JPH05507763A - 反射防止層を有するペリクルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 可溶性パーフルオロエラスト−ｚ−及Ｕペリクル中の使用 発明の分野 本発明は、パーフルオロポリマー及びペリクル生産におけるその使用に関する。

更に詳細には、本発明は、可溶性パーフルオロエラストマー及びペリクルの無反 射層におけるその使用に関する。

発明の背景 パーフルオロエラストマーは、高温及び化学侵襲に対してすぐれた抵抗性を必要 とする種々の応用において長く使用されている。エラストマーの応用において使 用されている特に顕著な一部類は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びパー フルオロ（アルキルビニル）エーテル、そして特にパーフルオロ（メチルビニル ）エーテル（ＰＭＶＥ）から製造されるものである。良好なエラストマー特性に 必須であるこれらのコポリマーにおける橋かけを容易にするために、低い率のタ ーモノマーが一般に組み入れられる。

これらのパーフルオロエラストマーは、過去において成功裡に使用されたが、溶 液がら基材上にコーティングすることができ、そして例外的に高度の純度を示す 高性能の材料に対する必要性が継続して存する。、又、光学的特性とコア材料に 対する接着の最上の可能な組合せを示す無反射コーティングに対する必要性が継 続して存する。

このような無反射コーティングに対する必要性は、集積回路の投影印刷製造にお いて特に急である。

感光性基材又はウエーファ上画像を形成させるための投影印刷系は、集積回路の 製造においてフォトレジスト被覆半導体を露光させるために使用される。これら の系は、一つの面上不透明なパターン及び透明な区域を持つ透明な基材を有する フォトマスク又はレチクル（以後「マスク」）、マスクを通してウェーファに放 射エネルギー、例えば光又は紫外線の光束を向けるための照明系、ウェーファ上 マスクのパターンの焦点の合った画像を形成させるための光学装置及びダスト粒 子があればその画像をマスクの面上焦点を外して保持するためのペリクルを普通 含んでいる。

ペリクルは、フレーム上支持されている自由に置かれる薄い光学フィルムである 。普通は、フレームがマスクに付けられ、光学フィルムがある距離マスクの面か ら離れて置かれている。或いはマスク上に留まり、モしてつ工−ファ上に投影さ れることになるダスト粒子は、その代りにペリクル上に留まり、焦点が外される 。その結果、常用の投影印刷系中ペリクルが使用されるときには、１つ又はそれ 以上のダスト粒子はあるウェーファの収量に影響せず、収量を有意に改善するこ とができる。

理想的には、ペリクルは、投影印刷系の放射エネルギーに見えるべきではない。

即ち、きれいな輪郭のはっきりしたパターンを得るためには、ペリクルの光学フ ィルムは、反射なしに、投影印刷過程の間使用される放射エネルギーを全部透過 するべきである。

過去においては、典型的にはニトロセルロースからつくられた単層のペリクルが 使用された。小型化が進むと共に、パターンのエレメントは一層小さくなり、ペ リクルの光学透過は次第に不充分となった。ペリクルフィルムの光学透過を増大 させる、即ち、その光学反射又はグレアを減少させ、このようにしてきれいな輪 郭のはっきりしたパターンを得るためには、種々の無反射コーティングを持つ多 層ペリクルが以前提案された。このようなコーティングは、フルオロポリマー、 例えばパーフルオロエラストマーを含み、それが良好な光学特性を与えた。

しかし、更によい光学及び接着特性を持つ材料が尚必要本発明は、いくつかの溶 媒中可溶性であり、そして例外的な純度を特徴とするパーフルオロエラストマー を指向している。

特定すれば、本発明は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びパーフルオロ（ アルキルビニル）エーテル及び少な（とも１種のキュアサイトモノマーから製造 されるパーフルオロエラストマーを提供し、このパーフルオロエラストマーは、 約０，３〜０．５のインへレントビスコシティを特性とする分子量を有し、約２ ００ｐｐ１１未満の色形成性不純物を含有する。

