JPH0351307B2 - - Google Patents
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- JPH0351307B2 JPH0351307B2 JP60107827A JP10782785A JPH0351307B2 JP H0351307 B2 JPH0351307 B2 JP H0351307B2 JP 60107827 A JP60107827 A JP 60107827A JP 10782785 A JP10782785 A JP 10782785A JP H0351307 B2 JPH0351307 B2 JP H0351307B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- output
- circuit
- pad
- normal
- monitor element
- Prior art date
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2884—Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
モニタ素子を各半導体集積回路に備えておき、
モニタ素子の測定用端子をトランスフアーゲート
を介して集積回路の入/出力用パツドに接続せし
め、モニタ時に、通常の動作モードに必要な入/
出力用のトランジスタはOFFにし、トランスフ
アーゲートをONすることにより、通常の入/出
力パツドを利用してモニタ素子の測定を可能とす
る。
モニタ素子の測定用端子をトランスフアーゲート
を介して集積回路の入/出力用パツドに接続せし
め、モニタ時に、通常の動作モードに必要な入/
出力用のトランジスタはOFFにし、トランスフ
アーゲートをONすることにより、通常の入/出
力パツドを利用してモニタ素子の測定を可能とす
る。
本発明は半導体装置の構造に係り、特に半導体
集積回路チツプにモニタ素子を設けた構造に関す
る。
集積回路チツプにモニタ素子を設けた構造に関す
る。
半導体集積回路(IC)の測定、検査をプロセ
ス的な見方をすれば、ウエハ状態での測定と製品
状態での測定に大別できる。ウエハ状態での測定
では、ウエハプローーパというハンドリング装置
が使用され、試験装置(ICテスタ)と連動して
プロービング、測定、不良チツプのマーキング、
ウエハの自動送り等、一連の作業を行なう。その
際、フローピング及び測定はボンデイング用のパ
ツドで行なわれる。
ス的な見方をすれば、ウエハ状態での測定と製品
状態での測定に大別できる。ウエハ状態での測定
では、ウエハプローーパというハンドリング装置
が使用され、試験装置(ICテスタ)と連動して
プロービング、測定、不良チツプのマーキング、
ウエハの自動送り等、一連の作業を行なう。その
際、フローピング及び測定はボンデイング用のパ
ツドで行なわれる。
一方、ICチツプの一部或いは、ウエハの適当
な場所に、モニタ用のトランジスタや抵抗等の素
子を形成しておき、これを測定してプロセス・パ
ラメータのチエツク或いは評価等がなされてい
る。
な場所に、モニタ用のトランジスタや抵抗等の素
子を形成しておき、これを測定してプロセス・パ
ラメータのチエツク或いは評価等がなされてい
る。
モニタ素子を設けるのに、ウエハ内の各集積回
路毎にモニタ素子を配するのが最も望ましい。と
ころがその場合、一般にボンデイング用パツドに
空きがないことが多く、モニタ用に専用の測定パ
ツドを設けなければならない。このモニタ用の専
用パツドは、空きスペースに形成する関係で通常
のボンデイングパツドより小さくなり、通常のプ
ロービングを行なうことができず、特別なプロー
ビングが必要になる。
路毎にモニタ素子を配するのが最も望ましい。と
ころがその場合、一般にボンデイング用パツドに
空きがないことが多く、モニタ用に専用の測定パ
ツドを設けなければならない。このモニタ用の専
用パツドは、空きスペースに形成する関係で通常
のボンデイングパツドより小さくなり、通常のプ
ロービングを行なうことができず、特別なプロー
ビングが必要になる。
従来、ICの中にモニタ素子を形成した場合、
専用のモニタ用のパツドを用いなければならない
関係で、特別なプロービングを行なう必要があ
り、面倒であり、又パツケージング後においては
測定不能であるという欠点があつた。
専用のモニタ用のパツドを用いなければならない
関係で、特別なプロービングを行なう必要があ
り、面倒であり、又パツケージング後においては
測定不能であるという欠点があつた。
本発明においては、モニタ素子の測定用端子を
トランスフアーゲートを介して集積回路の入/出
力パツドに接続し、モニタ時には、通常の動作時
に必要な出力用のトランジスタはOFFにし、ト
ランスフアーゲートをONとすることによつて
入/出力パツドにモニタ素子を接続するようにし
て、入/出力パツドを利用してモニタ素子の測定
を行なう。
トランスフアーゲートを介して集積回路の入/出
力パツドに接続し、モニタ時には、通常の動作時
に必要な出力用のトランジスタはOFFにし、ト
ランスフアーゲートをONとすることによつて
入/出力パツドにモニタ素子を接続するようにし
て、入/出力パツドを利用してモニタ素子の測定
を行なう。
モニタ素子測定モードに入るには、デバイスの
入/出力端子に通常とは異なる信号(高電圧印加
等)を与えることにより行なうことができ、通常
の機能試験を行なうテスタで同時にモニタ測定が
できる。
入/出力端子に通常とは異なる信号(高電圧印加
