JPH0353609B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0353609B2 JPH0353609B2 JP57013774A JP1377482A JPH0353609B2 JP H0353609 B2 JPH0353609 B2 JP H0353609B2 JP 57013774 A JP57013774 A JP 57013774A JP 1377482 A JP1377482 A JP 1377482A JP H0353609 B2 JPH0353609 B2 JP H0353609B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- hole
- subject
- photoelectric
- photocathode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/30—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line
- G02B7/32—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line using active means, e.g. light emitter
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Focusing (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光電変換面を有する光電素子の一部
に透孔を形成し、その裏面側より透孔を通し、さ
らに結像レンズ系を通して被写(検)体に投光
し、被写体からの反射投影像を前記光電変換面に
結像させて、その光量を測定することにより、結
像レンズ系が合焦点にあるか否かの検出手段、あ
るいは被写体の距離測定手段に使用して好適な光
電素子に関する。
に透孔を形成し、その裏面側より透孔を通し、さ
らに結像レンズ系を通して被写(検)体に投光
し、被写体からの反射投影像を前記光電変換面に
結像させて、その光量を測定することにより、結
像レンズ系が合焦点にあるか否かの検出手段、あ
るいは被写体の距離測定手段に使用して好適な光
電素子に関する。
一般に、カメラ、テレビカメラあるいは内視鏡
等の光学機器を用いて、被写体あるいは被検体を
光学的に鮮明に観察あるいは撮影する場合、結像
(撮影)レンズ系を調節して合焦位置に設定しな
ければならないことがしばしばある。この場合結
像レンズ系が合焦位置にあるか否か、つまり被写
体が結像面に鮮明に結像されているか否かを検出
する手段として、光電変換機能を有する光電素子
が広く用いられている。
等の光学機器を用いて、被写体あるいは被検体を
光学的に鮮明に観察あるいは撮影する場合、結像
(撮影)レンズ系を調節して合焦位置に設定しな
ければならないことがしばしばある。この場合結
像レンズ系が合焦位置にあるか否か、つまり被写
体が結像面に鮮明に結像されているか否かを検出
する手段として、光電変換機能を有する光電素子
が広く用いられている。
例えば、特開昭56−128923号公報に開示されて
いるようにスプリツトプリズムを使用する手段に
おいては、少なくとも上下各2個以上の微小な光
電素子を必要とし、一定レベル以上の精度を必要
とする場合には、前記光電素子を多数配設すると
共に、それらの出力信号を比較して合焦点である
か否かを検出する回路系が複雑となり、特に生産
数の少ない製品においては、高価となるという問
題がある。
いるようにスプリツトプリズムを使用する手段に
おいては、少なくとも上下各2個以上の微小な光
電素子を必要とし、一定レベル以上の精度を必要
とする場合には、前記光電素子を多数配設すると
共に、それらの出力信号を比較して合焦点である
か否かを検出する回路系が複雑となり、特に生産
数の少ない製品においては、高価となるという問
題がある。
さらに特開昭56−125713号公報に開示されてい
るように、光源を点滅して被写体に投光し、消灯
区間における出力信号を点灯区間における出力信
号から差し引くことにより、上記光源以外の外光
の影響を軽減し、被写体が暗い場合、及び暗い撮
影光学系の場合においても、合焦か否かを検出で
きる焦点検出装置があるが、構成が複雑となるた
め、この装置を設けた装置が高価になるという問
題がある。
るように、光源を点滅して被写体に投光し、消灯
区間における出力信号を点灯区間における出力信
号から差し引くことにより、上記光源以外の外光
の影響を軽減し、被写体が暗い場合、及び暗い撮
影光学系の場合においても、合焦か否かを検出で
きる焦点検出装置があるが、構成が複雑となるた
め、この装置を設けた装置が高価になるという問
題がある。
このため、本出願人は、先に光電素子にピンホ
ール等の透孔を設け、この透孔を通し、被写体に
投光された反射投影像を前記光電素子に結像さ
せ、その場合の光量を検出することにより、簡単
な構成で、且つ暗い被写体の場合あるいは暗い結
像光学系を用いた場合においても合焦位置(点)