本発明は更に、テトラフルオロエチレン、少なくトモ１種のパーフルオロ（アル キルビニル）エーテル及ヒ少なくとも１種のキュアサイトモノマーをランダム共 重合させ、そして得られたコポリマーを約３２０〜３５０℃の温度において約１ ０〜１４時間熱分解させることによる前記パーフルオロエラストマーの製法を提 供する。

更に、本発明は、閉じた支持フレームの１つの工、ジにぴんと張って接着されて いる光学透明フィルムよりなるペリクルを提供し、このフィルムは、約１．３２ 〜１．８０の屈折率及び０．３〜２０ミクロンの厚さを有するコア層、並びにテ トラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びパーフルオロ（アルキルビニル）エーテル 及び少なくとも１種のキュアサイトモノマーから製造されるパーフルオロエラス トマーよりなる少なくとも１つの無反射層よりなり、このパーフルオロエラスト マーは約０．３〜０．５のインへレントビスコシティを特徴とする分子量を有し 、そして約２００ｐｐｍ未満の色形成性不純物を含有する。

図面の簡単な説明 図１は、マスク上に置かれた、本発明のペリクルの模式断面図である。

図２．２人及び２Ｂは、本発明のペリクル中使用することができるフィルムの断 面図である。

発明の詳細な説明 本発明の組成物は、ＴＦＥ、パーフルオロ（アルキルビニル）エーテル及び少な くとも１種のキュアサイトモノマーのランダム共重合によって製造される。ラン ダム共重合のための既知の方法を使用することができる。例えば、反応剤、一般 的割合及び最初の重合のため使用される反応条件は、Ｂａｒｒｉｓら、米国特許 ３．１３２．１２３、Ｆｒ１ｔｚら、米国特許３．２９１．８４３、Ａｐｏｔｈ ｅｋｅｒら、米国特許４．０３５．５６５、Ｂｒｅａｚｅａｌｅ、米国特許４． ２８１．０９２及びＴａｔｅｍｏｔｏら、米国特許４．２４３．７７０に記載さ れているとおりであることができる。

得られたポリマーは、約３２０〜３５０℃の温度において約１０〜１４時間熱分 解される。少な（とも約３３０℃の温度が好ましく、約３４０〜３５０℃の温度 が多くのポリマーに対して特に満足できることが見出されている。上に示された 最低の温度及び時間より下では実質的な程度の熱分解が一般には実現せず、示さ れた最高の温度及び時間より上では有意なポリマーの減成が起こる。

熱分解後のポリマーの、取扱いを容易にするため、ガラス容器の中又は上で加熱 を行なうことが好ましい。熱分解のための雰囲気は特に制限はないが、例えば、 空気中又は窒素等の不活性雰囲気中熱分解を行なうことができる。

この熱分解は分子量を低下させる。分子量はインへレントビスコシティと線状の 関係があり、これは、４０／６０／３の重量比のパーフルオロブチルフラン（Ｆ Ｃ−７５）　、２，２．３−トリクロロパーフルオロブタン（ｌＩＣ−４３７） 及び２−メトキシエチルエーテル（ジグリム）の混合物中０．２９／ｄｌのポリ マー濃度を使用して、３０℃において＾ＳＴＭテストＤ２８５７に従って測定す ることができる。本発明によれば、熱分解ポリマーは約０．３〜０．５のインへ レントビスコシティを示す。

この熱分解ポリマーは、更に色形成性不純物の低いレベルという特性を示す。こ のような不純物の濃度は、約２００ｐｐｍ未満、好ましくは約１１００ｐｐ未満 であるべきである。

ポリマーは、本発明の熱分、解処理の前には、一般に約１０００ｐｐＩ１１を超 え、２０００ｐｐ−を超えることも多い不純物のレベルを存する。典型的な色形 成性不純物は、分解するとフッ化水素、二酸化炭素及び−酸化炭素のうち少な（ とも１つを放出するものである。これらの不純物は、開始剤又は重合助剤等の意 図的な添加によるか、又は不注意に重合又は単離過程の結果として、重合及びポ リマーの処理の際導入された追加物に起因する。

このような不純物の測定は、標準的な方法、例えば熱重量分析／赤外（ＴＧ＾／ ＩＲ）技術によることができる。抽出可能なフッ化物の他の測定技術は、Ｉｍｂ ａｌｚａｎｏ及びＫｅｒｂｏｗ１米国特許４．７４３．６５８に記載されている ものである。

熱分解ポリマーは、満足な橋かけができるのに充分なキュアサイトモノマーを有 するべきである。このことは、ポリマーの型及びキュアサイトモノマーの型によ ってかなり変動するが、一般に、ある量、好ましくは少なくとも約０．２５重量 ％、そして更に好ましくは少なくとも約０．５重量％のキュアサイトモノマーが 焼結の後残留するべきである。残留するキュアサイトモノマーの最大量に特に制 限はない。しかし、焼結ポリマー中約２．５重量％を超えて存在するときあまり 利点はなく、１．０％以下が好ましい。

最終ポリマー中キュアサイトの率は、当該技術中周知の一般技術によって計算さ れる。例えば、シアノ−キュアサイトモノマーが使用される場合には、Ｂｒｅａ ｚｅａｌｅ。

米国特許４．２８１．０９２に記載されている操作を使用することができる。こ れらの計算においては、最終ポリマー中キュアサイトは、コポリマー中に組み入 れられる、キュアサイトを持つ全モノマーユニットとして計算される。

熱分解ポリマーは、有用な物理特性を得るために、処理及び硬化を助ける常用の 添加剤と配合することができる。配合の後、エラストマーは、プレス中試料を成 形することにより、所望の形態の形とし、そして熱及び圧力を加えることによっ て硬化させることができる。第２の硬化段階、即ちポストキュアは、窒素中最初 より高温において、又はプレス、キュア及び大気圧において実施されることが多 い。

本発明の生成物は、粉末、ベレット及びガム、流し込み又は成形物品、例えばフ ィルム、シート又はスラブ、並びに仕上り部位、例えば０−リングの形態である ことができる。これらのポリマーの溶解性のために、溶液としての処方物及びこ の溶液の流し込みフィルム及びコーティングへの変換も可能である。

本発明の生成物は、フッ素含有溶媒を含む種々の溶媒に可溶性であり、従って基 材上にコーティングして基材の光学又は性能特性を修飾することができる。典型 的には、本発明のポリマー約２５重量％までを含有する溶液を調製することがで きる。

本発明の生成物は、コーティング、接着剤のため、及び化学侵襲及び高温に対す る抵抗性と共に例外的な純度が要求されるエラストマーの応用においても使用す ることができる。

ペリクルフィルムにおいては、本ポリマー生成物の特性が特に有利である。本発 明のペリクルは、コア層及びコアの少なくとも１つの面上少な（とも１種の前記 ポリマーを有するフィルムを含む。

ペリクルフィルムのコア層は、１．３２〜１．８０の屈折率及び０．３〜２０ミ クロンの厚さを有する。好ましくは、コア層は１．５１の屈折率及び０．８〜３ ．０ミクロンの厚さを有する。

被覆のないペリクルをつくるための当該技術において既知の材料を本発明コア層 として使用してよい。これらの材料は、低いレベルの粒子物及び入射光の低い吸 収を有する実質的に均一な厚さの自由に置かれている単離可能なフィルムを形成 させることができる。この型のフィルムは、厚さがインチあたり露光振動数の２ 波長未満までの変動である場合には均一と考えられる。［低レベルの粒子物」と は、フィルムが２０未満の眼に粒子を有し、そして２０ミクロンを超える粒子を 有さないことを意味する。

「低い吸収」とは、入射光の１％未満がフィルムによって吸収されることを意味 する。

好ましくは、コア層は、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリビニルブチ レート、ポリエーテルスルフォン及びセルロース誘導体、例えばセルロースアセ テート、セルロースアセテートブチレート又はニトロセルロースよりなる群から 選択されるポリマーよりなる。ニトロセルロースフィルムは特に満足されること が見出されており、従って好ましい。

コア層の少なくとも１つの面は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びパーフ ルオロ（アルキルビニル）エーテル及び少なくとも１種のキュアサイトモノマー から製造されるパーフルオロエラストマーよりなる少な（とも１種の無反射層で あり、パーフルオロエラストマーは、約０．３〜０．５のインへレントビスコシ ティを特性とする分子量を有し、そして約２００ｐｐｍ未満の色形成性不純物を 含有する。好ましい無反射層においては、熱分解ポリマーは、パーフルオロポリ マーの重量で４０〜６０％のＴＦＥ、３５〜５５％のパーフルオロ（アルキルビ ニル）エーテル及び０〜５％のシュアサイトポリマーから製造される。好ましい キュアサイトモノマーは、ビニリデンフルオライド、パーフルオロ−（８−シア ノ−５−メチル−３，６−シオキサー１−オクテン）　（８−ＣＮＶＥ）　、ブ ロモテトラフルオロブテン及びパーフルオロ（２−フェノキシプロビルビニルエ ーテル）を包含する。

本発明の特に好ましい無反射層は、ＴＦＥ、　ＰＭＶＥ及び根跡量からパーフル オロポリマーの１重量％までの量で存在する８−ＣＮＶＥキュアサイトのランダ ム共重合ユニットを有するパーフルオロエラストマーよりなる。この低分子量パ ーフルオロモノマーは、１０時間３４５℃の熱分解によって製造することができ 、更に０．４０のインへレントビスコシティを有するという特性を持つ。

このパーフルオロエラストマーは、コア層の一方又は両方の側にコーティングし てぺ、リクルフィルムを形成させることができる。パーフルオロエラストマーは 、下にある層と相溶性でなく、そして施用後蒸発して均一な無反射層を生じる溶 媒から施用することができる。相溶性でない溶媒は、下にある層をどれも溶解又 は減成しないものである。このような溶媒は、フルオロカーボン、例えばパーフ ルオロトリアルキルアミンよりなるＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ（登録商標）　ＦＣ− ４０Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒ ドロフラン）よりなるＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ　（登録商標）　ＦＣ−７５Ｅｌｅ ｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ及び３００〜１０００の典型的な分子量範囲を持 つ完全フッ素化有機化合物よりなるＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ　（登録商標）　ＦＣ −７７Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄとして３Ｍ　Ｃｏ１１ｌ）ａｎＹか ら市販されているものを包含する。

本発明のコーティングされたペリクルフィルムは、当該技術において既知の方法 、例えば、日本特許出願公開６０−２３７４５０によって得ることができる。

好ましい方法においては、コア層は、コア層形成用材料を溶媒に溶解し、そして ガラス基村上にこの溶液をスピンコーティングすることによって得られる。スピ ンコーティングに適している溶液は、基材をぬらし、基材上均一なコーティング を形成し、そして均一に乾燥するべきである。溶液が回転する基材上にコーティ ングされて後、回転を停止し、コーティングを加熱して溶媒を蒸発させ、そして 均一なコア層を形成させる。この均一なコア層は、基材から持ち上げフレーム上 に単離される。この持ち上げフレームは、スピンコーター上にのせられ、熱分解 フルオロポリマーの適当な溶液をスピンコーティングすることによって無反射コ ーティングがコア層上形成される。フルオロポリマーの適当なスピンコーティン グ用溶液は、コア層と相溶性でない（即ち、コア層を溶解、或いは減成しない） 溶媒にフルオロポリマーを溶解することによって形成される。得られたフルオロ ポリマー溶液は、典型的には０，２ミクロンのアブソリュートフィルターを通し て、好ましくは０．１ミクロンのアブソリュートフィルターを通して濾過されて 後にコア層上にスピンコーティングされる。コア層の両側に無反射層が望まれる 場合には、持ち上げフレームを上げてスピンコーターから離し、１８０°回転さ せてコア層の反対側を露出させ、スピンコーター上に再びのせる。次にコア層の 反対側を上述した方式でフルオロポリマー溶液でコーティングされる。

無反射層の最適の厚さは、無反射層材料の屈折率及び使用されるエネルギーの波 長によって変る。例えば、層の屈折率が施用される基材のそれより小さく、そし てこの層が適当な厚さのものである場合には、単一の透明層が表面反射を減少さ せる。層材料の屈折率が基材のそれの平方根に丁度等しい場合には、屈折率×厚 さの積が波長の１７４に等しい波長について光の表面反射が全部なくなる。他の 波長においては、無反射層の上面及び下面から反射される光の間の破壊干渉は完 全ではない：しかじ、それにも拘らず、全反射の減少がある。

コーティングされたコア層及びそれが付けられている持ち上げフレームをスピン コーターから取り出し、加熱して溶媒を蒸発させる。次に得られたフィルムは、 適当な接着剤によって閉じられた支持フレームに適当に接着され、支持フレーム を横切ってぴんと張って拡げられる。

支持フレームは持ち上げフレームより小さい。接着されたフィルムと反対の支持 フレームの側は、マスクの面にしっかり締められ、ペリクルフィルムは、マスク の面上のパターンの上に懸垂される。コア層の片側のみがその上に無反射層を有 する場合には、無反射層がない側は、支持フレームに接着されていることが好ま しい。ペリクルフィルムの両側が無反射層を有する場合には、いずれか一方の側 が支持フレームに接着されていてよい。

のり又は接着剤がコア層に対する溶媒を含有しないかぎり、常用ののり及び接着 剤を使用してフレームにフィルムを接着させてよい。別法として、ヒートブレス ラミネーションによってフレームにフィルムを接着させてよい。好ましくは、液 体のＵＶ硬化性（即ち、紫外線に露光すると硬化性）の接着剤、例えばＮｏｒｌ ａｎｄ　０ｐｔｉｃａｌＡｄｈｅｓｉｖｅｓ　６８及び８１としてＮｏｒｌａｎ ｄ　Ｐｒｏｄｕｃｔｓから市販されているもの。

本発明の閉じられた支持フレームは、ペリクルフィルムがマスク又はレチクルの 作業面に接触せず、又フレームがそれを妨害しないようにフォトフィルム又はレ チクルに付けるのに適しているいずれの形状及び大きさであってよい。典型的に は、支持フレームは１〜６インチの直径を持つ円形、又は１〜６インチの辺を持 つ正方形である。支持フレームの材２料は、高い強度、低いダストを吸引する傾 向及び軽い重量を持つべきである。硬質プラスチックス、並びに金属、例えばア ルミニウム及びアルミニウム合金はすべて支持フレーム用に使用することができ る。アルミニウム合金、特に切削仕上陽極酸化アルミニウムは特に満足されるこ とが見出されており、したがって好ましい。

本発明は図面を参照すると更に充分理解され、図面中間１はペリクルつきマスク を例示する。マスク３は透明であり、典型的には、シリカから構成される。この パターンは支持フレーム２によって囲まれ、ペリクルフィルム１によってカバー されている。ペリクルフィルム１は、図２に更に詳細に示され、両側に無反射層 １１を有するコア層ｌＯよりなる。本発明の他の実施態様が図２Ａ及び２Ｂに示 される。図２Ａにおいては、無反射層１１がコアの上側にのみあり、一方図２Ｂ においては無反射層１１がコアの下側にのみある。集積回路を得るために、ペリ クルフィルムの上に光源からフィルム、パターン及びマスクを通してフォトレジ ストコーティングされたウェーッア上に放射エネルギーが投射される。

本発明においてコアペリクルフィルムをコーティングするのに使用されるパーフ ルオロポリマーは、ペリクル無反射層に特に望ましい特性を示す。この特性は、 広い範囲の波長の光の低い吸収及び分散、サギングを減少させる低い水の吸収、 くり返される露出が可能となる大きい持続性、低い屈折率、粒子物の付着を減少 させる低い表面エネルギー及び溶媒及び洗浄剤に対する良好な化学的抵抗性を含 む。その外、これらのパーフルオロポリマーは、ペリクル構築に典型的に使用さ れるコアフィルムに顕著な接着を示し、そして同様にペリクル組立物に使用され る接着剤と相溶性である。

前述した考察及び次の実施例は、コア層及びその一方又は両方の面上パーフルオ ロポリマー無反射層のみを有する薄い光学フィルムに主に指向されているが、本 発明はこれに限定されない。当業者は、追加の層、例えば静電防止層及び共働す る無反射層も本発明の薄い光学フィルムの一部分とすることができることを認め るであろう。

常法、例えばスピン−コーティングを使用して追加の層を有するこれらのフィル ムを得ることができる。

本発明は、次の特定の実施例によって更に例示される。

実施例中別示しないかぎり部及び百分率は重量による。

これらの実施例においては、放出された■Ｆは次の操作によって測定された。

同じ材料を切って小片（試料がフィルムである場合には約１ｃｍ平方）とし、約 １ｇの量をはかって円筒形石英試験炉の試料ホルダー中に入れる。次に試料を２ ００℃の炉の中に入れ、密封し、そして２８０ｍｎ／分で窒素で置換する。試料 から放出されたガスを窒素ガスと共に直列に接続されている２つのインビンジャ ー中に運ぶ。インビンジャーの各々は０．ＩＮ水性水酸化ナトリウム及びフルオ ライド特定イオン測定において普通使用される型の全イオン強度調節用緩衝液（ ９４−０９−１１として０ｒｉｏｎから市販されているクロライド／アセテート アンモニウム塩）を含有している。試料から放出されたフッ化水素は、フッ化ナ トリウムとしてインピンジャー中捕集される。３０分間窒素で置換して後、これ ら溶液をインビンジャーからポリエチレンびん中に移す。各溶液中フルオライド 濃度は、適当に校正された特定フルオライドイオン電極を使用して試料溶液から 直接求められる。３００℃の炉温度において他の１ポリマー試料についてこの操 作を（り返す。ｐＨ／ｍｌとして報告されるフルオライド濃度は、試料及び炉温 度設定あたり２つのインビンジャーについて測定された濃度の合計である。これ を使用してｐｐ曽として表わされるフルオライドの量を計算する。

実施例 実施例　Ｉ Ｂｒｅａｚｅａｌｅ、米国特許４．２８１．０９２に記載されている一般反応条 件下に、５５．５％のＴＦＥ、　４２．６％（７）　ＤｌｌＶＥ及ヒ１．９％１ ７）パーフルオロ−（８−シアノ−５−メチル−３，６−シオキサー１−オクテ ン）のランダム共重合によってコポリマーを製造した。初めのコポリマーは、３ ０℃において０．５７のインへレントビスコシティを有していた。

このコポリマーを空気中３４５℃において１０時間熱分解した。得られた熱分解 ポリマーのインへレントビスコシティは３０℃において０．４０であった。この 熱分解ポリマーを、ＴＧ＾／ＩＲ及び放出ＨＦ法（上述）によって色形成性不純 物について試料し、色形成性不純物８８ｐｐｍを有することを見出した。このポ リマーは、硬化エラストマーに満足される橋かけを可能にするのに十分なキュア サイトを有していた。又、この熱分解ポリマーはウォータークリアーであり、Ｆ ｌｕｏｒｉｎｅｒｔ　ＦＣ−４０Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄに可溶で あった。

