
請求の範囲第2項に記載のネガ型ハロゲン化銀感光材料
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-101120 | 1989-04-20 | ||
| JP10112089 | 1989-04-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339948A true JPH0339948A (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=14292219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25753889A Pending JPH0339948A (ja) | 1989-04-20 | 1989-10-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0339948A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
| WO2008038764A1 (fr) | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Fujifilm Corporation | Écran à émission spontanée, procédé de fabrication d'un écran à émission spontanée, film conducteur transparent, dispositif électroluminescent, électrode transparente de cellule solaire et électrode transparente de papier électronique |
| WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5384714A (en) * | 1976-12-30 | 1978-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | High sensitivity and high contrast photographic material |
| JPS5440629A (en) * | 1977-09-06 | 1979-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of hard photographic image |
| JPS58200235A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS61201233A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
| JPS62287238A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-14 | Konica Corp | 油溶性写真用添加剤の含有性の向上されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6425143A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material |
| JPS6472140A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material |
-
1989
- 1989-10-02 JP JP25753889A patent/JPH0339948A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5384714A (en) * | 1976-12-30 | 1978-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | High sensitivity and high contrast photographic material |
| JPS5440629A (en) * | 1977-09-06 | 1979-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of hard photographic image |
| JPS58200235A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS61201233A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
| JPS62287238A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-14 | Konica Corp | 油溶性写真用添加剤の含有性の向上されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6425143A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material |
| JPS6472140A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
| WO2008038764A1 (fr) | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Fujifilm Corporation | Écran à émission spontanée, procédé de fabrication d'un écran à émission spontanée, film conducteur transparent, dispositif électroluminescent, électrode transparente de cellule solaire et électrode transparente de papier électronique |
| WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4609621A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| US4377634A (en) | Method for forming high contrast photographic image | |
| CA1245502A (en) | Process for producing silver halide emulsion and silver halide photographic light-sensitive material containing the same | |
| GB1569758A (en) | Silver halide photographic emulsions | |
| GB1581962A (en) | Development of silver halide photographic materials | |
| US4847187A (en) | Light-sensitive silver halide photographic material | |
| JPH01121854A (ja) | 高コントラストネガ画像形成方法 | |
| US4828968A (en) | Method of developing photographic light-sensitive materials | |
| US4722884A (en) | Silver halide photographic light-sensitive materials and method for formation of negative images of ultra-high contrast using said material | |
| JPH0272346A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 | |
| JPH0677130B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US5051336A (en) | Negative type silver halide photographic material and method for forming image using the same | |
| JPH0339948A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2709647B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH02293736A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0961972A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JPH0518090B2 (ja) | ||
| JPH0253047A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2627195B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0367243A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2694364B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法 | |
| JPH037928A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| USH1242H (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| JPH0212236A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2515140B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |