JPH034513A - 半導体基板 - Google Patents

半導体基板

Info

Publication number
JPH034513A
JPH034513A JP14049289A JP14049289A JPH034513A JP H034513 A JPH034513 A JP H034513A JP 14049289 A JP14049289 A JP 14049289A JP 14049289 A JP14049289 A JP 14049289A JP H034513 A JPH034513 A JP H034513A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
substrate
semiconductor substrate
small hole
round shape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14049289A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Naraoka
浩喜 楢岡
Toshitaka Hozuki
保月 敏孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP14049289A priority Critical patent/JPH034513A/ja
Publication of JPH034513A publication Critical patent/JPH034513A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置の製造における半導体基板に関する
ものである。
従来の技術 近年、半導体産業の急速な発展に伴い、半導体製品にお
いて、高集積化、高密度化が要求され、それに伴い信頼
性、歩留りの問題が大きく取り上げられている。
第2図の通り従来技術では半導体製品の製造時、半導体
基板上に半導体製品をその製造プロセスに伴い、パター
ン形成する際、上下左右の位置確認のために、完円形の
半導体基板11の周辺部を切りとり端部(以下オリフラ
と称す)12を設け、これを、赤外線等を利用したセン
サーで検出する方式が利用されてきた。
本発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の方式では半導体基板が完円形
でないために、半導体製品製造時の製造プロセスの中で
ドライエツチング時の負荷効果によりエラキングの均一
性の問題、半導体基板を水平にしてベルト搬送する際の
確実性等に問題があった。
本発明は上記従来の方式では問題のあった半導体基板の
加工時の均一性、搬送時の安定性を確保し、信頼性が高
(、高歩留りの半導体製品を製造することのできる半導
体基板を提供するものである。
課題を解決するための手段 この目的を達成するために本発明の半導体基板は、完円
形のままで半導体基板上にパターン形成した半導体製品
の上下左右の位置確認ができるように、完円形の半導体
基板の外周部付近に小穴を有している。
作用 この構成によって、半導体基板の加工時の均一性、搬送
時の安定性が確保される。
実施例 以下、本発明の一実施例について説明する。第1図に示
す通り、完円形の半導体基板■の外周部付近に直径II
IIIl程度のノIX穴■を設け、半導体製品の上下左
右の位置確認が赤外線等のセンサーでできるようにして
いる。
以上の本実施例によれば、半導体基板が完円形のままで
加工や搬送ができるため、均一性や確実性が向上し、半
導体製品の信頼性向上や歩留り向上を実現できる。
なお、半導体基板の外周部付近に設けた小穴はどんな形
状や大きさでもかまわないし、センサーで検知可能であ
れば、小穴でなく刻印であっても半導体基板が完円形で
ある条件を満たしていればかまわない。
又、小穴検知用のセンサーは赤外線のほかどんな方式で
あってもかまわない。
発明の効果 以上に述べた通り、本発明によれば、完円形の半導体基
板上を利用して、その上と形成した半導体製品の上下左
右の位置決めを行うことにより、加工時により均一な、
搬送時により安定な半導体製品の製造が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す平面図、第2図は従来
例を示す平面図である。 ■・・・・・・半導体基板、2・・・・・・小穴。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 完円形の半導体基板の外周部付近に、位置を確認できる
    小穴または刻印を設けたことを特徴とする半導体基板。
JP14049289A 1989-06-01 1989-06-01 半導体基板 Pending JPH034513A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14049289A JPH034513A (ja) 1989-06-01 1989-06-01 半導体基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14049289A JPH034513A (ja) 1989-06-01 1989-06-01 半導体基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH034513A true JPH034513A (ja) 1991-01-10

Family

ID=15269881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14049289A Pending JPH034513A (ja) 1989-06-01 1989-06-01 半導体基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH034513A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012127758A1 (ja) 2011-03-18 2012-09-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012127758A1 (ja) 2011-03-18 2012-09-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102301445B (zh) 通过蚀刻来制造元件的方法
TW201407713A (zh) 基板保持環握持機構
JPH034513A (ja) 半導体基板
JPH06302925A (ja) 基板とそれに用いるアライメントマーク
JPS5823430A (ja) 半導体ウエハ−ス
JPH0513570A (ja) 半導体装置の製造方法
US11440310B2 (en) Method for producing a substrate adapter and substrate adapter for connecting to an electronic component
JP2018129317A (ja) サセプタ
JP2879842B2 (ja) チップ部品用基板材のブレイク方法
KR102192773B1 (ko) 웨이퍼 이송장치
TWM611761U (zh) 微精密承載載具
WO2020253215A1 (zh) 硅片吸附装置及激光退火设备
JP2006253387A (ja) 外周研削装置及び貼り合わせ基板の研削方法
JPH02186619A (ja) 半導体結晶ウェーハ
JPH01107543A (ja) 試料サセプタ
JP2000201000A (ja) 回路基板の位置決め方法及び回路基板
JPH0313448Y2 (ja)
JP2009051510A (ja) レンズ搬送容器
JPS63276506A (ja) 電気部品搭載用基板の形成装置
TWI626173B (zh) 裝飾件及其製作方法
CN204174274U (zh) 一种用于检测镀源污染的镀膜装置
JPH03256314A (ja) 半導体ウエハー
JP6137041B2 (ja) 表面に膜を有する部材を製造する方法
JPH04369894A (ja) セラミック基板加工用治具
JPH02241049A (ja) セラミック基板