等)を与えることにより行なうことができ、通常
の機能試験を行なうテスタで同時にモニタ測定が
できる。
第1図A,Bは本発明の実施例の構成図であ
り、1は高位の電源(VCC)端子(パツド)、2
は低位の電源(VSS)が端子(パツド)であり、
4が出力端子である。また6は集積回路の通常モ
ードの動作回路(通常回路)、5はモニタ素子測
定モードのコントロール回路である(第1図A参
照)。該回路5及び6には高位及び低位の電源
VCC及びVSSが接続され、通常モードの動作回路
6の出力b,cが出力ドライバ回路のトランジス
タTb,Tcのゲートにそれぞれ接続しており、出
力ドライバ回路の出力ノードが出力パツド4に接
続している(第1図B参照)。
り、1は高位の電源(VCC)端子(パツド)、2
は低位の電源(VSS)が端子(パツド)であり、
4が出力端子である。また6は集積回路の通常モ
ードの動作回路(通常回路)、5はモニタ素子測
定モードのコントロール回路である(第1図A参
照)。該回路5及び6には高位及び低位の電源
VCC及びVSSが接続され、通常モードの動作回路
6の出力b,cが出力ドライバ回路のトランジス
タTb,Tcのゲートにそれぞれ接続しており、出
力ドライバ回路の出力ノードが出力パツド4に接
続している(第1図B参照)。
一方、この出力パツドにはトランスフアーゲー
トのトランジスタTaを介してモニタ素子が接続
しており、そのゲートにはコントロール回路5の
制御信号S3が入力するようになつており、該コン
トロール回路は適当な入/出力パツド3から制御
入力S1が与えられ、コントロール回路の第2の制
御出力S2は通常回路6に供給されるようになつて
いる。
トのトランジスタTaを介してモニタ素子が接続
しており、そのゲートにはコントロール回路5の
制御信号S3が入力するようになつており、該コン
トロール回路は適当な入/出力パツド3から制御
入力S1が与えられ、コントロール回路の第2の制
御出力S2は通常回路6に供給されるようになつて
いる。
通常動作において、パツド3に制御入力S1は印
加されずコントロール回路5は不活性になされて
おり、その第1、第2の制御出力S2,S3は出力さ
れない(例えば“L”レベル)。したがつて、通
常回路6は出力信号を出力のドライバ回路に供給
し、その出力がパツド4に現われている。このと
き、パツド4に接続するトランスフアーゲートの
トランジスタTaはOFFである。
加されずコントロール回路5は不活性になされて
おり、その第1、第2の制御出力S2,S3は出力さ
れない(例えば“L”レベル)。したがつて、通
常回路6は出力信号を出力のドライバ回路に供給
し、その出力がパツド4に現われている。このと
き、パツド4に接続するトランスフアーゲートの
トランジスタTaはOFFである。
一方、モニタ素子測定モードにおいては、パツ
ド3に通常とは異なる信号S1(例えばVCCより高
い電圧等)を印加し、コントロール回路5はこれ
に応答して活性化し、通常回路6に動作抑止信号
S2を与え、またトランスフアーゲートTaのゲー
トに制御信号S3を与える。動作抑止信号S2が与え
られると通常回路6の出力は出力ドライバ回路の
Tb,Tcを共にOFFとなし、(例えばb,cとも
“L”レベルになる)通常回路6をパツド4と切
離す。一方、トランスフアーゲートのトランジス
タTaは制御信号S3の入力によつて導通し、モニ
タ素子をパツド4に接続する。
ド3に通常とは異なる信号S1(例えばVCCより高
い電圧等)を印加し、コントロール回路5はこれ
に応答して活性化し、通常回路6に動作抑止信号
S2を与え、またトランスフアーゲートTaのゲー
トに制御信号S3を与える。動作抑止信号S2が与え
られると通常回路6の出力は出力ドライバ回路の
Tb,Tcを共にOFFとなし、(例えばb,cとも
“L”レベルになる)通常回路6をパツド4と切
離す。一方、トランスフアーゲートのトランジス
タTaは制御信号S3の入力によつて導通し、モニ
タ素子をパツド4に接続する。
以上の結果、通常のIC試験におけるプロービ
ングでパツド4を介してモニタ素子の測定が可能
になる。
ングでパツド4を介してモニタ素子の測定が可能
になる。
第2図A,Bには、本発明の実施例の具体的回
路例が示してあり、第1図A,Bと対応部分には
同一符号で指示している。
路例が示してあり、第1図A,Bと対応部分には
同一符号で指示している。
コントロール回路5は2段のE−D MOSイ
ンバータを有し、nチヤネルMOSトランジスタ
T1、デイプレツシヨンMOSトランジスタT2及び
nチヤネルMOSトランジスタT3、デイプレツシ
ヨンMOSトランジスタT4で構成され、エンハン
スメント型のMOSトランジスタT1の閾値Vthは
通常の駆動電圧では動作しないように高く形成し
てある。したがつて、通常の集積回路の動作モー
ドにおいては、T1はOFFで初段のインバータ出
力は“H”、2段目のインバータのT3はONでそ
の出力は“L”であり、制御信号S2,S3は共に
“L”である。
ンバータを有し、nチヤネルMOSトランジスタ
T1、デイプレツシヨンMOSトランジスタT2及び
nチヤネルMOSトランジスタT3、デイプレツシ
ヨンMOSトランジスタT4で構成され、エンハン
スメント型のMOSトランジスタT1の閾値Vthは
通常の駆動電圧では動作しないように高く形成し
てある。したがつて、通常の集積回路の動作モー
ドにおいては、T1はOFFで初段のインバータ出
力は“H”、2段目のインバータのT3はONでそ
の出力は“L”であり、制御信号S2,S3は共に
“L”である。
通常回路6の一部の差動出力信号b,cを出力