実施例　２ Ｐａｔｔｉｓｏｎ１米国特許３．４６７、６３８に記載されている一般反応条件 下１ｍ、５２．４％　ノＴＦＥ、　４４％ノＰＭＶＥ及び１．８％ツバ−フルオ ロ−（２−フェノキシ−プロビルビニル）ニーチル（Ｐ２ＰＰＶＥ）のランダム 共重合によってコポリマーを製造した。始めのコポリマーは３０℃において０． ６５のインへレントビスコシティを有していた。このコポリマーを空気炉中３２ ０℃において１０時間熱分解した。熱分解ポリマーを前のとおり試験し、３０℃ において０．４５のインへレントビスコシティを有することを見出した。このポ リマーは、硬化エラストマーに満足される橋かけを可能とするのに十分なキュア サイトを有していた。

実施例　３ ＾ｐｏｔｈｅｋｅｒ、米国特許４．０３５．５６５に記載された一般反応条件下 １．：、５５％　＋７１　ＴＦＥ１４３．２％　（７）　ＰＭＶＥ及び１．８％ （７）４−ブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブテン（ＢＴＦＢ）のラン ダム共重合によってコポリマーを製造した。初めのコポリマーは３０℃において ０．５４のインへレントビスコシティを有していた。このコポリマーを空気炉中 ３２０℃において１０時間熱分解した。熱分解ポリマーを前のとおり試験し、３ ０℃において０．３８のインへレントビスコシティを有することを見出した。こ のポリマーは、硬化エラストマーに満足される橋かけを可能にするのに十分なキ ュアサイトを有していた。

実施例　４ ガラス基村上にスピンコーティングし、持ち上げ、次に焼成して溶媒を蒸発させ たニトロセルロース溶液からコアフィルムを製造した。得られた均一な厚さ２． ８５ミクロンのニトロセルロースは、３００〜８００ナノメートルの波長の入射 光の約８２％〜約９９％を透過した。３５０〜４５０ナノメートルの波長におい ては、このフィルムにより透過される入射光の量は、約８５％〜９０％まで変動 した。

実施例１からの熱分解ポリマーをＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ　（登録商標）　ＦＣ− ４０Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄに溶解しテ１．５重量％ノ溶液を得た 。この溶液を０．２ミクロンのアブソルートフィルターを通して濾過し、ニトロ セルロースフィルム上ニスピン−コーティングした。ニトロセルロース層の第一 の側をこの溶液でコーティングし、ポリマーコーティングされたニトロセルロー スフィルムに持ち上げフレームを付けた。このフィルムを基材から持ち上げ、そ してニトロセルロース層の反対側を持ち上げフレームを１８０°回転し、そして スピンコーティング過程をくり返すことによってコーティングした。焼結ポリマ ー溶液で両側にコーティングされたニトロセルロースを加熱して溶媒を除去した 。得られたフィルムは、３５０〜４５０ナノメートルの波長において９７％を超 える入射光を透過した。標準的光学接着剤でアルミニウム支持フレームに接着さ れたとき、フィルムとフレームとの間の密封は、ｌ／４インチの距離で３０秒間 当てて、試験に使用された３０ｐｓｉの空気流によく耐えた。

要　約　書 低分子量及び色形成性不純物を含まないことを特徴とするパーフルオロエラスト マーが熱分解法によって製造することができ、ペリクルのコーティングその他の 光学応用において有用である。