の検出ができる光電素子を提出した。
ール等の透孔を設け、この透孔を通し、被写体に
投光された反射投影像を前記光電素子に結像さ
せ、その場合の光量を検出することにより、簡単
な構成で、且つ暗い被写体の場合あるいは暗い結
像光学系を用いた場合においても合焦位置(点)
の検出ができる光電素子を提出した。
上記光電素子に単にピンホール、スリツト状等
の透孔を設けるには、薄膜状のP型半導体をN型
半導体層に形成あるいは接合して形成した光半導
体等を用い、その表面を化学処理し、エツチング
(浸食)によつて第1図に示すように透孔を形成
する手段が知られている。
の透孔を設けるには、薄膜状のP型半導体をN型
半導体層に形成あるいは接合して形成した光半導
体等を用い、その表面を化学処理し、エツチング
(浸食)によつて第1図に示すように透孔を形成
する手段が知られている。
同図に示すように通常のエツチングによつて形
成される透孔1を有する光電素子2においては、
光電(変換)面2aとなる薄いP(形半導体)層
がエツチング面とされ、P層側における透孔1の
径(あるいは幅)1aがその基部側のN(形半導
体)層3側における透孔1の径(あるいは幅)1
bより大きくなる。この場合の表裏面における透
孔1の径(幅)1a,1bの差は厚さにもよる
が、0.2〔mm〕程度に達する場合がある。このよう
な場合には第2図に示すような合焦点検出に用い
た際、不都合が生じることを以下に説明する。
成される透孔1を有する光電素子2においては、
光電(変換)面2aとなる薄いP(形半導体)層
がエツチング面とされ、P層側における透孔1の
径(あるいは幅)1aがその基部側のN(形半導
体)層3側における透孔1の径(あるいは幅)1
bより大きくなる。この場合の表裏面における透
孔1の径(幅)1a,1bの差は厚さにもよる
が、0.2〔mm〕程度に達する場合がある。このよう
な場合には第2図に示すような合焦点検出に用い
た際、不都合が生じることを以下に説明する。
第2図は、上記光電素子2を用いて合焦点検出
を行う原理を示す。
を行う原理を示す。
同図において、ランプ5で点灯された光は、コ
ンデンサレンズ6で集光されて照明用フアイバ
(もちろん単一のフアイバでも良い)7の一方の
端面に照射され、他方の端面が位置する前記光電
素子2の透孔1を通り、さらにその前方の光軸8
上に配設された結像レンズ(系)9を経て被写体
10に投光される。
ンデンサレンズ6で集光されて照明用フアイバ
(もちろん単一のフアイバでも良い)7の一方の
端面に照射され、他方の端面が位置する前記光電
素子2の透孔1を通り、さらにその前方の光軸8
上に配設された結像レンズ(系)9を経て被写体
10に投光される。
上記光電素子2のPN接合面にはバツテリ11
と抵抗12が直列に接続され、光電面2aに光が
入射されるとその光量に応じてPN接合面の抵抗
値が変化し、この抵抗値の変化に従う電流変化を
前記抵抗12両端の出力端から電圧変化として検
出できるように構成されている。
と抵抗12が直列に接続され、光電面2aに光が
入射されるとその光量に応じてPN接合面の抵抗
値が変化し、この抵抗値の変化に従う電流変化を
前記抵抗12両端の出力端から電圧変化として検
出できるように構成されている。
上記光電素子2の裏面側は、貼着等により遮光
板13に固定され、さらに前記フアイバ7はこの
遮光板13にシール部材14等によつて固定され
ている。
板13に固定され、さらに前記フアイバ7はこの
遮光板13にシール部材14等によつて固定され
ている。
上記のように配設された光学系において、今、
仮りに被写体10が符号bで示す位置の時合焦点
で、それより近すぎたり、それより遠すぎたりし
た場合の位置をそれぞれ符号a,cで示す。
仮りに被写体10が符号bで示す位置の時合焦点
で、それより近すぎたり、それより遠すぎたりし
た場合の位置をそれぞれ符号a,cで示す。
上記の場合には、符号bの位置で反射された光
は、結像レンズ9を経て光電面2aにおける透孔
1の位置が収束点(結像点)となるので、この透
孔1周囲の光電面2aには、光が達しないので、
この場合電流は殆ど流れないので、抵抗12両側
の電圧は略零となる。
は、結像レンズ9を経て光電面2aにおける透孔
1の位置が収束点(結像点)となるので、この透
孔1周囲の光電面2aには、光が達しないので、
この場合電流は殆ど流れないので、抵抗12両側
の電圧は略零となる。
一方、符号aの位置で反射された光は、上記透
孔1の後方位置が収束点となるので、図示のよう
に透孔1外周の光電面2aに光が達し、この光で
照射されたPN接合面に電流が流れ、抵抗12両
端に検出電圧が出力される。同様に符号cの位置
で反射された光は、透孔1の前方位置ですでに収
束点となり、その後拡開するので、光電面2aに
光が達し、抵抗12両端から電圧が出力される。
このように抵抗12両端の出力端の電圧が極小と
なる時が合焦点であることが分る。
孔1の後方位置が収束点となるので、図示のよう
に透孔1外周の光電面2aに光が達し、この光で
照射されたPN接合面に電流が流れ、抵抗12両
端に検出電圧が出力される。同様に符号cの位置
で反射された光は、透孔1の前方位置ですでに収