する3段のEDMOSインバータが示してあり、
T6,T8,T10はデイプレツシヨン型MOSトラン
ジスタ、T5,T7,T9はエンハンスメント型MOS
トランジスタであり、出力bのインバータの出力
ノードはnチヤネルエンハンスメント型MOSト
ランジスタT11を介して低位のVSSに落とすよう
になつており、出力cのインバータの出力ノード
はnチヤネルエンハンスメント型MOSトランジ
スタT12を介して低位のVSSに落とすように構成
し、T11,T12のゲートには、前記コントロール
回路5の制御出力信号S2が印加されるようになつ
ている。
する3段のEDMOSインバータが示してあり、
T6,T8,T10はデイプレツシヨン型MOSトラン
ジスタ、T5,T7,T9はエンハンスメント型MOS
トランジスタであり、出力bのインバータの出力
ノードはnチヤネルエンハンスメント型MOSト
ランジスタT11を介して低位のVSSに落とすよう
になつており、出力cのインバータの出力ノード
はnチヤネルエンハンスメント型MOSトランジ
スタT12を介して低位のVSSに落とすように構成
し、T11,T12のゲートには、前記コントロール
回路5の制御出力信号S2が印加されるようになつ
ている。
差動信号b,cはドライバのnチヤネルエンハ
ンスメント型MOSトランジスタTb,Tcのゲー
トに接続し、そのドライバ出力は通常の入/出力
パツドの1つであるパツド4に接続している。ま
た、パツド4には、コントロール回路5の制御出
力信号S3でゲートされるトランスフアーゲートの
nチヤネルMOSトランジスタTaを介してモニタ
素子が接続されている。
ンスメント型MOSトランジスタTb,Tcのゲー
トに接続し、そのドライバ出力は通常の入/出力
パツドの1つであるパツド4に接続している。ま
た、パツド4には、コントロール回路5の制御出
力信号S3でゲートされるトランスフアーゲートの
nチヤネルMOSトランジスタTaを介してモニタ
素子が接続されている。
モニタ素子は第2図Bに示すようなトランジス
タTM或いは抵抗RM等である。
タTM或いは抵抗RM等である。
以上の回路の動作は先に第1図について説明し
たものと同じであつて、通常の集積回路の使用時
に、パツド3に加わる電圧は高閾値のトランジス
タT1の閾値(Vth)より低いから、T1はOFFで
あつて、コントロール回路5の制御出力S2,S3は
共に“L”であり、通常回路のクランプ用のトラ
ンジスタT11,T12はOFFであるから、通常回路
6は、差動出力b,cを出力し、ドライバTb,
Tcを駆動してその出力がパツド4に言われる。
この時モニタ素子は、トランスフアーゲートの
TaがOFFであつてパツド4と切離されている。
たものと同じであつて、通常の集積回路の使用時
に、パツド3に加わる電圧は高閾値のトランジス
タT1の閾値(Vth)より低いから、T1はOFFで
あつて、コントロール回路5の制御出力S2,S3は
共に“L”であり、通常回路のクランプ用のトラ
ンジスタT11,T12はOFFであるから、通常回路
6は、差動出力b,cを出力し、ドライバTb,
Tcを駆動してその出力がパツド4に言われる。
この時モニタ素子は、トランスフアーゲートの
TaがOFFであつてパツド4と切離されている。
一方、モニタ素子測定モードにおいては、パツ
ド3に通常は使用されない高電圧が印加され、高
閾値のトランジスタT1がONしてコントロール回
路が働き、制御出力S2,S3が共に“H”となり、
クランプ用のトランジスタT11,T12がONして出
力b,cを低位の電圧VSSにクランプし、ドライ
バのTb,Tcのゲート入力が共に“L”とな
るから、Tb,Tcが共にOFFになり、通常回路6
がパツド4と切離される。このとき、トランスフ
アーゲートのTaのゲート入力S3が“H”である
から、TaはON状態になり、モニタ素子をパツ
ド4に接続する。そして、通常のICの自動試験
装置によつて、測定が行なわれる。
ド3に通常は使用されない高電圧が印加され、高
閾値のトランジスタT1がONしてコントロール回
路が働き、制御出力S2,S3が共に“H”となり、
クランプ用のトランジスタT11,T12がONして出
力b,cを低位の電圧VSSにクランプし、ドライ
バのTb,Tcのゲート入力が共に“L”とな
るから、Tb,Tcが共にOFFになり、通常回路6
がパツド4と切離される。このとき、トランスフ
アーゲートのTaのゲート入力S3が“H”である
から、TaはON状態になり、モニタ素子をパツ
ド4に接続する。そして、通常のICの自動試験
装置によつて、測定が行なわれる。
本発明によれば次の効果が得られる。
通常の入/出力パツド(ボンデイングパツ
ド)をモニタ素子用に兼用でき、チツプ毎にモ
ニタ素子を作りつける場合においてもパツド数
を増やさなくても良い。
ド)をモニタ素子用に兼用でき、チツプ毎にモ
ニタ素子を作りつける場合においてもパツド数
を増やさなくても良い。
製造ラインに普通に用いられるIC試験装置
による自動測定によつてモニタ素子が測れる。
による自動測定によつてモニタ素子が測れる。
ウエハ段階の一次試験のみならず、パツケー
ジング後の2次試験においてもモニタ素子を測
ることが可能になり、素子の経時使用後におい
て問題が生じた場合等においても、プロセスパ
ラメータのチエツクができる。
ジング後の2次試験においてもモニタ素子を測
ることが可能になり、素子の経時使用後におい
て問題が生じた場合等においても、プロセスパ
ラメータのチエツクができる。
第1図A,Bは本発明の実施例の構成図、第2
図A,Bは本発明の実施例の要部の具体的回路図
である。 主な符号、3……パツド、4……パツド、5…
…コントロール回路、6……通常回路、S1……通
常とは異なる信号(制御入力)、S2,S3……制御
出力信号。
図A,Bは本発明の実施例の要部の具体的回路図
である。 主な符号、3……パツド、4……パツド、5…
…コントロール回路、6……通常回路、S1……通
常とは異なる信号(制御入力)、S2,S3……制御
出力信号。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 モニタ素子を備える半導体集積回路におい
て、半導体集積回路の内部回路が接続された入力
又は出力パツドに、モニタ素子をトランスフアー
ゲートを介して接続するように構成し、 モニタモード指定信号の印加に応じて、前記内
部回路の入力又は出力バツフア回路を高インピー
ダンス状態となすとともに前記トランスフアーゲ
ートを導通する制御信号を発生するコントロール
回路を有することを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107827A JPS61265829A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 半導体集積回路 |
| US06/863,900 US4743841A (en) | 1985-05-20 | 1986-05-16 | Semiconductor integrated circuit including circuit elements evaluating the same and having means for testing the circuit elements |
| EP86303791A EP0202905B1 (en) | 1985-05-20 | 1986-05-19 | Semiconductor integrated circuit (ic) including circuit elements for evaluating the ic and means for testing the circuit elements |
| DE8686303791T DE3686091T2 (de) | 1985-05-20 | 1986-05-19 | Integrierte halbleiterschaltungen mit schaltungselementen zur untersuchung der integrierten schaltungen sowie mittel zum pruefen der schaltungselemente. |
| KR1019860003928A KR900006484B1 (ko) | 1985-05-20 | 1986-05-20 | Ic평가회로 소자와 평가회로 소자 검사수단을 갖는 반도체 집적회로 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107827A JPS61265829A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61265829A JPS61265829A (ja) | 1986-11-25 |
| JPH0351307B2 true JPH0351307B2 (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=14469041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60107827A Granted JPS61265829A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 半導体集積回路 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4743841A (ja) |
| EP (1) | EP0202905B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61265829A (ja) |
| KR (1) | KR900006484B1 (ja) |
| DE (1) | DE3686091T2 (ja) |
Families Citing this family (81)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4970454A (en) * | 1986-12-09 | 1990-11-13 | Texas Instruments Incorporated | Packaged semiconductor device with test circuits for determining fabrication parameters |
| JP2579327B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1997-02-05 | 富士通株式会社 | 半導体集積回路 |
| JPH01238134A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Fujitsu Ltd | エレクトロマイグレーションの評価方法 |
| US4888548A (en) * | 1988-03-31 | 1989-12-19 | Hewlett-Packard Company | Programmatically generated in-circuit test of digital to analog converters |