手続補正書 平成５年５月２ｚ日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．テトラフルオロエチレン及びパーフルオロ（アルキルビニル）エーテル及び 少なくとも１種のキュアサイトモノマーから製造されるパーフルオロエラストマ ーであって、約０．３〜０．５のインヘレントビスコシティを特徴とする分子量 を有し、約２００ｐｐｍ未満の色形成性不純物を含有し、そしてキュアサイトモ ノマーとして計算して、少なくとも約０．２５重量％のキュアサイトを有するパ ーフルオロエラストマー。 ２．約１００ｐｐｍ未満の色形成性不純物を含有する請求項１のパーフルオロエ ラストマー。 ３．色形成性不純物がフッ化水素、二酸化炭素及び一酸化炭素のうち少なくとも １つを分解時に放出するものから選択される請求項１のパーフルオロエラストマ ー。 ４．キュアサイトモノマーが本質的にパーフルオロ−（８−シアノ−５−メチル −３，６−ジオキサ−１−オクテン）よりなる請求項１のパーフルオロエラスト マー。 ５．キュアサイトモノマーとして、少なくとも約０．５重量％のキュアサイトを 有する請求項１のパーフルオロエラストマー。 ６．テトラフルオロエチレン、少なくとも１種のパーフルオロ（アルキルビニル ）エーテル及び少なくとも１種のキュアサイトモノマーをランダム共重合させ、 そして得られたコポリマーを約３２０〜３５０℃の温度において約１０〜１４時 間熱分解させることによるパーフルオロエラストマーの製法。 ７．コポリマーが少なくとも約３３０℃の温度において熱分解される請求項６の 方法。 ８．コポリマーが少なくとも約３４０℃の温度において熱分解される請求項７の 方法。 ９．キュアサイトモノマーとして計算して、少なくとも約０．２５重量％のキュ アサイトが熱分解後のコポリマー中に存在する請求項６の方法。 １０．キュアサイトモノマーとして計算して、少なくとも約０．５重量％のキュ アサイトが熱分解後のコポリマー中に存在する請求項９の方法。 １１．閉じられた支持フレームの１つのエッジにびんと張って接着されている薄 い光学フィルムよりなり、該フィルムが約１．３４２〜１．８０の屈折率及び約 ０．３〜２０ミクロンの厚さを有するコア層よりなるペリクルであって、このフ ィルムが更に、テトラフルオロエチレン及びパーフルオロ（アルキルビニル）エ ーテル及び少なくとも１種のキュアサイトモノマーから製造され、約０．３〜０ ．５のインヘレントビスコシティを特徴とする分子量を有し、そして約２００ｐ ｐｍ未満の色形成性不純物を有するパーフルオロエラストマーよりなる少なくと も１つの無反射層よりなる改良ペリクル。 １２．キュアサイトモノマーがビニリデンフルオライド、パーフルオロ−（８− シアノ−５−メチル−３，６−ジオキサ−１−オクテン）、ブロモテトラフルオ ロブテン又はパーフルオロ（２−フェノキシプロピルビニルエーテル）よりなる 群から選択される請求項１１のペリクル。 １３．コア層ポリマーがポリカーボネート、ポリアタリレート、ポリビニルブチ レート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン及びセルロース誘導体よりな る群から選択される請求項１２のペリクル。 １４．コア層が本質的にニトロセルロースよりなる請求項１３のペリクル。 １５．フィルムが９７％を超える３５０ナノメートル〜４５０ナノメートルの帯 域の入射光を透過する請求項１４のペリクル。 １６．フィルムがコア層及びコア層の両側上の無反射層よりなる請求項１１のペ リクル。 １７．フィルムがコア層及びコア層の両側上の無反射層よりなる請求項１１のペ リクル。 １８．低分子量パーフルオロポリマーがテトラフルオロエチレン、パーフルオロ （メチルビニル）エーテル及びパーフルオロ−（８−シアノ−５−メチル−３， ６−ジオキサ−１−オクテン）キュアサイトのランダム共重合ユニットよりなる 請求項１２のペリクル。 １９．パーフルオロポリマーのインヘレントビスコシティが０．４０である請求 項１８のペリクル。