束点となり、その後拡開するので、光電面2aに
光が達し、抵抗12両端から電圧が出力される。
このように抵抗12両端の出力端の電圧が極小と
なる時が合焦点であることが分る。
しかしながら上記のような形状の光電素子2に
おいては、被写体10が合焦の位置bから、わず
かに後方にずれた位置、つまり符号b′で示す位置
のとき、その結像位置は光電面2aよりわずかに
前方位置で、光電面2aの位置では拡開している
が、透孔1が前方に拡開しているので、光電面2
aに届かない。つまり、合焦点として検出されて
しまうことがある。このことは被写体10が合焦
の位置bからわずかに前方にずれた場合について
も当てはまることである。
おいては、被写体10が合焦の位置bから、わず
かに後方にずれた位置、つまり符号b′で示す位置
のとき、その結像位置は光電面2aよりわずかに
前方位置で、光電面2aの位置では拡開している
が、透孔1が前方に拡開しているので、光電面2
aに届かない。つまり、合焦点として検出されて
しまうことがある。このことは被写体10が合焦
の位置bからわずかに前方にずれた場合について
も当てはまることである。
上述のように従来のようなエツチング処理にお
いては、合光点検出の機能が低下するという不都
合が生じる。上述のことは、結像レンズを合焦点
に設定して距離を測定する場合においても不都合
となるものである。
いては、合光点検出の機能が低下するという不都
合が生じる。上述のことは、結像レンズを合焦点
に設定して距離を測定する場合においても不都合
となるものである。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもの
で、合焦点の検出および被写体の路離測定を高精
度に行うことができ、しかも照明光が通過する際
に直接光電流が流れてしまうことがなく、被写体
の反射光による光量測定が正確に行うことができ
るようにした光電素子を提供することを目的とす
る。
で、合焦点の検出および被写体の路離測定を高精
度に行うことができ、しかも照明光が通過する際
に直接光電流が流れてしまうことがなく、被写体
の反射光による光量測定が正確に行うことができ
るようにした光電素子を提供することを目的とす
る。
前記目的を達成するため本発明による光電素子
は、光電変換面の一方の面に設けた光電素子に透
孔を形成し、この透孔及び結像レンズ系を通して
被検体に投光し、該被検体による反対投影像を前
記光電変換面に結像することによつて光量を測定
して被検体に対する結像レンズ系の焦点位置又は
被検体の距離を測定する手段に用いられる光電素
子において、前記透孔は光電変換面側における径
又は幅がその裏面側におけるものより小さい形状
又は等しい形状に形成し、前記透孔の内壁に裏面
層となる半導体層と同質層として光電変化を生じ
させない層を設けている。
は、光電変換面の一方の面に設けた光電素子に透
孔を形成し、この透孔及び結像レンズ系を通して
被検体に投光し、該被検体による反対投影像を前
記光電変換面に結像することによつて光量を測定
して被検体に対する結像レンズ系の焦点位置又は
被検体の距離を測定する手段に用いられる光電素
子において、前記透孔は光電変換面側における径
又は幅がその裏面側におけるものより小さい形状
又は等しい形状に形成し、前記透孔の内壁に裏面
層となる半導体層と同質層として光電変化を生じ
させない層を設けている。
以下、図面を参照して本発明の実施例を具体的
に説明する。
に説明する。
第3図は、本発明の第1実施例における光電素
子を用いた場合においる合焦点検出のための光量
測定手段を示す。
子を用いた場合においる合焦点検出のための光量
測定手段を示す。
第2図に比べ、第3図における光電素子21の
透孔22は、光電面23における径(あるいは
幅)22aが裏面側における径(あるいは幅)2
2bより小さく形成されている点が特徴となつて
いる。つまりこの場合エツチングされる面が光電
面23側でなく、裏面側のN層24側となつてい
る。この他の部分は、第2図と略同一構成にされ
ている。
透孔22は、光電面23における径(あるいは
幅)22aが裏面側における径(あるいは幅)2
2bより小さく形成されている点が特徴となつて
いる。つまりこの場合エツチングされる面が光電
面23側でなく、裏面側のN層24側となつてい
る。この他の部分は、第2図と略同一構成にされ
ている。
上記光電面23側における透孔22の径(ある
いは幅)22aの大きさは、照明用フアイバ7の
他方の出射端の径(あるいは幅)と略等しくなる
ように形成されている。前記透孔22が形成され
た光電素子21においては、照明光が直接光電面
23(を形成するP層)に達しないように、透孔
22の前端における周壁面はN層24で薄く覆わ
れている。
いは幅)22aの大きさは、照明用フアイバ7の
他方の出射端の径(あるいは幅)と略等しくなる
ように形成されている。前記透孔22が形成され
た光電素子21においては、照明光が直接光電面
23(を形成するP層)に達しないように、透孔
22の前端における周壁面はN層24で薄く覆わ
れている。
尚、符号25は、不要な反射光が入射されない
ようにするための遮光板である。
ようにするための遮光板である。
このように構成された第1実施例における光電
素子21による合焦点検出用の光量測定手段にお
けては、合焦点を精度良く検出できることを以下
に説明する。
素子21による合焦点検出用の光量測定手段にお
けては、合焦点を精度良く検出できることを以下
に説明する。
前述と同様に、被写体10が符号bで示す位置
の時、結像レンズ9が合焦となすとし、この符号
bの位置よりわずかに後方位置にある被写体10
の位置を符号b′で示す。符号bで示す位置から反
射された(細い実線で示す)光が結像される位置
は、前述と同様に、光軸8上において、光電面2
3と面一となる点となるので、この場合には光電
面23に光が達しない。
の時、結像レンズ9が合焦となすとし、この符号
bの位置よりわずかに後方位置にある被写体10
の位置を符号b′で示す。符号bで示す位置から反
射された(細い実線で示す)光が結像される位置
は、前述と同様に、光軸8上において、光電面2
3と面一となる点となるので、この場合には光電
面23に光が達しない。
しかしながら、符号b′で示す位置で反射された
(一点鎖線で示す)光は、光電面23より前方で
すでに結像点となるので、その後方の光電面23
側には拡開する光が入射される。
(一点鎖線で示す)光は、光電面23より前方で
すでに結像点となるので、その後方の光電面23
側には拡開する光が入射される。
前述の場合には光電面2a側に拡開した(つま
り前面側に拡開した)透孔1であるので、光電面
2aには光が達し得なかつたが、この実施例によ
れば、透孔22が裏面側に拡開するよう形成して
あるので光電面23に光が達するようになる。つ
まり結像レンズ9に対し、合焦点よりわずかにず
れた被写体10が合焦点にないことを検出できる
ことになる。
り前面側に拡開した)透孔1であるので、光電面
2aには光が達し得なかつたが、この実施例によ
れば、透孔22が裏面側に拡開するよう形成して
あるので光電面23に光が達するようになる。つ
まり結像レンズ9に対し、合焦点よりわずかにず
れた被写体10が合焦点にないことを検出できる
ことになる。
尚、上述の透孔22の形成は、エツチングによ
つて形成するのみでなく、テーパ状の刃を有する
ドリルにて裏面側から穿孔してもできる。
つて形成するのみでなく、テーパ状の刃を有する
ドリルにて裏面側から穿孔してもできる。
一方、機械加工によつて第4図の第2実施例に
示すように、光電面31側及び裏面側共に同一形
状の透孔32を設けて光電素子33を形成するこ
ともできる。
示すように、光電面31側及び裏面側共に同一形
状の透孔32を設けて光電素子33を形成するこ
ともできる。
この場合においても、透孔32の前端周縁が直
接光電面31が隣接すると、照明光が通過する際
に直接光電流が流れてしまい、被写体10からの
反射光による光量測定が正確に行い難くなるので
透孔32周壁面は光電面31でない(例えば)N
層34で覆われている。この場合、透孔32に露
出する部分の光電面をコーテイング材あるいは薄
肉のパイプを嵌合させる等の遮光する手段を構じ
るようにしても良い。
接光電面31が隣接すると、照明光が通過する際
に直接光電流が流れてしまい、被写体10からの
反射光による光量測定が正確に行い難くなるので
透孔32周壁面は光電面31でない(例えば)N
層34で覆われている。この場合、透孔32に露
出する部分の光電面をコーテイング材あるいは薄
肉のパイプを嵌合させる等の遮光する手段を構じ
るようにしても良い。
上述においては、光電素子21,33の各光電
面23,31がPN接合におけるP層側とされて
いるが、印加電圧の極性を変えれば、N層側を光
電面23,31とすることもできる。
面23,31がPN接合におけるP層側とされて
いるが、印加電圧の極性を変えれば、N層側を光
電面23,31とすることもできる。
又、上述においける光電素子に使用できる光半
導体としては、シリコン、ゲルマニウム等を用い
たフオトダイオード、フオトトランジスタの他
に、大陽電池、あるいはCdS、CdSe等が使用で
きる。
導体としては、シリコン、ゲルマニウム等を用い
たフオトダイオード、フオトトランジスタの他
に、大陽電池、あるいはCdS、CdSe等が使用で
きる。
尚、太陽電池においては、バツテリが必要とさ
れない。
れない。
又、フオトトランジスタにおいては三層構造と
なるが、透孔を設けることにおいては略同様の形
状となる。
なるが、透孔を設けることにおいては略同様の形
状となる。
以上述べたように本発明によれば、被写体で反
射されて結像された投影像が合焦点からわずかに
ずれた場合においても光量面にてその光量を検出
でき、その結果、合焦点の検出および被写体の距
離測定を高精度に行うことができ、しかも照明光
が通過する際に直接光電流が流れてしまうことが
なく被写体の反射光による光量測定が正確に行う
ことができるという効果がある。
射されて結像された投影像が合焦点からわずかに
ずれた場合においても光量面にてその光量を検出
でき、その結果、合焦点の検出および被写体の距
離測定を高精度に行うことができ、しかも照明光
が通過する際に直接光電流が流れてしまうことが
なく被写体の反射光による光量測定が正確に行う
ことができるという効果がある。
第1図は従来のエツチングによつて形成される
光電素子の形状を示す断面図、第2図は、第1図
の光電素子を用いた既出願における合焦点検出用
の光量測定手段を示す説明図、第3図ないし第4
図は、本発明に係り、第3図は、第1実施例にお
ける光電素子を用いた合焦点検出用の光量測定手
段を示す説明図、第4図は、第2実施例を示す断
面図である。 5……ランプ、7……フアイバ、9……結像レ
ンズ、10……被写体、21,33……光電素
子、22,32……透孔、23,31……光電
面、24,34……N層。
光電素子の形状を示す断面図、第2図は、第1図
の光電素子を用いた既出願における合焦点検出用
の光量測定手段を示す説明図、第3図ないし第4
図は、本発明に係り、第3図は、第1実施例にお
ける光電素子を用いた合焦点検出用の光量測定手
段を示す説明図、第4図は、第2実施例を示す断
面図である。 5……ランプ、7……フアイバ、9……結像レ
ンズ、10……被写体、21,33……光電素
子、22,32……透孔、23,31……光電
面、24,34……N層。
Claims (1)
- 1 光電変換面の一方の面に設けた光電素子に透
孔を形成し、この透孔及び結像レンズ系を通して
被検体に投光し、該被検体による反対投影像を前
記光電変換面に結像することによつて光量を測定
して被検体に対する結像レンズ系の焦点位置又は
被検体の距離を測定する手段に用いられる光電素
子において、前記透孔は光電変換面側における径
又は幅がその裏面側におけるものより小さい形状
又は等しい形状に形成し、前記透孔の内壁に裏面
層となる半導体層と同質層として光電変化を生じ
させない層を設けたことを特徴とする光電素子。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57013774A JPS58131776A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 光電素子 |
| US06/442,087 US4538062A (en) | 1981-11-19 | 1982-11-16 | Focusing detecting device with coaxial source and detector |
| DE8282306169T DE3272935D1 (en) | 1981-11-19 | 1982-11-19 | A device for detecting the focused state of an optical system |
| EP82306169A EP0080340B1 (en) | 1981-11-19 | 1982-11-19 | A device for detecting the focused state of an optical system |
| AT82306169T ATE21778T1 (de) | 1981-11-19 | 1982-11-19 | Vorrichtung fuer die detektion des fokussierungszustandes eines optisches system. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57013774A JPS58131776A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 光電素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58131776A JPS58131776A (ja) | 1983-08-05 |
| JPH0353609B2 true JPH0353609B2 (ja) | 1991-08-15 |
Family
ID=11842589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57013774A Granted JPS58131776A (ja) | 1981-11-19 | 1982-01-29 | 光電素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58131776A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5266448A (en) * | 1975-11-28 | 1977-06-01 | Hitachi Ltd | Automatic focusing system |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP57013774A patent/JPS58131776A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58131776A (ja) | 1983-08-05 |
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