| US4947106A (en) * | 1988-03-31 | 1990-08-07 | Hewlett-Packard Company | Programmatically generated in-circuit test of analog to digital converters |
| US5153509A (en) * | 1988-05-17 | 1992-10-06 | Zilog, Inc. | System for testing internal nodes in receive and transmit FIFO's |
| JPH0258862A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-28 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
| US6304987B1 (en) | 1995-06-07 | 2001-10-16 | Texas Instruments Incorporated | Integrated test circuit |
| JP2827229B2 (ja) * | 1988-10-14 | 1998-11-25 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路 |
| KR910006241B1 (ko) * | 1988-12-14 | 1991-08-17 | 삼성전자 주식회사 | 복수 테스트모드 선택회로 |
| JP3005250B2 (ja) | 1989-06-30 | 2000-01-31 | テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド | バスモニター集積回路 |
| JPH0389182A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-15 | Sharp Corp | 集積回路装置 |
| US5034687A (en) * | 1989-10-16 | 1991-07-23 | Vlsi Technology, Inc. | Signature indicating circuit |
| US5196787A (en) * | 1989-10-19 | 1993-03-23 | Texas Instruments Incorporated | Test circuit for screening parts |
| US5068599A (en) * | 1989-10-23 | 1991-11-26 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit having an enabling circuit for controlling primary and secondary subcircuits |
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| US5107208A (en) * | 1989-12-19 | 1992-04-21 | North American Philips Corporation | System for partitioning and testing submodule circuits of an integrated circuit |
| JP2556916B2 (ja) * | 1990-01-12 | 1996-11-27 | 三菱電機株式会社 | 故障診断装置 |
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| US5030904A (en) * | 1990-02-13 | 1991-07-09 | Hewlett-Packard Company | Diagnostic system for integrated circuits using existing pads |
| KR920007535B1 (ko) * | 1990-05-23 | 1992-09-05 | 삼성전자 주식회사 | 식별회로를 구비한 반도체 집적회로 칩 |
| US5070296A (en) * | 1990-06-22 | 1991-12-03 | Honeywell Inc. | Integrated circuit interconnections testing |
| US5130645A (en) * | 1990-08-13 | 1992-07-14 | Vlsi Technology, Inc. | Integrated circuit built-in self-test structure |
| JPH0743399B2 (ja) * | 1990-08-15 | 1995-05-15 | 富士通株式会社 | 半導体回路 |
| JP2925287B2 (ja) * | 1990-10-17 | 1999-07-28 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
| JP2653550B2 (ja) * | 1990-11-14 | 1997-09-17 | 三菱電機株式会社 | 固体撮像素子 |
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